CN1723541B - 曝光装置和器件制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。

Description

曝光装置和器件制造方法
技术领域
本发明是关于在局部地以液体充满投影光学系统的像面一侧状态用投影光学系统投影的图案像曝光的曝光装置和使用该曝光装置的器件制造方法。
背景技术
半导体器件和液晶显示器件是通过把掩模上所形成的图案复制到感光性衬底上边的所谓光刻方法而制造的。在这一光刻工序中使用的曝光装置有支承掩模的掩模台和支承衬底的衬底台，通过投影光学系统一边顺序地移动掩模台和衬底台一边把掩模图案复制到衬底上的装置。近年来，为了与器件图案的更进一步高集成化相对应，希望更加提高投影光学系统的图像分辨率。投影光学系统的图像分辨率使用的曝光波长越短，而且投影光学系统的数值孔径提高越大。因此，在曝光装置中使用的曝光波长逐年短波化，投影光学系统的数值孔径也在增大。然而，现在主流的曝光波长是KrF准分子激光器的248nm，可是也正在实际应用更短波长的ArF准分子激光器的193nm。而且，在进行曝光的时候，和图像分辨率同样聚焦深度(DOF)也很重要。分别以下式表示图像分辨率R和聚焦深度δ。
R＝k1·λ/NA      ...(1)
δ＝±k2·λ/NA2  ...(2)
在这里，λ为曝光波长，NA为投影光学系统的数值孔径、k1、k2为工艺加工系数。由(1)式、(2)式可知，为了提高图像分辨率R，缩短曝光波长λ增大数值孔径NA，就会使聚焦深度δ变狭窄。
聚焦深度δ变得过狭窄，就难以使衬底表面对投影光学系统的像面重合，有曝光动作时余量不足的危险。因此，作为实质上缩短曝光波长，而且放大聚焦深度的方法，提出例如在国际公开第99/49504号的公报上揭示的浸液法。这种浸液法是以水和有机溶剂等液体充满投影光学系统的下面和衬底表面之间，利用液体中的曝光光的波长变为空气中的1/n(n是液体折射率，通常1.2～1.6左右)的折射率来提高图像分辨率，同时使聚焦深度放大约n倍。
可是，上述现有技术存在下述的问题。上述现有技术是局部地以液体充满投影光学系统像面一侧的下面和衬底(晶片)之间的结构，使衬底中央附近照射区曝光的场合，没有发生液体向衬底外侧流出。但是如图14所示的典型图那样，假设把衬底P的周边区域(周缘区)E移动到投影光学系统的投影区100，然后使该衬底P的周缘区E曝光，液体就向衬底P外侧流出了。对该流出的液体置之不理的话，会造成衬底P所处的环境(湿度等)变动，引起测量保持衬底P的衬底台位置信息的干涉仪光路上和各种光学检测装置的检测光光路上折射率的变化等，发生不能得到要求图案复制精度的危险。还有，由于流出液体，使得支承衬底P的衬底台周围的机械零配件等生锈之类的不合适。也考虑到随着没有对衬底P的周缘区E曝光而使其没有液体流出，然而即使对周缘区也施行曝光处理形成图案不合适，在作为后工序的例如CMP(化学机械研磨)处理时，作为晶片对CMP装置研磨面的衬底P不全面接触，发生不能良好地研磨的另外问题。进而，流出的液体浸入真空系统(吸气系统)管内的话，就成为真空源的真空泵等损坏，也有故障之类的危险。
发明内容
本发明就是鉴于这种情况而发明，其目的在于提供一种在投影光学系统和衬底之间充满液体而进行曝光处理的场合，能精度良好地复制图案的曝光装置及曝光方法，和使用该曝光装置的器件制造方法。
为了解决上述课题，本发明采用在实施例中示出的与附图1～图13对应的以下结构。但是，附加各要素的带括号的标号只不过是该要素的举例说明而没有限定各要素的意思。
按照本发明第1方案，就是通过液体(50)使衬底曝光把图案像复制到衬底(P)上边的曝光装置，提供曝光装置(EX)具备：
把图案像投影到衬底上的投影光学系统(PL)；和
回收已流出上述衬底外侧的液体的回收装置(20)。
按照本发明，即使衬底的外侧液体流出，对该流出的液体也不是置之不理而是用回收装置回收。所以，能抑制衬底所处的环境变动，同时也抑制发生支承衬底的衬底台周围机械零件生锈等的不合适发生，所以对衬底能精度良好地复制图案，能制造有高精度图案的器件。
按照本发明第2方案，就是通过液体(50)使衬底曝光把图案像复制到衬底(P)上边的曝光装置，提供曝光装置(EX)具备：
把图案像投影到衬底上的投影光学系统(PL)；
从上述衬底的上方供给液体的液体供给机构(1)；和
回收从上述液体供给机构(1)供给的液体的回收装置(20)，
上述回收装置不是从上述衬底上方进行液体回收。
按照本发明，即使没从衬底的上方也能进行回收(吸引)液体。因此，能防止对衬底的曝光中发生声音和振动。而且，向衬底的外侧流出了的液体是由回收装置所回收，所以能够防止发生衬底所处环境的变动和机械零件生锈等。因此，可在衬底上精度良好地形成图案，能制造有高精度图案的器件。
按照本发明第3方案，就是通过液体(50)使衬底曝光把图案像复制到衬底(P)上边的曝光装置，提供曝光装置(EX)具备：
把图案像投影到衬底上的投影光学系统(PL)；
具有吸气口(24)的吸气系统(26、28、29、30、32、33)；和
回收由该吸气口吸引的液体的回收装置(20)。
按照本发明，例如液体流出，即使向吸气系统的吸气口流入液体，也回收该液体，防止液体浸入作为其吸气源的真空源。因此，尽管进行浸液曝光，也能保证吸气系统的功能，可靠地用高精度图案使衬底曝光制造器件。
按照本发明第4方案，就是通过液体(50)使衬底曝光把图案像复制到衬底(P)上边的曝光装置，提供曝光装置具备：
把图案像投影到衬底上的投影光学系统(PL)；
保持上述衬底的衬底台(PST)；
在上述衬底台上设置至少一部分，进行液体回收的回收装置(20)。本发明的曝光装置能够防止发生衬底所处的环境变动和机械能零件生锈等。
按照本发明第5方案，就是用投影光学系统把规定图案像复制到衬底上边的使衬底曝光的曝光方法，提供曝光方法包括：
从衬底的上方向上述投影光学系统和上述衬底之间供给液体步骤；
在衬底外侧而且从低于衬底的位置回收上述供给的液体的步骤；和
在上述液体的供给和回收进行期间使上述衬底曝光的步骤。
