CN100449642C - 对相变存储器进行编程的方法、装置和系统 - Google Patents

对相变存储器进行编程的方法、装置和系统 Download PDF

Info

Publication number
CN100449642C
CN100449642C CNB028263340A CN02826334A CN100449642C CN 100449642 C CN100449642 C CN 100449642C CN B028263340 A CNB028263340 A CN B028263340A CN 02826334 A CN02826334 A CN 02826334A CN 100449642 C CN100449642 C CN 100449642C
Authority
CN
China
Prior art keywords
signal
phase
state
change material
fall time
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB028263340A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1610951A (zh
Inventor
泰勒·劳里
曼苏尔·吉尔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Intel Corp
Original Assignee
Intel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Intel Corp filed Critical Intel Corp
Publication of CN1610951A publication Critical patent/CN1610951A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100449642C publication Critical patent/CN100449642C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/02Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using elements whose operation depends upon chemical change
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0004Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5678Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using amorphous/crystalline phase transition storage elements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021Auxiliary circuits
    • G11C13/0069Writing or programming circuits or methods
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021Auxiliary circuits
    • G11C13/0069Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0092Write characterized by the shape, e.g. form, length, amplitude of the write pulse

Abstract

简单地说,根据本发明的实施例,提供了一种对多级单元(MLC)相变材料进行编程的方法和装置。通过设置施加于所述材料的电流信号的下降时间,将所述材料编程为多种状态中的一种希望的状态。

