CN1185109C - 平版印刷用印版 - Google Patents

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    • B41C1/1041Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern

Abstract

一种平版印刷基版,使用该平版印刷基版的平版印刷版及制造平版印刷版的工艺;平版印刷基版的基层含有由交联聚合物构成的感光层,该交联聚合物含有亲水性聚合物,交联剂和光吸收化合物或者含有亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性聚合物;可以通过光辐射的方法将抗墨层变为亲墨层。

Description

平版印刷用印版
技术领域
本发明涉及一种印刷版,更确切地说是涉及一种需要润湿液的平版印刷版。该印刷版对近红外光很敏感,即使在明亮的室内,仍可以直接利用激光在印刷版上制版,而无需显影和擦除工艺,因此,平版印刷版具有多种优良的印刷性能。
技术背景
平版印刷,即胶版印刷,是纸上印刷的主要趋势,已得到广泛地应用。胶版印刷中使用的印刷版是按照下述方法制备的:首先打印的原始图像是在纸和类似物品上输出,然后通过成像制成完整的胶片,通过该胶片,感光性的基版得到曝光与显影。
然而,随着信息数字化和激光功率的增加,使用激光扫描直接把图像制作在基版上的工艺过程,而不使用胶片。这种激光制版工艺CTP已广泛地应用在印刷版的制造中。
对于目前CTP工艺在实际中的使用的感光版,现存在一种使用约500纳米可见光进行感光反应的感光聚合物版。然而,这种版存在的问题是需要显影,并且该版解像度性差而且不能在亮室中使用。
为解决这些问题,日本公开专利No.20629(1995)公开一种使用热反应的印刷版,这种热反应由于近红外区的光线发生,该印刷版已在实际中得到应用。
尽管该印刷版能够在亮室中使用,并且具有良好的解像度,但是,它仍需要显影工艺。
日本专利No.282142(1996)公开了一种印刷版,该印刷版在亲水性膨胀层中能够形成非成像区。这种版中形成了亲水性膨胀层,该层能够吸收感光材料,因而使该层具有感光性。在成像区内,亲水膨胀层中的感光材料曝露在光线中发生反应,使成像区失去了亲水性,但是亲墨性不充分。另一方面,非成像区中存在残余的感光材料,曝光之后,漂洗去除非成像区中的感光材料是十分必要的。
日本专利No.314934(1995)公开一种不需要显影工艺的印刷版,该版含有由钛或二氧化钛组成的无机光吸收底层和由硅氧烷树脂构成的抗墨层,该版已广泛地应用于实践中。在该版中,硅氧烷树脂层具有抗墨性能,成为非成像区,而成像区是通过近红外光辐射形成。在印刷过程中,通过光辐射移去硅氧烷树脂,使吸墨层暴露在外。为了彻底清除硅氧烷树脂,擦除工艺是十分必要的。如果硅氧烷去除的不充分,则光辐射区亲墨性将不充分,引起成像区的破坏,印刷效果变差。
日本专利No.199064(1994)公开一种印刷版,其含有由分散在硝基纤维素中的碳黑组成的光吸收层和其上的亲水层或抗油层组成。该版的光吸收层在光辐射下发生热降解,为使吸墨层物质曝光,必须去除光吸收层和亲水层或抗墨层。即,通过消融的方法制备成像区。该版能在亮室中使用,而且不需要显影和擦除工艺。然而,为去除光吸收层和亲水层或抗墨层,需要大量的能量,并且需要长时间的曝光。而且还存在其它问题,即:部分被除去的光吸收层,亲水层或抗墨层和它们的分解产物积累在曝光区边缘的未曝光区周围,引起品质变坏,例如油墨的粘合。
美国专利No.3,793,033公开一种非消融印刷版,其方法是:通过光辐射使该版的感光层熟化,变为亲油性,感光层含有羟乙基纤维素,酚醛树脂和光自由基(photo-radical)发生器。然而,经光辐射后,亲水性和亲油性间的平衡变差,因而,不能够进行精细的印刷。
日本专利No.52932(1985)公开一种印刷版,它对印刷版的非水吸收树脂层进行磺化反应,制成亲水表面,并通过光辐射去除磺化层制成亲油层。用该方法,必须使用消融工艺,由于只是表层消融处理,因此很少产生碎屑。从此方面讲,该印刷版已经得到了很好的改善,但该版亲水性不充分,易于产生浮渣,而且磺化技术复杂,有危险性。
日本专利No.127683(1997)和No.171249(1997)公开一种印刷版,它是使用热塑性聚合物粒子制成的含有亲水层和感光层的印刷版。聚合物粒子在光辐射下发生软化,从而改变对油墨的吸收性。印刷版感光层的未曝光部分能够溶解在水中,很容易去除,因此,不必使用显影机器。它的显影可以通过在水溶液中的压印进行。该版已经实际应用在压印显影系统中。然而该版在使用中也存在许多弊端,即:水溶液及油墨易污染,另外,印刷版的湿度必须严格控制。
美国专利No.3,476,937公开一种印刷版,这种印刷版既不需要湿显影工艺,也不需要加压显影工艺。该版含有亲水性树脂层,亲水性树脂层是由相互独立而又彼此联系的亲水热塑性聚合物粒子组成。通过亲水性聚合物粒子受热软化,可以改变树脂层的亲水性。但是当光辐射在该版上时,由于基版的感光性很差,并且亲水树脂层的强度低,因而版的耐久性很差。而且,由于加入大量的亲水热塑性聚合物来改善油墨的吸附性,将会有浮渣产生。
日本专利No.1850(1995)公开一种覆有感光层的印刷版。该感光层是由亲水性树脂和包含在树脂中的微胶囊组成。微胶囊中含有一种与亲水树脂中的亲水基团反应活泼的亲油物质。利用光辐射技术,可以使这些微胶囊破裂,从而将亲水性树脂变为亲油性。但是为了提高解像度或防止浮渣现象的发生,必须减少微胶囊的直径。要想得到这种微胶囊是很困难的。使用加热印刷头进行印刷时,相对来讲加热加压这些微胶囊能够使之较容易地破裂。但是,利用光辐射印刷时微胶囊破裂不均匀,解像度差。
该专利中还介绍了一种工艺。将两块基版紧密粘合在一起,其中一块版的表层含有对某种物质的吸收层,然后用光辐射,产生能量,从而实现吸收层的传递。然而,在这种方法中存在很多问题,例如,由于基版上附有灰尘等杂质,很难将两块版紧密粘合在一起,而且,传递过程中需要大量的能量,传递后的吸光层机械强度差,在印刷中容易脱落。
综上所述,传统的CTP印刷版存在很多问题,因此,需开发一种CTP印刷版来解决上述问题。
本发明的目的是结合上述的现有技术,开发一种新型印刷版来解决上述问题。该发明可提供一种可以在亮室中使用的印刷基版,不需要显影和擦除技术,并且具有良好的感光性,解像度和各种印刷特性,可以用作CTP印刷版使用,并提供一种用于印刷基版的印刷版,以及生产该版的生产工艺。
发明内容
