CN1452521A - 包含聚合氨基塑料的改进减反射涂料组合物 - Google Patents

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Abstract

提供用于集成电路制造工艺的改进减反射涂料组合物以及形成这些组合物的方法。通常，通过在酸性条件下加热溶液，使化合物聚合形成平均分子量至少约1000道尔顿的聚合物来形成组合物，所述溶液包括包含特殊化合物(例如烷氧基烷基蜜胺、烷氧基烷基苯胍胺)的化合物。得到的聚合物的单体通过连接基团(例如－CH2－、－CH2－O－CH2－)连接在一起，所述连接基团连接到相应单体的氮原子上。使聚合的化合物与溶剂混合，并施涂到基材表面上，然后烘烤形成减反射层。得到的层具有高的k值并能制造成用于贴合和平面的应用。

Description

包含聚合氨基塑料的改进减反射涂料组合物
发明领域
本发明大致涉及减反射组合物以及在集成电路制造工艺中用作基材上减反射涂覆(ARC)层的组合物的制造方法。更具体地，本发明的组合物是通过在酸性环境中聚合氨基塑料(例如蜜胺、苯胍胺)形成，进行聚合反应时应提高温度形成可交联的、紫外吸收和快速刻蚀的组合物。
背景技术
在制造半导体器件时，光刻胶经常碰到的问题是：激活光照被用来支持光刻胶的基材反射回光刻胶板中。这样的反射容易引起图案模糊，从而降低光刻胶的分辨率。在加工光刻胶过程中的图案变差当基材为非平面和/或高反射性时更容易出问题。解决这种问题的一种方法是把底部减反射涂层(BARC)施加到在光刻胶层下面的基材上。
有时可使用填充组合物形成BARC层，该填充组合物在普通照射波长下具有高的光学密度。BARC组合物通常含有提供涂覆性能的有机聚合物和吸收光的染料。染料既可以物理混合在组合物中也可以使用化学方法连接到聚合物上。热固化BARC中除了聚合物和染料还包含交联剂。交联反应必须被引发，并且由存在于组合物中的酸催化剂而完成。由于所有这些需要执行特殊和不同功能的成分，现有技术的BARC组合物相当复杂。
授予Sato等的美国专利5939510提出了一种BARC组合物，其包括UV吸收剂和交联剂。UV吸收剂为二苯甲酮化合物或在芳基上至少有一个非取代或烷基取代氨基的芳香族偶氮甲碱化合物。Sato等提出的交联剂为蜜胺化合物，该化合物中至少有两个羟甲基或烷氧基甲基连接到分子中的氮原子上。
Sato等的组合物有两个主要的不足。首先，在提到的双组分组合物中，Sato等的组合物不包括聚合物材料，从而导致在基材细部边缘和表面的覆盖面积不足。其次，Sato等提出的紫外吸收剂与交联剂物理混合，而不是用化学方法连接到组合物的某些组分上。结果，紫外吸收剂就经常会升华，在许多情况下升华扩散进入随后施涂的光刻胶层。
现在需要一种不大复杂的减反射组合物，其能提供较高的反射控制以及在减小或避免与光刻胶层混合的情况下提高蚀刻速率。
发明概述
本发明通过提高改进减反射组合物克服了上述问题，该组合物由极小数量(例如2或更少)的组分构成并显示出在有效BARC组合物中必需的性能。
更详细地说，本发明的减反射组合物包括聚合物，该聚合物包括从式I的化合物衍生出来的单体及其混合物。
式I
Figure A0081944100081
其中每个X分别选自由NR2(氮原子与环状结构连接)和苯基构成的基团，每个R分别选自由氢、烷氧基烷基、羧酸基团、和羟甲基构成的基团。式I优选的化合物如下：
Figure A0081944100082
苯胍胺
Figure A0081944100091
蜜胺当指式I时，短语“从式I的化合物衍生出来的单体”指式I的官能化部分。例如，式II的每一个结构都是从式I的化合物衍生出来的。
式II
Figure A0081944100092
其中：每个X分别选自由NR2(氮原子与环状结构连接)和苯基构成的基团，每个R分别选自由氢、烷氧基烷基、羧酸基团、和羟甲基构成的基团；“M1”和“M2”表示连接到X′或者X″的分子(例如从式I的化合物衍生出来的发色团或另一个单体)。这样“从式I的化合物衍生出来的单体”包括任何组分(即，任何X基团，优选为1-2个X基团))与另一个分子连接的化合物。
聚合单体宜与选自-CH2-、-CH2-O-CH2、以及它们的混合物的连接基团结合，且连接基团连接在相应单体的氮原子上。例如，式III显示通过一个-CH2-连接基团把两个甲氧基甲基化蜜胺部分连接在一起，通过一个-CH2-O-CH2-连接基团把两个甲氧基甲基化蜜胺部分连接在一起。
