CN1906541A - 物镜中光学元件的保持器件 - Google Patents

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Abstract

一种物镜(1)中光学元件(5)的保持器件(6)，具有一方面与物镜(1)连接、另一方面至少间接地与光学元件(5)连接的底座(4)。在底座(4)与光学元件(5)之间设置有加固元件(8)，它的热膨胀系数大致对应于光学元件(5)的热膨胀系数。

Description

物镜中光学元件的保持器件
技术领域
本发明涉及一种物镜中光学元件的保持器件。本发明还涉及一种物镜、一种光刻装置和在物镜中连接光学元件与加固元件的方法。
背景技术
光学元件的保持器件是指物镜中的终端元件，光刻物镜中就是这种情形，对应的光刻物镜在现有技术中是公知的。在这种投射物镜的情形中为了在具有相联底座或与底座连接的部分的光学元件之间提供非粘性连接，通过表面匹配的方式来设置将要交换的光学元件与底座或与底座连接的部分之间的匹配形状的光学精确度。理论上终端元件的这种保持器件对于光刻中的常规应用是合适的。
在可选择的方案中，将板粘结到底座，使用环形托板支撑来进行三点支撑。软橡胶粘结剂或接合剂用来平衡光学材料和底座材料的不同的热膨胀系数。在所谓的玻璃硬粘结的情形中，通过光学元件与底座之间的机械弹性元件来执行该平衡。
现有技术可参照文献US 2002/0167740A1、EP 1279984A1、US2002/0021503A1或US 2001/0039126A1。
然而，当例如在EP 0 023 231B1中所述的浸渍光刻使用光刻物镜时，在常规的“干”光刻中使用的安装技术就不适合了。因而，在最小变形的情形中，终端元件和终端元件位于其中的优选为液体的浸渍介质就已经像透镜一样工作了，因为在常规光刻物镜的情形中产生的补偿效果由于空气-玻璃-空气组件而得以消除。其如此保持着，因为终端元件是光学活性的，而且大多数都具有相当小的厚度。结果，终端元件具有明显接近满足的变形公差，终端元件上游的气体压力发生波动，且在终端元件下游的液体压力能导致进一步的变形。因为在浸渍光刻情形中终端元件与底座之间连接部上的密封条件明显大于常规光刻的密封条件，这是很自然的，所以这种密封所需的力增大，由此增加了终端元件的潜在变形。
在浸渍光刻中使用的公知光刻物镜产生的另一个问题是，终端元件和底座具有实质上不同的热膨胀系数，在浸渍介质和/或周围环境温度波动的情形中，以及由于激光辐射产生的热量，很可能在终端元件中导致变形，因而降低了成像的准确度。
光刻装置是将所需图案施加到基板靶部上的机器。例如在制造集成电路(IC)的制造中使用光刻装置。在该情形中，构图部件，例如掩模，用于产生与IC的单个层对应的电路图案，该图案被成像到具有辐射敏感材料(光刻胶)层的基板(例如硅晶片)上的靶部(例如包括一个或几个电路小片部分)上。一般，单个基板包含连续曝光的相邻靶部网络。公知的光刻装置包括：所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到靶部上来辐射每个靶部；和所谓的扫描器，其中在给定方向(“扫描”方向)上通过投射光束扫描所述图案，同时平行或反平行于该方向同步扫描基板，来辐射每个靶部。
已经提出，将光刻投射装置的基板浸入具有相当高折射率的液体例如水中，以填充投射系统的末端元件与基板之间的空间。该方案能使更较的特征成像，因为曝光辐射在液体中具有更短的波长。(液体的效果也被认为增加了系统的有效NA且还增加了聚焦深度。)
然而，将基板或基板台浸入液体池中(例如参见US 4,509,852，其在这里全部结合作为参考)意味着存在大量的液体，其在扫描曝光过程中必须被加速。这就需要额外的或更大功率的电机，且液体中的振荡导致不希望和不可预知的效果。此外，光学特性，尤其是投射系统的元件的几何光学特性必须保持恒定。
