CN1509453A - 一种使用物体或颗粒自动分析的用于体相材料工业处理的控制反馈系统和方法 - Google Patents

Abstract

一种使用颗粒或物品自动分析的工业处理控制反馈系统和方法。该控制反馈系统和方法包括：用于获得体相材料样品测量特征的颗粒特征测量单元；用于与测量特征相比较的最佳特征定义(101)；用于响应测量特征与最佳特征定义相比较的结果来定义和选择待进行操作的修正操作数据库(103)；和用于响应所选择的待进行操作向多个处理单元传递控制命令的控制线路网。

Description

一种使用物体或颗粒自动分析的用于体相材料 工业处理的控制反馈系统和方法

技术领域

本发明涉及工业处理，其中，体相材料的不规则形状物品或颗粒流由原料状态被处理成成品状态或者只是延着传送带被简单转移。本发明尤其涉及利用物体或颗粒自动分析的工业处理，这作为工业处理一部分。

背景技术

使用各种现有的工业处理来加工或精化各种产品和材料。例如，集料工业使用工业处理将原料转化为成品，如砂砾、碎石、沥青、或混凝土材料。典型地，这些现有的工业处理包括传送器，用于传送原料通过作为工业系统一部分的各个处理站。每个站对通过系统的传送器上的材料执行各种精化处理。现有的工业系统使用各种技术来监测在传送器上或类似物上通过系统的体相材料的粒度。

一种典型的现有技术方法是利用自动或手动取样程序对在传送器上移动的体相材料进行尺寸分布测量。这种现有技术方法包括在实验室中对传送材料的物理样品进行分析，其中使用屏幕筛选分析来确定材料样品的粒度。另外，在工业处理中有多种现有技术被用来辨别在传送器上输运的材料的尺寸、形状、或反射率等物理特征。主要用于分类操作的这些现有技术采用各种不同的技术。例如，USP No.3,357,557公开了一种使用反射光来确定半导体芯片平整度的技术。在USP No.4,057,146中，通过利用产品的反射光进行的尺寸和颜色分析对豆子、谷物和类似产品进行分类。类似地，各种类型的矿石也是利用光的反射进行分类。在这点上，USP No.3,097,744、3,901,388、和3,977,526是具代表性的例子。另外，还有一些现有的矿石分类技术是使用激光作为光源，例如USP No.3,545,610和4,122,952中所公开的系统。还有一些现有的矿石分类技术是使用红外光作为光源，例如USP No.4,236,640。

现有的各种自动颗粒分析系统在商业上用于快速鉴别游离集料的粒度分布。这些现有的系统为标准筛选分析提供更快的选择方案。这些现有的机器捕获和分析传送流中聚集颗粒的数字图像，从而确定它们的尺寸级别。这些现有的颗粒分析系统包括：例如，由加拿大Emaco，Ltd.开发的VDG-40Video Grader；由W.F.Ty1er和Terry Reckart开发的计算机颗粒分析机(CPA)；由Micromeritics InstrumentCorp.开发的OptiSizer，PFDA5400；由John B.LongCompany开发的视频图像系统(VIS)；由Buffalo WireWorksCompany开发的颗粒尺寸分布分析机(PSDA)；和由科学工业自动化有限公司(Scientific Industrial Automation Pty.Limited)开发的颗粒参数测量系统(PPMS)。

其中每一个材料分析系统都使用各种技术去获得在工业系统中处理的物品或材料的信息。然而，现有的系统不能利用这种信息对整个工业处理操作进行监测和控制。这是因为现有的材料分析系统通常被加载在现有的工业系统上，所以利用这些系统收集的信息对工业处理的全过程进行监测和控制并没有得到重视。

这样，就需要一种使用颗粒或物体自动分析的工业处理控制反馈系统和方法。

发明内容

本发明公开了一种使用颗粒或物体自动分析的工业处理控制反馈系统和方法。控制反馈系统和方法包括：用于获得样品测量特征的颗粒特征测量单元；用于与测量特征相比较的最佳特征定义；用于响应于测量特征与最佳特征定义相比较的结果来限定和选择待进行操作的修正操作数据库；用于响应于所选择的待进行操作向多个处理单元传递控制信号的控制线路网。