式III式IV说明了通过CH2连接基团把两个苯胍胺连接在一起。
式IV最后，式V说明通过CH2连接基团，把两个连接了发色团(2，4-己二烯酸)甲氧基甲基化蜜胺部分连接在一起。
式V
Figure A0081944100103
本发明的组合物如下述形成，先提供式I的化合物在分散剂(优选为有机溶剂，如乳酸乙酯)中的一种分散体，然后在把分散体的温度加热到至少约70℃，优选为至少约120℃之前或同时，在分散体中加入酸(如对甲苯磺酸)。加入的酸的量为每1升分散体约0.001-1摩尔，优选约为0.01-0.5摩尔酸/升分散体。此外，加热步骤应进行至少2小时，优选约为4-6小时。在仅使用苯胍胺基部分的情况下，加热步骤应进行少于约7小时的时间，优选约为5.5-6.5小时。
在酸性条件下对初始化合物加热会导致化合物通过形成上述连接基团聚合。在加热步骤得到的聚合物的平均分子量至少约1000道尔顿，优选至少约5000道尔顿，更优选至少约5000-20000道尔顿。而且，在加热步骤之后约12小时，得到的减反射组合物应减少至少约20％，优选至少约40％，更优选为约40-70％式I化合物的初始分散体中的甲氧基甲基(-CH2OCH3)，甲氧基甲基的量用在此定义的滴定方法测定。
可以了解本发明的聚合物组合物相比现有技术的组合物具有显著的优点，聚合的组合物单独作为减反射涂料聚合物粘合剂、交联剂、和发色团，从而极大地简化了减反射涂层体系。
在需要提高光吸收的情况下，发色团(例如2，4-己二烯酸、3-羟基-2-萘甲酸)可在加入酸和进行热处理之前与初始分散体混合。当随后进行酸处理时，发色团通过聚合反应与单体化学连接。
得到的聚合组合物与溶剂混合形成减反射涂料组合物。合适的溶剂包括丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、和环己酮。减反射涂料组合物随后通过传统方法(如旋涂)施涂到基材(例如硅片)的表面上，形成在基材上的减反射涂层。基材和层的复合物在至少约160℃的温度下烘烤。烘烤的层通常具有约500埃到约2000埃的厚度。
在其他实施例中，通过制备分散体形成减反射组合物，该分散体包括分散剂(例如丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯)、一定量的式I的化合物和具有交联点的聚合物。以组合物中总固体重量为100重量％计，组合物应包含至少约1.5重量％，优选约为2.0-20重量％的聚合物。聚合物的分子量至少约2000道尔顿，优选约为5000-100000道尔顿。聚合物中的交联点宜包括选自由羟基、羧基、和酰胺基的交联基团。最优选的聚合物包括乙酸纤维素邻苯二甲酸氢酯、乙酸丁酸纤维素、羟丙基纤维素、乙基纤维素、聚酯、聚丙烯酸、和甲基丙烯酸羟丙酯。
在这个实施例中，不必加热分散体。但是，与第一个实施例相同，组合物宜包括酸，如对甲苯磺酸。有利的是不必在组合物中加入作为也起光吸收剂作用的式1化合物的发色团。因此，组合物宜基本上无(例如，少于约0.5重量％，优选少于约0.1重量％)任何加入的发色团。
在任何一个实施例中，可在分散体中使用低分子量(例如小于13000道尔顿)聚合物粘合剂(如第一个实例，在加热和酸化步骤之后)，有助于形成非常平的层。或者，可使分子量至少约为100000道尔顿的高分子量聚合物粘合剂(例如丙烯酸类、聚酯、或纤维素聚合物(如乙酸纤维素邻苯二甲酸氢酯、羟丙基纤维素、和乙基纤维素))与初始分散体混合(如在第一个实例中，在加热和酸化步骤之后)，以有助于形成贴合层。这导致形成具有至少约60％百分整合性(conformality)的减反射层，即使是在有构形的表面(例如具有1000埃或更大凸起细部的表面和/或具有触点或通孔的表面，该孔的深度为约1000-15000埃)上。
百分整合性定义如下：其中：“A”是目标细部顶表面的中心点，这时目标细部为凸起细部；或者是目标细部底表面的中心点，这时目标细部为触点或通孔；“B”为在目标细部边缘与离目标细部最近的细部的边缘之间的中点。“细部”和“目标细部”指凸起细部以及触点或通孔。作为也在这个定义中使用的，目标细部的“边缘”指形成目标细部的侧壁底部(当目标细部为凸起细部时)，或者触点或通孔的上部边缘(当目标细部为凹进细部)。平面化百分率定义如下：
100-％整合性
