CN1401949A - 风扇过滤器单元控制系统和具有该系统的无尘室 - Google Patents

风扇过滤器单元控制系统和具有该系统的无尘室 Download PDF

Info

Publication number
CN1401949A
CN1401949A CN01145616A CN01145616A CN1401949A CN 1401949 A CN1401949 A CN 1401949A CN 01145616 A CN01145616 A CN 01145616A CN 01145616 A CN01145616 A CN 01145616A CN 1401949 A CN1401949 A CN 1401949A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dust free
free room
filter element
fan filter
fan
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN01145616A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1265155C (zh
Inventor
横山诚
小野惠一
田村史之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of CN1401949A publication Critical patent/CN1401949A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1265155C publication Critical patent/CN1265155C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F11/00Control or safety arrangements
    • F24F11/30Control or safety arrangements for purposes related to the operation of the system, e.g. for safety or monitoring
    • F24F11/32Responding to malfunctions or emergencies
    • F24F11/39Monitoring filter performance
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F11/00Control or safety arrangements
    • F24F11/70Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof
    • F24F11/72Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof for controlling the supply of treated air, e.g. its pressure
    • F24F11/74Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof for controlling the supply of treated air, e.g. its pressure for controlling air flow rate or air velocity
    • F24F11/77Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof for controlling the supply of treated air, e.g. its pressure for controlling air flow rate or air velocity by controlling the speed of ventilators
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F11/00Control or safety arrangements
    • F24F11/70Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof
    • F24F11/72Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof for controlling the supply of treated air, e.g. its pressure
    • F24F11/79Control systems characterised by their outputs; Constructional details thereof for controlling the supply of treated air, e.g. its pressure for controlling the direction of the supplied air
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02BCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
    • Y02B30/00Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
    • Y02B30/70Efficient control or regulation technologies, e.g. for control of refrigerant flow, motor or heating

Abstract

通过设置在无尘室顶棚部中的FFU或压差计等的信息,控制各FFU的吹出气流方向、风量。为改善无尘室内的风速分布,而使顶棚室内的压力变均匀,并使FFU的转数控制变得容易。为了控制无尘室内的气流方向,在无尘室内的栅格地板下部设置气流调节机构。通过这种结构,无尘室的运转状态可以最佳且省能。

