DE10123926A1 - Bestrahlungsanordnung - Google Patents

Bestrahlungsanordnung

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Bestrahlungsanordnung, insbesondere zur Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Entzündungen der Haut und der inneren Organe, viralen und anderen infektiösen Erkrankungen wie HIV oder Prioneninfektionen, Pilzinfektionen der Haut und der Schleimhäute, bakteriellen Erkrankungen der Haut und der Schleimhäute sowie Hand- und Analekzemen, umfassend mindestens eine Bestrahlungsquelle zur flächenhaften Bestrahlung einer Behandlungsfläche, wobei die Wellenlänge der emittierten Strahlung auf der Behandlungsfläche größer als 400 nm ist und mindestens einen Spektralanteil im Wellenlängenbereich von 400-500 nm umfaßt, wobei die Bestrahlungsanordnung Mittel zur Erzeugung von optischen Pulsen auf der Behandlungsfläche umfaßt, wobei die Bestrahlungsstärke der Bestrahlungspeaks der optischen Pulse größer 1 W/cm·2· und kleiner als 100 kW/cm·2· ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Bestrahlungsanordnung für therapeutische Zwecke, insbesondere zur akuten oder chronischen Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Entzündungen der Haut und der inneren Organe, viralen und anderen infektösen Erkrankungen wie HIV oder Prioneninfektionen, Pilzinfektionen der Haut und der Schleimhäute, bakteriellen Erkrankungen der Haut und der Schleimhäute sowie Hand- und Analekzemen.
Therapeutische Bestrahlungsanordnungen sind insbesondere im Bereich der Phototherapie von Hauterkrankungen seit langem bekannt. Je nach Anwendungsgebiet wird dabei ein Patient im Wellenlängenbereich von 315-­ 1500 nm bestrahlt. Insbesondere der Wellenlängenbereich zwischen 315-340 nm (UV-A2) kann nachweislich zu einem erhöhten Krebsrisiko führen, so daß insbesondere bei der Behandlung von atopischen Ekzemen die UV-A1- Therapie (340-400 nm) zur Anwendung kommt.
Die Chemo-Phototherapie als Oberbegriff umfaßt allgemein die Verwendung von optischer Strahlung zur Erzielung von therapeutischen Effekten. Ein Untergebiet der Chemo-Phototherapie ist die sogenannte photodynamische Therapie PDT. Zwei Hauptanwendungsgebiete der PDT sind die Krebsbehandlung und die Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Hautentzündungen. Gemeinsames Merkmal der PDT ist die Erzeugung von reaktiven Sauerstoff-Spezies. Hierzu regt die optische Strahlung inner- oder äußerlich verabreichte Farbstoffmoleküle an, die dann in einen angeregten Zustand überführt werden. Durch Wechselwirkung mit vorhandenen Sauerstoffmolekülen werden durch Energieübertragung reaktive Sauerstoff-Spezies gebildet, die dann die Zelle schädigen oder gar zerstören.
Bei der Krebstherapie mit PDT, wo die Tumorzellen zerstört werden sollen, sind zwei Anwendungsgebiete zu unterscheiden. Der Hauptanwendungsfall ist die Tumorbehandlung innerer Organe. Hierzu wird endoskopisch über eine Glasfaser die optische Strahlung eines Laser zu dem Tumor geleitet und dieser punktuell bestrahlt. Des weiteren werden dem Patienten Photosensibilisatoren gespritzt. Dabei tritt das Problem auf, daß das Tumorgewebe erheblich schlechter durchblutet ist, so daß auch der Sauerstoffgehalt sehr niedrig ist, was aber auch die Umwandlung in reaktive Sauerstoff-Spezies begrenzt. Daher ist es bei der Tumorbehandlung innerer Organe mit PDT bekannt, dem Patienten inspiratorisch erhöht Sauerstoff zuzuführen, so daß der Sauerstoffgehalt im Tumorgewebe erhöht wird und vermehrt reaktive Sauerstoff-Spezies gebildet werden können. Aufgrund des erhöhten Sauerstoffverbrauches ist es bekannt, die Bestrahlungsquelle im Pulsbetrieb zu betreiben, so daß in den Pulspausen Sauerstoff nachdiffundieren kann. Das zweite Anwendungsgebiet in der Krebstherapie mit PDT ist die Behandlung von äußeren Tumoren wie insbesondere Hautkrebs, wo aufgrund des vorhandenen Sauerstoffs in der Umgebung auf eine zusätzliche Sauerstoffzugabe verzichtet wird.
Bei der Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Hautentzündungen handelt es sich im Gegensatz zu Tumoren stets um großflächige Entzündungen, so daß hier flächenhafte Strahlungsquellen zur Anwendung kommen, die Behandlungsflächen von beispielsweise 5 cm2 bis 2 m2 simultan bestrahlen. Ein weiterer Unterschied zu den Tumoren ist die erhöhte Durchblutung von Entzündungen, die bereits äußerlich durch die vorhandene Rötung im Entzündungsbereich gut erkennbar ist. Des weiteren findet keine exogene Sensibilisatorapplikation statt, so daß selbst unter der Annahme einer phototherapeutisch induzierten Beteiligung von Singulett- Sauerstoff, z. B. über die photodynamische Wirkung endogener Porphyrine, davon auszugehen ist, daß selbst bei einer erheblichen Verminderung der Sauerstoffkonzentration in der Haut es nur zu einer unwesentlichen Verminderung der Triplet-Effizienz kommt. Darüber hinaus liegt die maximale Konzentration endogener Photosensibilisatoren um mehrere Größenordnungen unter der Konzentration, die nach topischer und/oder systemischer Applikation erreichbar ist. Die erwähnte gute Hautdurchblutung in Verbindung mit der geringen Sensibilisatorkonzentration führte dazu, daß es bisher nicht zu einer synchronen Foto/Sauerstofftherapie bei den zellvermittelten Erkrankungen gekommen ist.