不论任何实施例，根据本发明形成的减反射层会吸收波长从约190-260纳米的光的至少约90％，较好为至少约95％。此外，对于感兴趣的波长，减反射层的k值(即复数折射率的虚数部分)至少约为0.2，优选至少约为0.5。最后，减反射层具有高的蚀刻速率，尤其是当使用蜜胺时。当使用CF4作为刻蚀剂时，对于抗蚀剂的蚀刻选择性(etch selectivity to resist)至少约为1.5，较好至少约为2.0。
较佳实施例的详细说明
附图简述
图1为聚合的Cymel303的分子量分布与反应时间的关系图；
图2为聚合的含有3-羟基-2-萘甲酸的Cymel303的分子量分布与反应时间的关系图；以及
图3为说明羟甲基和甲氧基甲基随时间变化的图。
实施例
下列实施例说明了本发明的优选方法。但是，可以认为这些实施例用来说明本发明，不应该用来限制本发明的整个范围。
测试方法
1.去膜试验方法
在以下实施例中，进行去膜试验测定实验的减反射涂层(ARC)耐光刻胶溶剂性。在这种方法中，ARC制剂旋涂在硅片上，其旋转速度为2500rpm、时间为60秒、加速度为20000rpm/秒。薄膜在205℃的热板上烘烤60秒。接着在晶片的多个点使用椭圆偏振光术测量ARC薄膜的厚度。
在硅片上把乳酸乙酯涂上10秒，接着以3500rpm的速度离心干燥30秒除去溶剂。接着把薄膜放在100℃的热板上烘烤30秒。再次在硅片的多个点使用椭圆偏振光术测量ARC薄膜的厚度。通过测量初始和最终的薄膜平均厚度的差可得到去除的量，其中去膜测量中的误差为两次平均厚度测量的误差之和。
2.中间层形成方法
在以下实施例中，测定样品ARC和光刻胶之间的混合程度。在这种方法中，ARC制剂旋涂在硅片上，其中旋转速度为2500rpm、时间为60秒、加速度为20000rpm/秒。薄膜在205℃的热平板上烘烤60秒。接着在硅片的多个点使用椭圆偏振光术测量ARC薄膜的厚度。
光刻胶(UV6，购自Shipley)在环境的条件下旋涂在ARC薄膜的顶面上，其中旋转速度为3250rpm、时间为30秒、加速度为20000rpm/秒。接着硅片在130℃的热板上烘烤60秒并置于20毫焦的曝光能量下，然后在硅片上进行后曝光，在130℃下烘烤90秒。
光刻胶使用Shipley LDD26W显影剂显影40秒。接着样品在蒸馏水清洗并以2000rpm离心干燥20秒，接着在100℃的热板上烘烤30秒。再次在硅片的多个点使用椭圆偏振光术测量薄膜的厚度。两个薄膜平均厚度之差(埃)记录为中间层去膜结果，中间层测量中的误差为两个平均厚度测量误差之和。
3.滴定方法
a.游离甲醛分析
使50克Na2SO3与450克水混合制备10％Na2SO3(水)溶液。在这种溶液中加入几滴玫红酸，直到溶液变为红色，然后在溶液中加入1NHCl(水溶液)，直到溶液变成浅粉红色和无色之间的颜色。得到的溶液的保存期为2-3天。
使1.5克样品与10毫升1，4-二噁烷混合制备待测试的样品。接着，在烧瓶中加入20克预先制备的10％Na2SO3溶液，并且烧瓶用磁力搅拌器搅拌。伴随着搅拌，把1N HCl(水溶液)滴定入烧瓶中，直到溶液变成浅粉红色或无色。接着通过下述公式确定游离的甲醛：
Y＝〔(A-BL)*(30.03/1000)*100〕/W，其中“A”是滴定的1N HCl的量(毫升)，“BL”是空白(即只有1，4-二噁烷)滴定的量(毫升)，“W”是样品的重量(克)，“Y”是溶液中甲醛的重量百分数。因此，游离甲酸的总重量(X)为：
〔(溶液总重量(克))*(Y)〕100。
b.-CH2OH分析
在本方法中，将1克样品与20毫升1，4-二噁烷在烧杯中混合，接着超声波处理2分钟。然后把溶液转移到烧瓶中，烧杯用10毫升水清洗三次(总共30毫升)，并且每次清洗后把清洗的水加入烧瓶中。接着，把25毫升I2(0.1N)和10毫升2N NaOH(水溶液)加入溶液中，烧瓶用塞子塞紧，让溶液静置10分钟。然后用0.1N Na2S2O3(水溶液)滴定该溶液直至其变成紫褐色，然后按照下列公式确定-CH2OH的百分数：
％-CH2OH＝(B-A)*0.1*(1.502/样品重量(克))-X其中“A”是空白(即仅有1，4-二噁烷)滴定的量(毫升)，“B”是滴定的0.1N Na2S2O3量(毫升)，“X”是在上述a部分测定的游离甲醛的总重量。
c.-CH2OCH3分析
