CN1287636C - 有保护性无机材料封装层的发光装置及该装置的保护方法 - Google Patents
有保护性无机材料封装层的发光装置及该装置的保护方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1287636C CN1287636C CNB998093610A CN99809361A CN1287636C CN 1287636 C CN1287636 C CN 1287636C CN B998093610 A CNB998093610 A CN B998093610A CN 99809361 A CN99809361 A CN 99809361A CN 1287636 C CN1287636 C CN 1287636C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- inorganic material
- cover plate
- layer
- polymer
- material layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 33
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 title claims description 19
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 title claims description 19
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 title abstract description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 74
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 230000004224 protection Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 14
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 14
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 71
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 39
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 26
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 6
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 5
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 5
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 4
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000109 alkoxy-substituted poly(p-phenylene vinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 230000008384 membrane barrier Effects 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- -1 polyparaphenylenes Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIIAYQZJNBULGD-UHFFFAOYSA-N (5alpha)-cholestane Natural products C1CC2CCCCC2(C)C2C1C1CCC(C(C)CCCC(C)C)C1(C)CC2 XIIAYQZJNBULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000292 Polyquinoline Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- XIIAYQZJNBULGD-LDHZKLTISA-N cholestane Chemical compound C1CC2CCCC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 XIIAYQZJNBULGD-LDHZKLTISA-N 0.000 description 1
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920000775 emeraldine polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012796 inorganic flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000112 poly(2,5-bis(cholestanoxy) phenylene vinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
- H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8426—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
- H10K59/8722—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
Abstract
公开了制造适于保护聚合物基电子装置的保护密封的方法以及所保护的装置,所述装置包括发光二极管和聚合物发射显示器。保护密封优选包括一种或多种在低温施加的氮化硅或其它无机电介质薄膜。一层或多层非反应性金属层也可存在于保护层中。公开的其它实施方案包括在保护层上的保护盖。这些保护层提供了足以防止大气危害的封装使适于工业应用的聚合物电子装置获得贮存期限和承受外界侵蚀寿命。
Description
技术领域
本发明涉及封装固态电子装置的方法及被封装的装置。更具体而言,本发明涉及被封装的有机聚合物发光装置。本发明主要描述了封装这种装置以防止周围的潮气和氧与制造该装置所用的材料发生反应的方法。
背景技术
由共轭有机聚合物层制造的二极管且特别是发光二极管(LED)由于其在显示器技术领域潜在的应用前景而引人注目[J.H.Burroughs,D.D.C.Bradley,A.R.Brown,R.N.Marks,K.Mackay,R.H.Friend,P.L.Burns和A.B.Holmes,《自然》(Nature)347,539(1990);D.Braun和A.J.Heeger,Appl.Phys.Lett.58,1982(1991)]。在此引入这些文献及其所参考的所有其它论文、专利和专利申请作为参考。用作聚合物LED中活性层的有前途材料为聚(亚苯基亚乙烯基)(“PPV”)及PPV的可溶性衍生物如聚(2-甲氧基5-(2’-乙基己氧基)-1,4-亚苯基亚乙烯基)(“MEH-PPV”),一种禁带宽度Eg≈=2.1eV的高分子半导体。该材料在美国专利5,189,136中有更详细的描述。在本申请中所述的另一种有用材料为聚(2,5-二(胆甾烷氧基)-1,4-亚苯基亚乙烯基)(“BCHA-PPV”),一种禁带宽度Eg≈2.2eV的高分子半导体。该材料在美国专利申请07/800,555中有更详细的描述。其它适宜的聚合物包括例如:OCIC10-PPV;由D.Braun,G.Gustafsson,D.McBranch和A.J.Heeger在J.Appl.Phys.72,564(1992)中所述的聚(3-烷基噻吩)及由M.Berggren,O.Inganas,G.Gustafsson,J.Rasmusson,M.R.Andersson,T.Hjertberg和O.Wennerstrom所述的相关衍生物;由G.Grem,G.Leditzky,B.Ullrich和G.Leising在Adv.Mater.4,36(1992)所述的聚对亚苯基,及由Z.yang,I.Sokolik,F.E.Karasz在《大分子》(Macromolecules),26,1188(1993)中所述的其可溶性衍生物;由I.D.Parker在J.Appl.Phys.Lett.65,1272(1994)中所述的聚喹啉。在非共轭主体聚合物中的共轭高分子半导体的共混物也可用作聚合物LED中的活性层,如C.Zhang,H.von Seggern,K.Pakbaz,B.Kraabel,H.-W.Schmidt和A.J.Heeger在Synth.Met.,62,35(1994)中所述。同样有用的为包含两种或多种共轭聚合物的共混物,如H.Nishino,G.Yu,T-AChen,R.D.Rieke和A.J.Heeger在Synth.Met.,48,243(1995)中所述。一般用作聚合物LED中活性层的材料包括半导电共轭聚合物,更特别为可光致发光的半导电共轭聚合物,而且还更特别为可光致发光且可溶并可从溶液中加工成均匀薄膜的半导电共轭聚合物。