Description

对相变存储器进行编程的方法、装置和系统
技术领域
本发明涉及相变存储器,并且更具体地,涉及对相变存储器进行编程的方法、装置和系统。
背景技术
相变材料可以被用在存储器单元中以存储数据位。被用于存储器设备中的相变材料可以呈现至少两种不同的状态。这些状态可以被称为非晶态和晶态。由于非晶态一般比晶态呈现出更高的电阻率,所以可以区别这些状态。一般地,非晶态包含更无序的原子结构。
矩形电流脉冲可以被用来将相变材料编程为希望的状态。可以改变电流脉冲的幅度来改变相变材料的电阻。但是,对于给定的矩形电流脉冲来说,材料、制造工艺以及操作环境的变化可能导致在存储器阵列不同存储器单元中所得到的电阻不相同。因而,当对存储器阵列中的多个存储器单元进行编程时,由于这些变化,在对每个存储器单元施加相同的矩形脉冲时,一些单元可能被编程为一种状态,而其它单元可能被编程为不同的状态,或者,一些单元尽管被编程为希望的状态,但是可能不具有足够的检测裕量(sense margin)。
因此,人们一直需要一种更好的方法来对使用相变材料的存储器系统中的存储器单元进行编程。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种方法,包括:向具有多于两种状态的存储器相变材料施加信号;以及设置所述信号的下降时间,以将所述存储器相变材料置于所述多于两种状态中的一种状态。
附图说明
在说明书的结尾部分具体指出并明确地要求保护被视为本发明的主题。但是,有关本发明的组织和操作方法,连同其目的、特征和优点可以通过结合附图阅读以下详细说明而被最好地理解,所述附图中:
图1是根据本发明实施例的计算系统的框图;
图2是根据本发明实施例的相变存储器的示意图;
图3图示了根据本发明的一个实施例的多个编程信号;
图4图示了根据本发明的另一个实施例的另一组多个编程信号;
图5图示了根据本发明的另一个实施例的另一组多个编程信号;
图6图示了根据本发明的另一个实施例的另一组多个编程信号;
图7图示了根据本发明的实施例的读取电路;以及
图8是根据本发明实施例的便携式通信设备的框图。
应该理解,为了说明的简单、清晰,图中所示的元件不一定是按比例绘制的。例如,为了清晰,某些元件的尺寸相对于其它元件被放大了。此外,在认为合适的地方,在各图中重复使用标号用于指示对应或类似的元件。
具体实施方式
在以下详细描述中,为了提供对本发明的全面理解陈述了很多具体细节。但是,本领域的技术人员应该理解,本发明可以不用这些具体细节来实现。在另一些情况下,没有对公知的方法、程序、部件以及电路进行详细的描述,以免使本发明不清楚。
在以下描述和权利要求书中,可能使用术语“耦合”和“连接”以及它们的衍生词。应该理解,这些术语不被认为是彼此的同义词。确切地说,在特定实施例中,“连接”可以被用来指示两个或更多个元件彼此直接地物理或电气接触。“耦合”可以表示两个或更多个元件直接地物理或电气接触。但是,“耦合”也可以表示两个或更多个元件彼此不直接接触,但是仍然彼此协作或者相互作用。
来看图1,描述了根据本发明的一个实施例20。实施例20可以包括计算系统30。计算系统30可以被用在多种便携式电子系统中,所述电子系统例如为便携式通信设备(例如,移动蜂窝电话)、双向无线电通信系统、单向传呼机、双向传呼机、个人通信系统(PCS)、便携式计算机、个人数字助理(PDA)等。但是应该指出,本发明的范围和应用决不限于这些示例。例如,可以使用本发明的其它应用是非便携式电子应用,例如在蜂窝基站、服务器、台式电脑、视频设备等中的应用。
在该实施例中,计算系统30可以包括连接到系统总线40的处理器42。处理器42可以包括例如一个或者多个微处理器、数字信号处理器、微控制器等,但是本发明的范围在该方面不受限制。系统总线40可以是数据通道,该数据通道包括例如一组数据线,用于将数据从计算系统30的一个部分发送到另一个部分。
计算系统30还可以包括连接到系统总线40的存储器控制器中心34和通过加速图形端口(AGP)总线44耦合到存储器控制器中心34的显示控制器46。显示控制器46可以产生信号以驱动显示器48。
存储器控制器中心34还可以经由中心接口50被耦合到输入/输出(I/O)中心52。I/O中心52可以控制CD-ROM驱动58的操作,并可以控制硬盘驱动60的操作。另外,I/O中心52可以提供通往例如外围设备互连(PCI)总线54和扩展总线62的接口。PCI总线54可以连接到网络接口卡(NIC)56。I/O控制器64可以连接到扩展总线62,并可以控制软盘驱动70的操作。另外,I/O控制器64可以接收来自鼠标66和键盘68的输入。
计算系统30还可以包括经由存储器总线36耦合到存储器控制器中心34的相变存储器33。存储器控制器中心34可以包括存储器控制器35,所述存储器控制器35可以起到存储器总线36和系统总线40之间的接口的作用。存储器控制器35可以产生与对相变存储器33的特定的写或读操作相关联的控制信号、地址信号和数据信号。存储器总线36可以包括用于与相变存储器33之间相互传送数据的传送线,以及被用来将数据存储到相变存储器33以及从其中取回数据的控制和地址线。特定的写或读操作可以包含在向相变存储器33写数据的同时从相变存储器33读数据。
相变存储器33可以是包含多个存储器单元的存储器阵列,所述存储器单元可以包括诸如可以被编程为不同存储状态以存储数据的硫族化物材料之类的相变存储器材料,但是本发明的范围在这方面不受限制。该材料可以是,例如呈现出从非晶态到晶态或多晶态的可逆结构相变的硫族化物合金。由于该可逆结构,响应于温度变化,相变材料可以从非晶态变为晶态并且之后可以回到非晶态,反之亦然。多晶态可以被定义为其中存在多个晶粒而相变材料的一些部分可能还是非晶态的一种状态。
可以使用多种相变合金。例如,包含周期表第VI族的一个或者多个元素的硫族化物合金可以被用于相变存储器33中。作为示例,相变存储器33可以包含GeSbTe合金。
硫族化物合金体可以被集成到存储器单元中,以使得单元能够作为在较高电阻状态和较低电阻状态之间可逆地改变的非易失性可编程电阻器。相变材料中的晶化可以是温度和材料处于该温度的时间量两者的结果。因此,可以通过使用流经该相变材料的电流进行电阻加热来引起相变。可编程电阻器可以在晶态(低电阻率)和非晶态(高电阻率)之间呈现大于40倍的动态电阻率范围,并且还可以能够呈现多种中间状态,以允许在一个存储器单元中实现多位存储。存储在单元中的数据可以通过测量单元的电阻而被读取。
作为示例,在存储一位数据的二进制系统中,第一状态可以被定义为“1”状态或者设置状态,而第二状态可以被定义为“0”状态或者复位状态,其中复位状态可以被定义为基本上为非晶体的状态,而设置状态可以被定义为基本上为晶体的状态,但是本发明的范围在这方面不受限制。
在多级单元(MLC)操作中,相变材料可以被用来呈现多种状态以存储多位数据,其中可以通过改变相变材料的电阻率/导电率,来实现具有多于两种状态的相变存储器材料的状态的改变。为了说明的目的,实施例在这里描述使用四种状态来在每个存储器单元存储2位的二进制系统。(0,0)状态可以被定义为基本上非晶体的(高电阻率)状态;(1,1)状态可以被定义为基本上晶体(低电阻率)状态;并且(0,1)状态和(1,0)状态可以是在基本上非晶体和基本上晶体状态之间的中间状态。这些中间状态可以被称为异构(heterogeneous)状态。作为示例,相变材料的四种状态可以被定义为具有以下的电阻关系:(0,0)状态的相变材料的电阻可以大于(0,1)状态的相变材料的电阻;(0,1)状态的相变材料的电阻可以大于(1,0)状态的相变材料的电阻;并且(1,0)状态的相变材料的电阻可以大于(1,1)状态的相变材料的电阻。换句话说,(0,0)状态的相变材料的导电率可以小于(0,1)状态的相变材料的导电率,(0,1)状态的相变材料的导电率可以小于(1,0)状态的相变材料的导电率,(1,0)状态的相变材料的导电率可以小于(1,1)状态的相变材料的导电率。
尽管为了说明的目的描述了每单元2位的二进制系统,但是本发明的范围在这方面不受限制。本发明的原理可以类似地应用于其中相变存储器材料具有多于两种状态的任何系统。例如,在非二进制系统中,存储器状态可以是三或者其他的非二进制基数的倍数。