在本方法中，将1克样品与20毫升1，4-二噁烷在烧杯中混合，接着超声波处理2分钟。然后把溶液转移到烧瓶中，烧杯用10毫升水清洗三次(总共30毫升)，并且每次清洗后把清洗的水加入烧瓶中。接着，把20毫升2N H2SO4(水溶液)加入溶液中，烧瓶用塞子塞紧，让溶液在30-35℃下静置20分钟。在溶液中加入25毫升I2(0.1N)和25毫升2N NaOH(水溶液)，烧瓶用塞子塞紧，溶液在室温下保持15分钟。溶液另外再与20毫升2N H2SO4(水溶液)混合，然后溶液用0.1N Na2S2O3(水溶液)滴定，直到溶液从紫褐色变成无色。接着根据下列公式确定-CH2OCH3的百分数：
％-CH2OCH3＝(B-A)*0.1*(1.502/样品重量(克))-X其中“A”是空白(例如只有1，4-二噁烷)滴定的量(毫升)，“B”是0.1NNa2S2O3滴定的数量(毫升)，“X”是在上述a部分测定的游离甲醛的总重量。
实施例1
Cymel303(40.0克，购自Cytec Industries，Inc.，New Jersey)溶解在装有180.0克乳酸乙酯的500毫升圆底烧瓶中。在50毫升烧杯中，1.0克对甲苯磺酸(pTSA)溶解在20克乳酸乙酯中。圆底烧瓶连接有氮气源、水冷凝器和温度计，且在油浴中加热烧瓶中的溶液到120℃。通过滴加漏斗把pTSA溶液加入到烧杯中。得到的溶液在120°F下保持12小时。在这个12小时中，分别在第0、4、6、8、12小时收集50克溶液的等分部分，并且分别标上样品1-5。
冷却每个样品，并使用0.1微米滤纸过滤。在冷却并过滤后的样品中加入73.0克丙二醇单甲醚(PGME)，从而就从冷却的样品1-5中制得了减反射涂料。这些样品的分子量分布曲线可使用凝胶渗透色谱测定，该凝胶渗透色谱带有折射率探测器和串联的50埃、100埃和500埃Phenogel(Phenomenex)柱子。结果如图1所示。
在转速为2500rpm、时间为60秒的情况下，把上述每种制剂旋涂到硅片上，接着在205℃下干燥烘烤60秒。测量薄膜厚度和光学参数。这些数据列在表1中。使用CF4作为刻蚀剂的情况下，抗蚀剂(DUV42)的蚀刻选择性为1.52。
                                表1
  样品 反应时间(小时)    厚度埃     n     k 去膜测试埃  中间层测试埃
    1     0     1341     2.08     0.182 -2±11   30±34
    2     4     1657     2.07     0.247 -88±41   84±42
    3     6     1728     2.08     0.229 -20±17   93±15
    4     8     1741     2.07     0.237 -23±21   92±21
    5     12     1877     2.07     0.237 -14±13   101±38
实施例2
Cymel303(40.0克)和8.0克3-羟基-2-萘甲酸溶解在装有180.0克乳酸乙酯的500毫升圆底烧瓶中。在50毫升烧杯中，1.0克pTSA溶解在20克乳酸乙酯中。圆底烧瓶连接有氮气源、水冷凝器和温度计，且在油浴中加热烧瓶中的溶液到120℃。通过滴加漏斗把pTSA溶液加入到烧杯中。得到的溶液在120°F下保持12小时。在这个12小时中，分别在第0、4、6、8、12小时收集50克溶液的等分部分，并且分别标上样品1-5。
冷却每个样品，并使用0.1微米滤纸过滤。在冷却并过滤后的样品中加入73.0克PGME，从而就从冷却的样品1-5中制得了减反射涂料。这些样品的分子量分布曲线可使用凝胶渗透色谱测定，该凝胶渗透色谱带有折射率探测器和串联的50埃、100埃和500埃Phenogel(Phenomenex)柱子。结果如图2所示。
在转速为2500rpm、时间为60秒的情况下，把上述每种制剂旋涂到硅片上，接着在205℃下干燥烘烤60秒。测量薄膜厚度和光学参数。这些数据列在表2中。使用CF4作为刻蚀剂的情况下，抗蚀剂(DUV42)的蚀刻选择性为1.40。
                                 表2
  样品  反应时间(小时)    厚度埃     n     k 去膜测试埃    中间层测试埃
    1     0     2255     2.08     0.447   -4±17     40±64
    2     4     2021     2.07     0.459   -2±17     61±27
    3     6     1928     2.08     0.469   -2±8     61±34