Description

风扇过滤器单元控制系统 和具有该系统的无尘室
技术领域
本发明涉及一种制造半导体、液晶等电子器件的无尘室,具体而言,是涉及设置在无尘室顶棚部中的扇形过滤器单元(下面称为FFU)的控制运转的FFU控制系统和具有该系统的无尘室。
背景技术
一般地,无尘室的清洁度通过无尘室内的制造工序被区分为1、10、100、1000级,通过FFU吹出的风速引起的无尘室内气流循环次数或HEPA过滤器、ULPA过滤器等过滤器等级来区分该清洁度。近年来,已知在制造工序中使用不产生硼气的PTFE过滤器或降低了玻璃纤维过滤器产生的硼产生量的低硼过滤器。
为了在所述无尘室内得到级1、10的高清洁度,不仅无尘室内气流循环次数,而且无尘室内的气流方向也非常重要。
如图16所示,现有的FFU具有如下结构:通过电机4来旋转风扇3,从吸入口7吸入空气,通过在FFU1下部的过滤器2中流过空气,吹出清洁空气9。通过调节清洁空气9的吹出风速、方向来维持无尘室内的清洁度。
作为调节FFU向无尘室吹出的风速的手段,如特开平11-218353号公报(现有技术1)中所示,在各FFU过滤器上游端和下游端设置压差传感器,检测过滤器2的静压,根据过滤器的静压、风量特性来计算FFU的吹出风速,通过反相器等电机转数控制手段来控制吹出风速。
另外,在特开平9-96431号公报(现有技术2)中公开了如下控制:为了防止无尘室内下降流的湍流,在无尘室内的地板部备有风量调节地板,测量通过地板部通风孔的风量,得到规定的风量。
发明所解决的问题
但是,在现有技术1中,虽然在各FFU个体上设置压差传感器来调节FFU的吹出风速,但未考虑通过设置在无尘室顶棚部中的FFU的位置信息或顶棚室内的压力信息来控制无尘室内的气流方向。
另外,在现有技术2中,虽然公开了测量无尘室地板部的通风孔的风量来将地板部风量设为一定,但未考虑测量无尘室内的风速来控制无尘室内的风量。
因此,在上述任一现有技术中都不足以提高无尘室内的清洁度。
本发明的目的在于提供一种FFU控制系统,为了提高无尘室内的清洁度,控制设置在无尘室顶棚部内的FFU的吹出气流的方向和风量。
本发明的另一目的在于提供一种无尘室,该无尘室具有控制系统,为改善无尘室内的风束分布,使顶棚室内的压力均匀,并容易控制FFU的转数。
本发明的再一目的在于提供一种无尘室,为了控制无尘室内气流的方向,在无尘室内的栅格(grating)地板下部中设置气流调节机构。
解决问题的手段
为了实现上述目的,本发明的FFU控制系统具有配置在无尘室顶棚部中的FFU和控制该FFU的控制装置,其中,通过所述FFU位置信息和配置在所述无尘室顶棚室内压差计的压力信息来控制所述FFU的风扇电机转数。
在所述FFU控制系统中,在控制画面中显示所述风扇电机的转数控制后的计算风量。
在配置有所述FFU控制系统并在无尘室顶棚部中配置风扇的无尘室中,通过顶棚室内的压差计信息来控制所述无尘室顶棚内的风扇。
一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的FFU、控制该FFU的控制装置、配置在所述无尘室内的风速计和配置在所述无尘室地板下的风扇,其中,通过所述风速计的信息来控制所述地板下风扇的旋转。
一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的FFU、控制该FFU的控制装置、设置在该无尘室内的风速计和配置在所述无尘室地板下的气流调节器,其中,通过所述风速计的信息来控制所述地板下气流调节器的开口率。
一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的FFU、控制该FFU的控制装置、设置在所述无尘室内的风速计和可调节开口率的无尘室的栅格地板,其中,通过所述风速计的信息来控制所述栅格地板的开口率。
一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的FFU、控制该FFU的控制装置和配置在所述FFU中的压差计,其中,通过设置在所述FFU中的压差计信息来运算该FFU的寿命,并显示在画面中。
附图的简要说明
图1是表示本发明实施例1的FFU结构图。
图2是表示本发明实施例1的FFU控制系统的控制画面。
图3是表示本发明实施例1的FFU结构图。
图4是本发明FFU控制系统的控制框图。
图5是表示本发明实施例7的系统结构图。
图6是表示本发明实施例1的FFU风量-静压特性图。
图7是表示本发明实施例1的反相器控制方式FFU的风量-静压特性图。
图8是表示本发明实施例2的FFU信息显示画面。
图9是表示本发明实施例3的FFU结构图。
图10是表示本发明实施例4的无尘室地板下结构图。
图11是表示本发明实施例5的无尘室地板下结构图。
图12是表示本发明实施例6的无尘室栅格地板结构图。
图13是表示本发明实施例7的FFU结构图和过滤器特性。
图14是表示本发明实施例8的无尘室布局图。
图15是表示本发明实施例11的FFU控制说明布局图。
图16是现有的FFU结构图。
发明的详细描述
下面用附图来说明本发明。
[实施例1](顶棚压差计)
图1是备有表示本发明实施例1的FFU控制系统的无尘室。
图1中,在无尘室顶棚面中敷设格子形的顶棚铝框架17,在顶棚铝框架17上铺设FFU1。FFU1吸收顶棚室19的空气,向无尘室内吹出净化后的空气。净化后的空气变为无尘室内气流18,通过无尘室地面的栅格地板20,经由栅格地板下,从返回区域39返回顶棚室19。从而在无尘室中循环清洁空气,净化无尘室内部。
在本发明中,在顶棚室19内,在多个部位配置顶棚室内压差计27。
下面描述该压差计的配置。
图2表示本发明FFU控制系统的显示画面。在显示画面中显示无尘室的布局、即FFU或压差计等的设置位置或FFU的信息等。在布局画面36中表示无尘室的布局,在布局画面36的上部显示返回区域39。另外,在布局画面36上用黑点表示顶棚室内压差计27的位置,按列配置。下面描述按列配置的理由。
若在FFU控制系统中定义顶棚室内压差计27的位置信息,则不必将该信息显示在画面上。在布局画面36的左上部具有放大功能,可进行放大显示。布局画面上的格子表示顶棚铝框架17,一个格子表示一个FFU1,顶棚铝框架17上的X号表示顶棚铝框架17上未安装FFU1的部位。
在FFU信息显示画面37中,显示FFU1装配位置坐标、具有定义的区域名称、具有定义的组名称、FFU管理序号、运转模式、运转速度,每个FFU的信息不同。在FFU1的控制中,FFU1的位置坐标的管理在对应于气流布局上是重要的。在FFU1的控制中,因为多台结合同时动作的情况多,所以将FFU定义为区域、组。可将多台FFU定义为一个组,将多个组定义为一个区域。由此,在半导体、液晶等电子器件的制造中,对各种制造工序的每个场所分区,其中,对每个制造装置分组,可具有控制FFU风速的最佳分布。
下面说明本发明的FFU。
图3表示本发明FFU的结构图。在FFU1的主体上部具有吸入口7,主体内的电机4旋转风扇3,吸入空气,在过滤器2中过滤空气,吹出为清洁空气9。本发明在电机4的转数控制中设置DCBL电机或反相器,在FFU1上部装载电机控制器5,从外部通过通信分台6来控制控制器5。
因此,在本发明中,如图1和图2所示,配置顶棚室内压差计27,通过FFU控制系统中取得其信息来控制FFU1。另外,如图1所示,在无尘室的一侧配置返回区域39的情况下,无尘室内气流18在从FFU1吹出后,由于吸入无尘室39,所以无尘室内的气流不能垂直流过,产生所谓的斜流现象。
为了避免这种斜流,通常将栅格地板下尺寸取得大,但随着近年来制造装置的大型化,有必要变大清洁空间,所以存在不能取大地板下尺寸的情况。
通过返回区域39的气流返回顶棚室19中,依次被吸入返回区域39侧的FFU1中。在将顶棚室19的高度取大时,流过顶棚室19内的气流变慢,但在顶棚室19的高度低时,因为顶棚室19内的气流变快,所以因流路阻力引起的机外静压增加。另外,顶棚室19内流过气流的长度因返回区域39侧和顶棚室19的深度而不同,所以在顶棚室19内产生机外静压分布。在实施例1中,应对应于该机外静压分布来按列配置顶棚室内压差计27。