本发明的目的是为解决上述提出的各种问题。研究结果表明,上述问题可以通过一种平版印刷基版来解决。这种具有抗墨性能的平版印刷底层上附有一层由交联剂聚合组成的感光层,可以通过光照辐射的方法使感光层从抗墨性变为亲墨性。本发明中的平版印刷版就是使用这种性能的基版制造的,并已经成功地完成。
根据本发明的第一方面,它提供了一种平版印刷用的基版,该基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层。该感光层是由具有抗墨性的交联聚合物组成的,可以通过光辐射的方法将抗墨层变为亲墨层。
根据本发明的第二方面,提供一种本发明第一方面的平版印刷用的基版,其中感光层是一种感光亲水树脂层,可以通过对含有亲水性聚合物,交联剂和光吸收化合物的感光组合物进行交联得到。
根据本发明的第三方面,提供一种本发明第一方面的平版印刷用的基版,其中感光层是一种感光亲水树脂层,可以通过对含有亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性聚合物的感光组合物进行交联得到。
根据本发明的第四方面,提供一种本发明第二方面的平版印刷用的基版,其中感光亲水树脂层具有由亲水性聚合物相和疏水性聚合物相组成的相分离结构。
根据本发明的第五方面,提供一种本发明第三方面的平版印刷用的基版,其中亲水树脂层主要成分包括下述一种或多种单体:未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺,N-乙烯基甲酰胺及N-乙烯基乙酰胺。疏水性聚合物是一种平均粒径为0.005-0.5微米的水分散体,其成膜温度不超过50℃。感光亲水树脂层具有由亲水聚合物相和疏水聚合物相组成的相分离结构。
根据本发明的第六方面,提供一种本发明第四和第五方面的平版印刷用的基版,其中感光层通过光辐射能够局部发泡,使其从抗墨性变为亲墨性。
根据本发明的第七方面,它提供了一种生产平版印刷版的工艺,包括用波长为750-1100纳米的光对本发明第五方面或第六方面提供的平版印刷基版进行辐射。
根据本发明的第八方面,它是通过用光辐射平版印刷基版得到平版印刷版。该平版印刷基版的底层上直接置有感光层或底层上的另一层上涂有感光层,所述的感光层是由一种交联聚合物组成,具有抗墨性,用光辐射后,可以使感光层从抗墨性变为亲墨性。
根据本发明的第九方面,它是以第八项发明涉及的平版印刷版为基础的,它的感光层是一种感光亲水性树脂层,可以通过亲水性聚合物,交联剂和光吸收化合物进行交联制得。
根据本发明的第十方面,提供一种本发明第八方面的平版印刷用的基版,其中感光层是一种感光亲水性树脂层,可以通过亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性化合物进行交联制得。
根据本发明的第十一方面,提供一种本发明第九方面的平版印刷用的基版,其中感光亲水树脂层具有由亲水聚合物相和疏水聚合物相组成的相分离结构。
根据本发明的第十二方面,提供一种本发明第十方面的平版印刷用的基版,其中亲水聚合物的主要成分包括下述一种或多种单体:未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺,N-乙烯基甲酰胺及N-乙烯基乙酰胺。疏水性聚合物是一种平均粒径为0.005-0.5微米的水分散体,其成膜温度不超过50℃。感光亲水树脂层具有由亲水聚合物相和疏水聚合物相组成的相分离结构。
根据本发明的第十三方面,提供一种本发明第十一或十二方面的平版印刷版,其中感光层通过光辐射能够局部发泡,使其从抗墨性变为亲墨性。
根据本发明的第十四方面,提供一种本发明第十二或十三方面的平版印刷版,其中辐射用的光的波长为750-1100纳米。
具体实施方式
根据本发明的平版印刷基版,使用该基版的平版印刷版和生产该平版印刷版的工艺,详细叙述如下。
(1)平版印刷基版和平版印刷版
(i)底层
本发明涉及的平版印刷基版含有由抗墨的交联聚合物构成的感光层,该基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层。该基层的实例包括铝版,钢版,不锈钢版和铜版等金属版,聚酯薄膜,尼龙薄膜,聚乙烯薄膜,聚丙烯薄膜,聚碳酸酯薄膜,ABS树脂等塑料薄膜,纸张,铝箔层纸,熔敷金属纸和塑料膜层纸。尽管在厚度上没有特殊的限制,但厚度范围一般在100-400μm之间。为了提高其粘合性,基层必须进行表面处理,例如,氧化处理,铬化处理,磨砂处理,电晕放电处理。
(ii)感光层
本发明的感光层由具有抗墨性能的交联聚合物构成,下面为详细介绍。
本发明涉及到的平版印刷版是用于使用润湿液的胶版印刷的印刷版,它的非成像区被润湿液覆盖从而具有抗墨作用。因此,本发明的感光层需要是亲水性的且在水中不溶解。本发明的印刷版在将感光层从亲水性变为亲墨性的过程中,并没有采用消融法去除感光层的光辐射区。因此,印刷版经过光辐射后,不需要显影和擦除工艺。为实现上述性能的变化,可通过在基层上涂覆含有亲水性聚合物,交联剂和光吸收化合物的感光组合物,或者涂覆含有亲水性聚合物,交联剂,疏水性聚合物和光吸收化合物的感光组合物,然后使其发生交联而获得这种感光层。这种感光层最好具有由亲水性聚合物相和疏水性聚合物相组成的相分离结构。通过交联,亲水性聚合物变得不溶于水。
在本发明的感光层,亲水聚合物发生交联,形成亲水聚合物相。若感光组合物中含有疏水性聚合物,则形成疏水性聚合物相,结果,感光层具有相分离结构。另一方面,如果交联剂发生下述的自聚,即使感光组合物中不含有疏水聚合物,交联剂发生自聚反应的产物也能够形成疏水性聚合物相,结果,感光层也具有了相分离结构。在光的辐射下,疏水性聚合物相发泡或发生热融,使感光层失去亲水性,变得具有亲墨性。
(a)亲水性聚合物
用于本发明的感光层的亲水性聚合物聚合物中含有亲水基团及能够与交联剂反应的官能团。
亲水性聚合物的亲水基团包括:羟基,羰基和它的碱金属,碱土金属或胺盐,硫酸基团及它的碱金属,碱土金属或胺盐,磷酸基团及它的碱金属,碱土金属或胺盐,还包括酰胺基,胺基,氨磺酰基,甲醛基及氧乙烯基。
能与交联剂反应的官能团的实例包括:羟基,羰基和它的碱金属,碱土金属或胺盐,硫酸基团及它的碱金属,碱土金属或胺盐,磷酸基团及它的碱金属,碱土金属或胺盐,酰胺基,胺基,异腈酸盐基团,缩水甘油基,噁唑啉基,羟甲基,甲氧基甲基或丁氧基甲基。该甲氧基甲基或丁氧基甲基是通过羟甲基与醇如甲醇或丁醇缩合制成的。
亲水聚合物的实例包括下列水溶性聚合物。