来看图2,描述了根据本发明的相变存储器33的一个实施例。相变存储器33可以包括存储器单元140、141、142和143的2×2阵列139,其中存储器单元140~143包含相变材料。尽管图2中示出了2×2阵列139,但是本发明的范围在这方面不受限制。例如,相变存储器33可以具有更大的存储器单元阵列。
相变存储器33可以包括列线130和131以及行线132和133,用来为写或读操作选择阵列139的特定单元。写操作也可以称为编程操作。存储器单元140~143可以连接到列线130和131,并且可以通过开关(例如,二极管146、147、148和149)被耦合到行线132和133。因此,当选择特定存储器单元(例如,存储器单元140)时,可以将与其相关联的列线(例如130)驱动为高,而将与其相关联的行线(例如,132)驱动为低,以驱动电流通过该存储器单元。
在该实施例中,相变存储器33还包括用来执行写操作的编程信号产生设备160、用来执行读操作的读取设备150以及用来产生计时信号以帮助读和写操作的计时设备170。在MLC操作中,读取设备150还可以被用来在编程过程中检验存储器单元140~143的状态。例如,读取设备150可以被用来确定在对存储器单元施加了编程信号之后,存储器单元中的存储器材料是否处于多于两种状态中的选定状态。
编程信号产生设备160可以适合产生用于施加给存储器单元140~143的编程信号。例如,设备160可以适合产生并施加图3~6中所示的编程信号。
来看图3,示出了根据本发明实施例的多个编程信号(200、201、202、203)。在图3中,在时间轴上标注了不同时间T0~T11,在电流轴上标注了不同电流I0和I1
在该实施例中,信号200~203具有早于或者当信号到达其最大电平(例如I1)时出现的前沿(leading)部分、在信号到达其最大电平之后出现的后沿(trailing)部分以及前沿和后沿部分之间的中间部分。例如,信号200具有前沿部分211、中间部分212和后沿部分213,信号201具有前沿部分215、中间部分216和后沿部分217。
在该实施例中,信号200~203是具有不同下降时间的的电流脉冲。信号的下降时间可以被定义为后沿部分从最大电平降低到最小电平的时间。在可替代的实施例中,下降时间可以被定义为后沿部分从最大电平的90%降低到最大电平的10%的时间。作为示例,信号201的下降时间是后沿部分217从最大电流幅度I1降低到最小电流幅度I0所用的时间,即下降时间是时间T5和T4的差。
在该实施例中,由于信号200的后沿部分在时间T2处从其最大幅度(I1)降低到其最小幅度(I0),所以信号200可以具有基本上为零的下降时间。信号200是基本上为矩形的脉冲,信号201、202和203是基本上为非矩形的脉冲。脉冲201、202和203也可称为三角形脉冲。脉冲200、201、202和203具有依次更长的下降时间。即,信号201的下降时间大于信号200的下降时间而小于信号202的下降时间,并且信号203的下降时间大于信号202的下降时间。在该示例中,信号200可以具有约为零(例如,小于2纳秒)的上升和下降时间,并且可以具有约为3毫安的最大电流幅度(例如I1)。信号201可以具有约为3毫安的最大电流幅度、约为零的上升时间和约为250纳秒的下降时间(T5-T4)。信号202可以具有约为3毫安的最大电流幅度、约为零的上升时间和约为700纳秒的下降时间(T8-T7)。信号203可以具有约为3毫安的最大电流幅度、约为零的上升时间和约为2微秒的下降时间(T11-T10)。
如上所述,编程信号产生设备160(图2)可以适合产生用于施加给存储器单元140~143的编程信号200~203。在一些实施例中,设备160可以包括用于设置编程信号200~203的下降时间的电路。在可替代的实施例中,设备160可以包括通过设置编程信号的衰减速率来设置编程信号的下降时间的电路。在其他实施例中,设备160可以包括通过对编程信号的后沿部分的斜率进行定形来设置编程信号的下降时间的电路。
衰减速率可以被定义为信号的后沿部分从其最大幅度降低到其最小幅度的速率,并且对于信号200~203来说可以以电流每单位时间来度量。可以增大编程信号200~203的衰减速率来减小这些编程信号的下降时间。相反,可以降低编程信号200~203的衰减速率来增大这些编程信号的下降时间。在图3所示的实施例中,信号201的衰减速率比信号202的衰减速率更快或更大,信号202的衰减速率比信号203的衰减速率更快。在可替代的实施例中,编程信号的衰减速率可以是多项式的、对数的或者指数的等等,但是本发明的范围在这方面不受限制。
在图3所示的实施例中,信号200的前沿部分211和后沿部分213的斜率被设置为基本上垂直,而信号200的中间部分212的斜率被设置为基本上水平。信号201具有被设置为基本上垂直斜率的前沿部分215、被设置为基本上水平斜率的中间部分216和被设置为负线性斜率的后沿部分。
根据本发明的实施例,通过设置下降时间对编程信号定形,使得编程信号的衰减或倾斜的后沿部分以足以将存储器单元置于多种存储状态中的希望状态的速率冷却相变存储器材料。可以增大施加于相变材料的编程信号的下降时间来减小相变材料的电阻。使用该编程方法,所得到的相变材料的电阻不是由编程信号的幅度来决定,而是由编程信号的下降时间决定。
在一些实施例中,设备160可以设置编程信号的幅度,使得该幅度足以将存储器单元的相变材料加热至非晶化温度,并将该相变材料置于基本上非晶体的状态。为了将相变材料保持在基本上非晶体的状态,可以快速冷却材料。这可以通过使所施加的编程信号具有相对较快的下降时间来实现。作为示例,信号200可以被用来将存储器单元的相变材料置于基本上非晶体的状态,并且信号200可以具有约为3毫安的最大幅度(I1)和小于2纳秒的下降时间。
或者,为了将相变材料置于多晶态,设备160可以将编程信号的幅度设置为足以将相变材料加热至非晶化温度的幅度,并设置该编程信号的下降时间,以便在存储器材料到达非晶化温度之后,相变存储器材料可以以足够的速率冷却下来,使得存储器材料可以被置于多晶态。作为示例,信号203可以被用来将存储器单元的相变材料置于多晶态,其中信号203可以具有约为3毫安的最大幅度(I1)和约为2微秒的下降时间。另外,为了将相变材料置于基本上非晶体的状态和多晶态之间的中间状态,设备160可以设置编程信号的下降时间,以便在存储器材料到达非晶化温度之后,相变材料可以以足够的速率冷却下来,使得存储器材料被置于该中间状态。作为示例,信号202可以被用来将存储器单元的相变材料置于中间状态,其中信号202可以具有约为3毫安的最大幅度(I1)和约为700纳秒的下降时间。
在一些实施例中,为了避免在写操作之前擦除存储器单元,可以通过在写操作过程中将相变材料加热至非晶化温度,然后控制信号的下降时间(或者衰减速率或后沿部分斜率)以将相变材料置于不同状态来实现重写操作,所述不同状态例如是基本上非晶体的状态、多晶态或者异构状态。由于该示例中的编程信号可以使得将相变材料加热至非晶化温度,并且取决于信号的下降时间(或衰减速率或后沿部分的斜率),材料可以被置于基本上非晶体的状态、基本上晶体的状态或者中间异构状态,因此以这种方式编程可以允许对单元的重写。
从上述讨论中可以理解,向存储器单元140~143施加信号200~203可以加热并冷却存储器单元140~143的相变材料来设置相变材料的电阻,从而设置相关联的存储器单元的状态。对于MLC操作,其中存储器单元140~143的相变材料具有多于两种状态,信号200~203可以被用来将特定存储器单元中的相变材料的状态设置为多于两种状态中的一种。例如,信号200可以被用来将存储器单元140的相变材料置于基本上非晶体的状态,例如状态(0,0);信号201可以被用来将存储器单元140的相变材料置于中间状态,例如状态(0,1);信号202可以被用来将存储器单元140的相变材料置于另一种中间状态,例如状态(1,0);并且信号203可以被用来将存储器单元140的相变材料置于基本上晶体的状态,例如状态(1,1);