对于液体供给系统提出了一个方案，其利用液体限制系统而仅仅在基板的局部区域上和投射系统的末端元件与基板之间提供液体(基板一般具有比投射系统的末端元件大的表面面积)。在WO99/49504中公开了一个方法，其提出了这样排列。液体通过至少一个入口，优选沿着基板相对于末端元件移动的方向而被供给到基板上，并在投射系统下面穿过之后通过至少一个出口移除。提出的另一个方案是，提供具有密封元件的液体供给系统，所述密封元件沿着投射系统末端元件与基板台之间的空间的至少一部分边界延伸。密封元件相对于投射系统在XY平面内基本固定，尽管在Z方向上(在光轴方向上)有一些相对移动。在密封元件与基板表面之间形成密封。优选密封是非接触密封，例如气体密封。在欧洲专利申请No.03252955.4中公开了这种系统。
然而，已经发现在投射系统底部周围存在液体会使元件变形，其导致曝光的恶化。液体还进入了投射系统，这使装置的精密部件随着时间而而损坏或变形。
US 6,190,778公开了一种使用有机化合物粘结硅物体的方法。US 4,983,251公开了一种没有中间层的粘结方法，称作直接粘结，然后退火。US 5,054,683描述了一种粘结方法，其中具有包含硼的连接层。两个物体连带连接层压在一起，经过热处理而将它们粘结。
发明内容
本发明的一个目的是，提供一种物镜中光学元件的保持器件，其特别地，但不排他地适于满足浸渍光刻中光刻物镜上关于光学元件的变形和由此导致的成像准确度的条件。
根据本发明，利用物镜中光学元件的下述保持器件来达到该目的，所述保持器件具有一方面与物镜连接、另一方面至少间接地与光学元件连接的底座，在底座与光学元件之间设置有加固元件，其热膨胀系数大致对应于光学元件的热膨胀系数。
依照本发明，在底座和光学元件之间设置加固元件，加固元件依照本发明有利地确保了保持器件坚实的加固，因而对刚性且安全地保持所述光学元件有贡献，从而没有出现由于浸渍光刻中产生的力而导致的变形。
鉴于依照本发明，加固元件具有大致对应于光学元件热膨胀系数的热膨胀系数的事实，在浸渍介质温度变化的情形中，或在激光辐射作用的情形中，两个组件的膨胀不会出现差别。结果，光学元件与底座退耦(decoupling)，上述不同的热膨胀的问题转移到了其效果非常小的物镜内部的另一个点。
此外，依照本发明的加固元件提供了非常好的可能性，即将物镜与浸渍介质密封开来。因而，在有利的加固中，在光学元件与加固元件之间设置有密封件或衬垫。
用于实现加固元件和光学元件至少大约相同的热膨胀系数的特别简单的可行性是，加固元件和光学元件都由相同的材料组成。
在本发明另一个有利的加固中，可进一步提供通过扭挤(wrung)连接将加固元件和光学元件连接。首先，其由非常容易实现的加固元件与光学元件之间的连接组成，其次，如果甚至在没有上述密封器件的情况下，还确保了在光学元件与加固元件之间非常好的紧密性，从而浸渍介质不会渗入物镜中。
此外，为了提高扭挤连接的紧密性，在扭挤之前用化学活性液体处理光学元件和加固元件的接触表面，并在扭挤之后暴露于超过150℃的温度。
当在本发明有利的改进中，在扭挤连接区域中给光学元件和/或加固元件设置保护层时，会增加扭挤连接的紧密性。
为了避免渗入物镜的浸渍介质排出，在本发明进一步有利的改进中，在底座和加固元件之间设置密封件或衬垫。以避免密封件或衬垫与浸渍介质接触的方式，设置密封件或衬垫。
在权利要求24中描述了一种物镜，其具有光学元件和用于光学元件的保持器件，该保持器件具有底座，该底座一方面与物镜相连，另一方面至少间接地与光学元件相连，在底座与光学元件之间设置有加固元件，其热膨胀系数大致对应于光学元件的热膨胀系数。
在权利要求32中，要求保护一种光刻装置，其包括用于提供辐射的投射光束的照明系统、用于支撑构图部件的支撑结构、用于保持基板的基板台、和用于将构图光束投射到基板的靶部上的投射系统，，投射系统包括物镜，该物镜具有光学元件和用于光学元件的保持器件，该保持器件具有底座，该底座一方面与物镜相连，另一方面至少间接地与光学元件相连，在底座与光学元件之间设置有加固元件，其热膨胀系数大致对应于光学元件的热膨胀系数。