即:纤维素,凝胶,聚乙酸乙烯酯皂化反应得到的聚合物,具有前面提到的亲水基团或交联官能团的不饱和酸和它们的衍生物聚合得到的聚合物,N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺,N-乙烯基吡咯烷,乙酸乙烯酯,乙烯醚及这些聚合物发生水解而得到的聚合物。从交联难易程度,在亲水和斥水性能之间获得平衡的难易程度及通过辐射获得亲墨性的难易程度来看,优选使用具有前面提到的亲水基团或交联官能团的不饱和酸和它们的衍生物聚合得到的聚合物,N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺。
下面介绍具有亲水基团或具有交联官能团的不饱和酸和它们的衍生产物。
含有羟基的不饱和酸的衍生物的实例包括:(甲基)丙烯酸羟乙酯,(甲基)丙烯酸羟丙酯,(甲基)丙烯酸羟丁酯,聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯,羟甲基(甲基)丙烯酰胺和羟甲基(甲基)丙烯酰胺与甲醇或丁醇的缩合产物,例如:甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺或丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺。
含有羰基的不饱和酸包括一元不饱和酸和二元不饱和酸。例如:一元不饱和酸中的(甲基)丙烯酸,二元不饱和酸中的衣康酸,富马酸,马来酸及其酐酸及这些二元不饱和酸的单酯及单酰胺。
含有磺酸基团的不饱和酸包括磺乙基(甲基)丙烯酸,(甲基)丙烯酰胺甲基丙烷磺酸,乙烯基磺酸,乙烯基甲基磺酸,异丙甲基磺酸以及通过氧化乙烯或氧化丙烯和(甲基)丙烯酸(例如榄香RS-30,来自SanyoKasei Kogyo K.K)加成获得的磺化酯,(甲基)丙烯酰氧乙基磺酸,单烷基硫代丁二酸和一种含有烯丙基的物质的酯(例如榄香JS-2,来自Sanyo Kasei Kogyo K.K或Latemul S-180和S-180A,kao Corporation),单烷基硫代丁二酸酯和缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯的反应产物以及来自Nippon Nyukazai K.K..的Antox MS60。含有磷酸基团的不饱和聚合单体包括乙烯基磷酸,单(2-羟乙基)磷酸(甲基)丙烯酸及单(2-羟乙基)(甲基)丙烯酸单烷基磷酸。
羰基,磺酸基和磷酸基可以和碱金属,碱土金属或胺类化合物中和。用于中和的碱金属包括钠,钾,锂,碱土金属包括钙,镁。用于中和的胺类化合物有氨,甲基胺二甲基胺,三甲基胺,乙基胺,二乙基胺,三乙基胺,单乙醇胺,二乙醇胺,三乙醇胺。
含有酰胺基的不饱和酸的衍生物包括未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺,未取代或取代的衣康酸酰胺,未取代或取代的富马酸酰胺,未取代或取代的邻苯二甲酸酰胺。未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺包括(甲基)丙烯酰胺,N-甲基(甲基)丙烯酰胺,N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺,N-乙基(甲基)丙烯酰胺,N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺,N,N-二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺,二丙酮(甲基)丙烯酰胺,羟甲基(甲基)丙烯酰胺,甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺,丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺,丙磺酸(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰基吗啉。二元酸酰胺,例如衣康酸酰胺,可以是对一个羰基或两个羰基进行酰胺化得到的胺化单酰胺或双酰胺。含有缩水甘油基的不饱和酸的衍生物包括缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯和对乙烯基苯基缩水甘油醚。
在聚合过程中,可以使用一种或多种上述不饱和酸及它们的衍生物和N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺。进一步讲,可以使用单体和一种或多种上述不饱和酸及它们的衍生物,N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺发生共聚。可共聚的单体包括(甲基)丙烯酸甲酯,(甲基)丙烯酸乙酯,(甲基)丙烯酸丁酯,(甲基)丙烯酸2-乙基己酯,(甲基)丙烯酸缩水甘油酯,(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯,(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯,(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯,(甲基)丙烯酸苯甲酯,(甲基)丙烯酸金刚烷酯,(甲基)丙烯酸环己酯,苯乙烯,α-甲基苯乙烯,丙烯腈,甲基丙烯腈,乙酸乙烯酯。这里,在(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酸中的术语“(甲基)丙烯”,“(甲基)丙烯酰”和“(甲基)丙烯酸”分别表示丙烯和(甲基)丙烯,丙烯酰和(甲基)丙烯酰,以及丙烯酸和(甲基)丙烯酸。
如果感光层由下述包含亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性聚合物的感光组合物组成聚合物,其中在感光层中,疏水性聚合物主要形成疏水聚合物相,在光的辐射下,感光层具有了亲墨性,同时几乎不产生发泡现象。此时,从感光层通过光辐射变为具有亲墨性的难易程度及感光层的优良的亲水性和斥水性等方面考虑,本发明的亲水聚合物优选为含有一种或多种下述单体作为其组要成分:未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺,N-乙烯基甲酰胺和N-乙烯基甲酰胺。在取代的(甲基)丙烯酰胺中,特别优选的是单甲基(甲基)丙烯酰胺,二甲基(甲基)丙烯酰胺,单乙基(甲基)丙烯酰胺或羟甲基(甲基)丙烯酰胺。