下面说明本发明的FFU控制系统。
图4表示图1的FFU控制系统的框图。图4中,FFU备有电源电路59、电机64、驱动电机64的驱动器电路61、从外部控制电机64转数的通信线路60、测量吸入FFU1中的空气压力和吹出时空气压力的压差计62、测量向无尘室内吹出空气时的风速的风速计63。配置多个相同结构的FFU。
具有监视这些FFU的监视室50,监视室50备有具有控制程序的个人计算机51、从个人计算机51接受控制指令、控制FFU等的PLC(ProgrammalbeLogic Controller:可编程逻辑控制器)、将PLC信息转换为控制命令的转换器和显示FFU等控制情况的显示画面53。
获得无尘室65中配置在无尘室顶棚室内的压差计66、测量无尘室内三维风速的无尘室内三维风速计67、无尘室内尘埃浓度计68、检测操作者的红外线传感器69、检测制造装置运行的制造装置运行传感器70、运行无尘室的栅格地板开口率的栅格地板开口率运行电路72、运行无尘室的地板下气流调节器的地板下气流调节器运行电路73、运行设置在地板下的风扇的地板下风扇运行电路74、运行设置在顶棚室内风扇的顶棚室内风扇运行电路75的信息,由监视室的计算机51进行控制。
在图4中,FFU通信线路的电源电路通过FFU电源电路来供电,所以即使监视室的个人计算机、PLC的电源关闭,也能提供FFU侧的电源,因此FFU可连续操作。该操作可通过装载于FFU上的通信线路在下一指令值到来之前存储上一指令值来进行。
下面是具体表示图4的FFU控制框图的图5的FFU控制系统的系统结构图的具体实例。
在图5中,来自监视室个人计算机10的信号经由HUB12、Ethernet从控制盘14的HUB12输入PLC13。PLC13的信号从接口单元15传送到连接于各接口单元15上的FFU1的通信分台6。考虑到对监视室个人计算机10和PLC13的电源停电时的情况,由UPS11来供电,但也可从普通电源来供电。
在本发明中,无尘室的顶棚室内压差计信息通过转换器输入PLC13。该信息虽然可读入监视室个人计算机10中,但考虑到装置的可靠性,在本实施例中,读入到PLC13。
下面描述FFU的特性。
图6表示本发明的FFU风量-静压特性图。如图6所示,DCBL电机的风扇性能曲线可得到决定于每个转数的风量、静压,即使不知道各转数的特性,对于风扇性能的特性,风量与转数比成正比,静压与转数比的平方成正比,从而可精确地推断出各转数下的性能。因此,为得到必要风量,若机外静压条件已知,可从风量-静压特性得到必要的转数指令值。如图1的无尘室所示,在返回区域39在无尘室的一侧的情况下,返回区域39侧的机外静压小,与返回区域相对的无尘室深度上的机外静压变大。该机外静压信息从配置在顶棚室19内的顶棚室内压差计27读入FFU控制系统。因为该系统的FFU信息中还定义了位置信息,所以通过定义各顶棚室内压差计27分担的FFU的位置坐标,可把握哪个位置的FFU机外静压现在为多少。越是增加该顶棚室内压差计27的设置件数,并减少各顶棚室内压差计27的分担的FFU个数,越可更高精度地进行控制。通过该机外静压信息,可知道哪个FFU的DCBL电机以多少转数运转时才可得到必要的风量。向FFU指令该DCBL电机运转转数,控制风量。例如,在机外静压信息为70Pa时,为得到20m3/min的风量,可知以1000min-1来旋转DCBL电机即可。已知初次装配后顶棚室内的压力分布,读入控制系统内作为判定条件的情况下,当变为比初期值的机外静压高的信息的机外静压时,可输出判定为异常。
存在休息日室内人数少的情况或制造装置不运行的区域即使降低FFU风量也可维持清洁度的情况,可通过降低该FFU的运转风量来节能。当降低FFU的运转风量而通过顶棚室19内的风量下降时,通过降低流路阻力,也可降低机外静压,即使机外静压下降,也可通过顶棚室内压差计27和节能时必要风量来从风量-静压特性得出电机的运转转数,向FFU1提供转数指令。
图7是本发明的反相器控制方式FFU的风量-静压特性图。在反相器控制的情况下,因为控制三相感应电动机的电源频率,所以其特性是在某一电源频率下的电机转矩、转数与风量×静压的工作量在平衡点处运转。因此,根据本发明的FFU控制系统发出用于控制风扇性能的反相器电源频率指令的情况下,需要已知各电源频率下的风量-静压特性。在不知道各电源频率下的风量-静压特性的情况下,可使用将风速计26安装在装载FFU1的顶棚铝框架17上、将该风速信息读入FFU控制系统中的方法。此时的控制框图如图4所示。各FFU风速计的风速信息经由各FFU的通信线路转送到PLC、个人计算机。通过该风量计信息,可向各FFU的反相器电源频率进行反馈,控制运转风量。
如上所述,因为可对应于顶棚内机外静压分布来自动控制FFU性能,所以可缩短无尘室装配时的气流调整期间。
[实施例2](风量显示)
图8是表示本发明实施例2的FFU信息显示画面。FFU控制系统向FFU输出的指令为转数指令或电源频率指令,根据FFU的机外静压条件,即使指令值相同,其运转风量也不同。无尘室设备管理者需要管理的不是转数指令值而是运转风量。本系统在哪个FFU的机外静压下为多少的状态下根据风扇以多少转数旋转来分别知道风量为多少。因此,FFU信息显示画面37的速度设定栏可用风量来显示。即使用同一风量显示,在控制系统内,以因FFU装配位置的机外静压不同而不同的转数指令值来运转。
如上所述,因为通过转数指令值和机外静压信息来计算显示FFU的处理风量,所以可准确调节作为清洁度计算标志的处理风量,可适当运转无尘室。
[实施例3](顶棚风扇)
图9是表示本发明实施例3的FFU结构图。顶棚风扇19内的机外静压随着FFU1的吸入风量沿深度增大而变大。该现象在FFU1上的顶棚室内高度越低表现越明显。因此,在机外静压大的情况下,提高FFU1用风扇电机的转数时,增加了风扇的工作量,虽然在高机外静压时也可得到必要的风量,但存在转数变大时噪声增大的缺点。在实施例3中,如图9所示,在顶棚室内配置风扇22,增强向无尘室顶棚深度方向的静压。如图9中图表所示,随着向无尘室深度方向进深,顶棚室内的机外静压上升,但顶棚室内风扇22的静压增强暂时减少了机外静压,当再向深度方向进深时,机外静压变大。通过该顶棚室内风扇22可使顶棚室内的静压与整个无尘室保持均匀。
如图4的控制框图所示,通过控制系统来控制顶棚室内风扇22的运行,通过顶棚室内压差计信息来进行反馈,可进行高精度控制。
[实施例4](三维风速计和地板下风扇)
图10表示本发明实施例4的无尘室地板下结构图。如图10所示,将无尘室栅格地板下分成若干空间,在该分隔部41设置地板下设置风扇23。分隔部41分隔的各地板下由于地板下设置风扇23的性能变为分别不同的负压。在地板下没有分隔件23的情况下,无尘室内气流被栅格地板下返回区域39侧的负压吸入栅格地板中。在无尘室中,为使气流被垂直吸入栅格地板中而将地板下的深度尺寸取值大,以使栅格地板下负压分布少。在栅格地板下尺寸不能取值深时,地板下负压因流过地板下的流路阻力而在返回区域侧39处变大,在无尘室深度方向上变小。因此,无尘室内气流18变为整个偏向返回区域侧的斜流。在本发明中,因为没有这种栅格地板下的负压分布,所以通过将地板下分成多个部位的地板下设置风扇23的能力来减小负压分布。
图1中表示实施例4所示无尘室的三维风速计设置实例。图4中表示三维风速计信息来控制地板下运行风扇的情况下控制框图。通过在无尘室内设置三维风速计25,可知无尘室内气流朝向哪个方向。通过该三维风速计信息,本发明可控制地板下设置风扇23。例如,三维风速计信息在无尘室内气流18朝向返回区域39侧并向控制系统传送信息时,控制系统提高反返回区域侧的地板下设置风扇23的风扇能力,增强反返回区域侧的栅格地板下的负压。因此,朝向返回区域侧的气流增大反返回区域侧的负压。在设置多台地板下设置风扇23的情况下,通过无尘室内的三维风速计25的信息可进行进一步控制。图5表示使用三维风速计、地板下设置风扇时的FFU控制系统结构图。三维风速计的信息通过转换器取入PLC13内,通过取入的信息来判断气流朝向何方向,向应纠正其方向的地板下设置风扇23发出指令值。调节地板下设置风扇的风扇性能的装置可使用反相器等。