在本发明的曝光方法中，进行浸液曝光的时候，从衬底的上方供给液体，同时从保持衬底位置的下方回收液体，所以能有效地防止在对衬底的曝光中发生声音和振动。
在本发明，进而，提供使用上述第1～4的任一种曝光装置(EX)的器件制造方法。
附图说明
图1是表示本发明曝光装置的-实施例概略构成图。
图2是表示投影光学系统的顶端部和液体供给装置及液体回收装置的位置关系图。
图3是表示供给管嘴和回收管嘴的配置例图。
图4是表示供给管嘴和回收管嘴的配置例图。
图5是表示回收装置的-实施例立体图。
图6是表示回收装置的-实施例重要部分放大剖面图。
图7是表示回收装置的另一实施例重要部分放大剖面图。
图8是表示回收装置的另一实施例的立体图。
图9(a)和(b)是表示回收装置的另一实施例的典型剖面图。
图10(a)和(b)是表示回收装置的另一实施例的典型剖面图。
图11是表示用回收装置的回收液体动作的另一实施例图。
图12是表示用回收装置的回收液体动作的另一实施例的图。
图13是表示半导体器件制造工序的一例流动图图。
图14是为了说明现有课题的图。
具体实施方式
以下，边参照附图边说明本发明的曝光装置和器件制造方法，然而本发明并不限定于此。图1是表示本发明曝光装置的-实施例概略构成图。
第1实施例
在图1中，曝光装置EX具备：支承掩模M的掩模台MST、支承衬底P的衬底台PST、用曝光光EL照明掩模台MST所支承的掩模M的照明光学系统统IL、使以曝光光EL照明掩模M图案像对衬底台PST所支承的衬底P投影曝光的投影光学系统PL、向衬底P上边供给液体50的液体供给装置1、回收衬底P外侧流出液体50的回收装置20、以及统括控制曝光装置EX全体动作的控制装置CONT。
在这里，在本实施例，举例说明作为曝光装置EX使用扫描型曝光装置(所谓扫瞄步进器)，一边使掩模M和衬底P与扫描方向互相不同的方向(相反方向)同步移动一边使掩模M上形成的图案对衬底P曝光的情况。在以下的说明中，设和投影光学系统PL的光轴AX一致的方向为Z轴方向，设垂直于Z轴方向的平面内掩模M和衬底P的同步移动方向(扫描方向)为X轴方向，设垂直Z轴方向和Y轴方向的方向(非扫描方向)为Y轴方向。而且，设X轴、Y轴和Z轴转动方向分别为θX、θY和θZ方向。还有，这里所说的「衬底」包括在半导体晶片上边涂布了抗蚀剂的，「掩模」包括形成了衬底上边缩小投影的器件图案的中间掩模。
照明光学系统IL是以曝光光EL照明被掩模台MST所支承的掩模M的光学系统，它具有曝光用光源、使曝光用光源射出的光束照度均匀化的光积分器、聚集来自光积分器曝光光EL的聚光镜、中继透镜系统、和呈狭缝状设定由曝光光EL形成的掩模M上照明区的可变视野光阑等。掩模M上规定的照明区由照明光学系统IL以均匀的照度分布的曝光光EL照明。就从照明光学系统IL射出的曝光光EL来说，例如，可以使用从水银灯射出的紫外区的辉线(g线、h线、i线)和KrF准分子激光器光(波长248nm)等的远紫外光(DUV光)、ArF准分子激光器光(波长193nm)以及F2激光器光(波长157nm)等的真空紫外光(VUV光)等。在本实施例中用ArF准分子激光器光。
掩模台MST就是支承掩模M的装置，是在和投影光学系统PL的光轴AX垂直的平面内，即在XY平面内二维可移动和在θZ方向可微小旋转的。掩模台MST由线性马达等掩模台驱动装置MSTD驱动。掩模台驱动装置MSTD由控制装置CONT控制。掩模台MST上掩模M的二维方向位置和旋转角用激光干涉仪实时测量，并将测量结果送给控制装置CONT。控制装置CONT根据激光干涉仪的测量结果驱动掩模台驱动装置MSTD，对掩模台MST所支承的掩模M进行定位。
投影光学系统PL就是以规定的投影放大倍数β向衬底P投影曝光掩模M图案的光学系统，它由多个光学元件(透镜)构成，这些光学元件用作为金属部件的镜筒PK来支承。在本实施例中，投影光学系统PL是投影放大倍数β例如为1/4或者1/5的缩小系统。还有，投影光学系统PL也可以是任何一个等倍系统和放大系统。而且，在本实施例投影光学系统PL的顶端一侧(衬底P侧)，光学元件(透镜)60从镜筒PK露出来。这个光学元件60被设置成对镜筒PK可装卸(更换)的方式。
衬底台PST是支承衬底P的装置，它具备通过衬底支架保持衬底P的Z载物台51、支承Z载物台51的XY载物台52和支承XY载物台52的基座53。衬底台PST用线性马达等衬底台驱动装置PSTD驱动。衬底台驱动装置PSTD由控制装置CONT控制。通过驱动Z载物台51控制在Z载物台51上保持着的衬底P的Z轴方向的位置(焦点位置)、和在θX、θY方向的位置。而且，通过驱动XY载物台52控制衬底P在XY方向的位置(和投影光学系统PL的图像平面实质上平行方向的位置)。即，Z载物台51控制衬底P的焦点位置和倾斜角，以自动聚焦方式和自动调整方式而使衬底P的表面与投影光学系统PL的像面重叠，XY载物台52对衬底P的X轴方向和Y轴方向进行定位。还有，不用说整体设置Z载物台和XY载物台也行。
在衬底台PST(Z载物台51)上边，设置与衬底台PST一起对投影光学系统PL移动的移动镜54。而且，在与移动镜54相对的位置设有激光干涉仪55。用激光干涉仪55实时测量衬底台PST上的衬底P二维方向的位置和旋转角，并将测量结果向控制装置CONT输出。控制装置CONT根据激光干涉仪55的测量结果驱动衬底台驱动装置PSTD对衬底台PST所支承的衬底P进行定位。
对本实施例而言，因为实质上缩短曝光波长提高图像分辨率的同时，实质上扩大聚焦深度，所以应用浸液法。为此，在至少把掩模M图案像复制到衬底P上的期间，使规定的液体50充满衬底P的表面和投影光学系统PL的衬底P一侧光学元件(透镜)60的顶端面(下表面)7之间。如上述的那样，在投影光学系统PL的顶端一侧露出透镜60，所供给液体50只和透镜60接触。因此，防止由金属构成的镜筒PK被腐蚀等。而且，透镜60的顶端面7比投影光学系统PL的镜筒PK和衬底P要充分小，而且如上述那样构成是使液体50只与透镜60接触，所以成为液体50局部充满投影光学系统PL的像面一侧的结构。即，投影光学系统PL和衬底P之间的浸液部分比衬底P要充分小。在本实施例中，就液体50来说可用纯水。纯水不仅在ArF准分子激光器光，而且例如从水银灯射出的紫外区的辉线(g线、h线、i线)和KrF准分子激光器光(波长248nm)等的远紫外光(DUV光)作为曝光光EL时，都能透过这些曝光光EL。