在可替代的实施例中,信号200~203可以被用来使用反馈方法设置存储器单元的状态。例如,为了将存储器单元140设置为中间状态(1,0),信号202可以被最初施加于存储器单元140。然后,读取设备150可以被用来执行检验操作以确定存储器单元140是否被编程为选定的状态(1,0)。例如,读取设备150可以测量存储器单元140的相变材料的电阻,并将该电阻与参考电阻相比较以确定相变材料的电阻在目标电阻之上或者之下。在施加信号202之后,可以通过施加具有比信号202的下降时间更长的下降时间的信号203来减小相变材料的电阻,或者可以通过施加具有比信号202的下降时间更短的下降时间的信号201来增大相变材料的电阻。可以重复下面的反复处理,即:施加具有不同下降时间的编程信号以将存储器单元140编程为至少三种状态中的一种,直到获得相变材料的希望的状态(例如,希望的电阻)。
由于相变存储器中的材料和制作工艺变化,对于给定的编程电流信号,存储器单元阵列中的相变材料的实际温度可能在各个单元之间有变化。这种变化可能导致一个或者多个存储器单元中的相变材料无意间将存储器单元编程为错误的状态。也就是说,材料、制造工艺以及工作环境的变化可能导致相变存储器中存储器单元的不同编程特性,其中不同编程特性包括当具有预定电流量的矩形脉冲被施加于这些存储器单元时所得相变材料电阻的变化。在一些实施例中,可以设置编程信号的下降时间,使得当该编程信号被施加于不同存储器单元时,具有不同编程特性(例如,依赖所施加电流所得到的不同电阻)的不同存储器单元被置于选定的状态。具体而言,可以设置编程信号的下降时间,使得被施加编程信号的所有存储器单元全部经过快速的晶化温度时间间隔。
图4、5和6图示了根据本发明的其他实施例的编程信号。图4包括具有依次更长的下降时间的信号400、401、402和403。例如,信号400可以具有基本上为零的下降时间。信号401的下降时间可以大于信号400的下降时间而小于信号402的下降时间,并且信号402的下降时间可以小于信号403的下降时间。在该实施例中,信号400的前沿和后沿部分的斜率可以基本上垂直,而信号400的中间部分的斜率可以基本上水平。信号401可以具有有着基本上垂直的斜率的前沿部分、有着基本上水平的斜率的中间部分和有着随时间变化的负的非线性斜率的后沿部分。具体而言,信号401的后沿部分的斜率可以随时间减小。类似地,信号402和403的后沿部分的斜率可以随时间减小。
图5包括具有依次更长的下降时间的信号500、501、502和503。信号501、502和503的后沿部分的斜率是负的、非线性的,并且随时间变化。在该实施例中,信号501、502和503的后沿部分的斜率随时间增大。同时在该实施例中,信号500的最大幅度(I1)与信号501、502和503的最大幅度(I2)相比较是不同的。作为示例,信号500的最大幅度可以是约为3毫安,而信号501、502和503的最大幅度可以是约为3.5毫安。
图6包括具有依次更长的下降时间的信号600、601、602和603。在该实施例中,信号601~603的后沿部分的斜率是负的,并且随时间变化。具体而言,信号601~603的后沿部分的斜率从逐渐减小的负非线性斜率变为基本上垂直的斜率,例如信号601的后沿部分的斜率在时间T4和T5之间随时间减小,而在时间T5处基本上垂直。
尽管本发明的范围在这方面不受限制,但是应该指出图4~6的编程信号可以以与图3的编程信号相类似的方式被产生和施加以对存储器单元140~143(图2)进行编程,或者图3~6的编程信号的任意组合可以被用来对存储器单元140~143编程。例如,具有不同下降时间的信号200、401、502和603可以被用来将存储器单元140~143编程为希望的状态。一般来说,对于MLC操作,编程信号产生设备160(图2)可以产生图3~6中编程信号的任何一种,并设置编程信号的下降时间,以将存储器单元140~143的相变存储器材料编程为至少三种状态中的一种。
编程信号产生设备160可以包括用于设置编程信号的下降时间的电路,该电路包括电阻器和电容器(未示出)。可以选择电阻器和电容器,使得所得的电阻器和电容器的时间常数设置编程信号的下降时间。在可替代的实施例中,设备160可以包括波形成形电路(未示出),该电路包括模拟的波形成形电路,例如为积分器/斜坡(ramp)电路、指数和对数电路等。
读取设备150(图2)可以包括用于读取存储在存储器单元140~143中的信息的电路。作为示例,读取设备150可以包括用于引导电流经过存储器单元140使得在存储器单元140上建立一个电压的电路。该电压可能与存储器单元所呈现的电阻成比例。从而,较高的电压可以指示该单元处于非晶态,例如较高电阻的状态;而较低的电压可以指示该单元处于多晶态,例如较低电阻的状态。
来看图7,提供了根据本发明的读取设备150的一个实施例。对于二进制MLC操作,三个比较器711、712和713可以被用来检测特定存储器单元的存储状态,例如存储器单元140的存储状态。比较器711~713的(noninverting)输入端子可以连接到存储器单元140,以接收对存储器单元140的电阻的指示。比较器711、712和713的反向(inverting)输入端子可以分别连接到参考电压信号REF1、REF2和REF3。比较器711、712和713的输出端子可以分别连接到D触发器721、722和723的D输入端子。标记为Ic的读取电流可以被用来产生可以在比较器711~713的正向输入端子处被接收的读取电压。读取电压指示存储器单元140的电阻,因此可以被用来指示存储器单元140的状态。
读取电压与参考电压的比较得到输出信号C1、C2和C3,这些信号可以被用来指示存储器单元140的状态,并可以被存储在触发器721~723中。触发器721~723的输出端子可以连接到编码电路730,编码电路730可以在其输出端子上产生信号OUT1和OUT2。
参考电压信号REF1、REF2和REF3具有以下电压关系:REF1>REF2>REF3。这种设置的结果是,对于存储器单元140的电阻相对较高的非晶态,比较器711、712和713可以分别产生具有逻辑高电压电势(“H”)的输出信号C1、C2和C3,并且可以被定义为状态(0,0)。相反,对于存储器单元140的电阻相对较低的晶态,比较器711、712和713可以分别产生具有逻辑低电压电势(“L”)的输出信号C1、C2和C3,并且可以被定义为状态(1,1)。以下真值表图示了编程电路730的真值表的一个实施例:
Figure C0282633400181
与编程信号的产生相关联的计时可以由计时设备170(图2)来确定。计时设备170提供控制信号给编程信号产生设备160和读取设备150,使得设备150和160测量存储器单元的电阻(读取操作或者编程检验操作)或者在正确的时间提供编程脉冲给选定的存储器单元。对存储器单元的访问可以是其中存储器单元可以被单独访问的随机方式的,或者其可以是在逐行基础上进行的。
来看图8,描述了根据本发明的实施例800。实施例800可以包括便携式通信设备810。便携式通信设备810可以包括控制器820、输入/输出(I/O)设备830(例如,键盘、显示器)、存储器840和可以连接到天线860的收发器850,但是本发明的范围不限于具有任何或所有这些部件的实施例。
控制器820可以包括,例如一个或者多个微处理器、数字信号处理器、微控制器等。存储器840可以被用来存储发送给便携式通信设备810的或者由其发送的消息。存储器840还可以选择性地被用来存储在便携式通信设备810操作过程中由控制器820所执行的指令,并且可以用来存储用户数据。存储器840可以配备一种或者多种不同类型的存储器。例如,存储器840可以包括易失性存储器(任何类型的随机访问存储器)、例如闪存和/或相变存储器的非易失性存储器,所述相变存储器例如为图2所示的相变存储器33。
I/O设备830可以被用户用来产生消息。便携式通信设备810可以使用收发器850和天线860、使用射频(RF)信号向无线通信网络发送消息和从其接收消息。
便携式通信设备810可以使用以下通信协议中的一种来发送和接收消息:码分多址(CDMA)、蜂窝无线电电话通信系统、全球移动通信系统(GSM)蜂窝无线电电话系统、北美数字蜂窝(NADC)蜂窝式无线电电话系统、时分多址(TDMA)系统、扩展TDMA(E-TDMA)蜂窝无线电电话系统、例如宽带CDMA(WCDMA)和CDMA-2000之类的第三代(3G)系统等,但是本发明的范围在这方面不受限制。
尽管这里已经对本发明的某些特征进行了图示和描述,但是本领域的技术人员现在将可以想到很多修改、替代、改变和等同物。因此,应该理解所附权利要求意图覆盖落入本发明真正精神之内的所有这种修改和改变。