    4     8     1926     2.08     0.468   -7.8±13     63±11
    5     12     1957     2.07     0.461   -8.8±0     50±49
实施例3
Cymel303和Cymel1123(如表3所示的量)连同0.75克pTSA溶解在装有150.0克乳酸乙酯的500毫升圆底烧瓶中。圆底烧瓶连接有氮气源、水冷凝器和温度计，然后在油浴中加热烧瓶中的溶液到120℃并在此温度下保持12小时。使用0.1微米滤纸过滤样品。通过在制备的样品中加入如表3所示数量的PGME、对甲苯磺酸盐或吡啶和甲苯磺酸吡啶鎓(pPTS)制得减反射涂料。
在转速为2500rpm、时间为60秒的情况下，把制剂旋涂到硅片上，接着在205℃下干燥烘烤60秒。测量相应薄膜的厚度和光学参数。这些数据列在表4中。
                                     表3
  制剂 Cymel303  Cymel1123  PGME 乳酸乙酯总量 吡啶 pPTS  pTSA总量
    I   10克   20克 336.2克 247.6克 - -  2克
    II   25克   5克 336.3克 247.6克 - -  2克
    III   10克   20克 336.2克 247.6克 0.3克 1.65克  0.75克
    IV   25克   5克 336.2克 247.6克 0.3克 1.65克  0.75克
     表4
  制剂    厚度埃      n      k 去膜测试埃 中间层测试埃   蚀刻选择性A
    I     749     1.970     0.484     -2     39     1.3
    II     720     2.106     0.363     0     30     1.6
    III     747     1.945     0.461     2     40     1.3
    IV     740     2.096     0.358     0     20     1.6
A当CF4作为刻蚀剂时的抗蚀剂(DUV42)刻蚀选择性
实施例4
乙酸纤维素邻苯二甲酸氢酯(3.0克，平均分子量约为100000道尔顿)溶解在130.5克PGME中。接着，在制得的溶液中加入11.5克Cymel1125、5.0克Cymel303、150克丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)和1.15克pTSA，并使之完全溶解。接着用0.1微米的滤纸过滤得到的溶液。
在转速为2500rpm、时间为60秒的情况下，把制得的制剂旋涂到硅片上，接着在205℃下干燥烘烤60秒。测量相应薄膜的厚度和光学参数。这些数据列在表5中。测得薄膜的整合性百分数为60％。
                         表5
   厚度埃     N     k   去膜测试埃 中间层测试埃
    1280     1.92     0.35     0±10    0±40
实施例5
Cymel303(25克)和Cymel1123(5克)连同2克pTSA溶解在247.6克乳酸乙酯中。得到的混合物加热到120℃，并根据前面定义的滴定方法，随时间测定羟甲基和甲氧基甲基。结果如图3所示。这些结果显示，当Cymel聚合时甲氧基甲基随着时间减少。可以认为羟甲会再生或者在聚合时会产生新的羟甲基，因为甲氧基甲基参加了聚合反应。

Claims (58)

1.一种用于形成减反射涂层的聚合物组合物的制备方法，它包括下列步骤：
提供分散体，它包括在分散剂中的一定量的式I化合物；
在所述每升分散体中加入约0.001-1摩尔酸；以及