在有机聚合物基LED领域,已在该领域讲到使用较高逸出功金属作为阳极;该高逸出功阳极用于将空穴注入半导体发光聚合物的另外的已被填充的π-能带中。较低逸出功金属优选作为阴极材料;该低逸出功阴极用于将电子注入半导体发光聚合物的另外的空π*-能带中。在阳极注入的空穴和在阴极注入的电子在活性层内重新辐射结合并发射光。适宜电极的标准由I.D.Parker在J.Appl.Phys,75,1656(1994)中详述。
用作阳极材料的适宜的较高逸出功金属为氧化铟/锡的透明导电薄膜[J.H.Burroughs,D.D.C.Bradley,A.R.Brown,R.N.Marks,K.Mackay,R.H.Friend,P.L.Burns和A.B.Holmes,《自然》(Nature)347,539(1990);D.Braun和A.J.Heeger,Appl.Phys.Lett.58,1982(1991)]。或者也可使用导电聚合物如聚苯胺(“PANI”)的薄膜,如下列文献所证明的:G.Gustafsson,Y.Cao,G.M.Treacy,F.Klavetter,N.Colaneri和A.J.Heeger,《自然》(Nature)357,477(1992);Y.Yang和A.J.Heeger,Appl.Phys.Lett.64,1245(1994)和美国专利申请08/205,519;Y.Yang,E.Westerweele,C.Zhang,P.Smith和A.J.Heeger,J.Appl.Phys.77,694(1995);J.Gao,A.J.Heeger,J.Y Lee和C.Y.Kim,Synth.Met.,82,221(1996);Y.Cao,G.Yu,C Zhang,R.Menon和A.J.Heeger,Appl.Phys.Lett.70,3191(1997)。氧化铟/锡薄膜和导电的翠绿亚胺形式的聚苯胺薄膜是优选的,因为作为透明电极两者均可使发自LED的光以可用水平从装置中发出。
用作阴极材料的适宜的较低逸出功金属为碱土金属如钙、钡、锶和稀土金属如镱。低逸出功金属的合金,如镁银合金及锂铝合金也是现有技术中已知的(美国专利5,047,687;5,059,862和5,408,109)。用现有技术测定的电子注入阴极层的厚度为200-5000(美国专利5,151,629;美国专利5,247,190;美国专利5,317,169和J.Kido,H.Shionoya,K.Nagai,Appl.Phys.Lett.,67(1995)2281)。要求200-500埃单位()的更低限制范围以形成阴极层的连续膜(完全覆盖)。(美国专利5,512,654;J.C.Scott,J.H.Kaufman,P.J.Brock,R.DiPietro,J.Salem和J.A.Goitia,J.Appl.Phys.,79(1996)2745;I.D.Parker,H.H.Kim,Appl.Phys.Lett.,64(1994)1774)。除了良好的覆盖外,还认为较厚的阴极层提供了自我包裹以防止氧和水蒸汽进入装置的化学活性部分。
包含超薄层碱土金属钙、锶和钡的电子注入阴极被描述为具有高亮度和高效率的聚合物发光二极管。与由相同金属(及其它低逸出功金属)制成的膜厚度大于200的常规阴极相比,包含厚度小于100(例如15-100)的超薄层碱土金属的阴极在稳定性和聚合物发光二极管的运行寿命方面均有显著改进[Y.Cao和G.Yu,美国专利中请08/872,657]。
不幸的是,虽然使用低逸出功电极是从阴极中有效注入电子及令人满意的装置性能所要求的,但低逸出功金属如钙、钡和锶一般是不稳定的并且易于在室温与氧和/或水蒸汽反应而且在较高温时反应更剧烈。
尽管聚合物LED的结构有所改进,但一直存在的问题是在储存期间和受压期间,特别是在高温时装置效率(及输出光)的快速衰减。因此,需要封装这种装置的方法,所述封装足以防止水蒸汽和氧扩散到装置中并由此延长使用寿命。
发明概述
用有机聚合物材料作为活性层而制成的发光装置一般包含反应性的低逸出功金属如钙、钡或锶。在这些装置的正常使用期间,潮气及浓度较小的氧可与这些金属接触并反应形成氢氧化物和/或氧化物。暴露在氧中,特别是在光照时可同样引起发光高分子半导体的光氧化降解。这种反应会显著降低装置的发光性能。过长时间暴露在周围空气中引起装置的光输出显著降低。这些反应经常会导致这些装置的发光性能完全丧失,使得它们不能作为光源。许多已知的实现电子装置密封封装的方法要求在封装期间将装置加热超过300℃。许多聚合物基发光装置不能适应这种高温。
现在我们已经发现了一种用于在低温封装聚合物发光装置的技术方法。该封装方法在装置和周围空气间提供了密封以隔绝其有害的潮气和氧。
本发明的封装方法是一种装置的总厚度没有因为封装装置而显著增加的方法。
如果需要,该方法可以比本领域已知方法更少的步骤进行。
根据本发明通过在低温将包含无机耐火材料如陶瓷例如氮化硅或氧化硅薄膜沉积到存在于装置结构中的反应性阴极上而保护整个装置。在一个优选的实施方案中,无机耐火材料层的沉积是通过首先在低温将非反应性金属如铝薄膜沉积到反应性阴极上而进行的。在此层之后,同样在低温再沉积上包含无机耐火材料如陶瓷例如氮化硅或氧化硅薄膜。两层结构是优选的。当在低温,如低于约300℃沉积这些层时,它们一般包含微小的针孔。如果只单独使用一层金属层作封装,潮气和氧将能够穿透这些针孔并损害装置的性能。但是,因为在两层中刚好同一个位置都出现针孔的可能性很小,使用双层,即非反应性金属层及随后的耐火薄膜可防止潮气和氧接触装置中的反应性材料。甚至在低于100℃下进行层沉积也是同样情况。
在本发明的一个优选实施方案中,将非反应性金属层压制成横穿装置的成行形式。通过在行和列的交叉处形成象素,这一几何形状通常用于制造矩阵式显示器。在该实施方案中有害的潮气和氧可在非反应性金属行的边缘接触装置中的反应性组分。在本发明的该实施方案中随后沉积的陶瓷膜可防止潮气和氧接触反应性金属。
在另一个优选的实施方案中,非反应性金属层和陶瓷薄膜层之后还有一个由包围在装置周边的环氧树脂框固定的薄盖板。这个盖板为防止周围潮气和氧提供额外的保护。这个盖板可由能对潮气和氧提供足够阻挡的任何材料制成。盖板的一些实例为塑料、玻璃、陶瓷及其它非反应性金属。
在本发明的另一个优选实施方案中,通过将环氧树脂分散在大部分区域如装置的整个光活性区来固定盖板。
在本发明的又一个优选实施方案中,将陶瓷薄膜压制成框形。薄膜金属沉积在该陶瓷框表面并制成相同的框形。将同样形状的金属薄膜沉积并压制在盖板上。使用金属焊料将盖板连接到陶瓷薄膜上。在该结构中焊料和陶瓷薄膜框提供了装置的密封。
在本发明的再一个优选实施方案中,陶瓷薄膜沉积在装置的全部活性区域上。将薄膜金属沉积并压制成框形。在盖板上形成类似的金属框。使用金属焊料将盖板连接到陶瓷薄膜框上。
附图说明
可参考附图对本发明进行进一步的说明,其中:
图1显示了根据本发明的被保护的聚合物基电子装置的一个实施方案的横截面示意图。
图2显示了根据本发明的电子装置的另一个实施方案的横截面示意图。
图3显示了本发明的另一个实施方案的横截面示意图。
图4显示了本发明的又一个实施方案的横截面示意图。
图5显示了本发明的再一个实施方案的横截面示意图。
图6以平面图显示了刚制备的及使用两个阶段后的聚合物发光显示器的三个示意图,用装置活性发光面积的大小来说明装置在环境中暴露时性能的下降。
图7显示了使用本发明方法以图2所示实施方案结构所保护装置的示意图。图2所示的显示器暴露在50℃95%相对湿度下288小时。注意到在该显示器中可观察到象素发光面积的尺寸减小得多么不明显,尽管它已暴露在比图6所示显示器苛刻得多的条件下。还应该注意到该图中的显示器确实显示了一些以侵入点出现在发光区域中的疵点。当显示器暴露在高相对湿度中时这些“黑点”确实会随时间发展。这些“黑点”源于该陶瓷层中的瑕疵。这些瑕疵确实允许潮气和浓度较小的氧缓慢扩散入该层中并与阴极金属中包含的反应性金属反应。
图8显示了图4所示并在下面实施例4中说明的显示器的透视图。
图9显示了图8所示装置的活性区域示意图。该特殊实施方案也显示在上面的图4和下面的实施例4中。在该情况中装置暴露在50℃95%相对湿度下900小时。注意到用这种方法包装的装置没有显示象素发光面积的减少,即使是长期暴露在高相对湿度下。而且,应该注意到在用本方法包装的装置上看不到其它的瑕疵或侵入发光区域的“黑点”等。
优选实施方案描述
图1显示了本发明的一个优选实施方案。图1显示了发光装置的横截面图,该装置由基底18组成,基底18上沉积有透明的阳极层16。阳极16之后是一层或多层聚合物层14及阴极金属层12。在图1所示的实施方案中,装置由保护敏感性阴极金属层和聚合物层的陶瓷薄膜保护层所覆盖。
图2显示了本发明的另一个实施方案。图2显示了由基底34、其后的阳极30、聚合物层28和阴极26组成的装置的横截面图。陶瓷薄膜保护层24保护该装置。保护层24被密封在一个空腔中,该空腔中充满了惰性气体21如氮或氩。盖板22和环氧树脂周边密封20形成该空腔。