Claims (35)

1.一种对相变存储器进行编程的方法,其中存储器单元包括存储器相变材料,该方法包括:
向具有多于两种状态的存储器相变材料施加信号;以及
设置所述信号的下降时间,以将所述存储器相变材料置于所述多于两种状态中的一种状态。
2.如权利要求1所述的方法,还包括增大所述下降时间以减小所述存储器相变材料的电阻。
3.如权利要求1所述的方法,其中所述设置所述下降时间包括将所述信号的下降时间设置为第一选定下降时间,以将所述材料置于所述多于两种状态中的第一状态,并且所述方法还包括:
将所述信号的下降时间设置为第二选定下降时间,以将所述存储器相变材料置于所述多于两种状态中的第二状态;
将所述信号的下降时间设置为第三选定下降时间,以将所述存储器相变材料置于所述多于两种状态中的第三状态;以及
将所述信号的下降时间设置为第四选定下降时间,以将所述存储器相变材料置于所述多于两种状态中的第四状态。
4.如权利要求3所述的方法,其中所述第一选定下降时间小于所述第二选定下降时间,所述第二选定下降时间小于所述第三选定下降时间,并且所述第三选定下降时间小于所述第四选定下降时间。
5.如权利要求3所述的方法,其中处于所述第一状态的所述存储器相变材料的导电率小于处于所述第二状态的所述材料的导电率,处于所述第二状态的所述存储器相变材料的导电率小于处于所述第三状态的所述材料的导电率,并且处于所述第三状态的所述存储器相变材料的导电率小于处于所述第四状态的所述材料的导电率。
6.如权利要求1所述的方法,还包括设置所述信号的幅度,以在所述信号被施加于所述存储器相变材料时将所述存储器相变材料加热至非晶化温度,并且其中所述下降时间被设置为使得在存储器相变材料达到所述非晶化温度之后,所述存储器相变材料以足够的速率冷却下来,使得所述存储器相变材料被置于所述多于两种状态中的第一状态,其中所述第一状态是多晶态。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述施加信号包括施加具有在所述信号到达最大电平之前出现的前沿部分和在所述信号到达所述最大电平之后出现的后沿部分的脉冲,其中所述下降时间是所述后沿部分从最大电平降低到最小电平的时间。
8.如权利要求1所述的方法,其中所述设置所述信号的下降时间包括设置所述信号的后沿部分的斜率。
9.如权利要求8所述的方法,其中所述设置所述斜率包括将所述后沿部分的斜率设置为负斜率。
10.如权利要求8所述的方法,其中所述设置所述斜率包括设置随时间变化的斜率。
11.如权利要求8所述的方法,其中所述设置所述斜率包括将所述后沿部分定形为从负斜率改变到垂直的斜率。
12.如权利要求8所述的方法,其中所述设置所述斜率包括将所述信号定形使得所述信号为非矩形的。
13.如权利要求1所述的方法,其中所述设置所述下降时间包括设置所述信号的衰减速率。
14.如权利要求13所述的方法,还包括增大所述信号的衰减速率以减小所述信号的下降时间。
15.如权利要求1所述的方法,还包括向所述存储器相变材料施加第二信号和向所述存储器相变材料施加第三信号,其中所述设置所述下降时间包括将所述下降时间设置为大于所述第二信号的下降时间而小于所述第三信号的下降时间。
16.如权利要求15所述的方法,其中当所述信号施加于所述存储器材料时,所述信号将所述存储器相变材料置于所述多于两种存储状态中的第一状态,当所述第二信号施加于所述存储器相变材料时,所述第二信号将所述存储器相变材料置于所述多于两种存储状态中的第二状态,并且其中当所述第三信号施加于所述存储器相变材料时,所述第三信号将所述存储器相变材料置于所述多于两种存储状态中的第三状态。
17.如权利要求16所述的方法,其中所述第二状态是非晶体的状态,所述第三状态是晶体的状态,而所述第一状态是所述第二和第三状态之间的中间状态。
18.如权利要求16所述的方法,其中处于所述第二状态的所述存储器相变材料的电阻大于处于所述第一状态的所述存储器相变材料的电阻,并且处于所述第一状态的所述存储器相变材料的电阻大于处于所述第三状态的所述存储器相变材料的电阻。
19.如权利要求1所述的方法,还包括确定在所述信号施加于所述存储器相变材料之后,所述存储器相变材料是否处于所述多于两种状态中的选定状态。
20.如权利要求19所述的方法,其中所述确定包括将所述存储器相变材料的电阻与参考电阻进行比较。
21.如权利要求19所述的方法,还包括:
如果所述存储器相变材料未处于所述选定状态,则向所述存储器相变材料施加第二信号,以及
将所述第二信号的下降时间设置为大于所述信号的下降时间。
22.一种相变存储器装置,包括:
存储器单元,其具有至少三种状态的存储器相变材料;和
用来向所述存储器相变材料提供信号的设备,其中所述设备适合于设置所述信号的下降时间,以将所述存储器相变材料编程为所述至少三种状态中的一种。
23.如权利要求22所述的装置,其中所述设备将所述信号的下降时间设置为第一选定下降时间以将所述存储器相变材料编程为所述至少三种状态中的第一状态,所述设备将所述信号的下降时间设置为第二选定下降时间以将所述存储器相变材料编程为所述至少三种状态中的第二状态,并且所述设备将所述信号的下降时间设置为第三选定下降时间以将所述存储器相变材料编程为所述至少三种状态中的第三状态。
24.如权利要求23所述的装置,其中所述第一选定下降时间小于所述第二选定下降时间,而所述第二选定下降时间小于所述第三选定下降时间。
25.如权利要求23所述的装置,其中处于所述第一状态的所述存储器相变材料的电阻大于处于所述第二状态的所述存储器相变材料的电阻,并且处于所述第二状态的所述存储器相变材料的电阻大于处于所述第三状态的所述存储器相变材料的电阻。
26.如权利要求22所述的装置,其中所述设备增大所述下降时间以减小所述存储器相变材料的电阻。
27.如权利要求22所述的装置,其中所述设备包括电路,所述电路用于通过定形所述信号后沿部分的斜率来设置所述信号的下降时间。
28.如权利要求22所述的装置,其中所述设备包括电路,所述电路用于通过设置所述信号的衰减速率来设置所述信号的下降时间。
29.如权利要求22所述的装置,其中所述设备设置所述信号的下降时间以将所述存储器相变材料编程为所述至少三种状态中的选定状态,并且所述装置还包括用于确定所述存储器相变材料是否被编程为所述选定状态的电路。
30.如权利要求29所述的装置,其中所述电路包括:
比较器,其具有耦合到所述存储器相变材料的第一输入端、被耦合以接收第一参考信号的第二输入端和输出端;和
第二比较器,其具有耦合到所述存储器相变材料的第一输入端、被耦合以接收第二参考信号的第二输入端和输出端。
31.如权利要求22所述的装置,其中所述设备是电路。
32.一种用于相变存储器的系统,包括:
控制器;
耦合到所述控制器的收发器;
具有至少三种状态并且耦合到所述控制器的相变存储器元件;和
适合于向所述存储器元件提供信号的设备,其中所述设备设置所述信号的衰减速率,以将所述相变存储器元件编程为所述至少三种状态中的一种状态。
33.如权利要求32所述的系统,其中所述设备将所述信号的衰减速率设置为第一选定衰减速率以将所述相变存储器元件编程为所述至少三种状态中的第一状态,所述设备将所述信号的衰减速率设置为第二选定衰减速率以将所述相变存储器元件编程为所述至少三种状态中的第二状态,并且所述设备将所述信号的衰减速率设置为第三选定衰减速率以将所述相变存储器元件编程为所述至少三种状态中的第三状态。
34.如权利要求33所述的系统,其中所述第一选定衰减速率大于所述第二选定衰减速率,而所述第二选定衰减速率大于所述第三选定衰减速率。
35.如权利要求34所述的系统,其中处于所述第一状态的所述相变存储器元件的导电率小于处于所述第二状态的所述相变存储器元件的导电率,而处于所述第二状态的所述相变存储器元件的导电率小于处于所述第三状态的所述相变存储器元件的导电率。
CNB028263340A 2001-12-28 2002-12-20 对相变存储器进行编程的方法、装置和系统 Expired - Fee Related CN100449642C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/034,146 2001-12-28
US10/034,146 US6625054B2 (en) 2001-12-28 2001-12-28 Method and apparatus to program a phase change memory