附图说明

图1是颗粒参数测量系统的设计图。

图2是本发明的工业处理系统的方框图。

图3是颗粒参数测量系统的改进设计图，其中加入了对温度和湿度的测量。

图4是颗粒参数测量系统的改进设计图，其中加入了对结构、反射率、颜色、和浊度的测量。

图5是颗粒参数测量系统的改进设计图，其中加入了对化学成分的测量。

图6是本发明的工业处理系统的选择实施方式的方框图。

具体实施方式

本发明是一种使用颗粒或物品自动分析的工业处理控制反馈系统和方法。在以下的具体描述中，阐述了大量的具体细节，目的是为了更完全地理解本发明。但是，本领域的普通技术人员应该清楚，并不需要使用这些具体细节来实践本发明。在其它情况下，熟知的结构、材料、电路、过程和界面没有被详细地显示或描述，这是为了避免对本发明造成不必要的模糊。

参照图1，显示了一种现有的颗粒自动测量系统的实例。在图1所示的装置中，显示了一种用于携带颗粒材料的主传送器1。一种初级采样装置2用于将预选数量的颗粒材料从主传送器1转移至漏斗3中。最好的结果是，预选样品必须是真正有代表性的样品，并且原材料是均匀分布或形状规则的。通常，这是通过使用交叉带采样器从传送带上获得材料的完整截面或者从带的末端获得完整的样品来实现的。材料通过振动进料器4从漏斗回收。本领域的普通技术人员应该清楚，其它一些现有装置同样可以把颗粒分离成接近单层而将颗粒的重叠保持到最低。振动进料器4是一种可调节振动频率和/或振幅和/或倾斜度从而改变吞吐量或速度的现有设计。作为选择，振动进料器4可以由多个独立的单独振动进料器组成，其中每个振动进料器都可用来改变材料从振动进料器4末端下落的分布和速率。本领域的普通技术人员应该清楚，其它一些现有装置同样可以把颗粒分离成接近单层而将颗粒的重叠保持到最低。调节振动进料器4以优化颗粒材料的分布，使颗粒材料在接近单层的情况下从振动进料器4的末端分离。提供摄像机成像区或测量窗口5，其通过灯箱6提供背光照明。

在图1所示的设备中，灯箱6和摄像机7由防护罩8包围，保护装置免受外界灰尘的影响，并排除外部干扰光线进入罩内。防护罩通过正压或负压防止灰尘入侵。另外，可以提供气动刷(未示出)来清洁背光6和摄像机窗口7的表面。

在操作上，如图1所示的设备使颗粒材料样品从振动进料器4的末端落入摄像机成像区5，并随之落到传送器11上，传送器11将样品返回到工业处理中。当颗粒材料样品经由摄像机成像区5下落时，灯箱6照射样品颗粒，用于摄像机7成像。在对图1所示结构的改进中，本发明包括嵌入式保护装置，用以排除对经由摄像机成像区5下落的颗粒进行重复计算。这是通过根据成像区5上方的振动进料器4与成像区5内拍摄的图像底端之间的高度来设置图像间的最小时间而实现的。显然，该最小时间依赖于重力加速度。当样品颗粒或物品经由摄像机成像区5下落时，摄像机7捕捉下落颗粒的静态图像。利用处理器9内与控制线10连接的处理逻辑单元，图1所示的系统可通过摄像机7捕捉到的图像计算出如尺寸和形状等各种特征。在图1所示系统的一种实施方式中，罩8和处理系统9之间的连接10是光纤连接。这种连接所允许的通讯距离超过二千米，并可以克服由电子干扰产生的难题。该设备还消除了地磁场和不同地球因素对视频信号产生的潜在影响。处理系统9所用的软件能检测出颗粒的任何重叠，并为了测量和尺寸分布的目的而将其排除。摄像机7通常是CCD(电荷耦合器件)摄像机，其利用由计算机控制的电子快门抓取图像并将图像转送给处理系统9的帧缓冲区。