图3显示了本发明的另一个实施方案。图3显示了由基底52、其后的阳极50、光活性聚合物层48和阴极46组成的装置的横截面图。该装置由陶瓷薄膜保护层44保护。保护层44被其后是盖板42的环氧树脂层20覆盖。
图4显示了本发明的另一个实施方案。图4显示了由基底76、其后的阳极74、活性聚合物层72和阴极70组成的装置的横截面图。在本发明的该实施方案中陶瓷薄膜68用于形成环绕装置中的对空气敏感组分的框。在该框68的顶部形成与陶瓷薄膜68同样框形的薄膜金属层64。在盖板66上形成另一也与陶瓷薄膜68同样形状的金属层60。使用金属焊料62将盖板66沿全部周边连接在装置上。为了便于焊接,在盖板上形成一层金属层60。该金属层60的形状与装置的金属层64和陶瓷薄膜框68的形状相匹配。焊接是在惰性气氛中进行的,以形成充满惰性气体78如氮或氩的空腔。
图5显示了本发明的另一个实施方案。图5显示了由基底96、其后的阳极94、聚合物层92和阴极90组成的装置的横截面图。在本发明的该实施方案中使用陶瓷薄膜88作为保护装置的第一阻挡层。在该陶瓷层88的顶部形成同样框形的薄膜金属层84。在盖板86上形成另一层与第一金属框84同样形状的金属层80。使用金属焊料82将盖板86沿装置全部周边连接在装置上。为了便于焊接在盖板上形成一层金属层80。该金属层80的形状与装置上的金属层84形状相匹配。焊接是在惰性气氛中进行的,以形成充满惰性气体98如氮或氩的空腔。
图6显示了一个聚合物发光显示器。分三个阶段显示了同一个显示器;图6a显示了刚制备的装置。发光区域为正方形区域。图6b显示的是暴露在环境空气约25℃30-40%相对湿度中24小时后的同一装置。图6c显示的是暴露在相同条件下的环境空气中48小时后的同一装置。注意到象素的发光面积24小时后下降得多么明显。还注意到仅暴露在环境空气中48小时后发光面积就几乎完全消失了。图6清楚地突出了适当包装技术对聚合物发光显示器的重要性。
图7显示了以图2所示结构包装的装置。图2所示显示器已暴露在50℃95%相对湿度中288小时。注意到在该显示器中可观察到象素发光面积的尺寸减小得多么不明显,尽管它已暴露在比图6所示显示器苛刻得多的条件下。还应该注意到该图中的显示器确实显示了一些以非发光侵入点出现在发光区域中的疵点。当显示器暴露在高相对湿度中时这些“黑点”确实会随时间发展。这些“黑点”源于该陶瓷层中的瑕疵。这些瑕疵确实允许潮气和浓度较小的氧缓慢扩散入该层中并与阴极金属中包含的反应性金属反应。
图8显示了图4所示并在下面实施例4中说明的用陶瓷框密封包装的聚合物发光显示器的透视图。
图9显示了图8所示装置活性区域的两个放大示意图。该特殊实施方案也显示在上面的图4和下面的实施例4中。在该情况中装置暴露在50℃95%相对湿度下900小时。发光区域为正方形而周围区域是不发光的。注意到用这种方法包装的装置没有显示象素发光面积的减少,这可由其正方形形状证明,并且即使是长期暴露在高相对湿度下也没有侵入点。此外应该注意到在用本方法包装的装置上看不到其它的瑕疵如“黑点”。
根据本发明陶瓷薄膜用于防止环境潮气和氧与装置的电极及聚合物层接触,这些组成为电活性和化学活性的。无机耐火材料由一种或多种氧化物和/或氮化物组成。这些材料一般选自IIIa和IVa族元素的全部和部分氧化物和氮化物。它们包括硼、铝、硅、镓、锗、铟、锡、钽和铅的氧化物和氮化物。硅、铝、铟和锡是形成耐火氧化物和氮化物的优选金属,硅和铝且特别是硅是最优选的。
无机耐火层的厚度应该为约0.025μm至几(10)微米,厚度为0.05-5微米是优选的。
该结构的一个实施方案的横截面图示于图1。陶瓷层必须是足够完整的以建立对潮气和氧的密封阻挡。如果可以形成足够高密度的薄膜,无机耐火材料如陶瓷材料例如氮化硅(SixNy)、硅-一氧化物(SiO)或硅二氧化物(SiO2)可以显示必要的阻挡性能。但是,过去为了获得这类材料的致密薄膜,必须在高温,一般超过400℃沉积薄膜。最近已证明在薄膜沉积期间使用高密度等离子体可在低于150℃制造高密度薄膜。这些较低的沉积温度使我们可以考虑使用陶瓷薄膜作为聚合物发光装置中的保护阻挡层。在这些低沉积温度下,通常不可能获得完全没有微小针孔的薄膜。但是,可以产生针孔密度小于~10个针孔/cm2的陶瓷薄膜。因为这种针孔密度不能为聚合物发光装置提供密封封接,所以令人惊讶和出人意料的是通过将这些薄陶瓷膜与由低逸出功金属如钙、钡或锶的非常薄层(~1-100nm)组成的阴极金属结构结合、然后再加上较厚层(>1-100nm)如100-10,000nm特别是100-1,000nm的非反应性金属如铝、铜或银,可以获得极低针孔密度(<<0.1个针孔/cm2)。虽然陶瓷层和阴极金属膜的针孔密度均在1-10个针孔/cm2的范围,但这些针孔是极小的,一般直径<<10μm。因此,这些针孔上下连通出现在彼此表面上同一处的可能性极低,使得整个叠层的针孔密度远远小于0.1个针孔/cm2。
保护层是使用低温沉积方法形成的。低温是指在基底温度低于约400℃,例如低于350℃时沉积层的方法。如果基底足够冷则喷镀,包括反应性喷镀即可达到此目的。等离子体增强化学蒸汽沉积法是一种优选的方法,因为它可在刚刚高于环境温度(40℃)至低于300℃的温度范围获得高密度薄膜。这些方法是本领域已知的。
图6显示了在暴露于高温高湿度试验之前和之后一种聚合物发光象素矩阵排列的实例。注意到不含陶瓷薄膜的象素是怎样被潮气逐渐进攻最后使该装置完全失去发光能力的。一个类似的含有陶瓷薄膜阻挡层的样品也显示在图7中以进行比较。由于含有陶瓷薄膜阻挡层,该样品在相同试验条件下完全不受影响。
图2显示了本发明的另一个由与上述同样的结构组成并增加了由陶瓷、玻璃或金属材料制成的盖板22组成的阻挡层的实施方案。该盖板通过环氧树脂周边密封20连接在装置上。盖板和环氧树脂密封的目的是通过提供额外的对潮气和氧的阻挡而降低对陶瓷薄膜保护层的要求。
图3显示了本发明的另一个实施方案,其中盖板是通过用环氧树脂将装置与装置之间的区域完全充满而连接上去的。
图4显示了本发明的另一个实施方案。在该实施方案中使用金属焊料将盖板连接到装置上。在该实施方案中盖板和焊料提供密封封接。陶瓷薄膜提供电绝缘以防止阳极和阴极线与焊料密封之间短路。在该实施方案中陶瓷构造成图4和图8所示的框形。在该实施方案中陶瓷层可在使用温度敏感聚合物材料之前沉积,这样可允许更宽的加工温度范围。
图5显示了本发明的另一个实施方案。在该实施方案中使用金属焊料将盖板连接到装置上。陶瓷薄膜提供电绝缘以防止阳极和阴极线与焊料密封之间短路。在该实施方案中焊料密封和盖板提供第一保护而薄陶瓷膜提供保护装置的第二阻挡。
当用本发明所述方法封装时聚合物LED稳定性和寿命的显著改进可由实施例证明。
实施例
实施例1
在该实施例中,制备了由象素(30×60)排列所组成的聚合物发光显示器。显示器的制备需要几步。首先,将由铟锡氧化物(ITO)组成的阳极层在玻璃基底上压制成列;在该实施例中形成60列。然后用发光聚合物材料涂布整个装置。实例包括OC1C10-PPV和MEH-PPV及相关的可溶性PPV衍生物。接下来沉积由低逸出功金属的薄层组成的阴极金属,然后沉积铝层(加入铝层只是为了保护更易反应的Ca层)。将阴极层压制成行;所述行与其下层的阳极列呈垂直取向。在该实施例中形成30行。由此在每个列-行交叉点形成发光象素。因此本实施例中显示器由1800个象素组成。为了防止环境空气中潮气和氧与阴极中低逸出功金属反应,用氮化硅的薄层(~1微米)涂布整个装置。使用等离子体增强化学蒸汽沉积法(PECVD)进行涂布。通过利用高密度等离子体,显示器只在85℃就可进行这一沉积。将显示器暴露在此较低温度不会引起明显损害,但还是形成了低针孔密度的氮化硅薄膜。该氮化硅薄膜与铝保护层一起形成近距密封以防止环境空气中的潮气和氧接触铝层下面的反应性金属。该实施例中所述装置的横截面图示于图1中。图6显示了当暴露在高湿度时无保护的装置中象素的降解。图7显示了如本实施例所述密封的装置。注意到在氮化硅涂布装置的发光象素的水平边缘处观察不到明显的降解。
实施例2
在该实施例中,如实施例1所述制备聚合物发射显示器。沉积氮化硅层之后另外再施加盖板。该盖板由薄(0.7mm)玻璃板组成。使用环氧树脂周边密封将该盖板连接在装置上。环氧树脂密封位于氮化硅层周边外。密封是在惰性气体环境即包含氩气(或者也可使用氮气)的可控气氛干燥箱中进行的。施用这第二密封的目的是通过增加环境空气中潮气接触到显示器阴极中低逸出功金属的时间来进一步提高装置的寿命。环境空气中的潮气必须首先透过环氧树脂密封并随后通过氮化硅层中的任意针孔或瑕疵扩散。这类装置的横截面图示于图2中。
实施例3
在该实施例中,如实施例1所述制备聚合物发射显示器。沉积氮化硅层之后另外再施加盖板。该盖板由薄(0.7mm)玻璃板组成。使用均匀分布的环氧树脂层将该盖板连接在装置上。环氧树脂密封位于氮化硅层周边外。密封是在惰性气体环境即包含氩气(或者也可使用氮气)的可控气氛干燥箱中进行的。施用这第二密封的目的是通过增加环境空气中潮气接触到装置阴极中低逸出功金属的时间来进一步提高装置的寿命。环境空气中的潮气必须首先透过环氧树脂密封并随后通过氮化硅层中的任意针孔或瑕疵扩散。这类装置的横截面图示于图3中。
实施例4