含有大量酰胺基的聚合物能够起到混凝剂的作用,尤其当聚合物中具有酰胺基的单体的重量比不超过65%,并含有羰基,磺酸基,磷酸基等酸性基团时,聚合物的混凝作用更为明显。在制备感光组合物过程中,疏水聚合物粒子有时会混凝,从这方面来讲,聚合物的酸值不应超过70,不超过50效果更好,不超过25时,效果最佳。当亲水性聚合物中的羰基,磺酸基,磷酸基等酸性基团与碱金属或胺发生中和时,“酸值”指的是非中和条件下的计算值。
本发明采用交联剂使亲水聚合物发生交联。交联剂与亲水性聚合物发生交联反应使得亲水性聚合物不溶于水,从而使感光性亲水树脂层的斥水性得以提高。交联剂包括已知的多羟基化合物,多羰基化合物及其酸酐,多缩水甘油基化合物,聚胺,聚异氰酸酯化合物,嵌段异氰酸酯化合物,环氧树脂,噁唑啉树脂,氨基树脂,这些交联剂与亲水聚合物中的交联官能团反应,例如与羰基,磺酸基,羟基,缩水甘油基,在某些情况下,也可以与酰胺基反应。
从感光化合物的熟化速度,稳定性及感光层的吸水性与斥水性平衡质量的观点考虑,上述提到的交联剂较常用的为环氧树脂,噁唑啉树脂,氨基树脂及水溶性嵌段异氰酸化合物。氨基树脂包括常用的蜜胺树脂,苯胍树脂,甘脲树脂及改性树脂,例如,羰基改性蜜胺树脂。环氧树脂可以与叔胺共同反应,氨基树脂可以与对甲苯磺酸,烷基苯磺酸等酸性化合物一同反应,为加速交联反应,可以加入氯化铵。
(c)光吸收化合物
本发明亲水性树脂感光层的光吸收化合物是由那些能够吸光发热的化合物。对于吸收光的波长没有严格的限制。在曝光过程中,应适当选择能够被光吸收化合物吸收的一定波长范围内的光。光吸收化合物包括花青染料,聚甲炔染料,邻苯二甲基花青染料,萘二甲基花青染料,无烟花青染料,卟啉染料,偶氮染料,苯琨染料,萘琨染料,二硫金属复合染料,二胺金属复合染料,苯胺黑和碳黑染料。
从在亮室操作,用于曝光设备的光源的功率及使用的难易程度方面考虑,上述染料中,最好选择能够吸收750-1100纳米光的染料。染料可吸收的波长可以通过取代或п电子共轭系统的长度来改变。光吸收化合物可以在感光化合物中溶解或分散。
(d)疏水性聚合物
本发明对于感光层的疏水性聚合物没有特殊的限制。在感光层中,疏水聚合物形成与亲水聚合物相完全不同的疏水聚合物相。疏水聚合物的例子包括常规聚合物和聚合物前体。在形成感光层时,聚合物的前体经过聚合,变为聚合物。其中,从亲水性聚合物混合的难易程度方面考虑,优选的是水溶性分散聚合物聚合物、可溶于水溶液的聚合物及可溶于水溶液的聚合物前体。“水溶液”指的是单纯的水或以水为主要成分的溶液,其它成分包括能够与水互溶的甲醇,乙醇,丙酮等。
水溶性分散聚合物是一种疏水性聚合物的水溶分散液聚合物。水溶性分散聚合物中,聚合物粒子或外表面包有分散剂的聚合物粒子能够分散在水溶液中。水溶性分散聚合物可以通过不饱和单体的乳液聚合或悬浮聚合的方法制备,也可以通过在水中分散疏水聚合物的微细粒子来制备,还可以将疏水聚合物的有机溶剂分散在水中,然后通过蒸馏除去有机溶剂的方法制备。水溶性分散聚合物可分为自乳化(分散)型和强迫乳化(分散)型。水溶性聚合物可以是交联聚合物也可以是非交联聚合物。
水溶性分散聚合物包括水溶分散性乙烯基聚合物,水溶性共轭二稀类聚合物,水溶性丙烯酸类聚合物,水溶分散性聚胺酯树脂,水溶性分散聚酯树脂,水溶性分散环氧树脂。
从印刷版解像度及感光层抗墨性及厚度方面考虑,水分散性聚合物的平均粒径以0.005-0.5μm为宜,更好的是在0.01-0.4μm之间。从辐射时的感光度来考虑,水分散性聚合物成膜温度不应超过50℃,不超过30℃时最佳。特别优选的是水分散丙烯酸聚合物,水溶分散性聚胺酯树脂及水溶性分散聚酯树脂,它们的平均粒径在0.005-0.5微米范围内,成膜温度不应超过50℃。其中,水溶分散性聚胺酯树脂和水溶性分散聚酯树脂性能最佳。
在感光层形成的过程中,经聚合,变成疏水性聚合物的聚合物前体包括前面提及的作为交联剂使用的可自聚合的树脂,例如氨基树脂,环氧基树脂。在聚合过程中,这些树脂发生自聚,还可以加入催化剂催化树脂自聚。也可以进一步加入共聚组分。值得注意的是具有自聚合性的氨基树脂溶于水溶液,由自聚得到的聚合物变为疏水性,能够作为亲水聚合物的交联剂使用。在这种情况下,即使没有疏水性聚合物,疏水聚合物相也能够形成。
本发明的含有疏水聚合物的感光层具有由疏水聚合物相和亲水聚合物相两相组成的相分离结构。从非相区抗墨性考虑,疏水性聚合物相分散在交联的亲水性聚合物相中是十分适宜的。用作疏水聚合物使用的水分散性聚合物的平均粒径在0.005-0.5μm范围内。当疏水聚合物相形成时,聚合物粒子有时会凝结而变大。在这种情况下,从分辨率和抗墨方面考虑,水分散性聚合物相的粒径不应超过5μm,最好小于3μm。
从光照射区亲墨的观点考虑,疏水聚合物相的量要相应大一些。然而,量过大时会产生浮渣,因此,也是不适宜的。如果疏水性聚合物具有独立成膜性时,由于亲水性聚合物相分散在疏水性聚合物相中,因而量过大也是不适宜的。
(e)感光组合物的组成比
通过感光组合物的交联,可以形成本发明的感光性亲水树脂层。感光组合物组成含量如下所述。
如果本发明的感光性亲水树脂层含有亲水聚合物,交联剂和光吸收化合物三种成分时,各种成分组成比如下所述。
从感光亲水树脂层亲水性和斥水性平衡及印刷多样性方面考虑,亲水聚合物重量比(固体含量)范围是在90%-40%之间,较好的范围在85%-80%之间,最佳范围在80%-60%之间。交联剂重量比(固体含量)范围在10%-60%之间,较好的范围在15%-50%之间,最佳范围在20%-40%之间。光吸收化合物重量比(固体含量)为全部亲水化合物,交联剂和其它添加剂(即,除光吸收化合物外,感光组合物中的所有固体含量。)重量比的2%-20%。
如果感光亲水树脂层含有亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性聚合物四种成分时,各组成含量如下所述。
亲水聚合物重量比(固体含量)为70%-20%,较适宜的重量比范围在65%-25%之间,范围在60%-30%之间时最佳。如果采用可以自聚的交联剂,例如氨基树脂,交联剂将会发生自聚。结果,一部分交联剂被保留下来,另一部分交联剂变为疏水性聚合物。交联剂既可以作为交联剂使用,又可以作疏水性聚合物使用。因此,交联剂和疏水性聚合物总重量比为30%-80%,较适宜的范围在35%-75%之间,最佳范围在40%-70%之间。光吸收化合物重量比为亲水性聚合物,交联剂,亲水性聚合物和其它添加剂总量的1%-20%,最佳范围在2%-15%之间。
(2)感光性亲水树脂层的形成及印刷版的制造工艺
(i)感光性亲水树脂层的形成