把所述分散体加热到至少约70℃至少约达2小时，得到聚合物组合物。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述加入酸的步骤包括在所述分散体中加入对甲苯磺酸。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述加入酸的步骤和所述加热步骤基本上同时进行。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述加热步骤在所述加入酸的步骤之后进行。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于得到的聚合物组合物包含平均分子量至少为约1000道尔顿的聚合物。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述提供步骤的化合物包括多种所述式I的化合物以及初始量的甲氧基甲基，在所述加热步骤开始后约12小时，与所述初始量相比，存在于得到的聚合物组合物中的甲氧基甲基量减少了至少约20％，甲氧基甲基的量可通过滴定方法测定。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于所述连接基团通过与各个要连接的化合物的氮原子相连而将式I化合物连接在一起。
8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述式I化合物选自苯胍胺和蜜胺。
9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于所述式I化合物为苯胍胺，所述加热步骤持续少于约7小时。
10.如权利要求1所述的制备方法，该方法还包括在加入酸的步骤过程中或加酸之前使发色团与所述分散体混合的步骤。
11.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于所述发色团选自2，4-己二烯酸和3-羟基-2-萘甲酸。
12.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于所述发色团化学地连接到所述聚合物化合物上。
13.如权利要求1所述的制备方法，该方法还包括下列步骤：
使得到的聚合物组合物与溶剂混合，从而形成减反射涂料；以及
把所述减反射涂料施涂到基材表面上，在所述基材表面上形成减反射涂层。
14.如权利要求13所述的制备方法，其特征在于涂覆在所述基材表面上的所述减反射涂层在预定波长的光线下照射，并且所述减反射涂层在所述预定波长下的k值至少约0.2。
15.如权利要求13所述的制备方法，其特征在于当使用CF4作为蚀刻剂时，所述减反射涂层的抗蚀剂的蚀刻选择性至少约1.5。
16.如权利要求13所述的制备方法，其特征在于所述施涂步骤包括把所述减反射涂料旋涂到所述基材表面上。
17.如权利要求13所述的制备方法，其特征在于所述溶剂选自丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯和环己酮。
18.如权利要求13所述的制备方法，该方法还包括在所述施涂步骤之后在至少约160℃的温度下烘烤所述减反射涂层。
19.如权利要求18所述的制备方法，其特征在于所述经烘烤的减反射涂层的厚度为约500-2000埃。
20.如权利要求1所述的制备方法，该方法还包括在所述加入酸和加热步骤之后使平均分子量至少约100000道尔顿的聚合物与所述分散体混合的步骤。
21.如权利要求20所述的制备方法，其特征在于所述聚合物选自乙酸纤维素邻苯二甲酸氢酯、乙酸丁酸素纤维、羟丙基纤维素、乙基纤维素、甲基丙烯酸羟丙酯、聚丙烯酸和聚酯。
22.如权利要求20所述的制备方法，该方法还包括下列步骤：
使得到的聚合物组合物与溶剂混合，从而形成减反射涂料；
把所述减反射涂料施涂到基材表面上，在所述基材表面上形成一层减反射涂层；以及
在所述施涂步骤之后在至少约160℃的温度下烘烤所述减反射涂层，所述经烘烤的减反射涂层的整合性百分数至少约60％。
23.一种减反射组合物，它包括一定量的含重复单体的聚合物，该重复单体由式I化合物形成，所述聚合物的平均分子量至少约1000道尔顿。
24.如权利要求23所述的组合物，其特征在于所述重复单体由选自-CH2-、-CH2-O-CH2-及其混合的连接基团连接在一起。
25.如权利要求23所述的组合物，其特征在于所述重复单体通过连接基团连接在一起，所述连接基团与各个重复单体的氮原子相连。
26.如权利要求23所述的组合物，其特征在于所述式I化合物选自苯胍胺和蜜胺。
27.如权利要求23所述的组合物，其特征在于所述组合物还包括平均分子量至少约100000道尔顿的聚合物。
28.如权利要求27所述的组合物，其特征在于所述聚合物选自乙酸纤维素邻苯二甲酸氢酯、乙酸丁酸纤维素、羟丙基纤维素、乙基纤维素、甲基丙烯酸羟丙酯、聚丙烯酸和聚酯。