现参照图2，其中框图显示了本发明工业处理系统的一种实施方式。图2显示一种改进的颗粒测量系统，在关于整个工业系统50的上下文中表示先进可视颗粒测量系统(AVPM)100，其简化的实施方式显示于图1中并在上面得到说明。通常，AVPM 100监测传送器119上传送的物品和/或材料的各种特征。在本发明其他各种可替换的实施方式中，AVPM还可以监测传送器111，113，115和117(参见图6)。该设备也可以对原料和原料处理单元118的执行情况进行监测。在本发明的一种实施方式中，AVPM 100监测传送器119上的物品或材料的特征，包括尺寸、形状、计算体积和重量。在AVPM 100的处理器9的存储器或数据存储区中，存储了一组信息101用于描述传送器119上的一组物品或材料的所需特征或最佳特征。该最佳特征数据组101可以是使用者输入的或自动生成的对传送器119上物品或材料的所需特征或最佳特征所进行的描述。通过这种方式，最佳特征定义101被提供给AVPM 100的处理器9并通过它来维持。在上述操作中，AVPM 100定期地从传送器119上的物品或材料中提取样品。这些样品通过上述方法进行分析，以便对传送器119上的物品或材料的每个规定特征进行测量。在取得每个样品以及测量了该样品的对应特征之后，将测量的样品特征与最佳特征定义101进行比较。根据比较结果，可以确定测量的样品特征与最佳特征定义101所定义的特征之间的偏差。一旦发现这种特征偏差，处理器9就可以使用基于规则的逻辑单元或修正操作数据库103来确定待执行的操作，以减小所发现的测量的样品特征与最佳特征定义101所定义的特征之间的偏差。基于所发现的颗粒特征与最佳定义之间的偏差，可以在基于规则的基本逻辑单元或修正操作数据库103中预先定义各种修正操作。例如，AVPM 100已经确定了从传送器119上的物品或材料中获取的被测样品的平均尺寸大于最佳特征定义101所定义的平均尺寸。作为这种尺寸偏差的结果，处理器9将会确定随后被测样品的平均尺寸必须减小。AVPM 100中的处理器9访问修正操作数据库103，以便采取适当的修正操作来减小随后被测样品的平均尺寸。该修正操作数据库103包含预先定义的多组修正操作，这些修正操作对于处理与最佳特征定义101比较时所出现的被测样品的各种特征测量偏差是必要的。在上述涉及被测样品尺寸的例子中，修正操作数据库103可以定义一种修正操作用来减小随后被测样品的平均尺寸，使原料处理单元118将原料粉碎成更细的粒度，或者使原料处理单元118更长时间地处理原料以产生更小尺寸的材料。修正操作数据库103内定义的这些修正操作或其他修正操作可以通过处理器9发现被测样品与最佳特征定义101之间的偏差来获得。通过这种方式，AVPM100测量从传送器119上的物品或材料中所获得样品的特征，并确定修正操作来减小样品的测量特征与最佳特征定义101之间的偏差。

修正操作数据库103内定义的修正操作可以是多个，其取决于通过具体的工业系统中所用的AVPM 100和各种处理单元进行测量的特征，工业系统如图2所示的样品工业系统50。若AVPM 100确定了需要哪种修正操作使被测样品符合最佳特征定义101，AVPM 100则在包括线路132的控制线路网中产生各种信号，如图2所示，从而设定和控制工业系统50中的其它单元使传送器119上被测样品的特征符合最佳特征定义101。在图2所示的系统的一种实施方式中，控制线路网包括在工业系统50内连接AVPM 100与其他处理单元的线路132，其是以光纤进行连接的。这种连接所允许的通讯距离超过二千米，并克服了由电子干扰和环境影响产生的难题。该设备还消除了地磁场和不同地球因素对控制信号产生的潜在影响。