Das überwiegend in der Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Hauterkrankungen eingesetzte Verfahren der PDT ist die hochdosierte UV-A1- Therapie im Wellenlängenbereich von 340-400 nm. Dabei ist zum einen die Abgabe hoher Dosen von beispielsweise 130 J/cm2 und zum anderen die Bestrahlungsstärke von mehr als 60 mW/cm2 erforderlich, um ausreichende therapeutische Effekte zu bewirken. Trotzdem bleibt bei ca. 20-30% der behandelten Patienten die UV-A1-Therapie wirkungslos.
Es ist weiter bekannt, Akne, eine aufgrund von Bakterienwachstum in verstopften Follikeln talgdrüsenreicher Hautbezirke mit Verhornungsstörungen hervorgerufene Hauterkrankung, mit blauem Licht im Bereich von 400-440 nm ohne wesentliche UVA-Anteile zu behandeln, wobei die Erfolge beschränkt blieben. Hierzu sei auf den Fachartikel "V. Sigurdsson et al. Phototherapy of Acne Vulagris with visible Light, Dermatologie 1997, 194; Bd. 3, 256-260" mit weiteren Literaturhinweisen verwiesen. Angestoßen wurde diese Form der Therapie, daß Aknefollikel im Rahmen der dermatologischen Untersuchung mit einer sogenannten "woodlamp" rot fluoreszieren. Als Quelle der Fluoreszenz wurde die Speicherung großer Mengen von Porphyrinen im Propionibakterium acne nachgewiesen. (Mc Ginley et al., Facial follicular porphyrin fluorescence. Correlation with age and density of propionibacteriium acnes, Br. J. Dermatol Vol. 102., Bd. 3, 437-441, 1980). Da Porphyrine ihre Hauptabsorption (Soret-band) um 420 nm haben, war es für Meffert et al. naheliegend, bakterielle Aknefollikel mit blauem Licht zu behandeln. Die langwelligste Absorptionsbande der Porphyrine liegt bei 630 nm mit einer Eindringtiefe von 4 mm, die für eine photodynamische Follikelbehandlung am besten geeignet ist und auch verwendet wird.
Aus der WO 00102491 ist eine derartige Bestrahlungsanordnung zur Aknebehandlung bekannt, die mindestens ein schmalbandiges Spektrum im Bereich von 405-440 nm umfaßt. Als alternative oder kumulative Spektralbereiche sind die Wellenlängenintervalle von 630-670 nm bzw. 520-­ 550 nm angegeben. Zur weiteren Verbesserung des Wirkungsgrades wird vorgeschlagen, die zu bestrahlende Partie mit Sauerstoff anzureichern, indem mit Sauerstoff angereicherte Emulsionen vor oder während der Bestrahlung auf die zu bestrahlende Fläche aufgetragen werden. Die Bestrahlungsstärke liegt dabei zwischen 10-500 mW/cm2.
Aus der EP 0 565 331 B1 ist eine Vorrichtung zur Behandlung von Gefäßerkrankungen in einem Bereich der Haut bekannt, umfassend ein Gehäuse, mit einer inkohärenten Lichtquelle, montiert in dem Gehäuse und geeignet zum Produzieren von gepulstem Licht für die Behandlung und eine Öffnung in dem Gehäuse, welche einen austretenden Lichtstrahl bestimmt, der auf den Hautbehandlungsbereich gesendet wird, ohne durch ein Kabel aus optischen Fasern zu gehen, und der einen breiteren Strahlungsbereich aufweist als Vorrichtungen mit Kabel aus optischen Fasern, wobei die Vorrichtung ein die niedrigen Frequenzen abschneidendes Filter umfaßt, um die sichtbaren und ultravioletten Teile des Spektrums herauszuschneiden und die inkohärente Lichtquelle einen Ausgangslichtstrahl mit Wellenlängen im Bereich zwischen 300 und 1000 nm produziert. Die Lichtquelle ist elektrisch mit einer Variabel-Impulsbreiten-Erzeugerschaltung verbunden, um einen geregelten Zeitimpuls zu liefern mit einer Breite zwischen 1 und 10 ms, wobei der austretende Lichtstrahl auf der Haut eine Energiedichte zwischen 30 und 100 J/cm2 erzeugt, so daß der hinaustretende Lichtstrahl nach Durchgang durch das obengenannte, die niedrigen Frequenzen abschneidende Filter in die Haut so tief wie gewünscht hineindringen kann, ohne die Haut zu verbrennen, um ein unter der Haut und innerhalb des Hautbehandlungsbereiches liegendes Blutgefäß zu erwärmen und im Blutgefäß Blutkoagulation zu verursachen. Die dort beschriebene Blutkoagulation ist bei der Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Hautentzündungen oder Akne zu vermeiden, so daß die dort beschriebene Vorrichtung für die PDT ungeeignet ist.
Aus der US 5,964,749 ist eine Bestrahlungsanordnung zur Haut-Straffung bekannt, umfassend eine Bestrahlungsquelle, die im Wellenlängenbereich von 600-1200 nm gepulstes Licht emittiert, wodurch Wärme unterhalb der Nekroseschwelle in das Gewebe eingekoppelt wird und dadurch das Collagen der Haut geschrumpft wird. Die Pulsenergien liegen dabei in der Größenordnung von 1 J/cm2. Die Bestrahlungspeaks der Pulse weisen dabei eine Bestrahlungsstärke von 100-1000 W/cm2 auf. Die bevorzugte Gesamtenergie, die bei einer Behandlung verabreicht wird, wird mit 100 J/cm2 angegeben.