本实施例涉及聚合物发射显示器,该显示器类似于实施例1-3所述的装置。但是,改变了加工顺序以允许在氮化硅沉积期间更宽的加工范围。在本实施例中,按实施例1形成阳极列。阳极形成后沉积氮化硅薄层。构造氮化硅层使之形成环绕显示器活性区域的框。然后在氮化硅顶部沉积一层金属薄层。接下来沉积发光聚合物层,然后按以上实施例1所述将阴极按图形制成行。制造一个带有匹配金属框的分体的玻璃盖板并使用低熔点焊料将其连接到显示器上。在本实施例中,玻璃盖板和金属焊料框构成密封。氮化硅层提供电绝缘,防止焊料与阳极和阴极线路短路。该装置的横截面图示于图4中。该装置的照片示于图8中。广泛暴露在高湿度条件后的装置照片示于图9中。注意到完全不存在黑点并且在象素边缘不存在可观察到的发光量的降低。
实施例5
在该实施例中,如上面实施例1所述制造聚合物发射显示器。氮化硅沉积后,将金属框沉积在氮化硅层周边。也制备了带有金属框的分体的玻璃盖板,金属框的尺寸与氮化硅层上的框的尺寸和形状是匹配的。随后使用低熔点焊料(在该实施例中为135℃)将玻璃盖板连接在显示器上。在这种情况下显示器的第一保护来自玻璃盖板及其附带的金属焊料密封。本实施例中氮化硅的目的是防止金属框密封在形成阳极的列和形成阴极的行之间产生电短路。该装置的横截面图示于图5中。
附图标记说明
图1中
10 陶瓷薄膜
12 阴极金属
14 聚合物材料
16 阳极
18 玻璃基底
图2中
20 环氧树脂密封
21 惰性气体
22 盖板
24 陶瓷薄膜
26 阴极金属
28 聚合物材料
30 阳极
34 玻璃基底
图3中
20 环氧树脂密封
42 盖板
44 陶瓷薄膜
46 阴极金属
48 聚合物材料
50 阳极
52 玻璃基底
图4中
60 金属层I
62 焊料密封
64 金属层II
66 盖板
68 陶瓷薄膜
70 阴极金属
72 聚合物材料
74 阳极
76 玻璃基底
78 惰性气体
图5中
80 金属层I
82 焊料密封
84 金属层II
86 盖板
88 陶瓷薄膜
90 阴极金属
92 聚合物材料
94 阳极
96 玻璃基底
98 惰性气体
Claims (21)
1.包含夹在阴极和阳极之间的活性发光聚合物层的发光装置,其特征在于该装置还包含保护装置免受环境侵蚀的无机材料的封装层,其中无机材料包括硼(B)、铝(Al)、镓(Ga)、铟(In)、铊(Tl)、碳(C)、硅(Si)、锗(Ge)、锡(Sn)或铅(Pb)的氮化物。
2.权利要求1的装置,其中无机材料为氮化硅材料。
3.权利要求2的装置,其中无机材料为选自氮化硅和氧化硅的硅基材料。
4.权利要求1的装置,其另外包括含有位于装置和无机材料层之间的非反应性金属的涂层。
5.权利要求1的装置,其另外包括连接在无机材料层上的保护性盖板。
6.权利要求5的装置,其中保护性盖板是用环氧树脂连接的。
7.权利要求6的装置,其中环氧树脂环绕在盖板的周围。
8.权利要求7的装置,其另外包括在盖板和无机材料层之间的惰性气体。
9.权利要求6的装置,其中环氧树脂均匀分布在盖板和无机材料层之间。
10.权利要求4的装置,其另外包括连接在无机材料层上的保护性盖板。
11.权利要求10的装置,其中保护性盖板是用环氧树脂连接的。
12.权利要求11的装置,其中环氧树脂环绕在盖板的周围。
13.权利要求12的装置,其另外包括在盖板和无机材料层之间的惰性气体。
14.权利要求11的装置,其中环氧树脂均匀分布在盖板和无机材料层之间。
15.权利要求5的装置,其中保护性盖板是用焊料连接的。
16.权利要求10的装置,其中保护性盖板是用焊料连接的。
17.权利要求1的装置,其中无机材料的涂层为框板形式。
18.保护发光装置的方法,所述发光装置包含夹在阴极和阳极之间的活性发光聚合物,所述方法包括用无机材料的封装层封装所述装置,其中无机材料包括硼(B)、铝(Al)、镓(Ga)、铟(In)、铊(Tl)、碳(C)、硅(Si)、锗(Ge)、锡(Sn)或铅(Pb)的氮化物。
19.权利要求18的方法,其另外包括用非反应性金属层外涂无机材料层的步骤。
20.权利要求18的方法,其另外包括在无机材料层上连接一个保护板的步骤。
21.权利要求19的方法,其另外包括含有位于装置和无机材料层之间的非反应性金属的涂层。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US9515598P | 1998-08-03 | 1998-08-03 | |
US60/095155 | 1998-08-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1311976A CN1311976A (zh) | 2001-09-05 |
CN1287636C true CN1287636C (zh) | 2006-11-29 |
Family
ID=22250188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB998093610A Expired - Fee Related CN1287636C (zh) | 1998-08-03 | 1999-08-03 | 有保护性无机材料封装层的发光装置及该装置的保护方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6635989B1 (zh) |
EP (1) | EP1121838A4 (zh) |
JP (2) | JP2002522884A (zh) |
KR (1) | KR100635429B1 (zh) |
CN (1) | CN1287636C (zh) |
AU (1) | AU5334999A (zh) |
CA (1) | CA2337085A1 (zh) |
HK (1) | HK1040035A1 (zh) |
WO (1) | WO2000008899A1 (zh) |
Families Citing this family (85)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2353506A1 (en) * | 1998-11-02 | 2000-05-11 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays |
IL145317A0 (en) * | 1999-04-28 | 2002-06-30 | Du Pont | Flexible organic electronic device with improved resistance to oxygen and moisture degradation |
US20100330748A1 (en) | 1999-10-25 | 2010-12-30 | Xi Chu | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
US6866901B2 (en) | 1999-10-25 | 2005-03-15 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
US8957584B2 (en) * | 1999-10-29 | 2015-02-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Self light-emitting device |
US6624572B1 (en) * | 2000-02-17 | 2003-09-23 | Lg Electronics, Inc. | Organic electroluminescence display panel and method for sealing the same |
JP4618918B2 (ja) * | 2000-03-27 | 2011-01-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 自発光装置の作製方法 |
US20010052752A1 (en) * | 2000-04-25 | 2001-12-20 | Ghosh Amalkumar P. | Thin film encapsulation of organic light emitting diode devices |
DE10044841B4 (de) * | 2000-09-11 | 2006-11-30 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Plasmaverkapselung für elektronische und mikroelektronische Bauelemente wie OLEDs sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
US6537688B2 (en) * | 2000-12-01 | 2003-03-25 | Universal Display Corporation | Adhesive sealed organic optoelectronic structures |