如上所述,可控制因地板下设置风扇引起的无尘室内气流的斜流。
[实施例5](三维风速计和地板下气流调节器)
图11表示本发明实施例5的无尘室地板下结构图。与实施例4相同,如图1所示,在无尘室内设置三维风速计25,测量无尘室内气流18的流入角。如图11所示,将地板下分成若干个空间,在分隔空间内配置地板下设置气流调节器24。通过将地板下空间分隔成若干个空间,与实施例4一样可分别调节各空间的负压。地板下的气流被返回区39的负压吸引。为了对调节该负压在返回区域侧、反返回区域侧的分布,在地板下分隔空间内设置气流调节器。例如,在无尘室内气流18朝向返回区域侧的情况下,通过打开地板下被分隔的深度方向上的空间的气流调节器23,使无尘室深度方向地板下的负压增强,从而无尘室内气流18被该负压吸引,流入无尘室深度方向的栅格地板。通过增加地板下分隔空间,可更高精度地控制无尘室内三维风速计25和地板下设置气流调节器24。图4表示实施例5的控制框图。通过无尘室内三维风速计信息来判断无尘室内的风向,打开风向应朝向方向的地板下分隔空间的地板下设置气流调节器。通过该控制可垂直控制无尘室内气流18。
如上所述,可控制因地板下设置调节器引起的无尘室内气流的斜流。
[实施例6](三维风速计和栅开口)
图12表示实施例6的无尘室栅格地板结构图。图12中,表示从反返回区域侧将栅格地板开口率控制为60%、40%、20%的状态。通过变更栅格地板的开口率,开口率变大时气流容易通过,开口率变小时气流气流难以通过。因此,在无尘室内气流18朝向返回区域侧的情况下,通过返回区域侧的开口率变小,反返回区域侧的栅开口率变大,无尘室内气流18朝向反返回区域。因此,无尘室内气流18的斜流控制可通过控制栅格地板的开口率来实现。作为调节栅的开口率的装置,如现有技术2所示,可操作栅开口运行部40,但在实施例6中,在图1所示三维风速计25信息的FFU控制系统中分别控制栅格地板整体的开口率。其控制框图如图4所示。通过无尘室内三维风速计信息来判断无尘室内气流18的气流方向。在无尘室内气流朝向返回区域侧时,栅格地板的开口率使反返回侧变大,使返回区域侧变小。因此,虽然无尘室内气流18垂直流过,但在反对侧上变为斜流的情况下,可将反返回区或侧的开口率变小来进行反馈。栅格地板尺寸一般一个为600mm×600mm,如实施例6所示,用三维风速计25来测定无尘室内气流18,分别控制栅格地板的开口率,可进行更准确的控制。
如上所述,可控制因三维风速计和开口率运行式栅引起的无尘室内气流斜流控制。
[实施例7](压差计和过滤器寿命)
图13表示作为实施例7的FFU结构图和过滤器特性。在FFU1的加压室内安装FFU压差计28。在FFU内加压从FFU吸入口7吸入的空气,通过过滤器2吹出为清洁空气。过滤器的特性如图13所示,虽然在开始使用的初期压力损失低,但当使用并保持尘埃时压力损失变高。可通过这种变高的压力损失来判定过滤器的寿命。在实施例7中利用该压力信息显示过滤器寿命。其控制框图如图4所示。因为FFU1的压差计装载于各FFU上,所以各压差信息传送到各FFU的通信线路上。因为各FFU的通信线路具有不同的地址,所以各FFU的压差计信息被分别传送给控制系统。因此,通过在控制系统中定义末期压差的判定压力信息,可判定各FFU过滤器寿命。图5中表示实施例7的系统结构图。如图5所示,压差计28的信息传送到各FFU的通信分台6中,作为FFU各自的压差计信息传送给控制系统。因此,因为在FFU中具有各自的信息,所以在各制造工序中使用的过滤器不同,即使初期压力损失、末期压力损失不同,也可通过FFU各自信息和各自末期压力损失信息来判定过滤器的寿命。
如上所述,无尘室系统可知道准确的过滤器寿命。
[实施例8](空气吹淋器入室管理)
图14表示实施例8的无尘室布局图。在图14中,在风扇过滤单元控制电机画面上重叠无尘室系统。在无尘室中操作的人34在进入无尘室时通过空气吹淋器31吹落附着在身体上的尘埃。这是为了维持无尘室的清洁度而去掉尘埃。无尘室内的尘埃源既有制造装置35,但最主要的还是来自人的尘埃。因此,当无尘室内的室内人员多时,尘埃也变多。因此,在实施例8中,对应于无尘室内室内人数来调节FFU1的吹出气流。图5表示实施例8的控制框图。在空气吹淋器上安装入室卡,进入无尘室的人必须将入室卡插入空气吹淋器中再进入无尘室内,通过这样,可管理何人在何时进入无尘室内。另外,在出室时也可通过利用入室(出室)卡来在控制系统侧把握现在无尘室内还有哪个人。通过了解室内人数,从室内人数来推定无尘室内的尘埃量,可从控制系统发出增大风扇过滤器单元的处理风量的指令。同样,在无尘室内室内人数减少时,将风扇过滤单元的处理风速降到必要的最低限度,可节能。
如上所述,可进行符合无尘室内室内人数(尘埃量)的FFU处理风量的控制,可不必提高风速来节省无尘室的运转能量。
[实施例9](红外线传感器)
图14表示实施例9的无尘室布局图。在无尘室内配置红外线传感器33,监视红外线信息。图5表示实施例9的控制框图。红外线传感器33的信息通过PLC传送到个人计算机。通过红外线传感器信息可区分无尘室内温度高的部分的信息,但在制造装置中有发热源的情况下,该位置没有变化。因为人的热源信息移动,所以通过利用该红外线传感器信息可在控制系统侧把握现有多少人在无尘室内。与实施例8相同,可通过该室内人数来控制FFU的风速。
如上所述,可进行符合无尘室内室内人数(尘埃量)的FFU处理风量的控制,可不必提高风速来节省无尘室的运转能量。
[实施例10](尘埃浓度计)
图14表示实施例10的无尘室布局图。在无尘室内的主要部位配置尘埃浓度计29。图5表示实施例10的控制框图。无尘室内尘埃浓度计的信息通过PLC传送到个人计算机。在定义尘埃浓度计信息读入时,也可定义无尘室内的位置信息。因为控制系统具有各FFU的位置信息,所以在控制系统侧可知道在哪个尘埃浓度计之上配置了该FFU。因此,能只在尘埃浓度高的位置控制提高FFU中的风速并快速地净化空间。同样,在尘埃少的空间的FFU可将处理风量降到必要的最小限度。
如上所述,因为可对应于无尘室内尘埃多少的位置来控制FFU的风速,所以可高效地运转无尘室。
[实施例11](对FFU异常的支援)
图15表示实施例11的FFU控制说明布局图。在维持无尘室内清洁度方面,必须维持FFU的处理风量。一旦FFU中发生异常而FFU停止时,难以维持该FFU下的清洁度。因为本控制系统中具有FFU位置信息,所以可向停止的FFU周围的FFU发出风量提高指令。通过提高异常停止的FFU周围的FFU风速,可维持其周边的空间清洁度。将发生异常的FFU显示于控制画面上,无尘室设备管理者对FFU进行处理以变正常。周围的FFU在判断周围没有异常FFU时返回通常的运转。
如上所述,可提供一种控制系统,即使FFU中发生异常,也能将气流清洁度的降低限制到最小限度。
[实施例12](累计运转时间的过滤器寿命)
图8表示实施例12所示的FFU信息显示画面。在判定过滤器寿命时,如实施例7所示,虽然有通过过滤器压力损失信息来判定的情况,但也有在无尘室内尘埃少的情况下、至末期压力损失时压力不上升的使用时间来判断寿命的情况。在实施例12中,在累计使用时间比作为判定条件输入的时间长来运转的情况下,以红色闪烁等来显示作为寿命的FFU累计运转时间。根据累计运转时间来判断过滤器的寿命的情况下,可通过FFU运转时间来确定累计过滤器中累计了多少尘埃。在本发明中,除FFU运转时间外,如实施例10所示,也可使用无尘室内的尘埃浓度作为信息。因此,对规定的FFU周围的尘埃浓度和运转时间进行积分,可通过更接近于实现的过滤器尘埃处理量的数值来判断过滤器寿命。
发明效果
根据本发明,通过设置在无尘室顶棚部中的FFU和设置在顶棚室内的压差计等的位置信息或压力信息来控制无尘室内吹出的气流方向、风量,可达到进一步提高无尘室内清洁度的效果。
根据本发明,在FFU控制系统中,因为可通过设置在无尘室内的风速计的风速信息来控制设置在地板部之下的风扇或气流调节器,所以可达到提高无尘室内的清洁度的效果。
根据本发明,在FFU控制系统中,因为可在控制画面中显示风扇电机的转数控制后的计算风量,所以可达到方便使用的效果。