29.如权利要求23所述的组合物，其特征在于所述组合物还包括发色团。
30.如权利要求29所述的组合物，其特征在于所述发色团化学地连接到所述聚合物上。
31.如权利要求29所述的组合物，其特征在于所述发色团选自2，4-己二烯酸和3-羟基-2-萘甲酸。
32.如权利要求23所述的组合物，其特征在于所述组合物包括溶剂，所述聚合物基本上溶解在所述溶剂中。
33.如权利要求32所述的组合物，其特征在于所述溶剂选自丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯和环己酮。
34.由具有表面的基材以及在所述基材表面上的减反射层组成的复合物，所述减反射层包括一定量的含重复单体的聚合物，所述重复单体由式I化合物形成，所述聚合物的平均分子量至少约1000道尔顿。
35.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述重复单体由选自-CH2-、-CH2-O-CH2-及其混合的连接基团连接在一起。
36.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述重复单体通过连接基团连接在一起，所述连接基团与各个重复单体的氮原子相连。
37.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述式I化合物选自苯胍胺和蜜胺。
38.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述减反射层还包括平均分子量至少约100000道尔顿的聚合物。
39.如权利要求38所述的复合物，其特征在于所述聚合物选自乙酸纤维素邻苯二甲酸氢酯、乙酸丁酸纤维素、羟丙基纤维素、乙基纤维素、甲基丙烯酸羟丙酯、聚丙烯酸和聚酯。
40.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述减反射层还包括发色团。
41.如权利要求40所述的复合物，其特征在于所述发色团化学地连接到所述聚合物上。
42.如权利要求41所述的复合物，其特征在于所述发色团选自2，4-己二烯酸和3-羟基-2-萘甲酸。
43.如权利要求34所述的复合物，其特征在于当使用CF4作为刻蚀剂时，所述减反射层的抗蚀剂的蚀刻选择性至少约1.5。
44.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述减反射层的厚度约500-2000埃。
45.如权利要求34所述的复合物，其特征在于所述减反射层在预定波长的光下照射，所述层在所述预定波长下的k值至少约0.2。
46.一种减反射组合物，它包括式I化合物和具有交联点的聚合物的混合物。
47.如权利要求46所述的组合物，其特征在于所述组合物包括至少约1.5重量％的所述聚合物，以组合物中的固体总重量为100重量％计。
48.如权利要求46所述的组合物，其特征在于所述交联点包括选自羟基、羧基和酰胺基团的交联基团。
49.如权利要求46所述的组合物，其特征在于所述聚合物的分子量至少约2000道尔顿。
50.如权利要求46所述的组合物，其特征在于所述聚合物包括纤维素聚合物。
51.如权利要求46所述的组合物，其特征在于所述式I化合物可吸收预定波长的光，所述组合物无加入的发色团。
52.一种用于形成减反射涂层的组合物的制备方法，它包括在分散剂中形成分散体得到组合物的步骤，所述分散体包括一定量式I化合物和具有交联点的聚合物。
53.如权利要求52所述的制备方法，其特征在于所述形成步骤包括在所述分散体中加入酸。
54.如权利要求52所述的制备方法，其特征在于所述酸包括对甲苯磺酸。
55.如权利要求52所述的制备方法，其特征在于所述分散剂是选自丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯和乳酸乙酯的溶剂。
56.如权利要求52所述的制备方法，该方法还包括把所述组合物涂覆在基材表面上，在所述基材表面上形成减反射涂层的步骤。
57.如权利要求56所述的制备方法，该方法还包括在所述施涂步骤之后在至少约160℃的温度下烘烤所述减反射涂层的步骤。
58.如权利要求52所述的制备方法，其特征在于所述式I化合物可吸收预定波长的光，所述组合物无加入的发色团。
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