权利要求33中显示了一种在物镜中连接光学元件和加固元件的方法，其中光学元件和加固元件彼此通过扭挤连接。
权利要求38中给出了通过使用根据权利要求32的光刻物镜制造半导体组件的方法。
本发明其它的有利特点可从其余的从属权利要求获得。下面借助附图大体描述本发明的典型实施方案。
附图说明
图1显示了依照本发明的物镜的第一实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图2显示了依照本发明的物镜的第二实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图3显示了图2的具有不同填充水平的浸渍介质的物镜；
图4显示了依照本发明的物镜的第三实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图5显示了依照本发明的物镜的第四实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图6a，6b，6c显示了光学元件与加固元件之间的扭挤连接的各种几何图形；
图7显示了依照本发明的物镜的第五实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图8显示了依照本发明的物镜的第六实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图9显示了依照本发明的物镜的第七实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图10显示了依照本发明的物镜的第八实施例，其具有依照本发明的保持器件；
图11显示了在光学元件具有保护层的情形中光学元件与加固元件的连接；以及
图12显示了包含依照本发明的物镜的光刻装置。
具体实施方式
图1显示了物镜的第一实施例，其设计为光刻物镜1并尤其适用于浸渍光刻，但还可用于其它类型的光刻并且也可用于其它目的。因为浸渍光刻本身是公知的，所以这里将不再详细地解释该方法。光刻物镜1具有外壳2，其被非常示意性地表示，且在其内部以本身公知的方式设置了多个光学元件3，然而光学元件的数量和排列仅仅是示意性的。
外壳2的底部上安装了基底结构或底座4，其例如通过螺栓(没有示出)固定到外壳2，从而可拆卸地连接到所述外壳上。当然，还可想到其它类型的连接方式将底座4连接到外壳2上，借助该连接底座4可从外壳2上移除。底座4用于容纳终端板或终端元件5，该终端板或终端元件借助于下面详细描述的保持器件6保持在底座4中，且其将光刻物镜1向下与浸渍介质7封装开来。除了用于终端元件5，保持器件6一般还用于光学元件。
底座4与终端元件5之间设置有作为保持器件6一部分的连接和/或加固元件8，其将终端元件5连接到底座4上。为了获得在终端元件5的z-或轴方向上与底座4间隔开的目的，加固元件8具有曲柄9，其确保了终端元件5非常紧地装配在底座4上。
为了不使从浸渍介质7传输到终端元件5上的任何热量传输给底座4，加固元件8还具有大致对应于终端元件5的热膨胀系数的热膨胀系数。为了尽可能以简单的方式实现这个目的，加固元件8优选由与终端元件5相同的材料构成。在DUV区域(就是说248nm)、VUV区域(就是说193nm)、或157nm区域中工作的光刻物镜1的情形中，用于终端元件5和加固元件8的材料大致为石英(SiO2)或氟化钙(CaF2)。当终端元件5大致由CaF2构成时，加固元件8例如还可使用黄铜，因为该材料具有与氟化钙非常类似的热膨胀系数。无论如何，对于终端元件5和加固元件8应使用抵抗浸渍介质7的材料。优选使用液体例如水作为浸渍介质。