Aus der WO 00/53114 ist eine Bestrahlungsanordnung zur Haut-Straffung bekannt, umfassend eine Bestrahlungsquelle, die im Wellenlängenintervall 500-850 nm gepulstes Licht emittiert, wobei die Pulsenergie kleiner 5 J/cm2 beträgt.
Aus der WO 00/28575 ist eine gattungsgemäße Bestrahlungsanordnung für therapeutische und kosmetische Zwecke zur Behandlung von primär T-Zell- vermittelten Hauterkrankungen bekannt, insbesondere von atopischer Dermatitis, cutanem T-Zell-Lymphom, Lichen ruber, Alopecia areata, systemischem Lupus erythermatodes und Psoriasis, wobei die Bestrahlungseinrichtung mindestens eine optische Strahlungsquelle umfaßt, die auf einer zu bestrahlenden Fläche im Wellenlängenintervall von 400-440 nm eine Bestrahlungsstärke von mindestens 2 mW/cm2 erzeugt und im Wellenlängenintervall von 300-400 nm eine Bestrahlungsstärke von weniger als 21% der Bestrahlungsstärke im Wellenlängenbereich von 400-440 nm erzeugt. Die Bestrahlungsanordnung nutzt dabei die überraschende Wirksamkeit der Strahlung im Bereich von 400-440 nm aus, wodurch eine Bestrahlungsanordnung zur Behandlung von primär T-Zellvermittelten Hauterkrankungen zur Verfügung steht, mittels derer bisher kaum behandelbare Hauterkrankungen wie Lichen ruber behandelbar sind und andererseits aufgrund der um Zehnerpotenzen geringeren Karzinogenität gegenüber UVA auch eine Behandlung von Kindern ermöglicht. Weiter ist dort aufgeführt, daß für die therapeutische Wirkungsweise des blauen Lichtes patientenspezifische Schwellwerte für die Bestrahlungsstärken existieren. Als Grund hierfür wird der unterschiedliche Gehalt an Melanin und/oder Antioxidantien der Haut angegeben, so daß vorzugsweise Bestrahlungsstärken von größer 60 mW/cm2 bzw. größer 100 mW/cm2 zur Anwendung kommen.
Der Erfindung liegt daher das technische Problem zugrunde, eine Bestrahlungsanordnung zur Behandlung von akuten und chronischen ganz oder teilweise zellvermittelten Entzündungen der Haut und der inneren Organe, viralen und anderen infektiösen Erkrankungen wie HIV oder Prionenerkrankungen, Pilzinfektionen der Haut und der Schleimhäute, bakteriellen Erkrankungen der Haut und der Schleimhäute sowie Hand- und Analekzemen zu schaffen, die gegenüber den bekannten Bestrahlungsanordnungen eine verbesserte therapeutische Wirksamkeit aufweisen.
Die Lösung des technischen Problems ergibt sich durch den Gegenstand mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Hierzu umfaßt die Bestrahlungsanordnung mindestens eine Bestrahlungsquelle zur flächenhaften Bestrahlung einer Behandlungsfläche, wobei die Wellenlänge der emittierten Strahlung auf der Behandlungsfläche größer als 400 nm ist und mindestens einen Spektralanteil im Wellenlängenintervall von 400-500 nm umfaßt und die Bestrahlungsanordnung Mittel zur Erzeugung von optischen Pulsen auf der Behandlungsfläche umfaßt, wobei die Bestrahlungsstärke der Bestrahlungspeaks der optischen Pulse größer als 1 W/cm2 und kleiner als 100 kW/cm2 ist. Dabei wird unter flächenhaft eine Bestrahlungsfläche von größer 0,1 cm2 verstanden. Die Aussage größer 400 nm bedeutet dabei, daß weniger als 2,5% der optischen Gesamtleistung im UV-Bereich emittiert werden, wohingegen im Wellenlängenintervall von 400-500 nm mindestens 30% der optischen Leistung emittiert werden.
Erfindungsgemäß wird dabei ausgenutzt, daß bei einer pulsförmigen Bestrahlung in den Zeiten hoher Leistungsdichte, entgegen den Ausführungen in der Literatur, die Bildung von Singulett-Sauerstoff um Größenordnungen gegenüber cw-Betrieb bei gleicher Energie erhöht wird. Ein weiterer Vorteil der extrem erhöhten Leistungsdichte ist, daß auch tiefer unter der Haut liegende Bereiche noch eine ausreichende Bestrahlungsstärke erhalten, da üblicherweise aufgrund der geringen Eindringtiefe des blauen Lichtes nur ein Bruchteil der cw-Leistung die tieferliegenden Bereiche erreicht. Zusätzlich hat pulsförmig applizierte Strahlungsenergie eine erheblich stärkere photobiologische Wirkung. Bei gleicher integraler Gesamtdosis von cw- und Pulseinstrahlung bliebe z. B. bei einer angenommenen cw-Bestrahlungsstärke von 70 mW/cm2 aufgrund der Wirkung körpereigener Antioxidatien, die z. B. 60 mW/cm2 der eingestrahlten Leistung als konstanten Off-Set neutralisieren, nur 10 mW/cm2 für photobiologische Wirkungen verfügbar. Es ist unmittelbar einsichtig, daß die relative photobiologische Wirkungsverminderung durch diesen konstanten Off-Set durch gepulste Einstrahlung höchst effektiv vermindert werden kann. Bei Pulsleistungen im kW-Betrieb führt dieser Off-Set nicht mehr zu einer signifikanten Verminderung der Strahlungswirkung. Die mittlere Energiezufuhr wird dabei derart gewählt, daß die Nekroseschwelle für die Zellen vermieden wird und nur eine Apoptose der Zellen induziert wird. Ebenso wird die in der EP 0 565 331 B1 angestrebte Ablationsschwelle unterschritten. Eine Ablation, d. h. Gewebeverdampfung tritt immer dann auf, wenn eine Energie < 2500 J/cm3 innerhalb einer Zeit im Gewebe deponiert wird, die nicht erlaubt, daß ein signifikanter Wärmeaustausch mit angrenzenden Schichten möglich ist. Aufgrund der zeitlichen Modulation durch die Pulserzeugung, wobei die Belichtungszeit unterhalb der thermischen Relaxationszeit der oberen Hautschicht liegt, kommt es zwar zu einer sehr starken Erwärmung der oberen Hautschicht, die jedoch sehr einfach abgeführt werden kann. Licht im Wellenlängenbereich 400-500 nm hat eine halbmaximale Eindringtiefe von ca. 200 µm. Die geschätzte thermische Relaxationszeit für eine Struktur mit einem Durchmesser von 200 µm beträgt ca. 20 ms. Dies bedeutet, daß bei einer Verweildauer des Lichtstrahls < 20 ms lediglich die oberen Hautschichten erwärmt werden, ohne daß es zu einer Tiefendeposition der Energie kommt.