在本发明的感光性非水溶性亲水树脂层形成过程中,为提高多样性可以将填料加入到溶液中。该溶液中含有亲水聚合物,交联剂和光吸收化合物或含有亲水化合物、交联剂、光吸收化合物和疏水化合物。该填料可以是有机的,也可以是无机的。进一步讲,可以加入低熔点化合物或分解性化合物来促进发泡或利于向亲墨性的转变。
印刷过程中,感光性非水溶性亲水树脂层被润湿液覆盖,因此,感光层具有斥墨性。为了提高非曝光区对润湿液的吸收性,可加入各种表面活性剂。表面活性剂包括阴离子表面活性剂,阳离子表面活性剂,非离子表面活性剂和两性表面活性剂。
为形成感光性非水溶性感光亲水树脂层,可采用在基板上涂布含有亲水聚合物,交联剂和光吸收化合物,或者含有亲水聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水化合物的溶液。其后,将该溶液干燥,熟化。尽管根据涂料溶液,涂覆速度等的不同,涂布的方法不同。一般来讲,较常用的机器包括滚筒式涂料机,浆片式涂料机,照相凹版式涂料机,幕涂机,冲压机和喷雾机。为了使涂料溶液具有抗起泡性,使涂料层光滑,可以在涂料溶液中加入各种添加剂,例如,抗气泡剂,均化剂,抗印刷剂和偶联剂,或者加入填充剂,例如,二氧化钛,硅,铝。涂料之后,在涂布溶液被涂布后,溶液被加热干燥并使亲水聚合物交联。加热温度通常在50-200℃之间。尽管对于感光亲水树脂层的厚度没有特殊的限制,但比较理想的厚度范围在0.5-10μm之间。
在本发明的印刷版制备的过程中,在感光性亲水树脂层形成之后,感光层会受到碾压,为保护该层,感光层上可以层叠附上薄膜。
(ii)印刷版制造工艺
当本发明的印刷基版曝露在能被光吸收化合物吸收的光波长区域内,例如,波长在750-1100纳米范围内,光吸收化合物吸收光而发热。热的产生使感光亲水树脂层的曝光区失去了亲水性,具有了吸墨的性能。这一变化随着感光亲水树脂层的组成,交联程度,强度,玻璃化转变温度,疏水聚合物相的种类,光吸收化合物的种类及辐射光的变化而变化。对于这一变化,能够观察到两种情况,即:(1)疏水聚合物相大部分发泡的情况,(2)难于发泡的情况。
下面对两种情况进行详细描述。
(1)疏水聚合物相大部分发泡的情况
当本发明的感光层的疏水聚合物相含有交联剂时,例如:当感光层含有亲水性聚合物,交联剂和光吸收化合物,或者当感光层含有亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性聚合物,并且交联剂的用量相对较大时,交联剂还能够形成如上文所述的疏水性聚合物相。针对这一情况,可以提出两种假设:交联剂单独形成疏水聚合物相以及包括疏水聚合物的交联剂聚合物形成疏水聚合物相。在任意一种情况下,都可以假设:当疏水聚合物相含有上述交联剂和光吸收化合物时,疏水性聚合物发生交联,则疏水性聚合物相大部分发泡。“发泡”用于此处的意思是指在感光层表面的极为细微的凸起和凹陷。这可能是由感光层的疏水聚合物相产生的爆破的气体而形成的。聚合物随着在辐射区域形成的这些微小的凸起和凹陷的增加,亲墨性变得更高。
尽管通过发泡来变为具有亲墨性的基理还不是十分清楚,但是可以假设在感光层表面附近的疏水聚合物相的表面被亲水聚合物相覆盖,通过疏水聚合物相的发泡,疏水聚合物相被曝露在外,并变为具有碎片结构,该结构能够促进向亲墨性方面的转变。因此,疏水性聚合物的使用能够提高亲墨性,因此是优选的。引起发泡的气体被认为是按照下述方法产生的:疏水性聚合物相中含有的交联剂的聚合性的官能团残存在感光层中,这些残余的官能团进行反应或分解而产生气体。
(2)难于发泡的情况
当本发明的感光层的疏水聚合物相主要是由疏水性聚合物制成时,可以假设:由于疏水性聚合物相是热塑性的,疏水性聚合物粒子被加热熔融变为具有亲墨性。
在本发明的印刷基版中,感光层表面通过上述光的辐射从亲水性变为亲墨性,曝光区的表面形态也随之发生了变化。例如,产生发泡时,曝光区有时比非曝光区相对隆起。甚至在曝光区发生隆起时,在印刷的过程中,通过施加压力,该隆起可被减小或被压平。即使当不产生发泡时,也可以观察到通过加热引起的聚合物熔融的痕迹。
如上所述,在本发明的印刷基版中,感光亲水树脂层的光辐射区从亲水性变为亲墨性,即使未实施显影和擦除工艺,辐射区域的亲墨性仍能够得以保持。因此,可以进行印刷。
对于用作对印刷基版曝光的光波的波长,并没有特殊的限制。光吸收化合物能够吸收的波长范围内的任何光都符合要求。从曝光速度的观点考虑,用汇聚光进行的高速扫描是优选的。易控制并具有高能量的光源是十分适用的。从该观点考虑,具有750-1100纳米的振动波长尤其适合。例如,830纳米的高能半导体激光或1064纳米的钇铝石榴石(YAG)激光都是优选的。安装了这种激光器的曝光机已经出现在市场上,其被称为热版给定器(曝光机)。
如果曝光过程中辐射能量太大或使用的光吸收化合物太多,感光层的相当大的区域将通过分解或焚烧而被去除,分解产物散落在照射区周围,因此,应该避免这种曝光。
实施例
本发明结合下述实施例得到进一步描述,但必须指出,本发明不仅限于这些实施例。
实施例1-3
亲水聚合物的合成
在1000cc烧瓶中注入400克水,充入氮气除去溶液中的氧气,然后升温至80℃。当氮气充入烧瓶时,将单体溶液逐滴连续加入到烧瓶中,整个滴加过程约3小时,同时保持内部温度在80℃。单体溶液含有120克丙烯酰胺,30克丙烯酸,77克水。同时,将0.5克过硫酸钾溶解在50克水中而制成的引发剂水溶液也一同加入。滴加完成后,继续保持在80℃进行2小时聚合,再在90℃下保持2小时。最后加入150克水。用氢氧化钠溶液将pH值调到5.0,这样就合成了亲水性聚合物的水溶液。感光组合物
随后,将亲水性聚合物和作为交联剂使用的CYMEL-701(甲氧基甲基蜜胺树脂,Mitsui Cytec LTD)按表1所示的量(固体含量,重量份)与为重量份的作为熟化加速剂使用的对甲苯磺酸和5重量份的作为光吸收化合物使用的IR-125(花青染料,ACROS)混合,制成感光组合物。
表1
    样品     1     2     3
    亲水性聚合物(重量份)     75     80     65
    交联剂(重量份)     25     20     35
印刷基版的制备
使用医用刀片将0.2毫米厚的聚酯薄膜涂上感光材料。然后将其在120℃干燥3小时,形成2μm厚的感光层,制成印刷基版。通过电子显微镜扫描的方法可以观察到基版感光层的横截面部分。结果表明,通过交联剂自聚,形成了1-2μm的粒子。
评定