终端元件5通过扭挤连接10连接到加固元件8上，在图6a，6b和6c中详细解释了该扭挤连接10可能的几何图形。以本身公知的方式产生的扭挤连接10在连接元件5与加固元件8之间已经提供了非常好的紧密连接，尤其是当两个扭挤部件时，就是说加固元件8和终端元件5处理成与化学激活液体扭挤且在扭挤到超过50o的温度后暴露。为了进一步提高紧密性，在所示实施例的情形中，在终端元件5与加固元件8之间设置密封件或衬垫11。除了扭挤连接10之外，密封件11确保了在终端元件5与加固元件8之间粘结间隙中的紧密性，并阻止了浸渍介质7渗透，甚至在粘结间隙中可能存在毛细作用的情形中。优选与浸渍介质7不反应且具有最轻微膨胀的密封件11。密封件11优选其具有与终端元件5和加固元件8大致相同的热膨胀系数。密封件11设置在扭挤连接10的内侧、外侧上，或者还可设置在两侧上。如果适当，密封件1还可为分离的部件，诸如密封环或衬垫。在该情形中扭挤连接10和/或密封件11还可确保光刻物镜1的气密性。
还可以想到作为扭挤连接10的替换方式，可通过粘结和/或焊接的方式将终端元件5连接到加固元件8上，在焊接的情形中需要使用尽可能低熔点的焊料。扭挤连接10是气密的且对与浸渍介质7接触基本上不灵敏，这样充分保护了扭挤连接10内侧上的任何可能附加的安全粘结。扭挤连接10和焊接连接(没有示出)是将终端元件5硬连接到加固元件8上的硬连接，而不会出现关于可能的力传输的问题，因为终端元件5和加固元件8的热膨胀系数大致相同。
以没有示出的方式，终端元件5和加固元件8还可设计成彼此为一体，就是说可以是单个的、单块组件，另一方面，其可以确保终端元件5，具体地说是在浸渍介质7方向上的光刻物镜1终端的实际功能，另一方面可确保终端元件5刚性地装配在底座4上。这要求光学表面，就是说由终端元件5形成的部分具有充分小的厚度，而由加固元件8形成的部分需要如此设计，即要确保光学表面的刚性。
底座4例如优选由金属材料例如高级别钢构成。或者是，底座4还可由光学工程中公知的其他材料例如陶瓷、不胀钢、Zerodur、黄铜和其他金属合金构成。这些材料之间的差别以及各自的优点本身是公知的，因此在这里不再进一步解释。当底座4的材料与外壳2的材料在特性方面匹配时特别优选。
加固元件借助多个弹性支撑点12支撑在底座4内部，优选存在三个支撑点12。例如弹性元件用作弹性支撑点12。还可以想到借助多个非常软的弹性元件的弹性嵌入。在这些情形中，适宜使用硬粘结剂、夹子或焊接来将加固元件8连接到底座4的支撑点上。还可以在底座4内部提供加固元件8的等压支撑。
在借助环形托板或三个固定支撑点支撑的理论上其他可能的情形中，应使用软橡胶粘结剂来减弱不同的热膨胀系数。本身公知的其他应用的大部分适宜的方案都可用于支撑加固元件8。
此外，在该情形中设置了紧固元件13，其作用在加固元件8的纤芯(neutralfiber)上，就是说作用在认为加固元件8最小变形的区域处。
为了保护紧固元件13免于浸渍介质7或免于来自其的可能排气，在底座4和加固元件8之间设置额外的密封件和衬垫14。该密封件14可以这样的方式设置，即避免与浸渍介质7接触。在该情形中，以非常薄的薄膜形式设计密封件14，其式样像波形管并在粘结点14a和14b处一方面粘结到终端元件5上，另一方面粘结到加固元件8，要求粘结点14a和14b位于浸渍介质7的外部。在将加固元件8紧密连接到底座4的情形中，尤其是使用软橡胶粘结剂或接合剂(cement)时，密封件14可用作额外的保护。例如通过在模具上电沉积镍可制造薄膜形式的密封件14。在该情形中，如此设计密封件14的尺寸：即，使得尽可能少的变形传输到加固元件8。粘结点14a和14b以这样的方式减弱了密封件14：即，对加固元件8基本上没有影响。用于将加固元件8紧固在底座4中的软橡胶粘结剂以及用于紧固密封件14的软橡胶粘结剂在湿气的影响下都可能膨胀。因此优选在密封件14上焊接焊料，因而可靠地保持湿气远离软橡胶粘结剂。