Neben den beschriebenen Anwendungsgebieten ist die Bestrahlungsanordnung auch zur Wunddesinfektion nach Verbrennungen oder zur Behandlung bei venösen Geschwüren am Unterschenkel geeignet. Diese werden bisher mit UV-Licht behandelt, wobei es häufig zu einer kurzzeitgen Verbesserung kommt. Jedoch treten häufig Komplikationen bei der langfristigen Wundheilung auf. Die Ursache für die kurzzeitigen Erfolge liegt vermutlich in der keimtötenden Wirkung von UV-Licht, wohingegen die Komplikationen aufgrund irreparabler Zellschädigungen verursacht werden. Durch eine UV-freie, zeitlich modulierte Bestrahlung duch die optischen Pulse, bevorzugt im Spektralbereich von 400-500 nm, weiter bevorzugt im Bereich von 430-490 nm kommt es in allen Zellen zwar zunächst zu einer oxidativen Schädigung, die jedoch von Eukaryontenzellen wegen der dort vorhandenen FPG-Endonukleotidasen leicht reparabel ist. Prokaryonten wie Staphylokokken oder Streptokokken sind wegen Fehlens dieser Enzyme sehr viel empfindlicher auf eine derartige Schädigung und können somit selektiv abgetötet werden. Ebenso ist die Bestrahlungsanordnung auch zur Behandlung von Akne geeignet.
Die Energie der emittierten optischen Pulse liegt vorzugsweise zwischen 0,05-­ 10 J/cm2, besonders bevorzugt zwischen 2-5 J/cm2. Die gemittelte cw- Bestrahlungsstärke eines optischen Pulses liegt vorzugsweise zwischen 1 mW/cm2 und 10 W/cm2, weiter bevorzugt zwischen 100-1000 mW/cm2 und besonders bevorzugt zwischen 200-500 mW/cm2.
In einer bevorzugten Ausführungsform ist die Bestrahlungsquelle pulsbar betreibbar, wodurch sehr einfach die Pulserzeugung auf der Behandlungsfläche realisierbar ist.
In einer weiteren bevorzugten Ausführung liegen die effektiven Pulslängen zwischen 10 µs und 250 ms, besonders bevorzugt zwischen 100 µs und 1 ms, wobei die Pulsein- und -auszeiten vorzugsweise unsymmetrisch sind. Unter effektiver Pulslänge wird dabei die Zeit verstanden, die zwischen Erreichen von 50% der maximalen Leistung bis zum Abfall auf 50% der maximalen Leistung liegt. Die im Verhältnis zur effektiven Pulslänge längeren Pulsauszeiten dienen dabei insbesondere der Nachdiffusion von Sauerstoff, wobei das Verhältnis dabei vorzugsweise zwischen 10 und 100 liegt. Ein weiterer Effekt ist die thermische Abkühlung der bestrahlten Fläche während der Pulsauszeiten, so daß keine Nekrose auftritt.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform liegt die Frequenz, mit der die Bestrahlungsquelle gepulst wird, zwischen 0,001-1000 Hz, weiter bevorzugt zwischen 0,01-100 Hz und noch bevorzugter zwischen 0,1-10 Hz, wobei bei höheren Frequenzen niedrigere effektive Pulslängen und kleinere Pulsenergien verwendet werden. Um die Nachdiffusion von Sauerstoff und die thermische Abkühlung zu verbessern, wird vorzugsweise nach einer Pulsfolge von beispielsweise 100 Pulsen eine längere Dunkelphase von mehreren Sekunden bis Minuten eingelegt, bevor wieder erneut eine Pulsfolge erzeugt wird. Aufgrund der extrem langen Diffusionszeiten von Sauerstoff sind auch Anwendungen vorstellbar, wo nur jeweils ein Puls verabreicht wird und anschließend die Bestrahlungsanordnung wieder für eine längere Zeit abgeschaltet wird. Die Pausen können dabei im Bereich von einer bis mehreren Stunden liegen. Insbesondere zur Behandlung chronischer Erkrankungen kann dabei die Bestrahlungsanordnung beispielsweise in Form eines Gürtels, einer Bestrahlungsdecke oder eines Lichtbettes fest dem Patienten zugeordnet sein, der dann beispielsweise alle Stunde einen optischen Puls erhält. Bei diesen langen Pausen sind thermische Probleme oder die Nachdiffusion von Sauerstoff vernachlässigbar.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist die Bestrahlungsquelle als Xe-Blitzlampe ausgebildet, der eine Einrichtung zur Unterdrückung und/oder zur Transformierung der unerwünschten Spektralanteile in den gewünschten Spektralbereich zugeordnet ist. Diese handelsüblichen Xe-Blitzlampen sind sehr preiswert und emittieren mit ausreichender Leistungsdichte im gewünschten Spektralbereich zwischen 400-500 nm. Hierzu wird beispielsweise auf die US 4,167,669 oder die EP 0 565 331 verwiesen, wobei die dort beschriebenen Pulsenergien für die vorliegende Erfindung zu groß sind, da dort bewußt die Ablationsenergie überschritten wird. Die Xe- Blitzlampen sind je nach Stromdichte im Entladungskanal mehr oder weniger vom Spektrum mit einem Schwarzen Körper vergleichbar, daher