曝光装置EX具备向投影光学系统PL的顶端面(透镜60的顶端面)7和衬底P之间的空间56供给规定液体50的液体供给装置1和回收空间56的液体50即作为回收衬底P上液体50的第2回收装置的液体回收装置2。液体供给装置1就是用于局部地以液体50充满投影光学系统PL的像面一侧的装置，它具备收容液体50的贮液罐、加压泵以及调整供给空间56的液体50温度的温度调整装置等。将供给管3的-端部连接到液体供给装置1，供给管3的另一端部连接供给管嘴4。液体供给装置1通过供给管3和供给管嘴4向空间56供给液体50。
液体回收装置2具备吸引泵、收容已回收的液体50的贮液罐等。将回收管6的-端部连接到液体回收装置2，回收管嘴5连接到回收管6的另一端部。液体回收装置2通过回收管嘴5和回收管6回收空间56的液体50。在空间56里充满液体50的时候，控制装置CONT驱动液体供给装置1通过供给管3和供给管嘴4对空间56以每单位时间供给规定量的液体50，同时驱动液体回收装置2通过回收管嘴5和回收管6以每单位时间从空间56回收规定量的液体50。因此在投影光学系统PL的顶端面7和衬底P之间的空间56保持液体50，形成浸液部分。在这里，控制装置CONT是通过控制液体供给装置1可任意设定对空间56每单位时间的液体供给量，同时通过控制液体回收装置2可任意设定每单位时间从衬底P的液体回收量。
图2是表示曝光装置EX的投影光学系统PL下部、液体供给装置1和液体回收装置2等的图1部分放大图。在图2中，投影光学系统PL最下端的透镜60，在顶端部60A只有扫描方向留下必要的部分并在Y轴方向(非扫描方向)形成细长矩形状。扫描曝光时，在顶端部60A正下方的矩形投影区投影掩模M的一部分图案像，对投影光学系统PL虽然沿-X方向(或+X方向)以速度V移动掩模M但是同步经过XY载物台52沿+X方向(或-X方向)以速度β·V(β为投影放大倍数)移动衬底P。然后，对1个照射区曝光结束后，随着衬底P的步进而使下一个照射区移动到开始扫描位置，以下，以步进扫描方式顺序地对各照射区进行曝光处理。在本实施例中，沿衬底P移动方向设定为使其在和衬底P移动方向同-方向流动液体50。
图3是表示投影光学系统PL的透镜60顶端部60A、沿X轴方向供给液体50的供给管嘴4(4A～4C)、和回收液体50的回收管嘴5(5A，5B)的位置关系图。图3中，透镜60顶端部60A的形状成了在Y轴方向细长的矩形状，而在X轴方向以夹着投影光学系统PL透镜60的顶端部60A的样子，沿+X方向一侧配置3个供给管嘴4A～4C，沿-X方向一侧配置2个回收管嘴5A、5B。然后，经过供给管3将供给管嘴4A～4C连接到液体供给装置1，经过回收管6将回收管嘴5A、5B连接到液体回收装置2。而且，在供给管嘴4A～4C和回收管嘴5A、5B对顶端部60A的中心大约旋转了180°的位置配置供给管嘴8A～8C和回收管嘴9A、9B。供给管嘴4A～4C和回收管嘴9A、9B为沿Y轴方向交替地排列，供给管嘴8A～8C和回收管嘴5A、5B则沿Y轴方向交替地排列，供给管嘴8A～8C经过供给管10连接到液体供给装置1，回收管嘴9A、9B经过回收管11连接液体回收装置2。
如图4所示，也可以夹着顶端部60A在Y轴方向两侧分别设置供给管嘴13、14和回收管嘴15、16。借助于该供给管嘴和回收管嘴，即使在步进移动的时候衬底P往非扫描方向(Y轴方向)的移动时，能向投影光学系统PL和衬底P之间稳定地供给液体50。
还有，上述的管嘴形状没有特别加以限定，例如对于顶端部60A的长边也可以用两对管嘴进行液体50的供给或回收。还有，这种场合，不论从+X方向或-X方向的哪一边方向都能进行液体50的供给和回收，所以与供给管嘴和回收管嘴上下并排配置也可以。
其次，边参照图5和图6边说明有关回收在衬底P外侧流出液体的回收装置20的-实施例。图5是Z载物台51(衬底台PST)的立体图，图6是重要部分放大剖面图。
在图5和图6中，回收装置20具备在Z载物台51上边配置在支座部57保持的衬底P周围的液体吸收部件21。液体吸收部件21是有规定宽度的环状部件，配置在Z载物台51上边呈环状形成的沟部23。而且，在Z载物台51内部形成与沟部23连续的流路22，在沟部23配置的液体吸收部件21的底部与流路22连接起来。液体吸收部件21例如由多孔质陶瓷等多孔性材料构成。或者作为液体吸收部件21的形成材料也可以用多孔性材料的海绵。由多孔性材料构成的液体吸收部件21是能保持规定量液体的。
在Z载物台51上边，在液体吸收部件21和保持在支座部57上的衬底P之间设有以规定宽度包围该衬底P外周的环状辅助板部59。辅助板部59的表面高度被设置成和Z载物台51的支座部57上保持的衬底P表面高度大致一致。借助该辅助板部59，即使衬底P的周边区域(周缘区)E位于投影光学系统PL的透镜60下面这样的情况下，也能在投影光学系统PL的透镜60和衬底P之间持续保持液体50。然后，象以规定宽度包围该辅助板部59外周那样配置的液体吸收部件21，由作为第2回收装置的液体回收装置2不断回收，实现吸收(回收)向辅助板部59外侧流出液体50的任务。
支座部57是在Z载物台51上边形成与衬底P大体相同大小的圆形凹部设置了用于支承衬底P背面的多个突出部58。在这些突出部58各自设有吸附保持衬底P的吸附孔24。然后，各个吸附孔24与Z载物台51内部形成的流路25连接起来。而且，在支座部57(圆形凹部)的最外周近旁设有多个液体回收孔46。这些液体回收孔46与连接到液体吸收部件21的流路22连接起来。还有，所谓与液体吸收部件21(沟部23)连接的流路22就是也可以设置另外的流路并与液体回收孔46连接。