采用波长为830纳米的半导体激光束对基版进行扫描辐射,使聚焦光束的辐射能量密度为300mJ/cm2,产生200线/英寸的成像。通过显微镜能够观察到印刷版的表面及横截面。结果表明,每一实施例中,亲水树脂感光层的辐射区有发泡现象和隆起。
将曝光的印刷版用于胶版印刷工艺时,能够完成10000张印刷。在样品1-3的印刷版中,在非辐射区内均不产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷后期,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的亲墨性不会破坏。
实施例4-6
亲水性聚合物的合成与实施例1中亲水聚合物的合成方法相同。不同之处在于加入了如表2所示的不饱和单体代替丙烯酰胺。如表2所示的交联剂和光吸收剂的用量与制备感光材料中的实施例2的用量相同。为提高粘合性,在0.2毫米厚的铝版上预先涂覆2微米厚丁醛树脂作为底漆,再将其涂上感光组合物,在150℃加热1小时,制成具有2微米厚感光层的基版。使用该基版,能够以与实施例1相同的方法完成成像。通过显微镜,能够观察到印刷版感光层的表面及截面部分。可以得出结论,在每一个实施例中都能够观察到,在非辐射区内,交联剂通过自聚形成的1-2微米的粒子,而在辐射区内,发泡并隆起。使用该印刷版,对其印刷的评定与实施例1相同,在印刷纸张上复制的记录图像到最终都很精细。
表2
  实施例   4     5   6
  不饱和单体   二甲基丙烯酰胺     N-乙烯基乙酰胺   丙磺酸丙烯酰胺
  光吸收化合物   VO-萘酞-花青     MA-100   VO-萘酞-花青(VO-naphthalo-cyanine)
  交联剂   CYME-701     UFR-300   CYME-350
CYME-701,CYME-350:蜜胺树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)
UFR-300:尿素树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)
MA-100:碳黑(Mitsubishi Carbon K.K.制造)
实施例7-9
亲水聚合物的合成
在1000cc烧瓶中注入400克水,充入氮气除去溶液中的氧气,然后生温至80℃。当氮气充入烧瓶时,将单体溶液逐滴连续加入到烧瓶中,整个滴加过程约3小时,同时保持温度在80℃。单体溶液含有90克丙烯酰胺,30克丙烯酸,10克羟乙基甲基丙烯酸酯,20克丙烯腈,77克水。同时加入0.5克过硫酸钾溶解在50克水中而制成的引发剂水溶液。滴加完成后,继续保持在80℃进行2小时聚合,再在90℃下保持2小时。最后加入150克水。用氢氧化钠溶液将pH值调到6.0,这样就合成了亲水性聚合物的水溶液。
感光组合物
随后,亲水性聚合物,CYMEL-701和Olester UD350(水分散聚氨酯树脂,Mitsui Chemicals Inc,平均粒径约30nm)与1重量份作为熟化加速剂使用的对甲苯磺酸和5重量份的作为光吸收化合物使用的IR-125混合制成感光组合物。其中CYMEL-701作为交联剂和疏水聚合物前体使用,Olester UD350作为疏水聚合物使用,其用量(固体含量,重量份)如表3所示。
表3
    实施例     7     8     9
    亲水聚合物(重量份)     60     50     35
    CYMEL(重量份)     30     30     35
    Olester UD350(重量份)     10     20     30
印刷基版的制备
使用医用刀片将0.2毫米厚的聚酯薄膜涂上感光组合物。然后将其在120℃干燥3小时,形成2微米厚的感光层,制成印刷基版。
评定
采用波长为830纳米的半导体激光束对基版进行扫描辐射,使聚焦光束的辐射能量密度为300mJ/cm2,产生200线/英寸的成像记录。通过显微镜能够观察到印刷版的表面及横截面。结果表明,在非辐射区,能够观察到含有2-0.5微米粒径的海岛结构中的岛相。该岛相是由蜜胺树脂或含有聚氨酯树脂的蜜胺树脂构成。在辐射区,蜜胺树脂或含有聚氨酯树脂的蜜胺树脂区有发泡现象。在每一实施例中,蜜胺树脂部分变为交联剂,其余部分变为疏水聚合物相。
将曝光版用于胶版印刷中,可生产10000张印刷品。在实施例7-9的印刷版中,在非辐射区不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷超过50000张,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的亲墨性不会被破坏。
实施例10-12
亲水性聚合物的合成方法与实施例8相同。不同之处在于一半的丙烯酰胺被表4的不饱和单体代替。采用用作的交联剂及疏水性聚合物前体(一种交联剂)使用的化合物和如表4所示的疏水性聚合物来制备感光材料,其用量与实施例8相同。为提高粘合性,在0.2毫米厚的铝版上预先涂覆有2微米厚丁醛树脂作为底漆,再将其涂上感光材料,在150℃加热1小时,制成具有2微米厚感光层的基版。使用该基版,与实施例7相同的方法完成图像信息的记录和进行评价。在每一实施例的非辐射区,都能够观察到具有2-0.5微米粒子的海岛结构中的岛相。在辐射区内,能够观察到有发泡现象。印刷结果表明,非辐射区不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷超过50000张,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的亲墨性不会被破坏。
表4
  实施例   10   11     12
  不饱和单体   二甲基丙烯酰胺   N-乙烯基乙甲酰胺     丙磺酸丙烯酰胺
  交联剂   CYMEL-385   MYCOAT 105     CYMEL-202
  疏水聚合物   OLESTER UD-500   BONRON S-224     BONRON S-1318
CYMEL-385,CYMEL-202:蜜胺树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)
MYCOAT 105:苯胍胺树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)
OLESTER UD-500:水溶性分散聚氨酯(Mitsui Chemicals,Inc.)
BONRON S-224,BONRON S-1318:丙烯酸酯共聚物乳液(MitsuiChemicals,Inc.)