JP2002252082A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-09-06 | Sony Corp | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
US7495390B2 (en) * | 2000-12-23 | 2009-02-24 | Lg Display Co., Ltd. | Electro-luminescence device with improved thermal conductivity |
WO2002071506A1 (en) * | 2001-02-15 | 2002-09-12 | Emagin Corporation | Thin film encapsulation of organic light emitting diode devices |
US7211950B2 (en) * | 2001-05-29 | 2007-05-01 | Choong Hoon Yi | Organic electro luminescent display and manufacturing method thereof |
US7005799B2 (en) * | 2001-07-30 | 2006-02-28 | Intel Corporation | Sealing organic light emitting device displays |
US6590157B2 (en) * | 2001-09-21 | 2003-07-08 | Eastman Kodak Company | Sealing structure for highly moisture-sensitive electronic device element and method for fabrication |
JP2003133070A (ja) | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Seiko Epson Corp | 積層膜の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び電子機器 |
JP4019690B2 (ja) * | 2001-11-02 | 2007-12-12 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
WO2003050894A2 (en) | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Sealing structure for display devices |
KR100819864B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2008-04-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전기발광소자 |
JP4207441B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2009-01-14 | セイコーエプソン株式会社 | 有機el素子の製造方法 |
US8808457B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-08-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
TW548859B (en) * | 2002-06-03 | 2003-08-21 | Ritdisplay Corp | Organic light-emitting display |
JP4240276B2 (ja) | 2002-07-05 | 2009-03-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
KR100858803B1 (ko) * | 2002-08-23 | 2008-09-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치 |
CN100352078C (zh) * | 2002-09-20 | 2007-11-28 | 友达光电股份有限公司 | 有机电致发光显示元件的封装结构及其封装方法 |
JP4032909B2 (ja) * | 2002-10-01 | 2008-01-16 | ソニー株式会社 | 有機発光表示装置の製造方法 |
JP2004281256A (ja) * | 2003-03-17 | 2004-10-07 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 表示パネル |
US7648925B2 (en) | 2003-04-11 | 2010-01-19 | Vitex Systems, Inc. | Multilayer barrier stacks and methods of making multilayer barrier stacks |
AU2004229123A1 (en) * | 2003-04-16 | 2004-10-28 | Universite Libre De Bruxelles | A non-invasive sensor to visually analyze the level of muscle activity |
CN103215569A (zh) * | 2003-05-16 | 2013-07-24 | 纳幕尔杜邦公司 | 通过原子层沉积形成的塑料基材阻挡层膜 |
JP2005011794A (ja) * | 2003-05-22 | 2005-01-13 | Tohoku Pioneer Corp | 有機elパネル及びその製造方法 |
US20060159892A1 (en) * | 2003-06-16 | 2006-07-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Barrier laminate for an electroluminescent device |
DE10328140B4 (de) * | 2003-06-20 | 2006-12-07 | Schott Ag | Organische lichtemittierende Einrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
KR100487566B1 (ko) * | 2003-07-23 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 핀 전계 효과 트랜지스터 및 그 형성 방법 |
US7291967B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-11-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element including a barrier layer and a manufacturing method thereof |
US7902747B2 (en) * | 2003-10-21 | 2011-03-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device having a thin insulating film made of nitrogen and silicon and an electrode made of conductive transparent oxide and silicon dioxide |
US20050248270A1 (en) * | 2004-05-05 | 2005-11-10 | Eastman Kodak Company | Encapsulating OLED devices |
JP2006049308A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示装置、その製造方法、及びその製造装置 |
US7915822B2 (en) * | 2004-08-04 | 2011-03-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device and method and apparatus for manufacturing the same |
JP4732084B2 (ja) * | 2004-09-21 | 2011-07-27 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 発光素子用の基板、その製造方法、発光素子用の電極、及びこれを備えた発光素子 |
JP2006222071A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-24 | Seiko Epson Corp | 発光装置、発光装置の製造方法、及び電子機器 |