分别与液体吸收部件21和液体回收孔46连接起来的流路22连接到Z载物台51外部设有的管路26的-端部。另一方面，管路26的另一端部，通过设于Z载物台51外部的第1贮液罐27和阀门28与作为吸引装置的泵29连接起来。连接到吸附孔24的流路25，与Z载物台51外部设有的管路30的-端部连接起来。另一方面，管路30的另一端部，通过Z载物台51外部设有的第2贮液罐31和阀门32与作为吸引装置的泵33连接起来。从液体吸收部件21和液体回收孔46向衬底P外侧流出的液体随着周围的气体(空气)一起回收。而且，流入衬底P背面的液体随着周围的气体(空气)从吸附孔24回收。关于这些液体回收方法的详情以后再述。从液体吸收部件21和液体回收孔46以及吸附孔24被回收后的液体(水)与气体(空气)分离，分别在第1贮液罐27和第2贮液罐31暂时贮存。通过气液分离防止液体流到作为真空源的真空泵29、33，可防止真空泵29、33的损坏。在第1，第2贮液罐27、31各自设置排出流路27A、31A，使用水位传感器等，液体如果到规定量积存起来了就从排出流路27A，31A排出。
还有，所谓与液体吸收部件21(沟部23)连接的流路22(贮液罐27、阀门28、真空泵29)就是也可以设置另外的流路，并与液体回收孔46连接。而且，图5中，在Z载物台51的+X侧底部设有Y轴方向延伸的移动镜54X，在Y侧端部设有在X轴方向延伸的移动镜54Y。激光干涉仪对这些移动镜54X、54Y照射激光光，检测衬底台PST的X轴方向和Y轴方向的位置。
其次，说明有关用上述的曝光装置EX对衬底P曝光掩模M图案的顺序。
如果将掩模M安装在掩模台MST上，同时将衬底P安装在衬底台PST上了，控制装置CONT驱动液体供给装置1和液体回收装置2，在空间56形成液体50的浸液部分(参照图1)。然后，控制装置CONT通过照明光学系统IL以曝光光EL照明掩模M，经过投影光学系统PL和液体50使掩模M图案像向衬底P投影。在这里，正在使衬底P中央附近照射区曝光的期间，从液体供给装置1供给的液体50由液体回收装置2回收，没有流到衬底P的外侧。
另一方面，如图6所示，由于曝光处理衬底P的周缘区E，当投影光学系统PL和衬底P之间的浸液一部分处于衬底P的周缘区E附近时，借助于辅助板部59可在投影光学系统PL和衬底P之间持续保持液体50，然而有时流体50的一部分流到辅助板部59的外侧，流出的流体50被液体吸收部件21吸收(回收)。在这里，控制装置CONT随着开始上述液体供给装置1和液体回收装置2的驱动同时，开始阀门28的开放和泵29的驱动。所以，由液体吸收部件21回收的液体50，借助于作为吸引装置的泵29的吸引，随着周围空气经过流路22和管路26而被第1贮液罐27吸收。
而且，从衬底P和辅助板部59的间隙流出的液体50经过设于衬底P的背面一侧的液体回收孔46随着周围空气吸入流路22方面，通过管路26被第1贮液罐27回收。
进而，经过衬底P和辅助板部59的间隙进入衬底P的背面一侧的液体50也有流入到吸附保持衬底P的吸附孔24的可能性。如前面所述，吸附孔24经过流路25、管路30和第2贮液罐31与作为吸引装置的泵33连接起来，因而通过进行阀门32的开放和泵33的驱动，随着在载物台51上边吸附并保持衬底P，就能经过流路25和管路30把流入吸附孔24的液体50收集到第2贮液罐31里。即，回收流入吸附孔24的液体50的第3回收装置具备流路25、管路30、第2贮液罐31、阀门32、泵33和进行这些驱动控制的控制装置CONT。而且，这时的吸附孔24也起设于衬底P的背面一侧的液体回收孔(回收装置)的作用。
而且，和液体回收孔46同样，然而从吸附孔24流到衬底P的背面蔓延的液体和衬底P背面的气体(空气)，通过使其落入第2贮液罐31使液体(水)和气体(空气)分离。定期地回收第2贮液罐31积存的液体，防止液体流入作为真空源的真空泵33。从而，防止真空泵33遭受损坏。
可是，曝光处理衬底P的周缘区E时，即投影光学系统PL和衬底P之间的浸液部分处于衬底P的周缘附近时，如上述那样，液体50的一部分有向衬底P的外侧流出的可能性。在本实施例，尽管液体50向衬底P的外侧流出，好像也能足够以液体50充满投影光学系统PL和衬底P之间那样，控制装置CONT在浸液部分处于衬底P的周缘区E时，至少进行控制液体供给装置1增加每单位时间对空间56的液体供给量，同时控制液体回收装置(第2回收装置)2降低每单位时间从空间56来的液体回收量。这里，在上述液体供给量的增加和液体回收量减低的控制方面，控制装置CONT基于激光干涉仪对衬底P位置检测结果，也可以进行液体供给装置1和/或液体回收装置2的控制，或者，设置检测装置检测被第1、第2贮液罐27、32，或者管路26、30等回收(流出)的液体量，基于该检测装置的检测结果进行液体供给装置1和/或液体回收装置2的控制也行。
还有，本实施例的曝光装置EX是所谓扫瞄步进器。所以，在以箭头Xa(图3参照)表示的扫描方向(-X方向)移动衬底P进行扫描曝光的场合，用供给管3、供给管嘴4A～4C、回收管6和回收管嘴5A、5B，借助于液体供给装置1和液体回收装置2进行液体50的供给和回收。即，衬底P向-X方向移动的时候，通过供给管3和供给管嘴4(4A～4C)从液体供给装置1向投影光学系统PL和衬底P之间供给液体50，同时通过回收管嘴5(5A、5B)和回收管6使液体50回收到液体回收装置2，宛如充满透镜60和衬底P之间那样向-X方向流动液体50。另-方面，在以箭头Xb表示的扫描方向(+X方向)移动衬底P进行扫描曝光的场合，用供给管10、供给管嘴8A～8C、回收管11和回收管嘴9A，9B，借助于液体供给装置1和液体回收装置2进行液体50的供给和回收。即，在衬底P向+X方向移动的时候，通过供给管10和供给管嘴8(8A～8C)从液体供给装置1向投影光学系统PL和衬底P之间供给液体50，同时通过回收管嘴9(9A、9B)和回收管11使液体50回收到液体回收装置2，宛如充满透镜60和衬底P之间那样向+X方向流动液体50。这样，控制装置CONT用液体供给装置1和液体回收装置2，沿着衬底P的移动方向流动液体50。这时，例如经过供给管嘴4从液体供给装置1供给的液体50是伴随衬底P向-X方向而引入移动空间56，所以即使液体供给装置1的供给能量很小，也容易向空间56供给液体50。然后，通过根据扫描方向转换液体50流动方向，即使在+X方向，或-X方向的任一方向扫描衬底P的场合，也能以液体50充满透镜60的顶端面7和衬底P之间，能得到高图像分辨率和宽广的聚焦深度。