实施例13-16
亲水聚合物的合成
在1000cc烧瓶中注入400克水,充入氮气除去溶液中的氧气,然后升温至80℃。当氮气充入烧瓶时,将单体溶液逐滴连续加入到烧瓶中,整个滴加过程约2小时,同时保持内部温度在80℃。单体溶液含有86.2克丙烯酰胺,15.8克Latemul S-180(Kao Corporation,单烷基磺基丁二酸酯,含烯丙基的化合物的酯),18.0克羟乙基甲基丙烯酸酯,122克水。同时加入引发剂水溶液,该引发剂水溶液是由1.0克过硫酸钾溶解在100克水中而制成的。滴加完成后,在80℃进行2小时聚合,最后加入50克水,合成15%亲水性聚合物的水溶液。亲水性聚合物的酸值为17。
感光组合物
随后,将含量(固体含量,重量份)如表5所示的亲水性聚合物,交联剂CYMEL-385,疏水性聚合物Superflex410(水分散聚氨酯树脂,Dai-ichi Kogyo Seiyaku K.K.,成膜温度:小于或等于5℃,平均粒径为0.20微米),光吸收化合物IR-125与1重量份的熟化加速剂对甲苯磺酸和5重量份的NEOCOLYSK(阴离子表面活性剂,Dai-ichi Kogyo SeiyakuK.K.)混合制成感光组合物。
表5
 亲水聚合物    交联剂  光吸收化合物  疏水性聚合物
实施例13      40      10       10       50
实施例14      30      10       10       60
实施例15      40      15       10       45
实施例16      45      15       15       40
印刷基版的制造
使用医用刀片将0.2毫米厚的聚酯薄膜涂上感光组合物。然后将其在120℃干燥15分钟,形成2微米厚的感光层,制成印刷基版。
评定
通过扫描电镜能够观察到印刷基版的横截面。结果观察到主要由聚氨酯树脂形成具有0.2微米粒径的海岛结构中的岛相。相分离结构得到确认。
采用波长为830纳米的半导体激光束对基版进行扫描辐射,使聚焦光束的辐射能量密度为200mJ/cm2,产生200线/英寸的成像。
将曝光版用于胶版印刷中,可生产10000张印刷品。并且实施例13-16中的印刷版在非辐射区不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷超过20000张,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的亲墨性不会被破坏。
实施例17-19
印刷基版的制造方法与实施例13相同,不同之处在于将亲水聚合物用如表6所示的聚合物代替。其后的印刷成相及评定工艺与实施例13相同。
表6
    亲水聚合物
实施例17     丙烯酰胺/丙烯酸/羟乙基甲基丙烯酸酯共聚物组成比:84/1/15(重量比)酸值:8
实施例18     丙烯酰胺/羟乙基甲基丙烯酸酯共聚物组成比:85/15(重量比)酸值:0
实施例19     丙烯酰胺/N-乙烯基甲酰胺/羟乙基甲基丙烯酸酯共聚物组成比:75/10/15(重量比)酸值:0
实施例17-19涉及到的每一实施例的感光层都具有相分离结构,可以观察到岛相是由疏水聚合物构成。即使在印刷超过20000张,在非辐射区也不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。
实施例20-21
印刷基版的制造方法与实施例18相同,不同之处在于将疏水聚合物用如表7所示的聚合物代替。其后的印刷成相及评定工艺与实施例18相同。
表7
    疏水聚合物
    实施例20     Olester UD-350(水溶性分散聚氨酯,MitsuiChemicals,Inc.)粒径:0.03微米成膜温度:小于或等于5℃
    实施例21     VYLONAL MD-1480(水溶性分散聚酯,Toyobo Co.,Ltd.)粒径:0.08微米成膜温度:10℃
上述版的感光层中,均具有相分离结构,其中岛相是由疏水性聚合物形成的。
实施例20-21涉及的印刷版,即使在印刷超过10000张,在非辐射区也不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。
工业应用
在使用水溶液的平版印刷基版中,能够形成非水溶性感光亲水树脂层。通过光对感光层的辐射,可以将该层从亲水性变为亲墨性,从而获得性能良好的印刷版。该版不需要显影与擦除工艺,并具有良好的亲水性,抗水性,抗墨性,敏感性,解像度及印刷性。

Claims (16)

1.一种平版印刷基版,在该基版的底层上直接涂有感光层或在位于所述底层之上的另一层上涂有感光层,所述的感光层是由具有抗墨性的交联聚合物组成,其特征是感光层是不溶于水的感光性亲水树脂层,其通过交联含有亲水性聚合物、交联剂和光吸收化合物的感光组合物获得,其中,感光性亲水树脂层具有由亲水性聚合物相和疏水性聚合物相组成的相分离结构,该感光层具有通过光辐射而从抗墨性变为亲墨性的特性。
2.根据权利要求1的平版印刷基版,其特征是该感光层具有通过光照射产生局部发泡,从抗墨性变为亲墨性的特性。
3.根据权利要求1的平版印刷基版,其特征是该感光层具有通过光照射产生局部热熔,从抗墨性变为亲墨性的特性。
4.一种平版印刷基版,在该基版的底层上直接涂有感光层或在位于所述底层之上的另一层上涂有感光层,所述的感光层是由具有抗墨性的交联聚合物组成,其特征是,感光层是不溶于水的感光性亲水树脂层,其通过交联含有亲水性聚合物、交联剂、光吸收化合物和疏水性聚合物的感光组合物获得,该感光层具有通过光辐射而从抗墨性变为亲墨性的特性。
5.根据权利要求4的平版印刷基版,其特征是所述的亲水性聚合物含有一种或多种选自取代或未取代的(甲基)丙稀酰胺,N-乙烯基甲酰胺,N-乙烯基乙酰胺的单体作为主要成分;所述疏水性聚合物是具有平均粒径为0.005-0.5微米的水分散性聚合物,它的成膜温度不超过50℃,感光亲水树脂层具有由亲水聚合物相和疏水聚合物相组成的相分离结构。
6.根据权利要求5的平版印刷基版,其特征是该感光层具有通过光照射产生局部发泡,从抗墨性变为亲墨性的特性。
7.根据权利要求5的平版印刷基版,其特征是该感光层具有通过光照射产生局部热熔,从抗墨性变为亲墨性的特性。
8.一种制造平版印刷版的工艺,其特征是采用750-1100纳米波长的光照射权利要求4的平版印刷基版,其中,亲水性聚合物是含有一种或多种选自取代或未取代的(甲基)丙稀酰胺,N-乙烯基甲酰胺,N-乙烯基乙酰胺的单体作为主要成分的聚合物,疏水性聚合物是具有平均粒径为0.005-0.5微米的水分散性聚合物,它的成膜温度不超过50℃,感光性亲水树脂层具有由亲水性聚合物相和疏水性聚合物相组成的相分离结构。
9.一种平版印刷版,其特征是通过辐射平版印刷基版获得,在所述平版印刷基版的底层上直接涂有感光层或在位于所述底层之上的另一层上涂有感光层,所述的感光层由抗墨性交联聚合物制成,其中,感光层是不溶于水的感光性亲水树脂层,其通过交联含有亲水性聚合物、交联剂和光吸收化合物的感光组合物获得,其中,感光性亲水树脂层具有由亲水性聚合物相和疏水性聚合物相组成的相分离结构,该感光层经过光照从抗墨性变为亲墨性。
10.根据权利要求9的平版印刷版,其特征是该感光层通过光照射产生局部发泡,从抗墨性变为亲墨性。
11.根据权利要求9的平版印刷基版,其特征是该感光层通过光照射产生局部热熔,从抗墨性变为吸墨性。
12.一种平版印刷版,其特征是通过辐射平版印刷基版获得,在所述平版印刷基版的底层上直接涂有感光层或在位于所述底层之上的另一层上涂有感光层,所述的感光层由抗墨性交联聚合物制成,其中,感光层是不溶于水的感光性亲水树脂层,其通过交联含有亲水性聚合物、交联剂、光吸收化合物和疏水性聚合物的感光组合物获得,该感光层经过光照从抗墨性变为亲墨性。
13.根据权利要求12的平版印刷版,其特征是亲水性聚合物是含有一种或多种选自取代或未取代的(甲基)丙稀酰胺,N-乙烯基甲酰胺,N-乙烯基乙酰胺的单体作为主要成分的聚合物,疏水性聚合物是具有平均粒径为0.005-0.5微米的水分散性聚合物,它的成膜温度不超过50℃,感光亲水树脂层具有由亲水性聚合物相和疏水性聚合物相组成的相分离结构。
14.根据权利要求13的平版印刷版,其特征是该感光层通过光照射产生局部发泡,从抗墨性变为亲墨性。
15.根据权利要求13的平版印刷基版,其特征是该感光层通过光照射产生局部热熔,从抗墨性变为吸墨性。
16.根据权利要求13或14的平版印刷版,其特征是照射光的波长在750-1100纳米的范围内。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3852593B2 (ja) * 2002-07-17 2006-11-29 日産化学工業株式会社 反射防止膜形成組成物
KR100659572B1 (ko) * 2002-10-16 2006-12-19 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판
JP2004205763A (ja) * 2002-12-25 2004-07-22 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版