Claims (11)

1.一种风扇过滤单元控制系统,具有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元和控制该风扇过滤单元的控制装置,其特征在于,通过所述风扇过滤单元位置信息和配置在所述无尘室顶棚室内压差计的压力信息来控制所述风扇过滤单元的风扇电机转数。
2.根据权利要求1所述的风扇过滤单元控制系统,其特征在于,在控制画面中显示所述风扇电机的转数控制后的计算风量。
3.一种无尘室,配置有权利要求1所述的风扇过滤单元控制系统并在无尘室顶棚部中配置风扇,其特征在于,通过顶棚室内的压差计信息来控制所述无尘室顶棚内的风扇。
4.一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元、控制该风扇过滤单元的控制装置、配置在所述无尘室内的风速计和配置在所述无尘室地板下的风扇,其特征在于,通过所述风速计的信息来控制所述地板下风扇的旋转。
5.一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元、控制该风扇过滤单元的控制装置、设置在该无尘室内的风速计和配置在所述无尘室地板下的气流调节器,其特征在于,通过所述风速计的信息来控制所述地板下气流调节器的开口率。
6.一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元、控制该风扇过滤单元的控制装置、设置在所述无尘室内的风速计和可调节开口率的无尘室的栅格地板,其特征在于,通过所述风速计的信息来控制所述栅格地板的开口率。
7.一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元、控制该风扇过滤单元的控制装置和配置在所述风扇过滤单元中的压差计,其特征在于,通过设置在所述风扇过滤单元中的压差计信息来运算该风扇过滤单元的寿命,并显示在画面中。
8.一种无尘室,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元、控制该风扇过滤单元的风扇过滤单元控制装置和设置在所述无尘室出入口处的空气吹淋器装置和管理进入所述空气吹淋器的控制装置,其特征在于,根据所述无尘室的室内人数来控制所述风扇过滤单元的风扇电机转数。
9.一种具有风扇过滤单元控制系统的无尘室,备有由配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元、控制该风扇过滤单元的控制装置和由配置在所述无尘室内感知无尘室的室内人数的红外线传感器构成的风扇过滤单元控制系统,其特征在于,通过所述红外线传感器得到的室内人数信息来控制所述风扇过滤单元的风扇电机转数。
10.一种风扇过滤单元控制系统,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元和控制该风扇过滤单元的控制装置,其特征在于,将所述风扇过滤单元分成多个组,通过配置在所述无尘室内的分组后的区域内的尘埃浓度计信息来控制风扇电机转数。
11.一种风扇过滤单元控制系统,备有配置在无尘室顶棚部中的风扇过滤单元和控制该风扇过滤单元的控制装置,其特征在于,因异常而降低吹出风速的风扇过滤单元周围的风扇过滤单元的吹出速度加速。
CNB011456167A 2001-08-24 2001-12-20 无尘室 Expired - Fee Related CN1265155C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP253771/01 2001-08-24
JP2001253771A JP4038352B2 (ja) 2001-08-24 2001-08-24 クリーンルーム
JP253771/2001 2001-08-24

Related Child Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100079673A Division CN100504224C (zh) 2001-08-24 2001-12-20 无尘室
CN2006100049329A Division CN1982800B (zh) 2001-08-24 2001-12-20 风扇过滤器单元控制系统
CNA2006100049314A Division CN1975277A (zh) 2001-08-24 2001-12-20 风扇过滤器单元控制系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1401949A true CN1401949A (zh) 2003-03-12
CN1265155C CN1265155C (zh) 2006-07-19

Family

ID=19082040

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB011456167A Expired - Fee Related CN1265155C (zh) 2001-08-24 2001-12-20 无尘室
CNA2006100049314A Pending CN1975277A (zh) 2001-08-24 2001-12-20 风扇过滤器单元控制系统
CN2006100049329A Expired - Fee Related CN1982800B (zh) 2001-08-24 2001-12-20 风扇过滤器单元控制系统
CNB2005100079673A Expired - Fee Related CN100504224C (zh) 2001-08-24 2001-12-20 无尘室

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2006100049314A Pending CN1975277A (zh) 2001-08-24 2001-12-20 风扇过滤器单元控制系统
CN2006100049329A Expired - Fee Related CN1982800B (zh) 2001-08-24 2001-12-20 风扇过滤器单元控制系统
CNB2005100079673A Expired - Fee Related CN100504224C (zh) 2001-08-24 2001-12-20 无尘室

Country Status (4)

Country Link
US (2) US6607435B2 (zh)
JP (1) JP4038352B2 (zh)
CN (4) CN1265155C (zh)
TW (1) TW580553B (zh)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100433248C (zh) * 2005-03-31 2008-11-12 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
CN101844661A (zh) * 2010-05-31 2010-09-29 友达光电股份有限公司 洁净仓储
CN101982704A (zh) * 2010-10-12 2011-03-02 中国矿业大学 建筑物大空间公共场所有害物质的防护系统及方法
CN101551144B (zh) * 2009-05-06 2012-01-04 友达光电股份有限公司 无尘室系统
CN103047197A (zh) * 2012-12-27 2013-04-17 浙江灵汇电子工程有限公司 一种定面风速可控面积的风机过滤单元
CN103267321A (zh) * 2013-05-30 2013-08-28 深圳中元宏康科技有限公司 手术室空气净化系统
CN106088673A (zh) * 2016-06-28 2016-11-09 无锡宏纳科技有限公司 一种安装有回流风扇的超净间
CN106288059A (zh) * 2016-08-05 2017-01-04 武汉华星光电技术有限公司 厂房通风除尘系统
CN106556085A (zh) * 2016-12-06 2017-04-05 惠科股份有限公司 无尘室车间及无尘室车间的气流调节方法
CN108180568A (zh) * 2017-12-22 2018-06-19 科越工程(苏州)有限公司 一种无尘室排风系统及其安装工艺
CN106121291B (zh) * 2016-06-27 2018-11-02 江苏帕珐尼洁净科技有限公司 一种具有内部循环风扇的超净间
CN106121292B (zh) * 2016-06-28 2018-11-27 江苏中瀚通讯技术有限公司 一种风扇排布整齐的超净间