再次参照上述涉及被测样品平均尺寸偏差的例子，在AVPM 100访问修正操作数据库103之后，确定原料处理单元118必须减小其正在处理的材料的平均尺寸。由此，AVPM 100在控制线路网的线路132上产生信号，该信号经由控制线路网的线路138发送至原料处理单元118，如图2所示，请求原料处理单元118生产输出到传送器119上更小的材料。根据具体工业处理中所用的现有的具体原料处理单元118，AVPM 100可以通过线路132上的信号来编程原料处理单元118，使之更长时间地处理原料以减小输出到传送器119上的材料的平均尺寸，或者作为选择，AVPM 100也可以编程原料处理单元118使之改变粉碎机内不同的控制尺寸以生产更小尺寸的输出材料。

作为选择，AVPM 100也可以采取修正操作数据库103中预先定义的其它修正操作，使传送器119上材料的被测特征符合最佳特征定义101。例如，在图2中可以有多个原料源，如原料源A110、原料源B112、或原料源N114。本领域的普通技术人员应该清楚，在具体的工业处理中可以使用任何数量的原料源。在图2所示的例子中，原料源110-114中的每一个都向储料器116提供输出。储料器116用于整合来自多个原料源的输出。本领域的普通技术人员应该清楚，原料源110-114可以原始装载具有各种已知特征的原料。例如，原料源A110原始装载的材料具有相对小的平均尺寸。原料源B112原始装载的材料的平均尺寸稍大于原料源A110中所装载材料的尺寸。相似地，原料源N114原始装载的材料的平均尺寸稍大于原料源A110和原料源B112中所装载材料的尺寸。以这种方式，原料的相对尺寸范围可以分布在多个独立原料源110-114中。具有这种覆盖原料尺寸特征范围的原料源，AVPM 100可以通过控制各原料源110-114所提供的输出水平来控制传送器119上被测原料的尺寸特征。例如，再次参照上述涉及传送器119上材料的平均尺寸的例子，AVPM 100可以采取修正操作数据库103中设定的可替换的修正操作，使被测样品的特征符合最佳特征定义101。在这个例子中，AVPM 100通过线路132发送信号，用以控制多个原料源110-114中每个原料源的输出，这些原料源在控制线路网中的线路134上。通过这种方式，AVPM 100可以调节原料源110-114中的每个原料源的输出，从而将原料特征调节到所希望的特征水平，该特征水平在原料源110-114中的每个原料源的特征范围之内。例如，如果确定传送器119上被测样品的平均尺寸大于所需要的最佳特征定义101，AVPM 100通过线路132向线路134上的原料源110发送信号，使原料源A110通过传送器111向储料器116增加输送小尺寸原料。相似地，AVPM 100还通过线路132向线路134上的原料源N114发送控制信号，使原料源N1 14通过传送器115向储料器116减少输送大尺寸原料。通过这种方式，储料器116从原料源110-114中的每个原料源所收集原料的平均尺寸将会是较小的平均尺寸。这样，由储料器116收集的平均尺寸较小的原料将通过传送器117转送到原料处理单元118。由于提供给原料处理单元118的原料的平均尺寸起初较小，所以通过传送器119从原料处理单元118输出的原料也将较小。这样，经过一段时间，传送器119上被测原料的平均尺寸将会符合由最佳特征定义101所定义的所需尺寸。再次参照上述各种可替换的实施方式，AVPM 100还可以连接到传送器111，113，115和117上(参见图6)。使用以上技术，AVPM 100可以监测传送器111，113，115和117上材料的特征，从而获得每种原料的尺寸分布信息和其他参数。这可用来确定在重叠尺寸范围中每种原料的成分。在将不同种类的原料送往储料器116的情况下，利用这种分析也是很有用的。将AVPM 100连接到传送器117上，例如，能够监测向原料处理单元118的实际输入。

