CN1372514A - 平版印刷用印版 - Google Patents
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Abstract
一种平版印刷基版,使用该平版印刷基版的平版印刷版及制造平版印刷版的工艺;平版印刷基版的基层含有由交联聚合物构成的感光层,该交联聚合物包括亲水高聚物,交联剂和光吸收化合物或者包括亲水高聚物,交联剂,光吸收化合物和疏水高聚物;可以通过光辐射的方法将抗墨层变为亲墨层。
Description
技术领域
本发明涉及一种印刷版,更确切地说是涉及一种在水溶液使用的平版印刷版。该印刷版对近红外光很敏感,即使在明亮的室内,仍可以直接利用激光在印刷版上制版,而无需显影和擦除工艺,因此,平版印刷版具有多种优良的印刷性能。
技术背景
平版印刷,即胶版印刷,是纸上印刷的主要趋势,已得到广泛地应用。胶版印刷中使用的印刷版是按照下述方法制备的:首先打印的原始图像是在纸和类似物品上输出,然后通过成像制成完整的胶片,通过该胶片,感光性的基版得到曝光与显影。
然而,随着信息数字化和激光功率的增加,使用激光扫描直接把图像制作在基版上的工艺过程,而不使用胶片。这种激光制版工艺CTP已广泛地应用在印刷版的制造中。
对于目前CTP工艺在实际中的使用的感光版,现存在一种使用约500纳米可见光进行感光反应的感光聚合物版。然而,这种版存在的问题是需要显影,并且该版解像度性差而且不能在亮室中使用。
为解决这些问题,日本公开专利No.20629(1995)公开一种使用热反应的印刷版,这种热反应由于近红外区的光线发生,该印刷版已在实际中得到应用。
尽管该印刷版能够在亮室中使用,并且具有良好的解像度,但是,它仍需要显影工艺。
日本专利No.292142(1996)公开了一种印刷版,该印刷版在亲水性膨胀层中能够形成非成像区。这种版含有亲水性膨胀层,该层能够吸收感光材料,因而使该层具有感光性。在成像区内,亲水膨胀层中的感光材料曝露在光线中发生反应,使成像区失去了亲水性,但是吸墨性不充分。另一方面,非成像区中存在残余的感光材料,曝光之后,漂洗去除非成像区中的感光材料是十分必要的。
日本专利No.314934(1995)公开一种不需要显影工艺的印刷版,该版含有由钛或二氧化钛组成的无机光吸收底层和由硅氧烷树脂构成的抗墨层,该版已广泛地应用于实践中。在该版中,硅氧烷树脂层具有抗墨性能,成为非成像区,而成像区是通过近红外光辐射形成。在印刷过程中,通过光辐射移去硅氧烷树脂,使吸墨层暴露在外。为了彻底清除硅氧烷树脂,擦除工艺是十分必要的。如果硅氧烷去除的不充分,则光辐射区吸墨性将不充分,引起成像区的破坏,印刷效果变差。
日本专利No.199064(1994)公开一种印刷版,其含有由分散在硝基纤维素中的碳黑组成的光吸收层和其上的亲水层或抗油层组成。该版的光吸收层在光辐射下发生热降解,为使吸墨层物质曝光,必须去除光吸收层和亲水层或抗墨层。即,通过消融的方法制备成像区。该版能在亮室中使用,而且不需要显影和擦除工艺。然而,为去除光吸收层和亲水层或抗墨层,需要大量的能量,并且需要长时间的曝光。而且还存在其它问题,即:部分被除去的光吸收层,亲水层或抗墨层和它们的分解产物积累在曝光区边缘的未曝光区周围,引起品质变坏,例如油墨的粘合。
美国专利No.3,793,033公开一种非消融印刷版,其方法是:通过光辐射使该版的感光层熟化,变为亲油性,感光层含有羟乙基纤维素,酚醛树脂和光子(photo-radical)发生器。然而,经光辐射后,亲水性和亲油性间的平衡变差,因而,不能够很好地进行印刷。
日本专利No.52932(1985)公开一种印刷版,它对印刷版的非水吸收树脂层进行磺化反应,制成亲水表面,并通过光辐射去除磺化层制成亲油层。用该方法,必须使用消融工艺,由于只是表层消融处理,因此很少产生碎屑。从此方面讲,该印刷版已经得到了很好的改善,但该版亲水性不充分,易于产生浮渣,而且磺化技术复杂,有危险性。
日本专利No.127683(1997)和No.171249(1997)公开一种印刷版,它是使用热塑性聚合物粒子制成的含有亲水层和感光层的印刷版。聚合物粒子在光辐射下发生软化,从而改变对油墨的吸收性。印刷版感光层的未曝光部分能够溶解在水中,很容易去除,因此,不必使用显影机器。它的显影可以通过在水溶液中的压印进行。该版已经实际应用在压印显影系统中。然而该版在使用中也存在许多弊端,即:水溶液及油墨易污染,另外,印刷版的湿度必须严格控制。
美国专利No.3,476,937公开一种印刷版,这种印刷版既不需要湿显影工艺,也不需要加压显影工艺。该版含有亲水性树脂层,亲水性树脂层是由相互独立而又彼此联系的亲水热塑性高聚物粒子组成。通过亲水性高聚物粒子受热软化,可以改变树脂层的亲水性。但是当光辐射在该版上时,由于基版的感光性很差,并且亲水树脂层的强度低,因而版的耐久性很差。而且,由于加入大量的亲水热塑性高聚物来改善油墨的吸附性,将会有浮渣产生。
日本专利No.1850(1995)公开一种覆有感光层的印刷版。该感光层是由亲水性树脂和包含在树脂中的微胶囊组成。微胶囊中含有一种与亲水树脂中的亲水基团反应活泼的亲油物质。利用光辐射技术,可以使这些微胶囊破裂,从而将亲水性树脂变为亲油性。但是为了提高解像度或防止浮渣现象的发生,必须减少微胶囊的直径。要想得到这种微胶囊是很困难的。使用加热印刷头进行印刷时,相对来讲加热加压这些微胶囊能够使之较容易地破裂。但是,利用光辐射印刷时微胶囊破裂不均匀,解像度差。
该专利中还介绍了一种工艺。将两块基版紧密粘合在一起,其中一块版的表层含有对某种物质的吸收层,然后用光辐射,产生能量,从而实现吸收层的传递。然而,在这种方法中存在很多问题,例如,由于基版上附有灰尘等杂质,很难将两块版紧密粘合在一起,而且,传递过程中需要大量的能量,传递后的吸光层机械强度差,在印刷中容易脱落。
综上所述,传统的CTP印刷版存在很多问题,因此,需开发一种CTP印刷版来解决上述问题。