Families Citing this family (74)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004324939A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Toyo Netsu Kogyo Kk クリーンルーム
BR0318300A (pt) * 2003-05-12 2006-07-11 Usi Italia S R L sistema para o controle do processo de pintura em uma ccabine de pintura, e cabine de pintura para isso
AU2004273890A1 (en) * 2003-09-15 2005-03-31 Robert O. Dean Operating room smoke evacuator with integrated vacuum motor and filter
KR20050062366A (ko) * 2003-12-18 2005-06-23 엠 플러스 더블유 짠더 퍼실리티 엔지니어링 게엠베하 순환공기, 특히 청정공기의 공조장치
US7707931B2 (en) 2004-04-06 2010-05-04 West Liberty Foods, L.L.C. Clean room food processing systems, methods and structures
JP4443350B2 (ja) * 2004-08-27 2010-03-31 株式会社大気社 空調設備
US20060222478A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Tokyo Electron Limited Processing apparatus, and system and program for monitoring and controlling fan filter unit
JP4603927B2 (ja) * 2005-04-22 2010-12-22 株式会社日立産機システム エアシャワ装置
DE202005009505U1 (de) * 2005-06-10 2006-10-19 M + W Zander Facility Engineering Gmbh Schwebstofffilter, insbesondere für den Einsatz in Reinräumen
US20070021050A1 (en) * 2005-06-16 2007-01-25 Kennedy Michael A System for providing and managing a laminar flow of clean air
US8147301B2 (en) * 2006-01-19 2012-04-03 Ray Ghattas Air handling system for clean room
JP4908859B2 (ja) * 2006-01-31 2012-04-04 三洋電機株式会社 空気除菌装置
SG136834A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-29 Kyodo Allied Ind Ltd A method and apparatus for maintaining air characteristics in an air ventilated facility using fan filter units
JP2008032335A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp ミニエンバイロメント装置、検査装置、製造装置、及び空間の清浄化方法
JP2009002634A (ja) * 2007-06-25 2009-01-08 Unitec Inc ユニット型クリーンルーム
JP2009124462A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Panasonic Corp 電力線通信を用いたファンフィルターユニットの監視制御システム
US7940188B2 (en) 2008-02-07 2011-05-10 Veltek Associates, Inc. Air sampling system having a plurality of air sampling devices with their own flow switches
JP4827893B2 (ja) * 2008-06-27 2011-11-30 株式会社上村工業 クリーンエアー吹出し供給用の箱形ユニット装置
KR200453084Y1 (ko) * 2008-07-04 2011-04-20 (주) 옵티마인드솔루션 기류 감지 시스템
US10294658B2 (en) 2008-12-23 2019-05-21 Xoma (Us) Llc Flexible manufacturing system
JP5879264B2 (ja) 2009-08-16 2016-03-08 ジー−コン マニュファクチャリング インク. モジュール式、独立式、移動式クリーンルーム
US9795957B2 (en) * 2009-08-16 2017-10-24 G-Con Manufacturing, Inc. Modular, self-contained, mobile clean room
JP2011190967A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Fujitsu Ltd 空調システム
CN102397728B (zh) * 2010-09-17 2014-03-12 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 高效气体过滤系统
US9581347B2 (en) * 2011-02-16 2017-02-28 John L. Fiorita, JR. Clean room control system and method
TW201239586A (en) * 2011-03-24 2012-10-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Container data center
JP5427833B2 (ja) * 2011-05-18 2014-02-26 パナソニック株式会社 クリーンルームの逆流防止装置
CN102839832A (zh) * 2011-06-22 2012-12-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 无尘室
JP5666393B2 (ja) * 2011-06-28 2015-02-12 セイコーインスツル株式会社 センサネットワークシステム
JP5520900B2 (ja) * 2011-08-30 2014-06-11 日立アプライアンス株式会社 空気調和装置
CN102650604A (zh) * 2011-09-26 2012-08-29 北京京东方光电科技有限公司 洁净间用气流组织测试方法及装置系统
CN103133426A (zh) * 2011-11-22 2013-06-05 苏州市恩威特环境技术有限公司 一种恒风量风机过滤单元
EP2620202B1 (en) * 2012-01-30 2014-10-29 ABB Oy Method and apparatus for monitoring air filter condition
CA2864683C (en) 2012-02-14 2021-01-12 Medtek Devices, Inc. Medical boom filter system and method
JP5975263B2 (ja) * 2012-04-26 2016-08-23 清水建設株式会社 電力制御システム
US8920262B2 (en) * 2012-05-18 2014-12-30 Nike, Inc. Golf ball with aggregated layer core and method of making
US20140087649A1 (en) * 2012-09-26 2014-03-27 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Cleanroom and Cleaning Apparatus
US9631825B2 (en) 2012-12-18 2017-04-25 Nortek Air Solutions, Llc Air filter assembly
CN103234244B (zh) * 2013-04-28 2015-09-30 姜天华 层流动态空气消毒机
KR101489221B1 (ko) 2013-07-16 2015-02-04 주식회사 시스웍 다기능 청정공조 제어장치
EP2886966B1 (de) * 2013-12-20 2020-04-15 Schilling Engineering GmbH Reinraumsystem und Verfahren zu dessen Betrieb
DE102013114724A1 (de) * 2013-12-20 2015-06-25 Schilling Engineering GmbH Reinraumvorrichtung
CN103968463A (zh) * 2014-05-05 2014-08-06 苏州市金燕净化设备工程有限公司 助力型层流车
US9939416B2 (en) * 2014-08-28 2018-04-10 Veltek Assoicates, Inc. Programmable logic controller-based system and user interface for air sampling in controlled environments
ES2634695T3 (es) * 2015-01-19 2017-09-28 Halton Oy Control de una condición ambiental en interior
CN104759303A (zh) * 2015-02-06 2015-07-08 苏州尚科洁净技术有限公司 一种可变层流方向洁净工作台
ITUB20152618A1 (it) * 2015-07-30 2017-01-30 Sinteco Impianti Srl Struttura di camera bianca prefabbricata
US10337751B2 (en) * 2016-08-04 2019-07-02 Environmental Information Services, Inc. Liquefied petroleum gas solvent extraction room ventilation system and methods
KR101960747B1 (ko) * 2017-08-31 2019-03-21 삼성물산 주식회사 클린룸 상부공간의 결로방지 시스템 및 이를 이용한 클린룸 상부공간의 결로방지 방법
CN107560024B (zh) * 2017-09-13 2023-04-14 中天道成(苏州)洁净技术有限公司 高精度高均匀度洁净室系统
CN111656103B (zh) * 2018-01-31 2022-01-28 三菱电机株式会社 空调控制系统和空调机
US11043164B2 (en) * 2018-01-31 2021-06-22 Ignis Innovation Inc. Display panel compensation methods
JP6653722B2 (ja) * 2018-03-14 2020-02-26 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置
JP2019158300A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 株式会社日立産機システム エアシャワー装置
DE102018204632B4 (de) * 2018-03-27 2023-07-27 Filtration Group Gmbh Belüftungseinrichtung zum Filtern von Luft und zum Abscheiden von Wasseraerosolen aus Luft
KR102234521B1 (ko) * 2018-06-29 2021-03-31 코웨이 주식회사 양 방향 토출 유로를 포함하는 공기 청정기 및 이를 제어하는 방법
US10968630B1 (en) * 2019-08-08 2021-04-06 AES Clean Technology, Inc. Modular clean room gas supply raceway apparatus, system and method
US11624182B2 (en) 2019-08-15 2023-04-11 G-Con Manufacturing, Inc. Removable panel roof for modular, self-contained, mobile clean room
CN110513843B (zh) * 2019-09-16 2021-03-16 广东钜宏科技股份有限公司 一种基于ffu的无尘间洁净度闭环控制系统
CN110608188B (zh) * 2019-11-01 2021-01-01 广东钜宏科技股份有限公司 一种基于风速闭环控制的ffu控制器
JP6828924B1 (ja) * 2020-01-06 2021-02-10 Jms株式会社 排気排塵装置
US11192132B2 (en) * 2020-02-10 2021-12-07 Taikisha Ltd. Work facility
CN111520892A (zh) * 2020-04-30 2020-08-11 上海思妥实业有限公司 一种带延时变风量送风系统
JP7363666B2 (ja) * 2020-05-12 2023-10-18 株式会社ダイフク 計測装置
CN111804066A (zh) * 2020-06-03 2020-10-23 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 一种高温炉管暂存腔的洁净度控制方法
US11492795B2 (en) 2020-08-31 2022-11-08 G-Con Manufacturing, Inc. Ballroom-style cleanroom assembled from modular buildings
JP2022056167A (ja) * 2020-09-29 2022-04-08 芝浦メカトロニクス株式会社 送風器及び電子部品の実装装置
EP3985317A1 (en) * 2020-10-16 2022-04-20 Neuroplast Beheer B.V. A clean room system as well as a computer implemented method for controlling such clean room system
KR102292956B1 (ko) * 2020-10-21 2021-08-25 정은복 공조장치
KR102272054B1 (ko) * 2020-12-29 2021-07-05 (주)티엘엔지니어링 하이브리드 다목적 클린 컨테이너
CN113757961B (zh) * 2021-08-31 2022-11-11 深圳市万维空调净化工程有限公司 一种ffu的远程控制方法、系统、装置及存储介质
BE1029823B1 (nl) * 2021-10-06 2023-05-08 Abn Cleanroom Tech N V Cleanroom en werkwijze voor het zuiveren van een cleanroom
CN114876847A (zh) * 2022-06-02 2022-08-09 上海茂控机电设备有限公司 一种旋涡风机控制方法、系统、存储介质及智能终端
CN116951594A (zh) * 2023-08-17 2023-10-27 上海程泉洁净技术有限公司 洁净室系统