使用相似的技术，AVPM 100还可以通过线路132产生修正操作和控制信号，用于控制传送器119上被测物品或材料的种种特征。在本发明的各种实施方式中，AVPM 100可以监测和控制工业系统50中所处理的物品或材料的各种特征。由AVPM 100监测和控制的这些特征可包括：传送器119上材料的尺寸、形状、体积、重量、密度、温度、湿度、结构、反射率、颜色、浊度和化学成分。AVPM 100还可以保留预先定义的最佳特征定义101用于以上所列举的每一种特征。这样，可以在最佳特征定义101中预先定义一组所需的优化输出材料特征的描述。使用如图1所示的上述AVPM 100的实施方式，能够测量材料的如下特征，如：尺寸、形状、体积、密度、和重量。利用由摄像机7所捕获及被处理器9所处理的被测样品的图像，可以确定被测样品中颗粒的尺寸和形状。从样品图像中确定的尺寸和形状，能推断出被测样品中每个颗粒的体积，继而推断出样品的平均体积。在本发明的一种实施方式中，特定样品的颗粒体积取决于颗粒的二维图像中最优椭圆的最大和最小半径，其中图像使用背光6来照射颗粒经过摄像机镜头而投影到摄像机7上。在本发明的一种实施方式中，用于确定体积的公式为：4/3a²BπF，其中，a是椭圆的最小半径，b是椭圆的最大半径，F是基于形状和可影响结果的其他已知变量作出的补偿修正。为了采取与手工相似的方法来确定尺寸分布(通过重量百分比表示)，使用一组机械筛子，其利用振动使材料从中通过，从而使材料从粗糙到精细。在手工过程中，对每个筛子上的材料进行称重，然后计算出每个筛子上的重量百分比。在AVPM中，从测出的体积来计算重量百分比。将每个颗粒的面积与AVPM中预先设置的等效筛眼面积进行比较。该等效筛眼尺寸的开放面积由πr²决定。其中r是筛眼侧边之间距离的一半。当颗粒面积小于上面的筛眼面积而大于下面的较小筛子时，可以确定颗粒留在哪一个筛子中。对应每个筛眼尺寸有一个储料器。然后，该体积的颗粒被加入到此储料器中。从每个等效筛子上的颗粒体积以及所有等效筛子上的总体积可以计算出该等效筛子上的重量百分比。被测样品的重量可通过每个被测颗粒来确定，被测颗粒则通过特定颗粒的体积、已知的材料类型和/已知的材料密度推断出，这是在排除了由摄像机7捕捉的颗粒图像的重叠部分的情况下作出的。因此，重量能够使用预定体积结合材料密度来估计。给出每个被测颗粒的重量，便能确定样品颗粒的平均重量。如上所述，可以在工业处理中使用材料样品的这些测量特征来采取各种修正操作，使测量特征符合所需的最佳特征。使用下述改进的AVPM系统，包括温度和湿度、结构、反射率、颜色和浊度以及化学成分的其他特征可以被监测并作为工业处理的控制输入来使用。