本发明的目的是结合上述的现有技术,开发一种新型印刷版来解决上述问题。该发明可提供一种可以在亮室中使用的印刷基版,不需要显影和擦除技术,并且具有良好的感光性,解像度和各种印刷特性,可以用作CTP印刷版使用,并提供一种用于印刷基版的印刷版,以及生产该版的生产工艺。
发明内容
本发明的目的是为解决上述提出的各种问题。研究结果表明,上述问题可以通过一种平版印刷基版来解决。这种具有抗墨性能的平版印刷底层上附有一层由交联剂聚合组成的感光层,可以通过光照辐射的方法使感光层从抗墨性变为吸墨性。本发明中的平版印刷版就是使用这种性能的基版制造的,并已经成功地完成。
根据本发明的第一方面,它提供了一种平版印刷用的基版,该基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层。该感光层是由具有抗墨性的交联高聚物组成的,可以通过光辐射的方法将抗墨层变为亲墨层。
根据本发明的第二方面,提供一种本发明第一方面的平版印刷用的基版,其中感光层是一种感光亲水树脂层,可以通过亲水性高聚物,交联剂和吸光化合物交联得到。
根据本发明的第三方面,提供一种本发明第一方面的平版印刷用的基版,其中感光层是一种感光亲水树脂层,可以通过亲水性高聚物,交联剂,吸光化合物和疏水性化合物交联得到。
根据本发明的第四方面,提供一种本发明第二方面的平版印刷用的基版,其中感光亲水树脂层具有由亲水性高聚物相和疏水性高聚物相组成的相分离结构。
根据本发明的第五方面,提供一种本发明第三方面的平版印刷用的基版,其中亲水树脂层主要成分包括下述一种或多种单体:未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺,N-乙烯基甲酰胺及N-乙烯基乙酰胺。疏水性高聚物是一种平均粒径为0.005-0.5微米的水分散体,其成膜温度不超过50℃。感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
根据本发明的第六方面,提供一种本发明第四和第五方面的平版印刷用的基版,其中感光层通过光辐射能够局部发泡,使其从抗墨性变为吸墨性。
根据本发明的第七方面,它提供了一种生产平版印刷版的工艺,包括用波长为750-1100纳米的光对本发明第五方面和第六方面提供的平版印刷基版进行辐射。
根据本发明的第八方面,它是通过用光辐射一种平版印刷基版得到一种新的印刷基版。该基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层,所述的感光层是由一种交联高聚物组成,具有抗墨性,用光辐射后,可以使感光层从抗墨性变为吸墨性。
根据本发明的第九方面,它是以第八项发明涉及的平版印刷版为基础的,它的感光层是一种感光亲水性树脂层,可以通过亲水性聚合物,交联剂和光吸收化合物进行交联制得。
根据本发明的第十方面,提供一种本发明第八方面的平版印刷用的基版,其中感光层是一种感光亲水性树脂层,可以通过亲水性聚合物,交联剂,光吸收化合物和疏水性化合物进行交联制得。
根据本发明的第十一方面,提供一种本发明第九方面的平版印刷用的基版,其中感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
根据本发明的第十二方面,提供一种本发明第十方面的平版印刷用的基版,其中亲水聚合物的主要成分包括下述一种或多种单体:未取代或取代的(甲基)丙烯酰胺,N-7烯基甲酰胺及N-乙烯基乙酰胺。疏水性高聚物是一种平均粒径为0.005-0.5微米的水分散体,其成膜温度不超过50℃。感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
根据本发明的第十三方面,提供一种本发明第十一和十二方面的平版印刷用的基版,其中感光层通过光辐射能够局部发泡,使其从抗墨性变为吸墨性。
根据本发明的第十四方面,提供一种本发明第十二和十三方面的平版印刷用的基版,其中辐射用的光的波长为750-1100纳米。
具体实施方式
根据本发明的平版印刷基版,使用该基版的平版印刷版和生产该平版印刷版的工艺,详细叙述如下。
(1)平版印刷基版和平版印刷版
(i)底层
本发明涉及的平版印刷基版含有由抗墨的交联聚合物构成的感光层,该基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层。该基层的实例包括铝版,钢版,不锈钢版和铜版等金属版,聚酯薄膜,尼龙薄膜,聚乙烯薄膜,聚丙烯薄膜,聚碳酸酯薄膜,ABS树脂等塑料薄膜,纸张,铝箔层纸,熔敷金属纸和塑料膜层纸。尽管在厚度上没有特殊的限制,但厚度范围一般在100-400μm之间。为了提高其粘合性,基层必须进行表面处理,例如,氧化处理,铬化处理,磨砂处理,电晕放电处理。
(ii)感光层
本发明的感光层由具有抗墨性能的交联聚合物构成,下面为详细介绍。
本发明涉及到的平版印刷版在水溶液中能够应用于胶版印刷,它的非成像区被水溶液包围,具有抗墨作用。因此,本发明的感光层是亲水性的且在水中不溶解。本发明在将感光层从亲水性变为抗墨性的过程中,并没有采用消融法去除感光层的光辐射区。因此,印刷版经过辐射后,不需要显影和擦除工艺。为实现上述性能的变化,可通过在基层上涂抹感光材料,然后使其发生交联或者涂抹包括亲水性高聚物,交联剂,疏水性高聚物的感光材料然后使其发生交联而获得这种感光层。这种感光层最好具有由亲水性高聚物相和疏水性高聚物相组成的相分离结构。通过交联,亲水性高聚物变得不溶于水。
在本发明的感光层,亲水聚合物发生交联,形成亲水聚合物相。若感光材料中含有疏水性聚合物,则形成疏水性聚合物相。因此,感光层具有相分离结构。另一方面,如果交联剂发生自聚,即使感光材料中不含有疏水聚合物,交联剂发生自聚反应的产物也能够形成疏水性聚合物相。因此,感光层也具有了相分离结构。在光的辐射下,疏水性聚合物相发泡或发生热融,使感光层失去亲水性,变得具有吸墨性。
(a)亲水性聚合物
本发明的感光层由亲水性高聚物构成。亲水性高聚物中含有亲水基团及能够与交联剂反应的功能团。