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4191543A (en) * 1977-12-23 1980-03-04 Peters Max D Sterile air recycling apparatus
US4705066A (en) * 1981-11-27 1987-11-10 Honeywell Inc. Space static pressure control
US4407447A (en) * 1981-12-07 1983-10-04 Sta-Tech International, Inc. Energy control system
JPS60173838U (ja) * 1984-04-26 1985-11-18 株式会社竹中工務店 垂直層流型クリンル−ム
JPS63213735A (ja) * 1986-06-19 1988-09-06 Nippon Electric Ind Co Ltd クリ−ンル−ムにおける空調フアンの速度制御装置
JPS63204058A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Fuji Electric Co Ltd クリ−ンル−ムの運転制御方式
JPH01225848A (ja) * 1988-03-04 1989-09-08 Matsushita Refrig Co Ltd 空気調和機
US5626820A (en) * 1988-12-12 1997-05-06 Kinkead; Devon A. Clean room air filtering
US5180331A (en) * 1990-02-01 1993-01-19 Daw Technologies, Inc. Subfloor damper and spill container
JPH03291436A (ja) * 1990-04-05 1991-12-20 N M B Semiconductor:Kk 半導体製造工場のクリーンルーム
US5090972A (en) * 1990-04-25 1992-02-25 Enviro-Air Control Corporation Particulate abatement and environmental control system
JP2673835B2 (ja) 1990-08-21 1997-11-05 高砂熱学工業 株式会社 クリーンルームの風量制御方法
US5219464A (en) * 1990-10-09 1993-06-15 Tokyo Electron Limited Clean air apparatus
JP3225441B2 (ja) * 1991-04-23 2001-11-05 東京エレクトロン株式会社 処理装置
US5228306A (en) * 1992-04-20 1993-07-20 Norm Pacific Automation Corp. Apparatus for controlling air-exchange and pressure and detecting airtight conditions in air-conditioned room
JPH06101881A (ja) * 1992-09-18 1994-04-12 Nippon Steel Corp クリーンルームの空気調和装置
JP3262623B2 (ja) * 1993-02-17 2002-03-04 東京エレクトロン株式会社 減圧処理方法及び装置
JPH06257813A (ja) * 1993-03-03 1994-09-16 Asahi Kogyosha:Kk クリーンルーム内の気流調整装置及び運転停止後の清浄度維持装置
JP2803971B2 (ja) * 1993-05-14 1998-09-24 三菱電機株式会社 電力変換装置の冷却装置
JP3470370B2 (ja) * 1994-01-24 2003-11-25 富士通株式会社 塵埃粒子発生位置特定装置および方法ならびにクリーンルーム
KR970007648B1 (ko) * 1994-05-09 1997-05-15 삼성전자 주식회사 클린룸용 개방형 에어샤워장치
US5639188A (en) * 1994-07-13 1997-06-17 Conductron Corporation Clean air bulk material handling system
WO1997009024A1 (en) * 1995-09-06 1997-03-13 Baugh Carl E Apparatus and method for establishing a closed ecological system
JP2655139B2 (ja) 1995-09-29 1997-09-17 日本電気株式会社 クリーンルームおよび風量制御方法
KR0165476B1 (ko) * 1995-11-20 1999-02-01 김광호 기류 제어장치, 이 장치를 이용하는 청정 실 및 청정 실내의 온도편차를 감소시키는 방법
US5984991A (en) * 1996-01-25 1999-11-16 Appliance Development Corp. High-efficiency air filter
JPH09313851A (ja) * 1996-05-29 1997-12-09 Matsushita Seiko Co Ltd 目詰まり表示器
TW333658B (en) * 1996-05-30 1998-06-11 Tokyo Electron Co Ltd The substrate processing method and substrate processing system
CN1177711A (zh) * 1996-09-24 1998-04-01 三菱电机株式会社 净化室
US5972060A (en) * 1996-10-09 1999-10-26 Ch2Mhill Industrial Design Corporation Apparatus for providing a purified resource in a manufacturing facility
KR100211912B1 (ko) * 1996-10-28 1999-08-02 윤종용 반도체 클린룸의 기류조정장치
KR100211669B1 (ko) * 1996-11-06 1999-08-02 윤종용 반도체장치 제조용 크린룸의 팬 필터 유니트 구동감시장치 및 구동 제어시스템
KR100252215B1 (ko) * 1997-05-02 2000-04-15 윤종용 클린룸 계측장치 상태 모니터링 시스템 및 그를 이용한 모니터링 방법
JPH11218353A (ja) 1998-02-02 1999-08-10 Toshiba Air Conditioning Co Ltd クリーンルームへの吹出し風速調整装置
JP3092705B2 (ja) * 1998-06-25 2000-09-25 日本電気株式会社 空調装置
JP2000028168A (ja) * 1998-07-09 2000-01-25 Seiko Epson Corp クリーンルーム
JP2000153121A (ja) * 1998-11-17 2000-06-06 Sony Corp フィルタの目詰まり判定制御回路
JP2000297954A (ja) * 1999-04-14 2000-10-24 Toshiba Corp クリーンルーム用ファンフィルター駆動装置
JP3476395B2 (ja) * 1999-09-24 2003-12-10 Necエレクトロニクス株式会社 クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法
JP3480414B2 (ja) * 2000-03-13 2003-12-22 日本電気株式会社 塵埃検知装置
US6334365B1 (en) * 2000-12-11 2002-01-01 Sandia Corporation Target detection portal