如以上说过的一样，尽管向衬底P的外侧流出液体50，该流出的液体50也没有置之不理而是由回收装置20回收。所以，抑制衬底P所处的环境变动，同时也能抑制在支承衬底P的衬底台PST周边的机械零件生锈等的不合适发生，所以能对衬底P复制精度良好的图案，能制造有高图案精度的器件。
而且，作为回收装置20采用在衬底台PST上边设置了液体吸收部件21的办法，可在宽广的范围内可靠地保持(回收)液体50。而且，采用经过流路把作为吸引装置的泵29连接到液体吸收部件21上的办法，将被液体吸收部件21吸收的液体50经常排出衬底台PST的外部。所以，能更进一步可靠地抑制衬底P所处的环境变动，同时能抑制由于衬底台PST的液体50而引起的重量变动。而且，对衬底的曝光中使泵29停止，衬底P外侧流出的液体50保持在液体吸收部件21等里，对衬底的曝光完成后使泵29运作排出液体也可以。另一方面，也可以是借助自重使由液体吸收部件21回收的液体50垂直流入贮液罐27方面的结构而不设置泵29也行。进而，在衬底台PST上边只配置液体吸收部件21定期地(例如每1批次)更换吸收液体50的液体吸收部件21的结构而不设置泵29、贮液罐27和流路也行。这时，衬底台PST是因液体50而重量变动，然而根据由液体吸收部件21回收的液体50的重量变更载物台控制参数，也能维持载物台定位精度。
而且，在真空泵29、33的跟前设置用于分离液体(水)和气体(空气)的贮液罐27、31，防止液体浸入真空泵29、33，所以能防止真空泵29、33出故障和损坏。
还有，上述实施例的真空泵29、33既可以配置在曝光装置EX内，也可以设置在设置曝光装置EX的工厂里。而且，在上述的实施例中，虽然设置回收用于使液体(水)和气体(空气)分离的贮液罐流出衬底P外侧的液体的回收装置20的真空系统(真空泵的跟前)，和用于吸附保持衬底P的真空系统，但是并不限于设置用于使液体(水)和气体(空气)分离的机构(液体回收用途的贮液罐等)，也可以设置连接到有液体浸入危险的其他吸气口的吸气系统(真空系统)。例如，也可以配置在气体轴承的气体回收系统(吸气系统)、在衬底运送臂上用于吸附保持衬底P的吸气系统，或者，用于将衬底保持部件可解吸地吸附保持衬底P的吸气系统。关于气体轴承的气体回收系统(吸气系统)，例如公开在特开平11-166990号公报上，关于为了在衬底运送臂上吸附保持衬底P的吸气系统，例如公开在特开平6-181157号公报上，而且关于在衬底台上能解吸地吸附保持衬底保持部件的吸气系统，例如公开在特开平10-116760号公报上，在本国际申请指定或选定国法律允许范围内，引用这些文献的记载内容作为本文记载的一部分。而且，在本实施例中，一边在衬底P上的部分区域上形成浸液区一边把液体(水)和气体(空气)分离的贮液罐等机构应用于对衬底P进行曝光的曝光装置，然而也可以应用在液槽里面使衬底台移动的曝光装置和在衬底台上边形成液体槽并在其中保持衬底的曝光装置。关于在液槽里面使衬底台移动的曝光装置的构造和曝光运作，例如公开在特开平6-124873号公报上，关于在衬底台上边形成液体槽并在其中保持衬底的曝光装置，例如公开在特开平10-303114号公报和美国专利5825043上，在本国际申请指定或选定国法律允许范围内，引用这些文献的记载内容作为本文记载的一部分。
还有，在上述实施例中，将液体吸收部件21形成为连续包围整个衬底P周围的环状，然而也可以配置在衬底P的周围的一部分，而且也可以不连续地以规定间隔进行配置。而且，本实施例中的液体吸收部件21是环状形成的，然而例如矩形状等，其形状是任意地可设定的。
而且，液体供给装置1和液体回收装置2的结构和管嘴配置并不只限于上述的实施例。而且，对衬底P的曝光中，不一定需要液体供给装置1和液体回收装置2并行运作，如以液体50充满投影光学系PL和衬底P之间的曝光光路的话，也可以使哪一方停止，又也可以使双方停止下来。
如上述那样，对本实施例的液体50使用了纯水。在半导体制造工厂等里能容易地大量得到纯水，同时具有对衬底P上的光致抗蚀剂和光学元件(透镜)等没有不良影响的优点。而且，纯水对环境没有不良影响，同时杂质含有量极其之低，所以也能期待对衬底P的表面和投影光学系统PL顶端面设有的光学元件表面有清洗的作用。
并且，一般认为纯水(水)对波长为193nm左右曝光光EL的折射率n是大约1.47～1.44左右，在作为曝光光EL的光源使用ArF准分子激光器光(波长193nm)的场合，在衬底P上波长缩短到1/n，即约131～134nm左右而得到高的图像分辨率。进而，聚焦深度与空气中相比扩大约n倍，即约1.47～1.44倍左右，所以在能够确保与空气中使用的场合同样聚焦深度的场合，就能更加增大投影光学系统PL的数值孔径，这方面也能提高图像分辨率。
在本实施例，在投影光学系统PL的顶端安装着透镜60，然而就在投影光学系统PL的顶端安装的光学元件来说，也可以是对投影光学系统PL的光学特性，例如象差(球面象差、彗象差等)调整用的光学板。或者也可以可透过曝光光EL的平行平面板。设和液体50接触的光学元件为比透镜廉宜的平行平面板，在曝光装置EX的搬运、装配、调整时等方面降低投影光学系统PL的透射率、衬底P上的曝光光EL的照度和照度分布的均匀性的物质(例如像硅系列有机物等)即使附着于平行平面板上，在即将供给液体50以前只要更换该平行平面板就行，和液体50接触的光学元件为透镜的情况相比有降低其更换成本的优点。即，因为曝光光EL的照射而由抗蚀剂发生的飞散粒子或液体50里带有杂质等引起与液体50接触的光学元件表面污染，因此需要定期地更换其光学元件，然而由于该光学元件为廉宜的平行平面板，和透镜相比更换零件的成本低，而且可缩短更换所需的时间，能抑制维护成本(运行成本)上升和生产量的降低。