在光刻物镜1和保持终端元件5的保持器件6的实施例的情形中，依照图2，代替弹性支撑点12，提供多个粘结点15，其允许在底座4内额外固定加固元件8。此外，图2中示出了利用光刻物镜1以本身公知的方法制造的晶片16，这里浸渍介质7的水平超过了终端元件5和加固元件8之间的连接部。
图3中示出了浸渍介质7的多个填充水平，当在浸渍光刻中使用光刻物镜1时可能是这些情况。浸渍介质的填充水平或水平7a位于比终端元件5的光学表面低的水平处，在该状态中不需要对终端元件5与加固元件8之间的紧密连接做任何特定的准备，就是说，例如配备扭挤连接10。对于终端元件5外表面上的浸渍介质水平7b也是类似的状态，需要注意的是对于该水平，由于流体的移动，浸渍介质7进入终端元件5与加固元件8之间的连接部的可能性较高。最后，在浸渍介质水平7c的情形中，浸渍介质7位于终端元件5与加固元件8之间的连接部之上，这对该连接的紧密性要求非常严格。例如参照密封件11以及粘结的和/或焊接的连接部已经描述了符合这些要求的可行性。此外，通过涂覆或合适的化学方法，底座4、终端元件5和加固元件8可以免受浸渍介质7的腐蚀影响。
在依照图4的光刻物镜1和/或保持器件6的实施例中，借助弹性退耦元件17削弱了底座4与加固元件8之间的不同的热膨胀系数。在该实施例中，弹性退耦元件17具有圆周连接环18，优选在每个情形中三个接合元件19在底座4的方向上和加固元件8的方向上从所述圆周连接环18延伸，并且例如粘结到这两个组件上。接合元件19设计成与连接环18为一块，并分别形成实体结合，通过该方式可将加固元件8设置成偏轴(decentering)。代替通过圆周连接环18连接接合元件19的是，还可在加固元件8和/或底座4的圆周周围提供多个单个的、优选三个弹性退耦元件17。在这里退耦元件17形成了加固元件8的等压支撑。
在光刻物镜1的所有上述实施例的情形中，可使用控制器(没有示出)或盘底(disks ground)来排列，以调整终端元件5的轴位置，就是说沿着光轴(z-轴)的调整以及所谓的倾斜。图5中所示的是光刻物镜1和保持器件6的实施例，其尤其简化了可允许倾斜为角α的调整。在该情形中，在面对底座4的一侧上设置加固元件8，因而弹性退耦元件17具有球形表面20或半径。通过相对于加固元件8移动球形表面20上的底座4，可以将加固元件8的倾斜、由此将终端元件5的倾斜设定成理想的值。这通过利用本身公知的所谓转动(turningin)的方法来实现。在设定该值之后，可借助加固元件8上弹性退耦元件17的支撑点处的低熔点焊料执行粘结或焊接。此外，当使用硬粘结剂时应当设置放射状去耦元件(没有示出)。
图6a，6b和6c中示出了在终端元件5与加固元件8之间的扭挤连接10的多个几何图形。在图6a所示的扭挤连接10的情形中终端元件5和加固元件8分别具有平坦的表面。在依照图6b的设计中，终端元件5的扭挤表面是凸面，而加固元件8在该区域中是凹陷设计的。反之，在依照图6c的设计中，终端元件5设置有凹陷的扭挤表面，加固元件8设置有凸出的扭挤表面。不管扭挤表面是凸表面还是凹陷表面，这些表面分别都是球形或非球形设计的，在该情形中，每个表面都应当是球形设计或每个表面都是非球形设计且应当具有相同的曲率，以在终端元件5与加固元件8之间达到最佳的可能连接目的。
在依照图7的光刻物镜1和保持器件6的实施例的情形中，终端元件5与设置在光刻物镜1内部的光学元件3之间的空间优选使用惰性气体清洁，由此，该空间在下面表示为气体空间21。为此，气体供给线22穿过底座4进入气体空间21，气体移除线23从气体空间21向外延伸。这样可将浸渍介质7的排气组分到达终端元件5与光学元件3之间的气体空间21的危险最小化，即当使用水作为浸渍介质时，在该情形中涉及到水蒸汽。可以以没有描述或详细图解的方式控制气体空间21中的压力。气体空间21额外还可用浸渍介质清洁。