EP1875777B1 (en) * | 2005-03-25 | 2017-10-25 | LG Display Co., Ltd. | Light emitting device |
JP4539518B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2010-09-08 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 |
US20060278965A1 (en) * | 2005-06-10 | 2006-12-14 | Foust Donald F | Hermetically sealed package and methods of making the same |
US7722929B2 (en) * | 2005-08-18 | 2010-05-25 | Corning Incorporated | Sealing technique for decreasing the time it takes to hermetically seal a device and the resulting hermetically sealed device |
US7829147B2 (en) * | 2005-08-18 | 2010-11-09 | Corning Incorporated | Hermetically sealing a device without a heat treating step and the resulting hermetically sealed device |
US20080206589A1 (en) * | 2007-02-28 | 2008-08-28 | Bruce Gardiner Aitken | Low tempertature sintering using Sn2+ containing inorganic materials to hermetically seal a device |
US20070040501A1 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Aitken Bruce G | Method for inhibiting oxygen and moisture degradation of a device and the resulting device |
US7767498B2 (en) | 2005-08-25 | 2010-08-03 | Vitex Systems, Inc. | Encapsulated devices and method of making |
KR100685845B1 (ko) | 2005-10-21 | 2007-02-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계 발광표시장치 및 그 제조방법 |
US8044571B2 (en) * | 2005-12-14 | 2011-10-25 | General Electric Company | Electrode stacks for electroactive devices and methods of fabricating the same |
US7999372B2 (en) | 2006-01-25 | 2011-08-16 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device and method of fabricating the same |
JP4886540B2 (ja) * | 2006-03-01 | 2012-02-29 | キヤノン株式会社 | 有機el素子パネル |
ATE507320T1 (de) | 2006-03-26 | 2011-05-15 | Lotus Applied Technology Llc | Atomlagenabscheidungssystem und verfahren zur beschichtung von flexiblen substraten |
TWI314025B (en) * | 2006-04-13 | 2009-08-21 | Au Optronics Corp | Method for fabricating active illumination apparatus |
US8187679B2 (en) | 2006-07-29 | 2012-05-29 | Lotus Applied Technology, Llc | Radical-enhanced atomic layer deposition system and method |
KR101691274B1 (ko) | 2006-09-29 | 2016-12-29 | 오스람 오엘이디 게엠베하 | 유기 발광 소자 및 조명 장치 |
EP1916725A1 (en) * | 2006-10-27 | 2008-04-30 | Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Organic light emitting diode device with multilayer seal |
US8115326B2 (en) | 2006-11-30 | 2012-02-14 | Corning Incorporated | Flexible substrates having a thin-film barrier |
EP2125361B1 (en) | 2006-12-28 | 2019-01-23 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
US10354561B2 (en) | 2007-09-07 | 2019-07-16 | Ccl Label, Inc. | Block out label, label sheet, and related method |
EP2242948A4 (en) * | 2008-01-16 | 2013-01-23 | Lights Camera Action Llc | UNDERWATER LED LIGHT SOURCE WITH HIGH LIGHTNING POWER |
US8350451B2 (en) | 2008-06-05 | 2013-01-08 | 3M Innovative Properties Company | Ultrathin transparent EMI shielding film comprising a polymer basecoat and crosslinked polymer transparent dielectric layer |
US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
US7948178B2 (en) * | 2009-03-04 | 2011-05-24 | Global Oled Technology Llc | Hermetic seal |
JP5532887B2 (ja) * | 2009-03-16 | 2014-06-25 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロニクスパネル |
CN102484203B (zh) * | 2009-06-01 | 2017-02-15 | 住友化学株式会社 | 用于改进的电子器件电极的配方 |
US8637123B2 (en) | 2009-12-29 | 2014-01-28 | Lotus Applied Technology, Llc | Oxygen radical generation for radical-enhanced thin film deposition |
US8590338B2 (en) | 2009-12-31 | 2013-11-26 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
KR101752876B1 (ko) | 2010-12-16 | 2017-07-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
US11038144B2 (en) | 2010-12-16 | 2021-06-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display apparatus |
JP4976595B1 (ja) * | 2011-03-11 | 2012-07-18 | パイオニア株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