亲水性聚合物基团包括:羟基,羰基和它的碱金属,碱土金属或氨基盐,硫酸基团及它的碱金属,碱土金属或氨基盐,磷酸基团及它的碱金属,碱土金属或氨基盐,还包括酰胺基,氨基,氨磺酰,甲醛及氧乙烯基。
能与交联剂反应的功能团的实例包括:羟基,羰基和它的碱金属,碱土金属或氨基盐,硫酸基团及它的碱金属,碱土金属或氨基盐,磷酸基团及它的碱金属,碱土金属或氨基盐,酰胺基,氨基,异腈酸基团,缩水甘油基,噁唑啉,羟甲基,甲氧基甲酯或丁氧基甲酯。甲氧基甲酯或丁氧基甲酯是通过羟甲基与甲醇或丁醇凝聚制成的。
亲水聚合物的实例包括下列水溶性聚合物。
即:纤维素,凝胶,聚乙烯基乙酸皂化反应得到的聚合物,不饱和酸和它们的衍生物聚合得到的化合物。不饱和酸的衍生物包括前面提到的亲水基团,交联功能团,N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺,N-乙烯基吡咯烷,乙烯基乙酸盐,乙烯醚及这些聚合物发生水解而得到的聚合物。当然,从交联难易程度,亲水斥水的难易程度及通过辐射获得吸墨性的难易程度来看,最好的方法是使不饱和酸和它们的衍生物发生聚合。
下面介绍具有亲水基团或具有交联功能团的不饱和酸和它们的衍生产物。
含有羟基不饱和酸的衍生物的实例包括:甲氧基甲酯丙烯酸盐,甲氧基丙酯丙烯酸盐,甲氧基丁酯丙烯酸盐,聚乙二醇甲基丙烯酸盐,羟甲基丙烯酰胺和羟甲基丙烯酰胺与甲醇或丁醇的凝胶产物,例如:甲氧基甲酯丙烯酰胺或丁氧基甲酯丙烯酰胺。
含有羰基的不饱和酸包括一元不饱和酸和二元不饱和酸。例如:一元不饱和酸中的甲基丙烯酸,二元不饱和酸中的衣康酸,富马酸,马来酸,酐酸及这些二元不饱和酸的单酯及单酰胺。
含有磺酸基团的不饱和酸包括磺乙基丙烯酸,丙烯酰胺甲丙基磺酸,乙烯基磺酸,乙烯基甲基磺酸,异丙甲基磺酸以及通过氧化乙烯或氧化丙烯和(甲基)丙烯酸(例如榄香RS-30,来自Sanyo Kasei Kogyo K.K)加成获得的磺化酯,丙烯氧乙烯基磺酸,单烷基硫丁二酸和一种含有丙烯基的物质(例如榄香JS-2,来自Sanyo Kasei Kogyo K.K或LatemulS-180和S-180A,kao Corporation),单烷基硫丁二酸和缩水甘油产物以及来自Nippon Nyukazai K.K..的Antox MS60。含有磷酸基团的不饱和聚合单体包括乙烯基磷酸,单(2-羟乙基)磷酸(甲基)丙烯酸及单(2-羟乙基)(甲基)丙烯酸单烷基磷酸。
羰基,磺酸基和磷酸基可以和碱金属,碱土金属或胺类化合物中和。用于中和的碱金属包括钠,钾,锂,碱土金属包括钙,镁。用于中和的胺类化合物有氨,甲基胺二甲基胺,三甲基胺,乙基胺,二乙基胺,三乙基胺,单乙醇胺,二乙醇胺,三乙醇胺。
含有酰胺的不饱和酸的衍生物包括未取代或取代的甲基丙烯酰胺,未取代或取代的衣康酸酰胺,未取代或取代的富马酸酰胺,未取代或取代的邻苯二甲基酰胺。未取代或取代的甲基丙烯酰胺包括(甲基)丙烯酰胺,N-甲基丙烯酰胺,N,N-二甲基丙烯酰胺,N-乙基(甲基)丙烯酰胺,N,N-二甲基丙(甲)基丙烯酰胺,N-异丙(甲)基丙烯酰胺,二丙酮(甲基)丙烯酰胺,羟甲基(甲基)丙烯酰胺,甲氧基甲基丙烯酰胺,丁氧基丙烯酰胺,丙基硫(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰胺吗啉。二元酰胺,例如衣康酰胺,通过一个羰基或两个羰基的胺化,可得到单胺或双胺。含有缩水甘油的不饱和酸的衍生物包括缩水甘油甲基丙烯酸和顺乙烯苯甘油醚。
在聚合过程中,可以使用一种或多种上述不饱和酸及它们的衍生物和N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺。进一步讲,可以使用单体和一种或多种上述不饱和酸及它们的衍生物,N-乙烯基乙酰胺,N-乙烯基甲酰胺发生共聚。可共聚的单体包括甲基丙烯酸,乙基丙烯酸,丁(甲)基丙烯酸,2-乙基己(甲)基丙烯酸,缩水甘油(甲基)丙烯酸,二甲基胺乙(甲)基丙烯酸,二乙基胺乙(甲基)丙烯酸,苯氧基乙(甲)基丙烯酸,苯甲酰(甲基)丙烯酸,硬石(甲基)丙烯酸,环己烯基(甲基)丙烯酸,苯乙烯,α-甲基苯乙烯,异腈酸化合物,甲基丙烯腈,乙烯基乙酸。
如果感光层由下述感光材料组成:亲水性聚合物,交联剂,光吸收材料和疏水性高聚物,其中在感光层中,疏水性高聚物可能形成疏水高聚物相。在光的辐射下,感光层具有了吸墨性,不产生发泡现象。在光辐射下,从感光层具有吸墨性的难易程度及感光层亲水性和斥水性等方面考虑,该疏水层应主要含有一种或多种下述单体:未取代或取代的甲基丙烯酰胺,N-乙烯基甲基酰胺。在取代的(甲基)丙烯酰胺中,使用效果较好单甲基丙烯酰胺,二甲基丙烯酰胺,单乙(甲)基丙烯酰胺或羟甲基丙烯酰胺。
含有大量氨基的聚合物能够起到混凝剂的作用,尤其当聚合物中氨基单体重量比超过65%或含有羰基,磺酸基,磷酸基等酸性基团时,聚合物的混凝作用更为明显。在制备感光材料过程中,疏水聚合物粒子有时能够起到混凝作用,从这方面来讲,聚合物的酸值不应超过70,不超过50效果更好,小于25时,效果最佳。疏水性聚合物中的羰基,磺酸基,磷酸基等酸性基团能够与碱金属或胺发生中和。“酸值”指的是非中和条件下的计算值。
本发明采用交联剂使亲水聚合物发生交联。交联剂与亲水性聚合物发生交联反应制成不溶于水的亲水性聚合物,使感光性亲水树脂层的斥水性得以提高。交联剂包括聚羟基化合物,聚羰基化合物,酐,聚甘油化合物,聚胺,聚异腈酸化合物,嵌段异腈酸化合物,环氧树脂,噁唑啉树脂,氨基树脂,在亲水聚合物中,它们能够与交联功能团反应,例如与羰基,磺酸基,羟基,缩水甘油基,在一定表面下,也可以与氨基反应。
从感光化合物的熟化速度,稳定性及感光层的吸水性与斥水性平衡质量的观点考虑,上述提到的交联剂较常用的为环氧树脂,噁唑啉树脂,氨基树脂及水溶性嵌段异腈酸化合物。氨基树脂包括常用的蜜胺树脂,苯胍树脂,甘脲树脂及改性树脂,例如,羰基改性蜜胺树脂。环氧树脂可以与叔胺共同反应,氨基树脂可以与对甲苯磺酸,烷基苯磺酸等酸性化合物一同反应,为加速交联反应,可以加入氯化铵。