emittieren diese typischerweise von 200-2000 nm. Dabei können die nicht gewünschten Spektralbereiche durch bekannte handelsübliche Filter herausgefiltert werden. Die UV-Anteile können jedoch auch in den gewünschten Spektralbereich transformiert werden. Dabei haben sich besonders aus Silikonelastomeren bestehende Folien mit anorganischen Leuchtstoffen bewährt. Das Silikonelastomer wird vorzugsweise durch eine Mischung eines Hydroxylpolydiorganosiloxans mit einem Organohydrogensiloxans hergestellt, wobei die Leuchtstoffe zugemischt werden und anschließend eine chemische Reaktion mittels eines Platinkatalysators bei Zimmertemperatur erzeugt wird. Die Leuchtstofffolie weist dabei vorzugsweise eine Dicke von 10-800 µm auf, wobei die Flächendichte der Leuchtstoffpartikel vorzugsweise zwischen 1-20 mg/cm2 bei einer Korngröße von 5-15 µm liegt. Prinzipiell kann der UVC- transparente Träger auch als Silikonkautschuk ausgebildet sein, der ohne Wärme- und Druckzufuhr aushärtet.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird die gepulste Bestrahlungsquelle in einem Simmer betrieben, wodurch sich die erreichbare Flankensteilheit der Pulse erhöhen läßt.
Alternativ kann die Erzeugung von Pulsen der emittierten Strahlung durch eine Einrichtung realisiert werden, mittels derer die zu bestrahlende Fläche relativ zur Bestrahlungsquelle bewegbar ist. Im einfachsten Fall kommt hierbei ein X- oder X-Y-Scantisch zur Anwendung, mittels dessen der Patient unter der im cw-Betrieb betreibbaren Bestrahlungsquelle hin- und herbewegt wird. Als Bestrahlungsquelle für den cw-Betrieb kommen prinzipiell alle vorzugsweise im blauen Bereich emittierenden Bestrahlungsquellen wie beispieleweise blau­ emittierende LEDs oder entsprechende Gasentladungslampen, die vorzugsweise Gallium, Indium oder deren Halogenide beinhalten in Frage. Bei der Scan-Geschwindigkeit ist ebenfalls darauf zu achten, daß die Ablationsschwelle ebenfalls nicht überschritten wird. Hierzu wird beispielsweise eine Brennlinie einer Dicke mehrerer Millimeter erzeugt, die dann mit einer Geschwindigkeit von 1-100 cm/s quer oder längs über die Behandlungsfläche verfahren wird.
Es ist jedoch auch möglich, die Scanbewegung mit einer gepulsten Bestrahlungsquelle zu kombinieren, so daß die erreichbaren effektiven Pulslängen für eine zu bestrahlende Fläche weiter verkleinert werden können, was insbesondere im Hinblick auf die thermische Relaxation vorteilhaft ist.
Insbesondere im oberen Leistungsbereich ist die Bestrahlungsanordnung mit einer Einrichtung zur Kühlung der zu bestrahlenden Fläche ausgebildet, um eine Nekrose der bestrahlten Zellen zu verhindern. Dabei muß eine Erwärmung der Zellen über 60°C verhindert werden. Art und Umfang der Kühlung sind dabei abhängig, welche Energien in welcher zeitlichen Abfolge verabreicht werden. Im Regelfall ist eine einfache Luftkühlung mit einem gegebenenfalls gekühlten Luftstrom völlig ausreichend. Bei sehr hohen Energien kann die Luftkühlung durch eine Kontaktkühlung ersetzt werden, die beispielsweise durch einen gekühlten Saphir oder direkt auf die Haut aufgesprühte Kühlmittel erzeugt wird. Andere Möglichkeiten für eine Kontaktkühlung ist die Verwendung gekühlter Flüssigkeiten wie beispielsweise Wasser, Öle oder Alkohol, die über eine Membran aus Latex oder Silikon die Wärme dem Gewebe entziehen. Die Kühlmittel müssen dabei optisch transparent sein, wobei der Wärmeübergangswiderstand möglichst klein ist. Je stärker die Haut abgekühlt werden kann, ohne daß es zu Gefrierungsschäden kommt, desto mehr Energie kann eingestrahlt werden, ohne die Nekroseschwelle der Zellen zu überschreiten. Dabei kommt ein weiterer Vorteil der Pulse zum Tragen. Die Gradienten der Wärmeeinfuhr durch die optischen Pulse und der Kältezufuhr durch die Kühlung sind im Gewebe unterschiedlich. Dabei ist der Gradient der Kältezufuhr im Regelfall flacher, so daß es zu einem Gefrierschaden aufgrund einer Kristallisationsbildung kommen könnte. Durch die Pulse kommt es jedoch zu einer Schockerwärmung im Bereich von 100 µs, so daß die Eisbildung trotz der tiefen Temperaturen gestört wird. Vorzugsweise erfolgt die Kühlung synchron zur Wärmeeinfuhr, d. h. die Kälteleistung wird während des Pulses erhöht. Diese Steuerung kann beispielsweise mittels eines Peltierelementes erfolgen, wobei die Temperatur des Kühlmittels von beispielsweise 4°C während des Pulses auf -(40-80)°C erniedrigt wird.