依照图8的保持器件6和光刻物镜1的实施例展现出用于清洁浸渍介质空间24的结构，所述空间由环25包围且其中设置有浸渍介质7。在该情形中环25设置有气体供给线26和气体排出线27，气体排出线27优选与抽吸泵(没有示出)连接。通过气体供给线26，气体通过圆形设置的喷嘴28在晶片16的方向上被吹进气体间隙29。通过穿过环25的环形形式导向的槽30来进行通过气体排出线27的气体排出。这样确保了环25相对于晶片16的自由移动，且浸渍介质7保持在设置的浸渍介质空间24中。为了能补偿在光轴方向上的位置误差，且为了能使压力平衡，环25在终端元件5的方向上向上开口，由此可持久地排出浸渍介质7的排气。通过位于浸渍介质7的填充水平之上的排出线31来达到该目的。当然，还可将排出线31集成进底座4内。
以没有示出的方式，为了在移动浸渍介质7的过程中在浸渍介质空间24内不产生振动，对于位于浸渍介质7内部的终端元件5的区域，可设计最佳的流速。
当在依照图9的光刻物镜1的情形中，在终端元件5与加固元件8之间不需要密封件时，利用气体空间21内的压力控制或调节这里产生的浸渍介质7的填充水平7d。
图10中所示的是操纵器件32，其允许终端元件5沿光轴和在垂直于光轴的平面上移动，和/或允许其围绕与光轴垂直的轴倾斜。在该情形中，为此，操纵器件32具有围绕外壳2与底座4之间的外壳2圆周分布的多个激励器33。所述激励器以本身公知的方式允许终端元件5的上述移动。此外，或者作为可选择的方案，还可以在上述方向上移动和/或倾斜其上具有晶片16的支撑板34。
激励器33可任选为可控制的或可调整的设计，可调激励器33预示集成的传感器系统。为此对于操纵器件32可取消用于确定终端元件5的倾斜和域确定终端元件5的轴位置的测量系统(没有示出)。然而为了调节终端元件5的倾斜和/或确定终端元件5的轴位置，可设置闭路控制电路，此电路具有操纵器件32、测量系统和控制系统。代替操纵器件32的是，还可使用本身公知的间隔器，以设置终端元件5的轴位置。
在终端元件5和加固元件8彼此接触的区域中，参照图11的放大图解可以看出，在终端元件5上和加固元件8上都设置有保护层35。该保护层35首先意在阻止浸渍介质7使终端元件5与加固元件8之间的扭挤连接10变松，其次阻止后者与扭挤连接10的区域中的终端元件5的材料直接接触。这样可阻止由于其他可能的终端元件5材料的最初分散而造成的安装中的变化，因为在所使用的激光辐射的所有波长处，保护层35都确保终端片5的扭挤连接10的充分保护。如果合适的话，保护层35还可仅仅施加到终端元件5或加固元件8上，终端元件5和加固元件8的形状是不重要的。
为此，保护层35的材料应表现出较差的水溶性和较高的水非渗透性或较低的水渗透性，以及对终端元件5的材料，优选对CaF2基板具有粘结特性。尤其可以考虑一般现有技术公知的所谓的溶胶-凝胶材料作为层材料，这些材料大部分由有机溶剂混合物形成并且非常有效地粘附到氧化物和氟化物层上。对于给溶胶-凝胶保护层涂覆其他物质的方法包括旋转涂布、浸渍涂布、喷射涂布和刷涂。当然也可以使用其他方法将保护涂层35施加到终端元件5和加固元件8上。与其他涂布方法相比，所述方法是非常简单且快速的涂覆保护层35的类型，其使用较低的机械费用来执行。由于在扭挤连接10的区域中，终端元件5和加固元件8复杂的几何图形，这尤其有效。
除了单个涂层之外，还可使用由多个溶胶-凝胶单个层构成的层系统，只要针对水溶解性、水渗透性和粘结强度具有所需的特性就行。
为了避免可能的涂层破裂，小于1μm的层厚度是受欢迎的。因为无需满足有关透射或反射的要求，所以保护层35是透明的和吸收性的。
图12示意性地描述了依照本发明特定实施例的光刻装置。该装置包括：照明系统(照明器)IL，其用于提供辐射(例如UV辐射)的投射光束PB；第一支撑结构(例如掩模台)MT，其用于支撑构图部件(例如掩模)MA并连接到用于相对于零件PL精确定位构图部件的第一定位部件；基板台(例如晶片台)WT，其用于保持基板(例如涂覆光刻胶的晶片)W并连接到用于相对于零件PL精确定位基板的第二定位部件；和投射系统(例如折射投射透镜)PL，其用于将由构图部件MA赋予给投射光束PB的图案成像到基板W的靶部C(例如包含一个或多个电路小片)上。投射系统PL包含或由上述的物镜1组成。