(c)吸光化合物
本发明亲水性树脂感光层的吸光化合物是由那些能够吸光发热的化合物。对于吸收光的波长没有严格的限制。在曝光过程中,应适当选择能够被吸光化合物吸收的一定波长范围内的光。吸光化合物包括花青染料,聚甲炔染料,邻苯二甲基花青染料,萘二甲基花青染料,无烟花青染料,卟啉染料,偶氮染料,苯琨染料,萘琨染料,二硫金属复合染料,二胺金属复合染料,苯胺黑和碳黑染料。
从在亮室操作,用于曝光设备的光源的功率及使用的难易程度方面考虑,上述染料中,最好选择能够吸收750-1100纳米光的染料。染料可吸收的波长可以通过取代或∏电子共轭系统的长度来改变。光吸收化合物可以在感光化合物中溶解或分散。
(d)疏水性高聚物
本发明对于感光层的疏水性高聚物没有特殊的限制。在感光层中,疏水高聚物形成与亲水高聚物相完全不同的疏水高聚物相。疏水高聚物包括常规聚合物和聚合物的产生母体。在形成感光层时,聚合物的产生母体经过聚合,变为高聚物。当然,从亲水性高聚物混合的难易程度方面考虑,水溶性分散聚合物是良好的疏水性高聚物。高聚物及高聚物的产生母体都能够溶解在水溶液中。“水溶液”指的是单纯的水或以水为主要成分的溶液,其它成分包括能够与水互溶的甲醇,乙醇,丙酮等。
水溶性分散高聚物是一种疏水性水溶分散高聚物。水溶性分散高聚物中,聚合物粒子或外表面包有分散剂的聚合物粒子能够分散在水溶液中。水溶性分散高聚物可以通过不饱和单体乳化聚合或悬浮聚合的方法制备,也可以通过在水中分散良性疏水高聚物粒子来制备,还可以将疏水高聚物的有机溶剂分散在水中,然后通过蒸馏除去有机溶剂的方法制备。水溶性分散高聚物可分为自乳化型和强迫乳化型。水溶性高聚物可以是交联高聚物也可以是非交联高聚物。
水溶性分散聚合物包括水溶分散性乙烯基高聚物,水溶性共轭二稀类高聚物,水溶性丙烯酸类高聚物,水溶分散性聚亚胺树脂,水溶性分散聚酯,水溶性分散环氧树脂。
从印刷版解像度及感光层抗墨性及厚度方面考虑,水分散性聚合物的平均粒径以0.005-0.5μm为宜,更好的是在0.01-0.4μm之间。从辐射时的感光度来考虑,水分散性聚合物成膜温度不应超过50℃,不超过30℃时最佳。水分散丙烯酸高聚物,水溶分散性聚亚胺树脂及水溶性分散聚酯能够符合此标准,它们的平均粒径在0.005-0.5纳米范围内,成膜温度不应超过50℃。水溶分散性聚亚胺树脂和水溶性分散聚酯性能最佳。
在感光层形成的过程中,聚合物产生母体经聚合,变成疏水性高聚物。聚合物的产生母体包括前面提及的作为交联剂使用的聚合树脂,例如氨基树脂,环氧基树脂。在聚合过程中,可以加入催化剂催化树脂自聚。也可以进一步加入共聚组分。值得注意的是氨基树脂在水溶液中进行的自聚使其具有疏水功能,因此,能够作为疏水高聚物的交联剂使用。在这种表面下,即使没有疏水性高聚物,疏水高聚物相也能够形成。
含有疏水高聚物的感光层具有由疏水高聚物相和亲水高聚物相两相组成的相分离结构。从非相区抗墨性考虑,疏水性聚合物相分散在亲水性聚合物相中是十分适宜的。用作疏水聚合物使用的水分散性高聚物的平均粒径在0.005-0.5μm范围内。当疏水高聚物相形成时,高聚物粒子有时会变大产生共轭效应。从溶解和抗墨方面考虑,水分散性高聚物相的粒径不应超过5μm,最好小于3μm。
从辐射区吸墨的观点考虑,疏水高聚物相要相应大一些。然而,数量过大时会产生浮渣,因此,也是不适宜的。如果疏水性高聚物具有独立成膜性时,由于亲水性高聚物相分散在亲水性高聚物相中,因而数量过大也是不适宜的。
通过感光化合物的交联,可以形成感光亲水树脂层。感光化合物组成含量如下所述。
如果感光亲水树脂层含有亲水高聚物,交联剂和光吸收化合物三种成分时,各种成分组成比如下所述。
从感光亲水树脂层亲水性和斥水性平衡及印刷多样性方面考虑,亲水高聚物重量比(固体含量)范围是在90%-40%之间,较好的范围在85%-80%之间,最佳范围在80%-60%之间。交联剂重量比(固体含量)范围在10%-60%之间,较好的范围在15%-50%之间,最佳范围在20%-40%之间。吸光化合物重量比(固体含量)为全部亲水化合物,交联剂和其它添加剂(即,除光吸收化合物外,感光组成中的所有固体含量。)重量比的2%-20%。
如果感光亲水树脂层含有亲水性高聚物,交联剂,光吸收化合物和疏水性高聚物四种成分时,各组成含量如下所述。
亲水高聚物重量比(固体含量)为70%-20%,较适宜的重量比范围在65%-25%之间,范围在60%-30%之间时最佳。如果采用可以自聚的交联剂,例如氨基树脂,交联剂将会发生自聚。结果,一部分交联剂被保留下来,另一部分交联剂变为疏水性高聚物。交联剂既可以作为交联剂使用,又可以作疏水性高聚物使用。因此,交联剂和疏水性高聚物总重量比为30%-80%,较适宜的范围在35%-75%之间,最佳范围在40%-70%之间。光吸收化合物重量比为亲水性高聚物,交联剂,亲水性高聚物和其它添加剂总量的1%-20%,最佳范围在2%-15%之间。
(2)感光性亲水树脂层的形成及印刷版的制造工艺
(i)感光亲水树脂层的形成
在非水溶性亲水树脂层形成过程中为提高多样性可以将填料加入到溶液中。该溶液中含有亲水聚合物,交联剂和光吸收化合物或含有亲水化合物,光吸收化合物和疏水化合物。该填料可以是有机的,也可以是无机的。进一步讲,可以加入低熔点化合物或分解性化合物来促进发泡或改变吸墨性。
印刷过程中,非水溶性感光树脂层被水溶液包围,因此,感光层具有斥水性。为了提高非曝光区的吸水性,可加入各种表面活性剂。表面活性剂包括阴离子表面活性剂,阳离子表面活性剂,非离子表面活性剂和两性表面活性剂。
为形成非水溶性感光亲水树脂层,可采用将某物质涂上一层溶液。该溶液含有亲水高聚物,交联剂和光吸收化合物,或者含有亲水高聚物,交联剂,光吸收化合物和疏水化合物。其后,将该溶液干燥,熟化。尽管根据涂料溶液,涂覆速度等的不同,涂料的方法不同。一般来讲,较常用的机器包括滚筒式涂料机,浆片式涂料机,照相凹版式涂料机,幕涂机,冲压机和喷雾机。为了使涂料溶液具有抗起泡性,使涂料层光滑,可以在涂料溶液中加入各种添加剂,例如,抗气泡剂,均化剂,抗印刷剂和偶联剂,或者加入填充剂,例如,二氧化钛,硅,铝。涂料之后,溶液被加料上染,使亲水高聚物交联。加热温度通常在50-200℃之间。尽管对于感光亲水树脂层的厚度没有特殊的限制,但比较理想的厚度范围在0.5-10μm之间。