本发明也可以测量经由工业处理50的物品或材料的温度和湿度。参照图3，所显示的改进AVPM 100系统包括温度和湿度单元106。温度和湿度单元106用于测量经由区域5下落的样品的温度和湿度特征。在本发明的一种实施方式中，温度和湿度单元106包括红外探测器，用于接收经由区域5的样品颗粒的温度信息。本领域的普通技术人员很清楚，红外探测器应被适当地屏蔽来自光箱6的光线干扰。使用红外探测器，经由区域5下落的样品颗粒所发射或反射的红外能量水平能被检测到并传送至处理器9用于进一步处理。温度和湿度单元106还包括普通湿度表，如传统上常用的Micro-MoistLB 354单元。这种传统单元使用微波技术，可使经由区域5下落的样品颗粒中的自由水分子旋转。导致的相位偏移可用于对样品颗粒湿度的直接测量。因此，样品的湿度特征可通过温度和湿度单元106测量并传送至处理器9用于进一步处理。一旦通过温度和湿度单元106获得了被测样品的温度和湿度特征，处理器9保存被测样品的这些温度和湿度特征。在上述方法中，将测得的温度和湿度特征与最佳特征定义101进行比较，以便确定测量特征与所需特征之间是否存在偏差。如果所需特征与测量特征之间存在偏差，AVMP100则访问修正操作数据库103以获得用于排除该温度和/或湿度偏差的修正操作。如上所述，AVMP 100可以通过与工业处理50中各种处理单元相连的控制线路网上的线路132来发送信号，使随后的被测样品的温度和/或湿度增加或降低。例如，AVMP 100可以改变由多种原料源110-114所提供的原料的混合。同样，AVMP 100可以控制储料器116增加或降低所收集材料的湿度。AVMP 100还能控制储料器116增加或降低施加到所收集原料上的热度或制冷度。因此，在特定的工业处理中，AVMP 100可通过各种方法使用被测样品的温度和湿度特征来设定和控制工业处理的操作。

本发明还可以测量经由工业处理的物品或材料的结构、反射率、颜色和浊度特征。可以附加使用这些特征来设定和控制工业处理的操作。参照图4，所显示的改进AVMP 100包括结构、反射率、颜色、和浊度单元107。单元107测量经由区域5的被测样品颗粒的结构、反射率、颜色、和浊度。在本发明的一种实施方式中，使用普通激光照射经由区域5的样品颗粒。本领域的普通技术人员很清楚，激光应被适当地屏蔽来自光箱6的光线影响。使用激光照射区域5中的颗粒，可以估计出特定样品颗粒的结构、反射率、颜色、和浊度并将该估计发送至处理器9。另外，单元107可以包括各种颜色的光源，用于照射各种颜色的被测样品颗粒。通过被照射颗粒的彩色光反射特征，可估计出样品颗粒的颜色水平，并将该估计传送至处理器9。相似地，摄像机7可以是普通彩色摄像机，用以产生经由区域5下落的颗粒的彩色图像。以这种方式，被测样品的结构、反射率、颜色、和浊度被获得并传送至处理器9。再次使用上述技术，将被测样品的这些特征与最佳特征定义101相比较。使用上述技术，AVMP 100访问修正操作数据库103，确定在工业系统中需要采取的修正操作，使被测颗粒的结构、反射率、颜色、和浊度符合最佳特征定义101。例如，AVMP 100可以通过线路132产生信号来改变由原料源110-114提供的原料的混合。这种由AVMP 100触发的原料源的变化可以被用来设定由储料器116收集的原料的特征。以这种方式，具有所需结构、反射率、颜色、和浊度的原料可被储料器116收集并提供给工业处理50中后续的处理单元。

本发明还可以测量经由工业处理的物品或材料的化学成分特征。参照图5，所示的改进AVMP 100包括化学成分单元108。单元108测量经由区域5下落的颗粒的化学成分。现有的用于实时测量材料化学成分的技术是众所周知的。例如，一种实时化学成分测量系统由Metrika的Gamma-Metrics公司制造。这种系统通过Gamma射线轰击样品颗粒，从而对颗粒的元素成分作出正确的测量。被测样品颗粒的这些测量元素成分特征被获得并传送到处理器9。因此，如图5所示的改进AVMP 100系统被用于捕获被测样品的化学成分特征。再次使用上述技术，将被测样品的化学成分特征与最佳特征定义101相比较，从而确定是否存在偏差。如果存在偏差，AVMP 100访问修正操作数据库103，设定和控制工业处理50中的控制处理单元以减少偏差。例如，AVMP 100可以在线路132上产生信号，来改变原料源110-114的输出。原料源110-114可以初始装载有一定化学成分范围的原料。通过调整原料源110-114中每个原料源的输出，AVMP 100可控制储料器116收集的组合原料的化学成分。因此，AVMP 100可以控制提供给工业处理50中后续处理单元的物品或材料的化学成分。本领域的普通技术人员很清楚，被测样品的附加特征也可通过AVMP 100进行相似地测量，并且AVMP 100使用这些特征来控制经由特定工业处理的材料。AVMP 100还可以使用附加信息控制工业处理50。例如，AVMP 100可使用经济或商业信息，如单元花费信息、人口统计、或销售标准来设定由成品处理单元120生产的物品或原料。通过在控制线路网的线路132和线路140上传送信号，AVMP 100可以调节由成品处理单元120所生产的成品的设定量或结构。再次，基于经济或商业信息与最佳特征定义101之间的比较，AVMP 100作出这些调整。以这种方式，由成品处理单元120生产出的产品将符合预定的经济或商业标准。本领域的普通技术人员很清楚，由AVMP 100使用的附加信息可以包括除经济或商业信息以外的其它信息。这些附加信息可用于设定成品处理单元120中的所需产品。