而且随液体50的流动而产生的投影光学系统顶端的光学元件和衬底P之间的压力大时，不能更换其光学元件，借助于该压力也可以坚固地固定光学元件使之不动。
还有，本实施例的液体50是水，然而也可以是水以外的液体，例如，曝光光EL的光源是F2激光时，该因为F2激光器光不能透过水，所以这时，作为液体50要用能够透过F2激光器光的例如氟系油和氟化聚醚(PFPE)等氟系液体F2激光器光就行。而且，作为液体50，除此外，使用对曝光光EL的透过性折射率尽可能高，对涂布投影光学系统PL和衬底P表面的光致抗蚀剂稳定的液体(例如雪松油)也可以。
第2实施例
接着，边参照图7边说明本发明曝光装置EX的其他实施例。在这里，在以下的说明中，与上述实施例同-或同等的结构部分加上同一标号，将说明简略或省略。有关本实施例的特征部分是，作为回收装置在衬底P的周围设置液体回收沟35而不用液体吸收部件21这方面和使衬底台PST和管路26构成连接、分离自如这方面。
在图7中，回收装置20具备在Z载物台51上边辅助板部59的周围形成规定宽度的液体回收沟35。而且，在流路20的端部设置连接阀36。另一方面，管路26的端部设有对连接阀36可连接、分开的连接阀37。在连接阀36、37分开的状态，堵塞流路22的端部，流体50就不能向载物台外部流出。另一方面，通过将连接阀36，37连接起来，流路22的端部开放，流路22的液体50就能够在管路26中流通。
在曝光处理中，使连接阀36和连接阀37分开。所以，在曝光处理中衬底台PST是与管路26分开的状态，能顺利地进行向扫描方向的移动(扫描移动)和向非扫描方向的移动(步进移动)。曝光处理中流出衬底P外侧的液体50在液体回收沟35和流路22里积存。
曝光处理结束时，衬底台PST移动到衬底P的更换位置(装卸位置)。在该衬底更换位置，将连接阀36、37连接起来。连接阀36、37连接了的话，控制装置CONT使阀门28开放同时驱动泵29。因此，作为回收装置的液体回收沟35所回收的液体50在衬底更换位置排出载物台外部。
还有，在本实施例中由液体回收沟35回收的液体50是定期地(例如每一批次)排出载物台外部的结构，设有液体回收沟35的大小(容量)，例如将相当于1批次部分流出量的液体设定为可保持程度的大小。这时，可预先求得规定曝光处理衬底片数(即是1批次部分)与流出的液体量的关系，根据该要求关系设置液体回收沟35的大小。或者根据上述要求的关系，设置连接阀36、37的连接时间间隔(即在载物台外部进行液体排出动作的定时)。
还有，在上述实施例中，要将液体回收沟35形成为连续包围衬底P的整个周围的环状，然而也可以配置在衬底P的一部分周围，又可以不连续地以规定间隔配置。而且，对本实施例的液体回收沟35是呈环状形成的，然而例如矩形状等其形状任意地设定也可以。而且，在液体回收沟35内配置液体吸收部件也可以。
而且，在上述各实施例中，在衬底P的外侧设有辅助板部59，然而不设该辅助板部59，而在衬底P的外周附近设置液体吸收部件21和液体回收沟35也可以。
而且，在上述的实施例中，采用对投影光学系统PL和衬底P之间局部地充满液体的曝光装置，然而回收用作吸附保持如图6、图7上所揭示的这种衬底P的流入吸附孔液体的回收机构，也能把本发明应用于液槽里使保持曝光对象的衬底载物台移动的浸液曝光装置和在载物台上边在形成规定深度的液体槽并在其中保持衬底的浸液曝光装置。如上述那样，关于在液槽里使保持曝光对象的衬底载物台移动的浸液曝光装置的构造和曝光运作，例如公开在特开平6-124873号上，关于在载物台上边形成规定深度的液体槽并在其中保持衬底的浸液曝光装置的构造和曝光动作，例如公开在特开平10-303114号(对应美国专利5825043)上。
第3实施例
以下，边参照图8～图10边说明回收装置的其他实施例。
如图8所示，Z载物台51的上表面是倾斜的，保持衬底P的支座部57的上表面成了水平。并且，以包围支座部57的周围的样子形成液体回收沟35。这时，在平面图上液体回收沟35呈环状，然而在侧视图是倾斜的。即，液体回收沟35沿着Z载物台51的上表面倾斜形成。因此，流出衬底P外侧的液体50自然地积存在液体回收沟35的倾斜下部35A。回收液体50的时候只回收倾斜下部35A积存的液体50就行，所以能够容易地实行回收动作。
如图9(a)所示，在Z载物台51的外表面一部分设有液体回收沟35。曝光处理，在液体回收沟35积存液体50。并且，如图9(b)所示该液体回收沟35积存了的液体50通过把衬底P安装在对衬底台PST进行装卸的运送装置H的管38回收。为了从衬底台PST上卸下曝光处理完毕的衬底P，运送装置H对衬底台PST存取时，构成吸引装置一部分的管37吸取液体回收沟35积存起来的液体50。
第4实施例
而且，在以下说明关于回收装置的还有另外的实施例。如图10(a)所示，在Z载物台51的上表面设有液体回收沟35。液体回收沟35和贯穿Z载物台51下面一侧的流路39连接起来。在流路39设有阀门39A。而且，与Z载物台51的流路39相对应，在XY载物台52和基座53上形成各自通孔的流路40、41。在曝光处理中，关闭阀门39A，如图10(a)所示，液体50就在液体回收沟35积存。并且，曝光处理结束了，控制装置CONT把衬底台PST移动到衬底更换位置，打开阀门39A。因此，如图10(b)所示，液体回收沟35的液体50处于衬底更换位置，通过流路39、40和41依靠自重向载物台外部排出。还有，液体回收沟35里的液体50的回收在衬底更换位置进行是令人满意的，然而在与衬底更换位置不同的位置进行排出作业也可以。
第5实施例