在印刷版制备的过程中,亲水树脂层形成之后,会受到碾压,为保护该层,感光层可以附上薄膜。
(ii)印刷版制造工艺
当印刷基版曝露在能被光吸收化合物吸收的光波长区域内,例如,波长在750-1100纳米范围内,光吸收化合物吸收光而发热。热的产生使感光亲水树脂层的曝光区失去了亲水性,具有了吸墨的性能。这一变化随着感光亲水树脂层的组成,交联程度,强度,玻璃化温度,疏水高聚物相的种类,光吸收化合物的种类及辐射光的变化而变化。由于这一变化,能够观察到两种情况,即:(1)疏水高聚物相大部分发泡的情况,(2)难于发泡的情况。
下面对两种情况进行详细描述。
(1)疏水高聚物相大部分发泡的情况
当感光疏水聚合物相含有交联剂时,例如:当感光层含有亲水性高聚物,交联剂和吸光化合物,或者当感光层含有亲水性高聚物,交联剂,吸光化合物和疏水性高聚物时,交联剂的用量相对较大,这是因为交联剂还能够形成疏水性高聚物相,正如上文所述。针对这一情况,可以提出两种假设:交联剂单独形成疏水高聚物相或交联剂包括疏水高聚物形成的疏水高聚物相。在任意一种情况下,都可以假设:当疏水高聚物相含有交联剂和光吸收化合物时,疏水性高聚物发生交联,则疏水性高聚物相成为主要的发泡区。“发泡”用于此处的意思是指感光层表面多孔,存在凹坑。感光层表面是通过感光层中疏水高聚物相中的气体爆破产生的。这种空洞和凹坑的大量存在,使得接受辐射的面积增大,进而提高了吸墨性。
尽管通过机械发泡来改变吸墨性的方法还不是十分清楚,但是可以假设感光层表面附近的疏水高聚物相被亲水高聚物相包围,还可以假设通过疏水高聚物相的发泡,疏水高聚物相被曝光,变为分散结构,该结构能够促进向吸墨性方面的转变。因此,疏水性高聚物的使用能够提高吸墨性。能够引起发泡的气体是按照下述方法产生的:疏水性高聚物相中含有的交联剂具有共聚的官能团,这些残余在感光层中的官能团经过反应,能够分解产生气体。
(2)难于发泡的情况
当感光层的疏水高聚物相主要来自疏水性高聚物时,可以假设:由于疏水性高聚物相是热塑性的,疏水性高聚物粒子可以加热软化,变为具有吸墨性。
基版印刷过程中,感光层表面通过上述光的辐射从亲水性变为吸墨性,曝光区的表面也随之发生了变化。例如,产生发泡时,曝光区比非曝光区发生更大的变化。曝光区发生变化时,在印刷的过程中,可能会减少或表面被压平。当不产生发泡现象时,可以观察到通过加热引起的高聚物熔融的痕迹。
如上所述,在基版印刷过程中,感光亲水树脂层的辐射区从亲水性变为吸墨性,即使显影和擦除工艺没有得到控制,吸墨性仍能够得以保持。因此,可以进行印刷。
对于用作印刷基版曝光的光波的长度,并没有特殊的限制。光吸收化合物能够吸收的波长范围内的任何光都符合要求。从曝光速度的观点考虑,聚光高速扫描是有必要的。易控制并具有高能量的光源是十分实用的。从该观点考虑,具有750-1100纳米的振动光尤其适合。例如,830纳米的高能半导体激光或1064纳米的钇铝石榴石激光都是很使用的。具有该性能的曝光机器已经得到广泛应用,被称为热版耐光架。
如果曝光过程中辐射能量太大或使用的光吸收化合物太多,通过分解或焚烧,多数吸光层被去除,降解产物分散在照射区周围,因此,应该避免这种曝光。
实施例
本发明结合下述实施例得到进一步描述,但必须指出,本发明不仅限于这些实施例。
实施例1-3亲水高聚物的合成
在1000cc烧瓶中注入400克水,充入氮气除去溶液中的氧气,然后生温至80℃。当氮气充入烧瓶时,将单体溶液逐滴连续加入到烧瓶中,整个滴加过程约3小时,同时保持温度在80℃。单体溶液含有120克丙烯酰胺,30克丙烯酸,77克水及将0.5克过硫酸钾溶解在50克水中而制成的引发剂水溶液。滴加完成后,继续保持在80℃进行2小时缩聚,在90℃下保持2小时。最后加入150克水。用氢氧化钠溶液将pH值调到5.0,这样就合成了亲水性高聚物的水溶液。感光材料
随后,将如表1所示的亲水性高聚物和一定量(固体含量,重量比)作为交联剂使用的CYMEL-701(甲氧基甲酯蜜胺树脂,Mitsui Cytec LTD)与重量比为1%的作为熟化加速剂使用的对甲苯磺酸和重量比为5%作为光吸收化合物使用的IR-125(花青染料,ACROS)混合,制成感光性材料。
表1
印刷基版的制备
样品 | 1 | 2 | 3 |
亲水性高聚物(重量比) | 75 | 80 | 65 |
交联剂(重量比) | 25 | 20 | 35 |
使用医用刀片将0.2毫米厚的聚酯薄膜涂上感光材料。然后将其在120℃干燥3小时,形成2μm厚的感光层,制成印刷基版。通过电子显微镜扫描的方法可以观察到基版感光层的横截面部分。结果表明,通过交联剂自聚,形成了1-2μm的粒子。评定
采用波长为830纳米的半导体激光束对基版进行扫描辐射,使聚焦光束的辐射能量密度为300mJ/cm2,产生200线/英寸的成像。通过显微镜能够观察到印刷版的表面及横截面。结果表明,每一种实施例中,亲水树脂感光层的辐射区有发泡现象和隆起。
将曝光的印刷版用于胶版印刷工艺时,能够完成10000张印刷。在样品1-3的印刷版中,在非辐射区内均不产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷后期,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的吸墨性不会破坏。
实施例4-6