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1610951A CN1610951A (zh) 2005-04-27
CN100449642C true CN100449642C (zh) 2009-01-07

Family

ID=21874593

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB028263340A Expired - Fee Related CN100449642C (zh) 2001-12-28 2002-12-20 对相变存储器进行编程的方法、装置和系统

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6625054B2 (zh)
EP (1) EP1468421B1 (zh)
KR (1) KR100705867B1 (zh)
CN (1) CN100449642C (zh)
AT (1) ATE336068T1 (zh)
AU (1) AU2002367356A1 (zh)
DE (1) DE60213875T2 (zh)
TW (1) TWI260016B (zh)
WO (1) WO2003058633A1 (zh)

Families Citing this family (126)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6638820B2 (en) 2001-02-08 2003-10-28 Micron Technology, Inc. Method of forming chalcogenide comprising devices, method of precluding diffusion of a metal into adjacent chalcogenide material, and chalcogenide comprising devices
US7102150B2 (en) 2001-05-11 2006-09-05 Harshfield Steven T PCRAM memory cell and method of making same
US6570784B2 (en) * 2001-06-29 2003-05-27 Ovonyx, Inc. Programming a phase-change material memory
US6590807B2 (en) * 2001-08-02 2003-07-08 Intel Corporation Method for reading a structural phase-change memory
US6955940B2 (en) 2001-08-29 2005-10-18 Micron Technology, Inc. Method of forming chalcogenide comprising devices
US20030047765A1 (en) * 2001-08-30 2003-03-13 Campbell Kristy A. Stoichiometry for chalcogenide glasses useful for memory devices and method of formation
US6815818B2 (en) * 2001-11-19 2004-11-09 Micron Technology, Inc. Electrode structure for use in an integrated circuit
US6791859B2 (en) 2001-11-20 2004-09-14 Micron Technology, Inc. Complementary bit PCRAM sense amplifier and method of operation
US20030143782A1 (en) 2002-01-31 2003-07-31 Gilton Terry L. Methods of forming germanium selenide comprising devices and methods of forming silver selenide comprising structures
US6791885B2 (en) 2002-02-19 2004-09-14 Micron Technology, Inc. Programmable conductor random access memory and method for sensing same
US6809362B2 (en) 2002-02-20 2004-10-26 Micron Technology, Inc. Multiple data state memory cell
US7151273B2 (en) 2002-02-20 2006-12-19 Micron Technology, Inc. Silver-selenide/chalcogenide glass stack for resistance variable memory
US6890790B2 (en) 2002-06-06 2005-05-10 Micron Technology, Inc. Co-sputter deposition of metal-doped chalcogenides
JP4027282B2 (ja) * 2002-07-10 2007-12-26 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド
US7015494B2 (en) 2002-07-10 2006-03-21 Micron Technology, Inc. Assemblies displaying differential negative resistance
US6768665B2 (en) * 2002-08-05 2004-07-27 Intel Corporation Refreshing memory cells of a phase change material memory device
JP2004079002A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Renesas Technology Corp 不揮発性記憶装置
US7163837B2 (en) * 2002-08-29 2007-01-16 Micron Technology, Inc. Method of forming a resistance variable memory element
US6856002B2 (en) * 2002-08-29 2005-02-15 Micron Technology, Inc. Graded GexSe100-x concentration in PCRAM
US7010644B2 (en) 2002-08-29 2006-03-07 Micron Technology, Inc. Software refreshed memory device and method
US7364644B2 (en) 2002-08-29 2008-04-29 Micron Technology, Inc. Silver selenide film stoichiometry and morphology control in sputter deposition
US6864521B2 (en) * 2002-08-29 2005-03-08 Micron Technology, Inc. Method to control silver concentration in a resistance variable memory element
US6831856B2 (en) * 2002-09-23 2004-12-14 Ovonyx, Inc. Method of data storage using only amorphous phase of electrically programmable phase-change memory element
US6813177B2 (en) * 2002-12-13 2004-11-02 Ovoynx, Inc. Method and system to store information
US6813178B2 (en) 2003-03-12 2004-11-02 Micron Technology, Inc. Chalcogenide glass constant current device, and its method of fabrication and operation
US20040197947A1 (en) * 2003-04-07 2004-10-07 Fricke Peter J. Memory-cell filament electrodes and methods
US7050327B2 (en) 2003-04-10 2006-05-23 Micron Technology, Inc. Differential negative resistance memory
DE60315613T2 (de) 2003-06-16 2008-05-08 Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza Schreibschaltung für Phasenwechsel-Speicher
US6930909B2 (en) * 2003-06-25 2005-08-16 Micron Technology, Inc. Memory device and methods of controlling resistance variation and resistance profile drift
DE102004039977B4 (de) * 2003-08-13 2008-09-11 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Programmierverfahren und Treiberschaltung für eine Phasenwechselspeicherzelle
KR100505701B1 (ko) * 2003-08-13 2005-08-03 삼성전자주식회사 상 변화 메모리의 셋(set) 시간을 최소화하는프로그래밍 방법 및 프로그래밍 방법을 구현하는 기입드라이버 회로
US7153721B2 (en) * 2004-01-28 2006-12-26 Micron Technology, Inc. Resistance variable memory elements based on polarized silver-selenide network growth
US7105864B2 (en) * 2004-01-29 2006-09-12 Micron Technology, Inc. Non-volatile zero field splitting resonance memory
DE102005004338B4 (de) * 2004-02-04 2009-04-09 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Phasenänderungs-Speicherbauelement und zugehöriges Programmierverfahren
KR100574975B1 (ko) * 2004-03-05 2006-05-02 삼성전자주식회사 상 변화 메모리 어레이의 셋 프로그래밍 방법 및 기입드라이버 회로
US7583551B2 (en) 2004-03-10 2009-09-01 Micron Technology, Inc. Power management control and controlling memory refresh operations
US7005665B2 (en) * 2004-03-18 2006-02-28 International Business Machines Corporation Phase change memory cell on silicon-on insulator substrate
EP1787329B1 (en) * 2004-03-26 2010-10-27 Nxp B.V. Electric device comprising phase change material
DE102004015928A1 (de) * 2004-03-31 2005-10-27 Infineon Technologies Ag Schreib-/Lösch-Verfahren für resistiv schaltende Speicherbauelemente
US20050280987A1 (en) * 2004-06-07 2005-12-22 Kwitek Benjamin J Phase change materials as a heat sink for computers
US7354793B2 (en) 2004-08-12 2008-04-08 Micron Technology, Inc. Method of forming a PCRAM device incorporating a resistance-variable chalocogenide element
US7326950B2 (en) 2004-07-19 2008-02-05 Micron Technology, Inc. Memory device with switching glass layer
US7365411B2 (en) 2004-08-12 2008-04-29 Micron Technology, Inc. Resistance variable memory with temperature tolerant materials
US20060056233A1 (en) * 2004-09-10 2006-03-16 Parkinson Ward D Using a phase change memory as a replacement for a buffered flash memory
US7031181B1 (en) * 2004-11-23 2006-04-18 Infineon Technologies Ag Multi-pulse reset write scheme for phase-change memories
US7113424B2 (en) * 2004-11-23 2006-09-26 Infineon Technologies Ag Energy adjusted write pulses in phase-change memories
JP4524455B2 (ja) * 2004-11-26 2010-08-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US7374174B2 (en) 2004-12-22 2008-05-20 Micron Technology, Inc. Small electrode for resistance variable devices
US20060169968A1 (en) * 2005-02-01 2006-08-03 Thomas Happ Pillar phase change memory cell
US7348590B2 (en) * 2005-02-10 2008-03-25 Infineon Technologies Ag Phase change memory cell with high read margin at low power operation
US7361925B2 (en) * 2005-02-10 2008-04-22 Infineon Technologies Ag Integrated circuit having a memory including a low-k dielectric material for thermal isolation
US7214958B2 (en) * 2005-02-10 2007-05-08 Infineon Technologies Ag Phase change memory cell with high read margin at low power operation
US7317200B2 (en) 2005-02-23 2008-01-08 Micron Technology, Inc. SnSe-based limited reprogrammable cell
KR100699837B1 (ko) * 2005-04-04 2007-03-27 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 반도체 메모리 장치의 프로그래밍방법
US7427770B2 (en) 2005-04-22 2008-09-23 Micron Technology, Inc. Memory array for increased bit density
US7709289B2 (en) 2005-04-22 2010-05-04 Micron Technology, Inc. Memory elements having patterned electrodes and method of forming the same
US7269044B2 (en) * 2005-04-22 2007-09-11 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for accessing a memory array