可是，在上述的各实施例中，随着液体供给装置1通过供给管嘴4从衬底P的上方向衬底P上边供给液体50的同时，作为第2回收装置的液体回收装置2通过回收管嘴5从衬底P的上方回收衬底P上的液体50，会在衬底P上的一部分上形成浸液区，然而如图11所示，在衬底P的上方不再设置液体回收装置2(回收管嘴5)，而供给衬底P上的几乎全部液体50都由设于衬底台PST上的回收装置20回收也可以。图11中示出，在夹着投影光学系统PL的投影区(光学元件60)的扫描方向(X轴方向)两侧各自设置的供给管嘴4、8。使衬底P扫描曝光时供给液体50之际，根据衬底P的移动方向既可以由供给管嘴4、8之中一方供给管嘴供给液体50，或者又可以从双方的供给管嘴4、8同时供给液体50。由液体供给装置1供给的液体50会在衬底P上面极大地扩展，形成很大的浸液区。并且，如图12的立体图所示，供给衬底P上的液体50不久后向衬底P的外侧流出，然而通过在衬底P周围作为回收口而有设置的沟部23(液体吸收部件21)的回收装置20几乎回收全部。在这里，对衬底P的曝光处理中，由于液体供给装置1对衬底P上继续供给液体50，在衬底P上能形成良好浸液区，同时为了依靠供给的液体50使衬底P上的液体50产生流动，向衬底P上经常供给新鮮(洁净)的液体50，同时可使衬底P上的液体50流到沟部23。
作为上述第2液体回收装置的液体回收装置2是，通过回收管嘴5从衬底P的上方使用真空系统吸引回收衬底P上的液体50的结构，由于液体(水)和气体(空气)一起回收，有时该液体在回收管6内壁等当中产生声音和振动。这时，如图11和图12示出的实施例那样，对从衬底P上方来的液体50不进行吸引回收而只用设于衬底台PST的回收装置20回收液体50，能防止衬底P曝光中发生声音和振动。
还有，从衬底P上方没进行液体回收的本实施例情况，作为回收装置20也可以使用第2实施例中图7示出的结构。在图7的场合，因为真空泵29在对衬底P的曝光中没有吸引液体回收沟35所回收的液体，所以也能抑制伴随吸引液体而发生的声音和振动，而且是更有效的。
而且，如先前说过的实施例那样，事先配置从衬底P的上方通过回收管嘴5进行液体的回收的液体回收装置2，衬底P的曝光中使液体回收装置2不运行而只用回收装置20进行液体的回收，对衬底P的曝光完成后，并用液体回收装置2和回收装置20进行液体50的回收也可以。这时也能抑制衬底P曝光中伴随吸引(回收)液体而产生的声音和振动影响。
还有，就上述各实施例的衬底P来说，不仅应用半导体器件制造用的半导体晶片，而且也应用显示器件用的玻璃衬底、薄膜磁头用的陶瓷片，或者以曝光装置上所用的掩模或中间掩模的原版(合成水晶，硅晶片)等。
就曝光装置EX来说，除使掩模M和衬底P同步移动扫描曝光掩模M的图案的步进扫描方式扫描型曝光装置(扫瞄步进器)外，也能应用于在掩模M和衬底P静止的状态对掩模M的图案-并曝光，顺序步进移动衬底P的步进重复方式投影曝光装置(步进器)。而且，本发明也能应用于在衬底P上局部地重叠复制至少2个图案的步进开关方式曝光装置。
就曝光装置EX的种类来说，不只限于衬底P上曝光半导体元件图案的半导体元件制造用的曝光装置，也能广泛地应用于液晶显示元件制造用或显示器件制造用的曝光装置、薄膜磁头、摄像元件(CCD)或者制作中间掩模或掩模等的曝光装置等。
而且，本发明也能应用于成对载物台式的曝光装置。关于成对载物台式曝光装置的构造和曝光动作，公开在特开平10-163099号、特开平10-214783号、特表2000-505958号、美国专利6341007号、6400441号、6549269号、6590634号等文献上，可参照这些内容。这些美国专利在本国际申请指定或选定国法律允许范围内，作为本文记载的一部分。
将线性马达用在衬底台PST和掩模台MST的场合，也可以使用哪种用了空气轴承的气浮式和洛伦兹力或电抗力的磁浮式的载物台。而且，各载物台PST、MST也可以是沿着导轨移动的类型，也可以是不设导轨的无轨类型。载物台上使用线性马达的例子公开在美国专利5623853和5528118上，分别在本国际申请指定或选定国法律允许范围内，引用这些文献的记载内容作为本文记载的一部分。
就各载物台PST、MST的驱动机构来说，也可以使用二维配置磁铁的磁铁单元和二维配置线圈的电枢单元对置借助电磁力驱动各载物台PST、MST的平面马达。这时，把磁铁单元和电枢单元的任一方连接到载物台PST、MST，把磁铁单元和电枢单元的另一方设在载物台PST、MST的移动面一侧就行。
随衬底台PST的移动而发生的反作用力，也可以用支座部件机械式地向地面(大地)释放使其不会传给投影光学系统PL。该反作用力的处理方法，例如在美国专利5528118(特开平8-166475号公报)上有详细披露，在本国际申请指定或选定国法律允许范围内，引用这些文献的记载内容作为本文记载的一部分。
随掩模台MST的移动而发生的反作用力，也可以用支座部件机械式地向地面(大地)释放使其不会传给投影光学系统PL。该反作用力的处理方法，例如在美国专利5874820(特平8-330224号公报)上有详细披露，在本国际申请指定或选定国法律允许范围内，引用这些文献的记载内容作为本文记载的一部分。
如以上那样，本申请实施例的曝光装置EX是通过装配包括本申请专利要求范围内举出的各构成要素的各种子系统制造的，以便具有规定的机械精度、电精度、和光学精度。为了这些确保各种精度，在该装配的前后，进行为达成有关各种光学系的光学精度的调整、为达成有关各种机械系的机械精度的调整，以及为达成各种电气系的电精度的调整。由各种子系统装配曝光装置的工序包括各种子系统系统互相的机械连接、电路布线连接、以及气压回路的配管连接等。在由各种子系统装配曝光装置的工序以前，不用说也有各自装配各子系统的工序。各种子系统装配曝光装置的工序结束以后，进行综合调整，确保作为曝光装置整体的各种精度。还有，在管理温度和洁净度等的洁净室里进行曝光装置的制造是理想的。
半导体器件等微器件，如图13所示，经过进行微器件的功能·性能设计的步骤201、制作基于该设计步骤的掩模(中间掩模)的步骤202、制造衬底作为器件基本材料的步骤203、用上述实施例的曝光装置EX把掩模的图案对衬底曝光的曝光处理步骤204、器件装配步骤(包括划片工序、焊接工序、封装工序)205、以及检测工序206等而制成。
按照本发明，液体即使流出来对该流出了的液体也不置之不理而用回收装置回收。所以，能防止因流出液体引起的不合适，能够制造有高图案精度的器件。

Claims (27)

1.一种曝光装置，用于通过液体把图案像投影到衬底上而使上述衬底曝光，其特征在于包括：
投影光学系统，用于把上述图案像投影到上述衬底上；