如这里所述，该装置是透射型的(例如使用上述类型的程控反射镜阵列)。照明器IL接收来自辐射源的辐射光束。例如当辐射源是受激准分子激光器时，辐射源和光刻装置可以是分离的实体。在该情形中，辐射源不认为是形成为光刻装置的一部分，辐射光束借助例如包含合适的导向反射镜和/或扩束器的光束传递系统而从辐射源传播到照明器IL。在其他情形中，例如当辐射源是汞灯时，辐射源是该装置的构成部分。辐射源和照明器IL与光束传递系统(如果需要的话)一起称作辐射系统。

Claims (38)

1.一种物镜(1)中光学元件(5)的保持器件(6)，所述保持器件(6)具有一方面与所述物镜(1)连接，另一方面至少间接地与所述光学元件(5)连接的底座(4)，在所述底座(4)与所述光学元件(5)之间设置有加固元件(8)，所述加固元件的热膨胀系数大致对应于所述光学元件(5)的热膨胀系数。
2.根据权利要求1所述的保持器件，其特征在于，在所述光学元件(5)与所述加固元件(8)之间设置有密封件或衬垫(11)。
3.根据权利要求1或2所述的保持器件，其特征在于，所述加固元件(8)和所述光学元件(5)由相同的材料构成。
4.根据权利要求3所述的保持器件，其特征在于，所述加固元件(8)和所述光学元件(5)基本由SiO2构成。
5.根据权利要求3所述的保持器件，其特征在于，所述加固元件(8)和所述光学元件(5)基本由CaF2构成。
6.根据权利要求1-5任一项所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)通过扭挤连接(10)彼此连接。
7.根据权利要求6述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)在每个情形中在所述扭挤连接(10)的区域中都具有大致平坦的表面。
8.根据权利要求6所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)在每个情形中在所述扭挤连接(10)的区域中都具有球形的表面。
9.根据权利要求6所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)在每个情形中在所述扭挤连接(10)的区域中都具有非球形的表面。
10.根据权利要求6-9任一项所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和/或所述加固元件(8)在所述扭挤连接(10)的区域中设置有保护层(35)。
11.根据权利要求10所述的保持器件，其特征在于，所述保护层(35)由溶胶-凝胶材料形成。
12.根据权利要求1-5任一项所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)通过粘结而彼此连接。
13.根据权利要求1-5任一项所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)通过焊接而彼此连接。
14.根据权利要求1-5任一项所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)被设计成彼此为一块。
15.根据权利要求1-14任一项所述的保持器件，其特征在于，在所述底座(4)和所述加固元件(8)之间设置有密封件或衬垫(14)。
16.根据权利要求15所述的保持器件，其特征在于，所述密封件或衬垫(14)按避免与浸渍介质(7)接触的方式设置。
17.根据权利要求1-16任一项所述的保持器件，其特征在于，所述加固元件(8)利用等压支撑保持在所述底座(4)内部。
18.根据权利要求17所述的保持器件，其特征在于，所述等压支撑在所述加固元件(8)与所述底座(4)之间具有多个、优选为三个的弹性支撑点(12)。