亲水性高聚物的合成与实施例1中亲水高聚物的合成方法相同。不同之处在于加入了如表2所示的不饱和单体代替丙烯酰胺。如表2所示的交联剂和光吸收剂的用量与制备感光材料中的实施例2的用量相同。为提高粘合性,采用前文提到的覆有2微米厚丁醛树脂的0.2毫米厚的铝版作为始曝器,将其涂上感光材料,在150℃加热1小时,制成具有2微米厚感光层的基版。使用该基版,能够以与实施例1相同的方法完成成像。通过显微镜,能够观察到印刷版感光层的表面及截面部分。可以得出结论,在每一个实施例中都能够观察到,在非辐射区内,交联剂通过自聚形成的1-2微米的粒子,而在辐射区内,发泡变大。该印刷版的评定方式与实施例1相同,能够很好的成相。
表2
CYME-701,CYME-350:蜜胺树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)UFR-300:尿素树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)MA-100:碳黑(Mitsubishi Carbon K.K.制造)
实施例 | 4 | 5 | 6 |
不饱和单体 | 二甲基丙烯酰胺 | 乙烯基乙醚 | 丙烯基磺化丙烯酰胺 |
吸光化合物 | VO-萘-花青 | MA-100 | VO-萘-花青 |
交联剂 | CYME-701 | UFR-300 | CYME-350 |
实施例7-9亲水聚合物的合成
在1000cc烧瓶中注入400克水,充入氮气除去溶液中的氧气,然后生温至80℃。当氮气充入烧瓶时,将单体溶液逐滴连续加入到烧瓶中,整个滴加过程约3小时,同时保持温度在80℃。单体溶液含有90克丙烯酰胺,30克丙烯酸,10克羟乙基甲基丙烯酸,20克丙烯腈,77克水及由0.5克过硫酸钾溶解在50克水中而制成的引发剂水溶液。滴加完成后,继续保持在80℃进行2小时缩聚,在90℃下保持2小时。最后加入150克水。用氢氧化钠溶液将pH值调到6.0,这样就合成了亲水性高聚物的水溶液。感光材料
亲水性高聚物,CYMEL-701和Dlester UD350(水分散聚氨酯,MitsuiChemicals Inc,平均粒径约30微米)与重量比为1%作为熟化加速剂使用的对甲苯磺酸和重量比为5%作为光吸收化合物使用的IR-125混合制成感光材料。其中CYMEL-701作为交联剂和疏水高聚物产生母体使用,DlesterUD350作为疏水高聚物使用,其用量(固体含量,重量比)如表3所示。
表3
印刷基版的制备
实施例 | 7 | 8 | 9 |
亲水高聚物(重量比) | 60 | 50 | 35 |
CYMEL(重量比) | 30 | 30 | 35 |
Olester UD350(重量比) | 10 | 20 | 30 |
使用刮刀将0.2毫米厚的聚酯薄膜涂上感光材料。然后将其在120℃干燥3小时,形成2微米厚的感光层,制成印刷基版。评定
采用波长为830纳米的半导体激光束对基版进行扫描辐射,使聚焦光束的辐射能量密度为300mJ/cm2,产生200线/英寸的成像记录。通过显微镜能够观察到印刷版的表面及横截面。结果表明,在非辐射区,能够观察到含有2-0.5微米粒径的海岛结构中的岛相。该岛相是由蜜胺树脂或含有氨基树脂的蜜胺树脂构成。在辐射区,蜜胺树脂或含有氨基树脂的蜜胺树脂区有发泡现象。在每一种实施例中,蜜胺树脂变为交联剂,其余部分变为疏水高聚物相。
将曝光版用于胶版印刷中,可生产10000张印刷品。印刷版在非辐射区不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷超过50000张,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的吸墨性不会被破坏。
实施例10-12
亲水性高聚物的合成方法与实施例8相同。不同之处在于一半的丙烯酰胺被表4的不饱和单体代替。如表4所示采用用作的交联剂及疏水性聚合物产生母体(一种交联剂)使用的化合物和疏水性高聚物来制备感光材料,其用量与实施例8相同。为提高粘合性,采用前文提到的覆有2微米厚丁醛树脂的0.2毫米厚的铝版作为始曝器,将其涂上感光材料,在150℃加热1小时,制成具有2微米厚感光层的基版。使用该基版,能够以与实施例7相同的方法完成成像。在每一种实施例的非辐射区,都能够观察到具有2-0.5微米粒子的海岛结构中的岛相。在辐射区内,能够观察到有发泡现象。印刷结果表明,非辐射区不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷超过50000张,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的吸墨性不会被破坏。
表4
CYMEL-385,CYMEL-202:蜜胺树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)MYCOAT 105:苯胍胺树脂(Mitsui Cytec LTD.制造)OLESTER UD-500:水溶性分散聚氨酯(Mitsui Chemicals,Inc.)BONRON S-224,BONRON S-1318:丙烯酸乳化高聚物(MitsuiChemicals,Inc.)实施例13-16亲水高聚物的合成
实施例 | 10 | 11 | 12 |
不饱和单体 | 二甲基丙烯酰胺 | N-乙烯基乙脒 | 丙烯基磺化丙烯酰胺 |
交联剂 | CYMEL-385 | MYCOAT 105 | CYMEL-202 |
疏水化合物 | OLESTER UD-500 | BONRON S-224 | BONRON S-1318 |
在1000cc烧瓶中注入400克水,充入氮气除去溶液中的氧气,然后升温至80℃。当氮气充入烧瓶时,将单体溶液逐滴连续加入到烧瓶中,整个滴加过程约2小时,同时保持温度在80℃。单体溶液含有86.2克丙烯酰胺,15.8克Latemul S-180(Kao Corporation,单烷基磺化丁二酸,含丙烯基化合物),18.0克羟乙基甲基丙烯酸,122克水和引发剂水溶液。引发剂水溶液是由1.0克过硫酸钾溶解在100克水中而制成的。滴加完成后,在80℃进行2小时缩聚,最后加入50克水,合成15%亲水性高聚物的水溶液。亲水性高聚物的酸值为17。感光材料