因此，本发明公开了一种使用物品或颗粒自动分析的工业处理控制反馈系统和方法。尽管本发明通过具体的优选实施方式进行了描述，但本领域的普通技术人员还可以进行多种修改和变化。所以，这些变化和修改应当包括在由下面的权利要求所限定的本发明的范围之内。

Claims (20)

1.一种处理控制系统，其包括：

用于获得样品测量特征的颗粒特征测量单元；

用于与测量特征相比较的最佳特征定义；

用于响应测量特征与最佳特征定义相比较的结果来限定和选择待进行操作的修正操作数据库；和

用于响应所选择的待进行操作向多个处理单元传递控制信号的控制线路网。

2.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元测量样品中颗粒的尺寸和形状。

3.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元测量样品中颗粒的体积、重量和密度。

4.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元测量样品中颗粒的温度。

5.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元测量样品中颗粒的湿度。

6.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元测量样品中颗粒的结构、反射率、颜色和浊度。

7.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元测量样品中颗粒的化学成分。

8.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元还包括用于从传送器提取预选量颗粒材料的取样装置。

9.如权利要求1所述的处理控制系统，其中颗粒特征测量单元还包括用于将样品颗粒分散成接近单层的进料器。

10.如权利要求1所述的处理控制系统，其中最佳特征定义包括样品中颗粒的所需尺寸和形状的定义。

11.如权利要求1所述的处理控制系统，其中最佳特征定义包括样品中颗粒的所需体积、重量和密度的定义。

12.如权利要求1所述的处理控制系统，其中最佳特征定义包括样品中颗粒的所需温度的定义。

13.如权利要求1所述的处理控制系统，其中最佳特征定义包括样品中颗粒的所需湿度的定义。

14.如权利要求1所述的处理控制系统，其中最佳特征定义包括样品中颗粒的所需结构、反射率、颜色和浊度的定义。

15.如权利要求1所述的处理控制系统，其中最佳特征定义包括样品中颗粒的所需化学成分的定义。

16.如权利要求1所述的处理控制系统，其中修正操作数据库包括用于产生控制信号以便基于测量特征与最佳特征定义相比较的结果对多个处理单元中的一个或多个单元进行控制或设定的控制信息。

17.如权利要求1所述的处理控制系统，其中修正操作数据库包括用于产生控制信号以便基于测量特征与最佳特征定义相比较的结果控制或设定粉碎机的控制信息。

18.如权利要求1所述的处理控制系统，其中修正操作数据库包括用于产生控制信号以便基于测量特征与最佳特征定义相比较的结果控制或设定原料源的控制信息。

19.如权利要求1所述的处理控制系统，其中修正操作数据库包括用于产生控制信号以便基于测量特征与最佳特征定义相比较的结果控制或设定储料器的控制信息。

20.如权利要求1所述的处理控制系统，其中修正操作数据库包括用于产生控制信号以便基于测量特征与最佳特征定义相比较的结果控制或设定成品处理单元的控制信息。

Images