衬底台，具有保持上述衬底的保持部，以及
回收装置，具有回收部，该回收部设置在上述保持部的周围的至少一部分上，回收在上述衬底的外侧流出的上述液体，
上述回收部设置在上述衬底台上，上述衬底台具有设置在上述回收部与保持在上述保持部上的上述衬底之间、以规定宽度包围上述衬底的外周的环状辅助板，
上述辅助板的表面高度设置为与上述保持部所保持的上述衬底的表面高度基本一致。
2.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置的回收部包括配置在上述衬底台上的液体吸收部件。
3.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置的回收部包括配置在上述衬底台上的液体回收沟。
4.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述回收装置还包括设置在上述衬底台上的回收孔。
5.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置还包括另一回收部，该另一回收部回收蔓延流到保持在上述衬底台的上述衬底背面一侧的液体。
6.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置在上述衬底台到达衬底更换位置时排出由上述回收部回收的上述液体。
7.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具备吸引装置，用于吸引由上述回收装置的上述回收部回收的上述液体。
8.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具备收集由上述回收装置的上述回收部回收的上述液体的贮液罐。
9.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具备向上述投影光学系统和上述衬底之间供给上述液体的供给装置，上述投影光学系统和上述衬底之间的浸液部分在上述衬底的周缘附近时，上述供给装置增加上述液体的供给量。
10.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具备回收上述衬底上的上述液体的第2回收装置，上述投影光学系统和上述衬底之间的浸液部分在上述衬底的周缘附近时，上述第2回收装置减少上述液体的回收量。
11.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置还具备从上述衬底的上方回收上述衬底上的上述液体的第2回收装置。
12.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置具备从上述衬底的上方向上述衬底上边供给上述液体的液体供给装置，供给上述衬底上边的几乎全部液体都由上述回收装置回收。
13.一种曝光装置，用于通过液体把图案像投影到衬底上而使上述衬底曝光，其特征在于包括：
使上述图案像投影到上述衬底上的投影光学系统；
从上述衬底的上方供给上述液体的液体供给机构；以及
回收由上述液体供给机构供给的上述液体的回收装置，
其中，上述回收装置不是从上述衬底的上方回收上述液体的。
14.一种曝光装置，用于通过液体把图案像投影到衬底上而使上述衬底曝光，其特征在于包括：
使上述图案像投影到上述衬底上的投影光学系统；
具有吸气口的吸气系统；以及
回收从该吸气口吸入的上述液体的回收装置。
15.按照权利要求14所述的曝光装置，其特征在于为在规定位置保持物体而设有上述吸气口。
16.按照权利要求15所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置还具备衬底台，
上述物体是衬底，
为吸附保持上述衬底而在上述衬底台上设有上述吸气口。
17.一种曝光装置，用于通过液体把图案像投影到衬底上而使上述衬底曝光，其特征在于包括：
投影光学系统，用于使上述图案像投影到上述衬底上；
衬底台，用于保持上述衬底；以及
回收装置，用于回收上述液体，
上述衬底台具有用于吸附保持上述衬底的吸附孔，
上述回收装置回收流入吸附孔中的上述液体。
18.按照权利要求17所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置还包括回收孔，用于回收蔓延流到上述衬底背面侧的液体。
19.按照权利要求17所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置在上述衬底台的上表面还具有回收部。
20.按照权利要求17所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置包括液体吸收部件。
21.按照权利要求17所述的曝光装置，其特征在于，
上述回收装置具有设置在上述衬底台上的沟部。
22.按照权利要求21所述的曝光装置，其特征在于，
在上述衬底台移动到规定位置的时候，排出由上述回收装置回收的液体。
23.按照权利要求22所述的曝光装置，其特征在于，
上述规定位置包括衬底更换位置。
24.按照权利要求21所述的曝光装置，其特征在于，
该曝光装置还具备设置在上述衬底台上的干涉仪反射镜，上述回收装置的沟部配置在上述干涉仪反射镜附近。
25.一种制造器件的方法，其特征在于使用权利要求1、13、14和17的任一项所述的曝光装置。
26.一种曝光方法，用于由投影光学系统把规定图案像投影到衬底上而使上述衬底曝光，其特征在于包括下列步骤：
从上述衬底上方向上述投影光学系统和上述衬底之间供给液体；
在上述衬底外侧而且从低于上述衬底的位置回收上述供给的液体；以及
在进行上述液体的供给和回收期间使上述衬底曝光。
27.按照权利要求26所述的曝光方法，其特征在于，
该曝光方法还包括从上述衬底的上方回收上述供给的液体。
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