将含量(固体含量,重量比)如表5所示的亲水性高聚物,交联剂CYMEL385,疏水性高聚物Superflex410(水分散聚氨酯树脂,Dai-ichiKogyo Seiyaku K.K.,成膜温度:小于或等于5℃,平均粒径为0.20微米),吸光化合物IR-125与重量比为1%的熟化加速剂和重量比为5%的NEOCOLYSK(阴离子表面活性剂,Dai-ichi Kogyo Seiyaku K.K.)混合制成感光材料。
表5
印刷基版的制造
亲水高聚物 | 交联剂 | 吸光化合物 | 疏水性化合物 | |
实施例13 | 40 | 10 | 10 | 50 |
实施例14 | 30 | 10 | 10 | 60 |
实施例15 | 40 | 15 | 10 | 45 |
实施例16 | 45 | 15 | 15 | 40 |
使用刮刀将0.2毫米厚的聚酯薄膜涂上感光材料。然后将其在120℃干燥15分钟,形成2微米厚的感光层,制成印刷基版。通过电子显微镜扫描的方法可以观察到基版感光层的横截面部分。结果表明,通过交联剂自聚,形成了1-2微米的粒子。评定
通过扫描电镜能够观察到印刷基版的横截面。结果表明,聚氨酯树脂能够形成具有0.2微米粒径的海岛结构中的岛相。相分离结构得到确认。
采用波长为830纳米的半导体激光束对基版进行扫描辐射,使聚焦光束的辐射能量密度为200mJ/cm2,产生200线/英寸的成像。
将曝光版用于胶版印刷中,可生产10000张印刷品。并且实施例13-16中的印刷版在非辐射区不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。即使在印刷超过20000张,在非辐射区也不会产生浮渣,辐射区的吸墨性不会被破坏。
实施例17-19
印刷基版的制造方法与实施例13相同,不同之处在于将亲水高聚物用如表6所示的高聚物代替。其后的印刷成相及评定工艺与实施例13相同。
表6
亲水高聚物 | |
实施例17 | 丙烯酰胺/丙烯酸/羟乙基甲基丙烯酸共聚物组成比:84/1/15(重量比)酸值:8 |
实施例18 | 丙烯酰胺/羟乙基甲基丙烯酸共聚物组成比:85/15(重量比)酸值:0 |
实施例19 | 丙烯酰胺/N-乙烯基甲酰胺/羟乙基甲基丙烯酸共聚物组成比:75/10/15(重量比)酸值:0 |
实施例17-19涉及到的每一种实施例的感光层都具有相分离结构,可以观察到岛相是由疏水聚合物构成。即使在印刷超过20000张,在非辐射区也不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。
实施例20-21
印刷基版的制造方法与实施例18相同,不同之处在于将疏水高聚物用如表7所示的高聚物代替。其后的印刷成相及评定工艺与实施例18相同。
表7
疏水化合物 | |
实施例20 | Olester UD-350(水溶性分散聚氨酯,MitsuiChemicals,Inc.)粒径:0.03微米成膜温度:小于或等于5℃ |
实施例21 | VYLONAL MD-1480(水溶性分散聚酯,Toyobo Co.,Ltd.)粒径:0.08微米成膜温度:10℃ |
上述版的感光层中,均具有相分离结构,其中岛相是由疏水性高聚物形成的。
实施例20-21涉及的印刷版,即使在印刷超过10000张,在非辐射区也不会产生浮渣,同时,在辐射区内,油墨能够被充分吸收,使图象印在印刷纸上。
工业应用
在使用水溶液的平版印刷基版中,能够形成非水溶性感光亲水树脂层。通过光对感光层的辐射,可以将该层从亲水性变为吸墨性,从而获得性能良好的印刷版。该版不需要显影与擦除工艺,并具有良好的亲水性,抗水性,抗墨性,敏感性,解像度及印刷性。
Claims (14)
1.一种平版印刷基版,其特征是在该基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层,所述的感光层是由具有抗墨性的交联高聚物组成的,该感光层可以通过光辐射的方法将抗墨层变为亲墨层。
2.根据权利要求1的平版印刷基版,其特征是它的感光层是由感光原料交联得到的感光亲水树脂层构成的,感光原料包括亲水性高聚物,交联剂和光吸收化合物。
3.根据权利要求1的平版印刷基版,其特征是它的感光层是由感光原料交联得到的感光亲水树脂层构成的,感光原料包括亲水性高聚物,交联剂,光吸收化合物和疏水性高聚物。
4.根据权利要求2的平版印刷基版,其特征是它的感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
5.根据权利要求3的平版印刷基版,其特征是它含有的亲水高聚物主要是由一种或多种取代或未取代的下述单体构成:(甲基)丙稀酰胺,N-乙烯基甲酰氨,N-乙烯基乙酰氨;疏水性高聚物是一种平均粒径约0.005-0.5微米的水分散性高聚物,它的成膜温度不超过50℃,感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
6.根据权利要求4或5的平版印刷基版,其特征是感光层当被光照射时,能够局部发泡,从抗墨性变为吸墨性。
7.一种制造平版印刷版的工艺,其特征是包括采用750-1100纳米波长的光照射如权利要求5或6的平版印刷基版。
8.一种平版印刷版,其特征是可通过辐射平版印刷基版获得,该平版印刷基版的底层上直接涂有感光层或底层上的另一层上涂有感光层,所述的感光层由抗墨性交联高聚物制成,该感光层经过光照,能够从抗墨性变为吸墨性。
9.根据权利要求8的平版印刷版,其特征是它的感光层是通过感光原料交联制成的感光亲水树脂层;感光原料包括亲水高聚物,交联剂和光吸收化合物。
10.根据权利要求8的平版印刷版,其特征是它的感光层是通过感光原料交联制成的感光亲水树脂层;其感光原料包括亲水高聚物,交联剂,光吸收化合物和疏水性高聚物。
11.根据权利要求9记载的平版印刷版,其特征是感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