19.根据权利要求1-18任一项所述的保持器件，其特征在于，所述加固元件(8)利用多个紧固元件(13)装配在所述底座(4)上。
20.根据权利要求19所述的保持器件，其特征在于，所述紧固元件(13)作用在所述加固元件(8)的纤芯上。
21.根据权利要求1-20任一项所述的保持器件，其特征在于，在所述底座(4)与所述加固元件(8)之间设置有至少一个弹性退耦元件(17)。
22.根据权利要求21所述的保持器件，其特征在于，所述弹性退耦元件(17)具有多个接合元件(19)，所述接合元件位于所述加固元件(8)的球形表面(20)上。
23.根据权利要求1-22任一项所述的保持器件，其特征在于，所述光学元件设计为终端元件(5)。
24.一种物镜，所述物镜具有光学元件(5)和用于所述光学元件(5)的保持器件(6)，所述保持器件具有底座(4)，所述底座一方面与所述物镜(1)相连，另一方面至少间接地与所述光学元件(5)相连，在所述底座(4)与所述光学元件(5)之间设置有加固元件(8)，所述加固元件的热膨胀系数大致对应于所述光学元件(5)的热膨胀系数。
25.根据权利要求24所述的物镜，其特征在于，所述物镜被设计为光刻物镜(1)。
26.根据权利要求25所述的物镜，其特征在于，所述物镜是浸渍光刻物镜。
27.根据权利要求26所述的物镜，其特征在于，在所述光学元件(5)与设置在所述光刻物镜(1)内的光学元件(3)之间设置有气体或浸渍介质的供给线(22)，和气体或浸渍介质的移除线(23)。
28.根据权利要求26所述的物镜，其特征在于，在所述光学元件(5)与浸渍介质(7)之间设置有进入浸渍介质空间(24)的气体供给线(26)和从浸渍介质空间(24)出来的气体排出线(27)。
29.根据权利要求24-28任一项所述的物镜，其特征在于，设置有操纵器件(32)，借助所述操纵器件，所述光学元件(5)沿光轴和/或在垂直于所述光轴的平面内移动，和/或围绕垂直于所述光轴的轴倾斜。
30.根据权利要求29所述的物镜，其特征在于，用于确定所述光学元件(5)的倾斜和/或偏离和/或轴位置的测量系统与所述操纵器件(32)相连。
31.根据权利要求30所述的物镜，其特征在于，设置有用于控制所述器光学元件(5)的倾斜和/或偏离和/或轴位置的控制回路，所述回路具有操纵器件(32)、测量系统和控制器件。
32.一种光刻装置，包括用于提供辐射的投射光束(PB)的照明系统(IL)、用于支撑构图部件(MA)的支撑结构(MT)、用于保持基板(W)的基板台(WT)、和用于将构图光束投射到所述基板(W)的靶部(C)上的投射系统(PL)，所述投射系统(PL)包括物镜(1)，所述物镜(1)具有光学元件(5)和所述光学元件(5)的保持器件(6)，所述保持器件具有底座(4)，所述底座一方面与所述物镜(1)相连，另一方面至少间接地与所述光学元件(5)相连，在所述底座(4)与所述光学元件(5)之间设置有加固元件(8)，所述加固元件的热膨胀系数大致对应于所述光学元件(5)的热膨胀系数。
33.一种在物镜(1)中连接光学元件(5)和加固元件(8)的方法，其中所述光学元件(5)和所述加固元件(8)彼此通过扭挤连接。
34.根据权利要求33所述的方法，其特征在于，在扭挤之前，所述光学元件(5)和所述加固元件(8)的各自接触表面用化学活性液体处理，在扭挤之后暴露于超过150℃的温度。
35.根据权利要求34所述的方法，其特征在于，酸用作化学活性液体。
36.根据权利要求33所述的方法，其特征在于，在所述光学元件(5)和/或所述加固元件(8)的扭挤连接(10)的区域中设置保护层(35)。
37.根据权利要求36所述的方法，其特征在于，通过溶胶-凝胶方法设置保护层(35)。
38.通过使用根据权利要求32的光刻物镜制造半导体组件的方法。
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