Die Effizienz der Bestrahlungsanordnung kann weiter durch eine Erhöhung der Sauerstoffkonzentration erhöht werden. Neben den in der WO 00/02491 beschriebenen Maßnahmen kann dies auch sehr einfach durch eine inspiratorische Sauerstoffzufuhr über eine Sauerstoffmaske erfolgen. Der Vorteil der inspiratorischen Sauerstoffzufuhr ist, daß auch tieferliegende Gewebebereiche durch die Blutzirkulation verstärkt mit Sauerstoff versorgt werden, wohingegen bei der topischen Sauerstoffzufuhr stets ein Gradient von der Hautoberfläche zu den Zellen zu berücksichtigen ist.
Die mittlere Eindringtiefe des Lichtes ist stark abhängig von der Wellenlänge, wobei die Eindringtiefe mit der Wellenlänge zunimmt. Daher wird in einer bevorzugten Ausführungsform zusätzlich im Bereich von 520-550 nm und/oder 630-670 nm emittiert, was beispielsweise sehr leicht durch Beigabe entsprechender Leuchtstoffe in die Leuchtstoffolie realisierbar ist. Dabei wird der Rot- bzw. Gelb-Anteil zur Bestrahlung tieferliegender Zellen auf Kosten des Blau-Anteils erhöht. Der Blau-Anteil hat jedoch auch bei tieferliegenden Entzündungen einen wichtigen Anteil, da dieser oberflächlich befindliche Bakterien abtötet, die häufig als Folge der Entzündung sich ansiedeln und sogenannte Superantigene produzieren, die selbst wieder entzündungsfördernd sind.
Zur Erhöhung der abgestrahlten Leistung in Richtung der zu behandelnden Fläche wird die Strahlungsquelle vorzugsweise mit einem Reflektor ausgebildet. Dieser kann beispielsweise als Paraboloid- oder Ellipsoid- Reflektor ausgebildet sein. Der Paraboloid-Reflektor findet vorzugsweise Anwendung, wenn die zeitliche Modulation der emittierten Strahlung durch Pulsbetrieb realisiert wird, wohingegen der Ellipsoid-Reflektor vorzugsweise beim Scan-Betrieb verwendet wird.
Vorzugsweise ist der Strahldurchmesser der emittierten Strahlung größer 4 mm, vorzugsweise größer als 10 mm und besonders bevorzugt größer als 40 mm. Dabei wird ausgenutzt, daß die Eindringtiefe des Lichtes auch von der Größe der zu bestrahlenden Fläche abhängig ist. Insbesondere bei nahezu punktförmiger Bestrahlung ist die Eindringtiefe nur sehr gering ist. Bei flächenhafter Bestrahlung kommt es trotz der Streuung in den oberen Hautschichten zu einer additiven Überlagerung benachbarter gestreuter Photonen. In der Folge ist die resultierende Eindringtiefe wesentlich größer als bei punktförmiger Einstrahlung bei gleicher Flächenleistung. Allerdings sollte der Strahldurchmesser auch nicht zu groß gewählt werden und sollte daher 200 mm, bevorzugt 100 und besonders bevorzugt 60 mm nicht überschreiten. Dem liegen folgende Überlegungen zugrunde.
Durch Aufweitung des Bestrahlungsfeldes sinkt die Flächenleistung pro Zeit, so daß die Verweildauer des aufgeweiteten Bestrahlungsfeldes größer sein kann. Hierdurch wird erreicht, daß eine wesentlich größere Anzahl absorbierender Chromophore über einen wesentlich größeren Zeitraum als bei einem Kurzpuls photochemisch angeregt werden kann. Das Fehlen von Bestrahlungspeaks innerhalb der Bestrahlungsfläche verhindert das lokale Ausbleichen bzw. den lokalen Substratmangel von Sauerstoff. Darüber hinaus kommt es zur Ausbildung eines lokalen Maximums im Zentralbereich des Bestrahlungsfeldes, da die ungerichtete Streuung sämtlicher Strahlen zu einer Aufaddition im zentralen Bereich führt. In Abhängigkeit von den Gewebeparametern und dem Spektrum hat das optimale Bestrahlungsfeld einen Durchmesser < 4 mm und < 60 mm, da bei diesem großen Durchmesser die Streuung der Randstrahlen nicht mehr zur Erhöhung der Intensität im zentralen Bereich beiträgt. Durch Wahl eines optimalen Strahldurchmessers wird somit eine höhere Intensität im zentralen Bereich bzw. eine größere Eindringtiefe ermöglicht. Bei weiterer Ausdehnung des Bestrahlungsfeldes sinkt die Flächenleistung proportional zur Zunahme der Fläche ab, so daß in den tieferen Gewebebereichen keine Lichtwirkung gemessen werden kann. Darüber hinaus ist die Zeit bis zur Wiederbestrahlung der immer größer werdenden Gewebeflächen immer kürzer, so daß die Wärmeabfuhr bzw. die Kühlung erschwert wird.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines bevorzugten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Die Figur zeigen:
Fig. 1 einen Querschnitt durch eine Bestrahlungsanordnung mit einer pulsbaren Bestrahlungsquelle,
Fig. 2 ein Spektrum der Bestrahlungsquelle mit und ohne Leuchtstofffolie,
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer Bestrahlungsanordnung mit einer Winkelbewegung der Bestrahlungsquelle,
Fig. 4 eine schematische Darstellung einer Bestrahlungsanordnung mit einer eindimensionalen Scan-Bewegung,
Fig. 5 eine schematische Darstellung einer Bestrahlungsanordnung mit einer zweidimensionalen Scan-Bewegung,
Fig. 6a-c verschiedene Darstellungen der Eindringtiefe über der Bestrahlungsfläche,
Fig. 7 eine Darstellung der Eindringtiefe über der Wellenlänge und
Fig. 8a-c verschiedene Bestrahlungsfolgen.