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100433248C (zh) * 2005-03-31 2008-11-12 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
CN101551144B (zh) * 2009-05-06 2012-01-04 友达光电股份有限公司 无尘室系统
CN101844661A (zh) * 2010-05-31 2010-09-29 友达光电股份有限公司 洁净仓储
CN101844661B (zh) * 2010-05-31 2012-05-23 友达光电股份有限公司 洁净仓储
CN101982704B (zh) * 2010-10-12 2013-07-03 中国矿业大学 建筑物大空间公共场所有害物质的防护系统及方法
CN101982704A (zh) * 2010-10-12 2011-03-02 中国矿业大学 建筑物大空间公共场所有害物质的防护系统及方法
CN103047197B (zh) * 2012-12-27 2015-02-11 灵汇技术股份有限公司 一种定面风速可控面积的风机过滤单元
CN103047197A (zh) * 2012-12-27 2013-04-17 浙江灵汇电子工程有限公司 一种定面风速可控面积的风机过滤单元
CN103267321A (zh) * 2013-05-30 2013-08-28 深圳中元宏康科技有限公司 手术室空气净化系统
CN103267321B (zh) * 2013-05-30 2016-08-10 深圳橙果医疗科技有限公司 手术室空气净化系统
CN106121291B (zh) * 2016-06-27 2018-11-02 江苏帕珐尼洁净科技有限公司 一种具有内部循环风扇的超净间
CN106088673A (zh) * 2016-06-28 2016-11-09 无锡宏纳科技有限公司 一种安装有回流风扇的超净间
CN106121292B (zh) * 2016-06-28 2018-11-27 江苏中瀚通讯技术有限公司 一种风扇排布整齐的超净间
CN106288059A (zh) * 2016-08-05 2017-01-04 武汉华星光电技术有限公司 厂房通风除尘系统
CN106556085A (zh) * 2016-12-06 2017-04-05 惠科股份有限公司 无尘室车间及无尘室车间的气流调节方法
CN106556085B (zh) * 2016-12-06 2019-05-24 惠科股份有限公司 无尘室车间及无尘室车间的气流调节方法
US11378291B2 (en) 2016-12-06 2022-07-05 HKC Corporation Limited Clean room and method for regulating airflow of clean room
CN108180568A (zh) * 2017-12-22 2018-06-19 科越工程(苏州)有限公司 一种无尘室排风系统及其安装工艺

Also Published As

Publication number Publication date
CN1651831A (zh) 2005-08-10
US20030040269A1 (en) 2003-02-27
CN1975277A (zh) 2007-06-06
US6607435B2 (en) 2003-08-19
TW580553B (en) 2004-03-21
CN100504224C (zh) 2009-06-24
CN1982800A (zh) 2007-06-20
US6755734B2 (en) 2004-06-29
JP2003065577A (ja) 2003-03-05
CN1265155C (zh) 2006-07-19
CN1982800B (zh) 2010-06-16
JP4038352B2 (ja) 2008-01-23
US20030045226A1 (en) 2003-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1265155C (zh) 无尘室
US6368393B1 (en) Fan filter unit for cleanroom
CN101173817A (zh) 空调装置和计算机系统
JPS625031A (ja) 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム
US20140004785A1 (en) Container data center
CN1831440A (zh) 空气供应系统
KR20110002412A (ko) 환기 시스템
CN107560024A (zh) 高精度高均匀度洁净室系统
CN1727783A (zh) 利用通风系统的室内空气质量控制装置以及方法
JP2013134015A (ja) クリーンルーム設備、風量制御装置及び風量制御方法
JP2024042108A (ja) クリーンルーム装置および空気循環ユニット
JP2018132246A (ja) 空気清浄機およびそれを用いた空気清浄システム
JPH11218353A (ja) クリーンルームへの吹出し風速調整装置
CN2393024Y (zh) 空气调节装置
CN1758170A (zh) 温控风扇转速的控制装置及控制方法
JP2019100588A (ja) 熱交換型換気扇の制御方法
CN105890058A (zh) 空气净化装置
JP2014214915A (ja) 清浄化空調システム
JPH10291607A (ja) 荷保管装置
CN101078540A (zh) 空调器的室内机
KR20220065335A (ko) 환기시스템 및 그 동작 방법
JPS6346327A (ja) 可変風量吹出し吸込みユニツトを有するクリ−ンル−ム
KR102472460B1 (ko) 보조 송풍 장치를 구비한 공기 청정 시스템 및 이의 동작 방법
JP2022190729A (ja) 空気清浄装置
KR100876982B1 (ko) 자가 밸런싱 로터열교환기를 구비한 공기조화기 및 그 자가밸런싱 방법

Legal Events

Date Code Title Description
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C06 Publication
PB01 Publication
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20060719

Termination date: 20121220