TWI501030B (zh) * | 2012-06-12 | 2015-09-21 | Cheil Ind Inc | 光可固化型組成物、包含該組成物之保護層及包含該組成物之封裝裝置 |
DE102013110174A1 (de) * | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Osram Oled Gmbh | Elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
DE102014101518A1 (de) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | Osram Oled Gmbh | Organisches optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines organischen optoelektronischen Bauelements |
US10181582B2 (en) * | 2014-03-18 | 2019-01-15 | Joled Inc. | Organic EL element comprising first and second interlayers of specified materials and thicknesses, and method for manufacturing thereof |
JP6404361B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2018-10-10 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
FR3061404B1 (fr) * | 2016-12-27 | 2022-09-23 | Packaging Sip | Procede de fabrication collective de modules electroniques hermetiques |
JP2018190608A (ja) * | 2017-05-08 | 2018-11-29 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
KR101886284B1 (ko) * | 2017-06-26 | 2018-08-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
US10756298B2 (en) * | 2017-11-03 | 2020-08-25 | OLEDWorks LLC | Solder hermetic sealing for OLEDs |
CN109585681B (zh) * | 2018-12-05 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其封装方法、以及显示装置 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4599538A (en) * | 1982-09-30 | 1986-07-08 | Gte Prod Corp | Electroluminescent display device |
JPS6375783A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-06 | 双葉電子工業株式会社 | 電界発光表示パネル |
JPS63105493A (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-10 | アルプス電気株式会社 | 薄膜elパネル |
US4839557A (en) * | 1987-12-18 | 1989-06-13 | Gte Products Corporation | Fill member for electroluminescent panels |
US4963788A (en) * | 1988-07-14 | 1990-10-16 | Planar Systems, Inc. | Thin film electroluminescent display with improved contrast |
GB8909011D0 (en) | 1989-04-20 | 1989-06-07 | Friend Richard H | Electroluminescent devices |
EP0443861B2 (en) | 1990-02-23 | 2008-05-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Organic electroluminescence device |
US5047687A (en) | 1990-07-26 | 1991-09-10 | Eastman Kodak Company | Organic electroluminescent device with stabilized cathode |
US5059862A (en) | 1990-07-26 | 1991-10-22 | Eastman Kodak Company | Electroluminescent device with improved cathode |
GB9018698D0 (en) | 1990-08-24 | 1990-10-10 | Lynxvale Ltd | Semiconductive copolymers for use in electroluminescent devices |
US5408109A (en) | 1991-02-27 | 1995-04-18 | The Regents Of The University Of California | Visible light emitting diodes fabricated from soluble semiconducting polymers |
JPH04278983A (ja) * | 1991-03-07 | 1992-10-05 | Fuji Electric Co Ltd | 表示パネルの封止方法 |
US5151629A (en) | 1991-08-01 | 1992-09-29 | Eastman Kodak Company | Blue emitting internal junction organic electroluminescent device (I) |
JP2813499B2 (ja) * | 1991-09-30 | 1998-10-22 | 出光興産株式会社 | 有機el素子 |
US5652067A (en) * | 1992-09-10 | 1997-07-29 | Toppan Printing Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
JPH07166160A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-06-27 | Toppan Printing Co Ltd | 有機薄膜el素子 |
JPH07169567A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-07-04 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機el素子 |
US5723873A (en) | 1994-03-03 | 1998-03-03 | Yang; Yang | Bilayer composite electrodes for diodes |
JPH0888089A (ja) * | 1994-09-20 | 1996-04-02 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜電場発光素子 |
JP3577117B2 (ja) * | 1994-10-07 | 2004-10-13 | Tdk株式会社 | 有機エレクトロルミネセンス素子の製法 |
US5804917A (en) * | 1995-01-31 | 1998-09-08 | Futaba Denshi Kogyo K.K. | Organic electroluminescent display device and method for manufacturing same |
US5686360A (en) * | 1995-11-30 | 1997-11-11 | Motorola | Passivation of organic devices |
JPH10125463A (ja) * | 1995-12-28 | 1998-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機エレクトロルミネセンス素子、液晶照明装置、表示デバイス装置、および、有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法 |