Die Bestrahlungsanordnung 1 umfaßt eine pulsbare Bestrahlungsquelle 2, die vorzugsweise als Xe-Blitzlampe ausgebildet ist. Die Bestrahlungsquelle 2 ist in einem Brennpunkt eines Paraboloid-Reflektors 3 angeordnet, der an der dem Brennpunkt abgewandten Seite offen ist. Die Austrittsfläche am offenen Ende des Paraboloidreflektors 3 wird durch eine vorzugsweise verstellbare Blende 4 definiert. Durch die verstellbare Blende 4 kann somit die Größe der zu bestrahlenden Fläche angepasst werden. Die Bestrahlungsquelle 2 und der Paraboloid-Reflektor 3 sind in einem Gehäuse 5 angeordnet. Das Gehäuse 5 ist vorzugsweise mit einem Handstück 6 ausgebildet, mittels dessen die Bestrahlungsanordnung 1 einfach auf eine zu behandelnde Fläche 7 aufsetzbar ist. Zwischen der Bestrahlungsquelle 2 und der zu behandelnden Fläche 7 ist eine Leuchtstofffolie 8 angeordnet, di mit Leuchtstoffpartikeln dotiert ist. Die Leuchtsstofffolie 8 kann auch unmittelbar im Bereich der Bestrahlungsquelle 2 oder aber über die Blende 4 gespannt sein. Vorzugsweise ist die Leuchtstofffolie 8 derart angeordnet, daß diese leicht auswechselbar ist. Dies vereinfacht den notwendigen Austausch aufgrund von Alterungsprozessen, aber auch den flexiblen Einsatz von Leuchtstofffolien mit unterschiedlichen Leuchtstoffpartikeln. Des weiteren kann bei äußerer Anordnung der Leuchtsstofffolie 8 diese leicht desinfiziert werden. Die elektrischen Anschlüsse und eine Schaltung zur Erzeugung einer variablen Pulsbreite ist hier aus Übersichtsgründen nicht dargestellt.
In der Fig. 2 ist ein Spektrum einer verwendeten Xe-Blitzlampe mit und ohne Leuchtsstofffolie dargestellt. Das Spektrum mit Leuchtstofffolie ist dabei gestrichelt dargestellt. Bei der Leuchtstofffolie handelt es sich um ein Silikonelastomer, das mit anorganischen Leuchtstoffen dotiert ist, die im blauen Spektralbereich von 400-450 nm bevorzugt emittieren. Die Leuchtsstofffolie schneidet dabei den UV-Bereich zwischen 280-400 nm nahezu ab und transformiert diesen in den sichtbaren blauen Bereich von 400- 450 nm. Im dargestellten Beispiel ist die Energie im Bereich von unter 400 nm kleiner als 2% der optischen Gesamtleistung. Darüber hinaus liegt die UV- Strahlung ausschließlich im Bereich von 370-400 nm. Da dieser Wellenlängenbereich eine um Größenordnungen geringere photobiologische Wirksamkeit aufweist als der UVB- oder UVC-Bereich, werden die internationalen Grenzwerte für UV-Belastungen nicht überschritten. Hinsichtlich der Definition sei beispielsweise auf ICNIRP (IRPA)-International Commission on Non-Ionizing Radiation Protection Association "Guidelines on limits of exposure to ultraviolet radiation of wavelengths between 180 nm and 400 nm", Health Physics 49: 331-340, 1985 oder "Proposed change to the IPRA 1985 guidelines on limits of exposure to ultraviolet radiation" Health Physics 56: 971- 972, 1989 verwiesen. Die optische Energie im Wellenlängenintervall zwischen 400-500 nm beträgt 39% und im Wellenlängenintervall zwischen 400-450 nm 21% der optischen Gesamtleistung.
Die Xe-Blitzlampe wird mit einer Frequenz von 0,001-1000 Hz getaktet, wobei jedoch die effektiven Pulslängen zwischen 10 µs und 250 ms liegen. Die Energie der einzelnen Pulse liegen dabei vorzugsweise im Bereich von 0,05-5 J/cm2, besonders bevorzugt zwischen 0,2-2 J/cm2.
In der Fig. 3 ist eine alternative Ausführungsform der Bestrahlungsanordnung 1 zur Erzeugung einer zeitlichen Lichtmodulation dargestellt. Die Bestrahlungsanordnung 1 umfaßt eine Patientenruheeinrichtung 9, oberhalb derer die Bestrahlungsquelle 2 angeordnet ist. Die Bestrahlungsquelle 2 ist wieder von einem Paraboloid-, Ellipsoid- oder einem Halbzylinderreflektor 3 umgeben. Die Bestrahlungsquelle 2 ist zusammen mit dem Reflektor 3 mittels einer nicht dargestellten Schwenkvorrichtung um den Winkel α aus der vertikalen Position zur Patientenruheeinrichtung 9 nach links und nachts verschwenkbar. Durch diese Schwenkbewegung werden nacheinander unterschiedliche Körperbereiche eines auf der Patientenruheeinrichtung liegenden Patienten 10 bestrahlt, so daß für einen einzelnen Körperbereich eine zeitliche Lichtmodulation realisiert wird. Die Bestrahlungsquelle kann dabei wieder gepulst werden oder aber auch im cw-Betrieb betrieben werden. Alternativ oder kumulativ zur Schwenkbewegung der Bestrahlungsquelle 2 kann auch die Patientenruheeinrichtung 9 geschwenkt werden.