EP2309516A1 (en) * 2005-06-03 2011-04-13 STMicroelectronics Srl Method for multilevel programming of phase change memory cells using a percolation algorithm
KR100794654B1 (ko) * 2005-07-06 2008-01-14 삼성전자주식회사 상 변화 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
US7274034B2 (en) 2005-08-01 2007-09-25 Micron Technology, Inc. Resistance variable memory device with sputtered metal-chalcogenide region and method of fabrication
US7332735B2 (en) 2005-08-02 2008-02-19 Micron Technology, Inc. Phase change memory cell and method of formation
US7579615B2 (en) 2005-08-09 2009-08-25 Micron Technology, Inc. Access transistor for memory device
US7251154B2 (en) 2005-08-15 2007-07-31 Micron Technology, Inc. Method and apparatus providing a cross-point memory array using a variable resistance memory cell and capacitance
JP4669518B2 (ja) * 2005-09-21 2011-04-13 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US20070171705A1 (en) * 2005-12-15 2007-07-26 Parkinson Ward D Writing phase change memories
KR100738092B1 (ko) 2006-01-05 2007-07-12 삼성전자주식회사 상전이 메모리 소자의 멀티-비트 동작 방법
US7460394B2 (en) * 2006-05-18 2008-12-02 Infineon Technologies Ag Phase change memory having temperature budget sensor
US7498655B2 (en) * 2006-03-28 2009-03-03 Intel Corporation Probe-based memory
TWI310558B (en) * 2006-06-02 2009-06-01 Ind Tech Res Inst Phase change memory cell
US7457146B2 (en) * 2006-06-19 2008-11-25 Qimonda North America Corp. Memory cell programmed using a temperature controlled set pulse
JP4191211B2 (ja) * 2006-07-07 2008-12-03 エルピーダメモリ株式会社 不揮発性メモリ及びその制御方法
US20080025080A1 (en) * 2006-07-27 2008-01-31 Cswitch Corporation Method and apparatus for programming phase change devices
US7560723B2 (en) * 2006-08-29 2009-07-14 Micron Technology, Inc. Enhanced memory density resistance variable memory cells, arrays, devices and systems including the same, and methods of fabrication
KR100763231B1 (ko) * 2006-09-11 2007-10-04 삼성전자주식회사 상변화 메모리 장치
US7859894B2 (en) * 2006-09-20 2010-12-28 Qimonda Ag Energy adjusted write pulses in phase-change memory cells
US7619917B2 (en) * 2006-11-28 2009-11-17 Qimonda North America Corp. Memory cell with trigger element
KR100801082B1 (ko) * 2006-11-29 2008-02-05 삼성전자주식회사 멀티 레벨 가변 저항 메모리 장치의 구동 방법 및 멀티레벨 가변 저항 메모리 장치
US7692949B2 (en) * 2006-12-04 2010-04-06 Qimonda North America Corp. Multi-bit resistive memory
US7903447B2 (en) * 2006-12-13 2011-03-08 Macronix International Co., Ltd. Method, apparatus and computer program product for read before programming process on programmable resistive memory cell
TWI323469B (en) * 2006-12-25 2010-04-11 Nanya Technology Corp Programming method of phase change memory
TWI330846B (en) 2007-03-08 2010-09-21 Ind Tech Res Inst A writing method and system for a phase change memory
KR100819560B1 (ko) * 2007-03-26 2008-04-08 삼성전자주식회사 상전이 메모리소자 및 그 제조방법
US7704788B2 (en) * 2007-04-06 2010-04-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Methods of fabricating multi-bit phase-change memory devices and devices formed thereby
US7564710B2 (en) * 2007-04-30 2009-07-21 Qimonda North America Corp. Circuit for programming a memory element
US7940552B2 (en) * 2007-04-30 2011-05-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Multiple level cell phase-change memory device having pre-reading operation resistance drift recovery, memory systems employing such devices and methods of reading memory devices
KR100914267B1 (ko) * 2007-06-20 2009-08-27 삼성전자주식회사 가변저항 메모리 장치 및 그것의 형성방법
US7571901B2 (en) * 2007-06-21 2009-08-11 Qimonda North America Corp. Circuit for programming a memory element
US7795605B2 (en) * 2007-06-29 2010-09-14 International Business Machines Corporation Phase change material based temperature sensor
KR101308549B1 (ko) * 2007-07-12 2013-09-13 삼성전자주식회사 멀티-레벨 상변환 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법
US20090027943A1 (en) * 2007-07-24 2009-01-29 Thomas Nirschl Resistive memory including bidirectional write operation
KR101311499B1 (ko) 2007-08-23 2013-09-25 삼성전자주식회사 가변 저항 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
KR101374319B1 (ko) * 2007-08-24 2014-03-17 삼성전자주식회사 가변 저항 메모리 장치 및 그것의 동작 방법
KR101390337B1 (ko) * 2007-09-13 2014-04-29 삼성전자주식회사 멀티-레벨 상변환 메모리 장치, 그것의 프로그램 방법,그리고 그것을 포함한 메모리 시스템
US7787291B2 (en) * 2007-09-26 2010-08-31 Intel Corporation Programming a multilevel phase change memory cell
US8158965B2 (en) * 2008-02-05 2012-04-17 Macronix International Co., Ltd. Heating center PCRAM structure and methods for making
TWI517156B (zh) 2008-02-29 2016-01-11 Toshiba Kk Semiconductor memory device
US7729163B2 (en) * 2008-03-26 2010-06-01 Micron Technology, Inc. Phase change memory
US8077505B2 (en) 2008-05-07 2011-12-13 Macronix International Co., Ltd. Bipolar switching of phase change device
US8134857B2 (en) 2008-06-27 2012-03-13 Macronix International Co., Ltd. Methods for high speed reading operation of phase change memory and device employing same
US8467236B2 (en) 2008-08-01 2013-06-18 Boise State University Continuously variable resistor
KR101057725B1 (ko) 2008-12-31 2011-08-18 주식회사 하이닉스반도체 멀티 레벨 셀 데이터 센싱 장치 및 그 방법
DE102009000124A1 (de) * 2009-01-09 2010-07-15 Forschungszentrum Jülich GmbH Verfahren zur Speicherung digitaler Information nebst Speicherelement
US8386883B2 (en) * 2009-02-24 2013-02-26 International Business Machines Corporation Lengthening life of a limited life memory
KR20100097407A (ko) * 2009-02-26 2010-09-03 삼성전자주식회사 저항성 메모리 장치, 이를 포함하는 메모리 시스템 및 저항성 메모리 장치의 프로그램 방법
US8183565B2 (en) * 2009-03-25 2012-05-22 Ovonyx, Inc. Programmable resistance memory array with dedicated test cell
KR20100107609A (ko) * 2009-03-26 2010-10-06 삼성전자주식회사 저항성 메모리 장치, 이를 포함하는 메모리 시스템 및 저항성 메모리 장치의 기입 방법
US8045384B2 (en) * 2009-06-22 2011-10-25 Sandisk Technologies Inc. Reduced programming pulse width for enhanced channel boosting in non-volatile storage
KR20110015907A (ko) * 2009-08-10 2011-02-17 삼성전자주식회사 저항체를 이용한 멀티 레벨 메모리 장치
US8125822B2 (en) 2009-08-31 2012-02-28 Sandisk 3D Llc Reducing programming time of a memory cell
US8040721B2 (en) * 2009-08-31 2011-10-18 Sandisk 3D Llc Creating short program pulses in asymmetric memory arrays
US8379437B2 (en) * 2009-08-31 2013-02-19 Sandisk 3D, Llc Flexible multi-pulse set operation for phase-change memories
US8278641B2 (en) * 2009-12-23 2012-10-02 Intel Corporation Fabricating current-confining structures in phase change memory switch cells
TWI392514B (zh) 2010-01-29 2013-04-11 Colgate Palmolive Co 具有高微生物效力之不含氟化物及陰離子表面活性劑的潔牙劑
KR101201839B1 (ko) 2010-04-26 2012-11-15 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 프로그래밍 전류펄스 생성방법
KR101201840B1 (ko) 2010-04-26 2012-11-15 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치
KR101216535B1 (ko) * 2011-04-27 2012-12-31 주식회사 메디칼써프라이 비구형파를 이용한 산소포화도 측정 장치
KR101810376B1 (ko) 2011-09-09 2017-12-20 인텔 코포레이션 메모리 장치에서의 경로 분리
CN102543170B (zh) * 2012-02-17 2014-10-29 北京时代全芯科技有限公司 一种实现相变存储器低功耗的方法
US9336879B2 (en) * 2014-01-24 2016-05-10 Macronix International Co., Ltd. Multiple phase change materials in an integrated circuit for system on a chip application
US9711213B2 (en) 2014-09-04 2017-07-18 Micron Technology, Inc. Operational signals generated from capacitive stored charge
US9786369B1 (en) * 2015-04-10 2017-10-10 Crossbar, Inc. Enhanced MLC programming
US10593403B2 (en) 2016-02-23 2020-03-17 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Memristive arrays with a waveform generation device
US10622049B1 (en) * 2017-04-28 2020-04-14 SK Hynix Inc. Electronic device including a semiconductor memory that includes a circuit for changing a waveform of a write pulse
KR102641097B1 (ko) * 2018-12-31 2024-02-27 삼성전자주식회사 저항성 메모리 장치 및 저항성 메모리 장치의 프로그램 방법
US11812676B2 (en) * 2020-03-24 2023-11-07 International Business Machines Corporation Multi-terminal phase change memory device
US11715517B2 (en) 2021-08-06 2023-08-01 International Business Machines Corporation Linear phase change memory