12.根据权利要求10的平版印刷版,其特征是它含有的亲水高聚物主要是由一种或多种取代或未取代的下述单体构成:(甲基)丙稀酰胺,N-乙烯基甲酰氨,N-乙烯基乙酰氨;疏水性高聚物是一种平均粒径约0.005-0.5微米的水分散性高聚物,它的成膜温度不超过50℃,感光亲水树脂层具有由亲水高聚物相和疏水高聚物相组成的相分离结构。
13.根据权利要求11或12的平版印刷版,其特征是当光照射时,其感光层能够局部发泡,从抗墨性变为吸墨性。
14.根据权利要求12或13的平版印刷版,其特征是照射光的波长在750-1100纳米的范围内。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP130530/00 | 2000-04-28 | ||
JP130530/2000 | 2000-04-28 | ||
JP2000130530 | 2000-04-28 | ||
JP341457/00 | 2000-11-09 | ||
JP2000341457 | 2000-11-09 | ||
JP341457/2000 | 2000-11-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1372514A true CN1372514A (zh) | 2002-10-02 |
CN1185109C CN1185109C (zh) | 2005-01-19 |
Family
ID=26591204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN01801035.0A Expired - Fee Related CN1185109C (zh) | 2000-04-28 | 2001-04-26 | 平版印刷用印版 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7045266B2 (zh) |
EP (2) | EP1514696B1 (zh) |
JP (2) | JP4233790B2 (zh) |
CN (1) | CN1185109C (zh) |
DE (2) | DE60124154T2 (zh) |
WO (1) | WO2001083234A1 (zh) |
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- 2001-04-26 EP EP04029697A patent/EP1514696B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-26 DE DE60124154T patent/DE60124154T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-26 EP EP01925987A patent/EP1277594B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-26 WO PCT/JP2001/003658 patent/WO2001083234A1/ja active IP Right Grant
- 2001-04-26 CN CN01801035.0A patent/CN1185109C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-26 JP JP2001580086A patent/JP4233790B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-26 DE DE60109913T patent/DE60109913T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-26 US US10/009,640 patent/US7045266B2/en not_active Expired - Fee Related
-
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- 2007-12-14 JP JP2007323338A patent/JP2008149721A/ja active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP1514696A1 (en) | 2005-03-16 |
US7045266B2 (en) | 2006-05-16 |
US20020192590A1 (en) | 2002-12-19 |
DE60124154D1 (de) | 2006-12-07 |
EP1277594A1 (en) | 2003-01-22 |
EP1277594A4 (en) | 2003-06-11 |
EP1514696B1 (en) | 2006-10-25 |
WO2001083234A1 (fr) | 2001-11-08 |
EP1277594B1 (en) | 2005-04-06 |
DE60109913T2 (de) | 2006-05-04 |
DE60109913D1 (de) | 2005-05-12 |
CN1185109C (zh) | 2005-01-19 |
JP2008149721A (ja) | 2008-07-03 |
JP4233790B2 (ja) | 2009-03-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
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|
EXPY | Termination of patent right or utility model |