US6195142B1 (en) * | 1995-12-28 | 2001-02-27 | Matsushita Electrical Industrial Company, Ltd. | Organic electroluminescence element, its manufacturing method, and display device using organic electroluminescence element |
KR100500078B1 (ko) * | 1996-02-26 | 2005-07-18 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 유기 전자 발광 소자 및 그의 제조방법 |
US5693956A (en) * | 1996-07-29 | 1997-12-02 | Motorola | Inverted oleds on hard plastic substrate |
ATE365976T1 (de) * | 1996-09-04 | 2007-07-15 | Cambridge Display Tech Ltd | Elektrodenabscheidung für organische lichtemittierende vorrichtungen |
US5952778A (en) * | 1997-03-18 | 1999-09-14 | International Business Machines Corporation | Encapsulated organic light emitting device |
US6452218B1 (en) | 1997-06-10 | 2002-09-17 | Uniax Corporation | Ultra-thin alkaline earth metals as stable electron-injecting electrodes for polymer light emitting diodes |
JPH11242994A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-09-07 | Toray Ind Inc | 発光素子およびその製造方法 |
-
1999
- 1999-08-03 AU AU53349/99A patent/AU5334999A/en not_active Abandoned
- 1999-08-03 JP JP2000564416A patent/JP2002522884A/ja active Pending
- 1999-08-03 KR KR1020017001442A patent/KR100635429B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-08-03 CN CNB998093610A patent/CN1287636C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-08-03 US US09/368,324 patent/US6635989B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-08-03 EP EP99938978A patent/EP1121838A4/en not_active Withdrawn
- 1999-08-03 WO PCT/US1999/017635 patent/WO2000008899A1/en active IP Right Grant
- 1999-08-03 CA CA002337085A patent/CA2337085A1/en not_active Abandoned
-
2002
- 2002-02-28 HK HK02101557.1A patent/HK1040035A1/zh unknown
-
2003
- 2003-04-01 US US10/404,323 patent/US6873101B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-01-06 US US10/752,902 patent/US7088041B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-03-02 JP JP2011045514A patent/JP2011159630A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002522884A (ja) | 2002-07-23 |
EP1121838A4 (en) | 2004-10-27 |
CA2337085A1 (en) | 2000-02-17 |
HK1040035A1 (zh) | 2002-05-17 |
KR20010072212A (ko) | 2001-07-31 |
EP1121838A1 (en) | 2001-08-08 |
US6635989B1 (en) | 2003-10-21 |
CN1311976A (zh) | 2001-09-05 |
US6873101B2 (en) | 2005-03-29 |
US20040140766A1 (en) | 2004-07-22 |
US20030184222A1 (en) | 2003-10-02 |
AU5334999A (en) | 2000-02-28 |
WO2000008899A1 (en) | 2000-02-17 |
JP2011159630A (ja) | 2011-08-18 |
KR100635429B1 (ko) | 2006-10-18 |
US7088041B2 (en) | 2006-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1287636C (zh) | 有保护性无机材料封装层的发光装置及该装置的保护方法 | |
CN1182601C (zh) | 具有改进的发光效率和辐射率的长效聚合物发光装置 | |
JP4625911B2 (ja) | 有機発光ダイオード(oled) | |
US20040069017A1 (en) | Encapsulation of a display element and method of forming the same | |
EP2141962A1 (en) | Surface light emitting body | |
JP2002527872A (ja) | 金属酸化物薄層を安定な電子注入電極として具えた発光ダイオード | |
CN101971699A (zh) | 防水封装方法 | |
JPH08236271A (ja) | 有機電界発光素子及びその製造方法 | |
CN1832223A (zh) | 有机电致发光显示器及其制造方法 | |
US20040070334A1 (en) | Encapsulated electrode | |
CN1714604A (zh) | 有机场致发光元件和有机场致发光显示器 | |
KR101680613B1 (ko) | 유기 발광 장치 및 그 제조 방법 | |
TW200812425A (en) | Electro-optically active organic diode with short protection | |
JPH05114486A (ja) | 電界発光素子 | |
TWI447979B (zh) | 具有短路保護層的高摻雜電光主動有機二極體 | |
US20130334510A1 (en) | Electronic devices with improved shelf lives | |
Lee et al. | White LED based on polyfluorene Co-polymers blend on plastic substrate | |
Cao et al. | Effect of electric field strength on the electroluminescence spectra of a blue-emitting device | |
KR100567220B1 (ko) | 개선된 효율을 갖는 유기 전계발광 소자 및 이에 기초한 디스플레이 장치 | |
CN115623804A (zh) | 发光器件及其制作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: WD Ref document number: 1040035 Country of ref document: HK |
|
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20061129 Termination date: 20130803 |