DE602004016042D1 (de) * 2003-12-26 2008-10-02 Mitsui Chemicals Inc Flachdruck-originalplatte und flachdruckplatte
EP1810836A4 (en) * 2004-10-26 2008-01-23 Mitsui Chemicals Inc LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
DE602006016132D1 (de) * 2005-07-08 2010-09-23 Mitsui Chemicals Inc Vorläufer für flachdruckplatte
WO2007026491A1 (ja) 2005-08-30 2007-03-08 Mitsui Chemicals, Inc. 平版印刷用原版、および平版印刷用原版の感光層用樹脂組成物
CN101269564B (zh) * 2007-03-19 2012-02-15 成都新图印刷技术有限公司 热敏阴图平版印刷版的制备方法
CN101861547B (zh) * 2007-11-16 2013-10-16 爱克发印艺公司 制造平版印刷版的方法
US8173346B2 (en) * 2008-05-28 2012-05-08 Presstek, Inc. Printing members having permeability-transition layers and related methods
KR101152802B1 (ko) * 2009-11-24 2012-06-12 (주)천부 유브이 세터용 무현상 네거티브 피에스 인쇄판 제작 방법 및 그 실시를 위한 감광성 조성물
JP2011190415A (ja) * 2010-03-16 2011-09-29 Fujifilm Corp 複合粒子およびその製造方法、並びに水性インク組成物及びそれを用いた画像形成方法
US20160230284A1 (en) 2015-02-10 2016-08-11 Arcanum Alloy Design, Inc. Methods and systems for slurry coating
WO2017201418A1 (en) 2016-05-20 2017-11-23 Arcanum Alloys, Inc. Methods and systems for coating a steel substrate
CN107065444B (zh) * 2017-01-20 2019-03-05 中国科学院广州能源研究所 一种制备亲疏图案的光刻方法

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1424008A (fr) 1963-12-05 1966-01-07 Gevaert Photo Prod Nv Procédé d'enregistrement d'informations au moyen d'un matériel sensible à la chaleur et à la pression
US4001015A (en) * 1970-10-09 1977-01-04 Badische Anilin- & Soda-Fabrik Aktiengesellschaft Method for the production of printing plates using photosensitive compositions
JPS4833905A (zh) * 1971-09-02 1973-05-15
US3793033A (en) 1972-09-05 1974-02-19 Minnesota Mining & Mfg Development-free printing plate
JPS56130753A (en) * 1980-05-28 1981-10-13 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of printing plate for lithographic printing
JPS6052932A (ja) 1983-09-01 1985-03-26 Onkyo Corp アクセス装置
AU674518B2 (en) 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5379698A (en) 1992-07-20 1995-01-10 Presstek, Inc. Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging
JP3206297B2 (ja) 1993-04-22 2001-09-10 旭化成株式会社 感熱ダイレクト平版原版とその製版方法
US5340699A (en) 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
JPH08282142A (ja) 1995-02-14 1996-10-29 Toray Ind Inc 平版印刷版、その製造方法および平版印刷版原版
US6030750A (en) * 1995-10-24 2000-02-29 Agfa-Gevaert. N.V. Method for making a lithographic printing plate involving on press development
JP3555668B2 (ja) 1995-10-31 2004-08-18 大日本インキ化学工業株式会社 平版印刷版及び印刷方法
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
JPH09218506A (ja) * 1996-02-14 1997-08-19 Toray Ind Inc 感光性平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
JPH09244237A (ja) * 1996-03-11 1997-09-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd 表面エネルギーを増加し得る組成物、およびそれを用いた印刷版用材料
JPH11240273A (ja) * 1997-12-09 1999-09-07 Agfa Gevaert Nv 感熱性画像形成要素及びそれを用いる平版印刷版の作製方法
EP0922572A1 (en) * 1997-12-09 1999-06-16 Agfa-Gevaert N.V. A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6124073A (en) 1997-12-09 2000-09-26 Agfa-Gevaert, N.V. Heat-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6096471A (en) * 1998-05-25 2000-08-01 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate
JPH11334238A (ja) * 1998-05-28 1999-12-07 Toray Ind Inc レーザー感応性平版印刷版原版
US6230621B1 (en) * 1998-07-31 2001-05-15 Agfa-Gevaert Processless thermal printing plate with well defined nanostructure
JP3887966B2 (ja) * 1998-08-28 2007-02-28 コニカミノルタホールディングス株式会社 感熱平版印刷版材料
US6190830B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive crosslinked vinyl polymer with organoonium group and methods of imaging and printing
US6300032B1 (en) * 1999-02-01 2001-10-09 Agfa-Gevaert Heat-sensitive material with improved sensitivity
JP3749398B2 (ja) * 1999-05-24 2006-02-22 富士写真フイルム株式会社 平版印刷用原版
JP2001022066A (ja) * 1999-07-08 2001-01-26 Mitsui Chemicals Inc 感光性組成物及びそれを用いた印刷版

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