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN85104646A (zh) * 1984-11-21 1986-06-10 能源转换装置公司 相可变材料
US4924436A (en) * 1987-06-22 1990-05-08 Energy Conversion Devices, Inc. Data storage device having a phase change memory medium reversible by direct overwrite and method of direct overwrite
CN1064366A (zh) * 1991-01-18 1992-09-09 能源变换设备有限公司 电可擦相变存储器
US5687112A (en) * 1996-04-19 1997-11-11 Energy Conversion Devices, Inc. Multibit single cell memory element having tapered contact
US5912839A (en) * 1998-06-23 1999-06-15 Energy Conversion Devices, Inc. Universal memory element and method of programming same

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3271591A (en) 1963-09-20 1966-09-06 Energy Conversion Devices Inc Symmetrical current controlling device
US3530441A (en) 1969-01-15 1970-09-22 Energy Conversion Devices Inc Method and apparatus for storing and retrieving information
US5296716A (en) 1991-01-18 1994-03-22 Energy Conversion Devices, Inc. Electrically erasable, directly overwritable, multibit single cell memory elements and arrays fabricated therefrom
US5789758A (en) 1995-06-07 1998-08-04 Micron Technology, Inc. Chalcogenide memory cell with a plurality of chalcogenide electrodes
US5879955A (en) 1995-06-07 1999-03-09 Micron Technology, Inc. Method for fabricating an array of ultra-small pores for chalcogenide memory cells
US6025220A (en) 1996-06-18 2000-02-15 Micron Technology, Inc. Method of forming a polysilicon diode and devices incorporating such diode
US5998244A (en) 1996-08-22 1999-12-07 Micron Technology, Inc. Memory cell incorporating a chalcogenide element and method of making same
US5883827A (en) * 1996-08-26 1999-03-16 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for reading/writing data in a memory system including programmable resistors
US6087674A (en) 1996-10-28 2000-07-11 Energy Conversion Devices, Inc. Memory element with memory material comprising phase-change material and dielectric material
US5781557A (en) 1996-12-31 1998-07-14 Intel Corporation Memory test mode for wordline resistive defects
US6031287A (en) 1997-06-18 2000-02-29 Micron Technology, Inc. Contact structure and memory element incorporating the same
US5933365A (en) 1997-06-19 1999-08-03 Energy Conversion Devices, Inc. Memory element with energy control mechanism
US6141241A (en) 1998-06-23 2000-10-31 Energy Conversion Devices, Inc. Universal memory element with systems employing same and apparatus and method for reading, writing and programming same
US6487113B1 (en) * 2001-06-29 2002-11-26 Ovonyx, Inc. Programming a phase-change memory with slow quench time

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN85104646A (zh) * 1984-11-21 1986-06-10 能源转换装置公司 相可变材料
US4924436A (en) * 1987-06-22 1990-05-08 Energy Conversion Devices, Inc. Data storage device having a phase change memory medium reversible by direct overwrite and method of direct overwrite
CN1064366A (zh) * 1991-01-18 1992-09-09 能源变换设备有限公司 电可擦相变存储器
US5687112A (en) * 1996-04-19 1997-11-11 Energy Conversion Devices, Inc. Multibit single cell memory element having tapered contact
US5912839A (en) * 1998-06-23 1999-06-15 Energy Conversion Devices, Inc. Universal memory element and method of programming same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003058633A1 (en) 2003-07-17
EP1468421B1 (en) 2006-08-09
AU2002367356A1 (en) 2003-07-24
US6625054B2 (en) 2003-09-23
EP1468421A1 (en) 2004-10-20
KR100705867B1 (ko) 2007-04-10
TWI260016B (en) 2006-08-11
ATE336068T1 (de) 2006-09-15
CN1610951A (zh) 2005-04-27
US20030123277A1 (en) 2003-07-03
TW200305158A (en) 2003-10-16
DE60213875T2 (de) 2007-03-08
KR20040075033A (ko) 2004-08-26
DE60213875D1 (de) 2006-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100449642C (zh) 对相变存储器进行编程的方法、装置和系统
US6813177B2 (en) Method and system to store information
US6570784B2 (en) Programming a phase-change material memory
CN103620689B (zh) 相变存储器与开关(pcms)存储器设备中的漂移管理
US6487113B1 (en) Programming a phase-change memory with slow quench time
EP1537584B1 (en) Programming a phase-change material memory
US9171614B2 (en) Reliable set operation for phase-change memory cell
JP4241384B2 (ja) メモリセルを動作させるための方法および装置
US7787291B2 (en) Programming a multilevel phase change memory cell
KR20140124596A (ko) 반도체 메모리 장치 및 그것의 데이터 프로그램 방법
KR20050046771A (ko) 상변화 재료 메모리를 프로그램하는 방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20090107

Termination date: 20121220