In der Fig. 4 ist eine weitere alternative Ausführungsform der Bestrahlungsanordnung 1 dargestellt. Die Bestrahlungsquelle 2 ist hierbei linien- bzw. streifenförmige Bestrahlungsquelle 2 ausgebildet und oberhalb der Patientenruheeinrichtung 9 an einem Träger 11 in Pfeilrichtung verfahrbar angeordnet. Die Bestrahlungsquelle 2 kann dabei im Puls- oder cw-Betrieb betrieben werden. Durch diese Scan-Bewegung in Pfeilrichtung wird ebenfalls eine zeitliche Lichtmodulation für jede einzelne Körperpartie erreicht. Wie in Fig. 5 dargestellt, kann die eindimensionale Scan-Bewegung aus Fig. 4 auch durch eine zweidimensionale Scan-Bewegung ersetzt werden. Hierzu ist die flächenhafte Bestrahlungsquelle 2 noch zusätzlich quer zum Patienten 10 verfahrbar.
Die Notwendigkeit einer flächenhaften Bestrahlungsquelle soll anhand der Fig. 6a-c näher erläutert werden. In der Fig. 6a ist im Querschnitt dargestellt, welche Leistungsdichten in welcher Eindringtiefe anzutreffen sind, wenn die Lichtleistung mit einem Strahldurchmesser von 20 mm eingestrahlt wird. Wie ersichtlich ist die Leistungsdichte in 15 mm Tiefe noch 0,1 kW/cm2. In Fig. 6b sind die Verhältnisse dargestellt, wenn die gleich Gesamtleistung über einen Strahlendurchmesser von 1 mm in das Gewebe eingekoppelt wird. Wird eine quadratische Bestrahlungsfläche angenommen, so hat sich die Leistungsdichte entsprechend vervierhundertfacht. Dies führt jedoch zu einem riesigen Gradienten der eindringenden Leistungsdichte, wobei insbesondere unmittelbar an der Gewebeoberfläche die Leistungsdichte mit 100 kW/cm2 so hoch ist, daß es zu einer Ablation kommt. Wird hingegen über den Strahlendurchmesser von 1 mm die gleiche Flächenleistungsdichte wie in Fig. 6a eingekoppelt, so gelangt kaum noch optische Leistung in tieferliegende Geweberegionen, was in Fig. 6c dargestellt ist. Bereits nach 5 mm Eindringtiefe ist die Leistungsdichte auf 0,1 kW/cm2 abgefallen. Anhand der Fig. 6b und 6c wird deutlich, daß bei kleinen Strahlendurchmessern keine große Eindringtiefen erreichbar sind, ohne an der Oberfläche Ablation zu vermeiden.
In der Fig. 7 ist spektrale Abhängigkeit der Eindringtiefe (1/e-Abfall) dargestellt. Wie ersichtlich steigt die Eindringtiefe von 400 nm bis zu 900 nm stetig, so daß insbesondere bei der Behandlung von tieferliegenden Zellen es vorteilhaft ist, den grünen und roten Bereich des emittierten Spektrums auf Kosten des blauen Anteils zu erhöhen, auch wenn die Absorption der Porphyrine gegenüber dem blauen Anteil schlechter ist.
In der Fig. 8a ist eine bevorzugte Ausführungsform einer Bestrahlungstherapie mit einer pulsbaren Bestrahlungsquelle mit einem Bestrahlungspeak von 5 kW/cm2 dargestellt. Dabei wird eine Folge von Pulsen bzw. Blitzen emittiert. Der einzelne Puls weist dabei eine effektive Pulslänge t1 zwischen 100-2000 µs auf, an die sich eine Pulsauszeit t2 zwischen 10 ms-10 s anschließt. Die effektive Pulslänge t1 liegt dabei vorzugsweise zwischen 100-500 µs und die Pulsauszeit t2 zwischen 10-100 ms. Die Anzahl der Pulse liegt dabei vorzugweise zwischen 5 und 150. Die Gesamtpulsfolgezeit t3 ergibt sich entsprechend (t1 + t2) multipliziert mit der Anzahl der Pulse. An diese erste Pulsfolge schließt sich eine Zeit t4 an, in der nicht bestrahlt wird, so daß Sauerstoff nachdiffundieren kann und sich das Gewebe gleichzeitig abkühlen kann, was die Nekrosebildung verhindert. Die Zeit t4 wird vorzugsweise zwischen 100 ms und 10 min gewählt, wobei die größeren Zeiten besonders bevorzugt sind. Anschließend wird erneut eine Pulsfolge mit der Pulsfolgezeit t3 erzeugt. Daran schließt sich wieder eine Zeit t4 an. Die Gesamtbestrahlungszeit t5 wird dabei je nach Schwere der Erkrankung zwischen einigen Minuten und 2 Stunden gewählt. Nach einer längeren Pause von mehreren Stunden bzw. 1-3 Tagen wird dann der gesamte Vorgang wiederholt.
Die Verhältnisse sollen an einem noch konkretem Beispiel zur Behandlung von allergischen Kontaktekzemen näher erläutert werden. Hierbei werden zwei Bestrahlungszyklen pro Tag durch geführt, wobei t3 und t4 jeweils zu 5 Minuten gewählt sind, so daß sich eine Gesamtbehandlungszeit von 15 Minuten pro Tag ergibt. Die Pulsfrequenz beträgt 0,5 Hz, so daß in einem Zeitraum t3 150 Pulse appliziert werden. Die effektive Pulslänge t1 beträgt 100 µs bei einer Anstiegszeit von ca. 10 µs. Somit liegt die Pulsauszeit t2 bei ca. 2 s. Der Bestrahlungspeak der Pulse liegt bei 5 kW/cm2, wobei die Energiedichte pro Puls je nach Flankensteilheit zwischen 0,4-0,5 J/cm2 liegt. Damit ergibt sich eine gemittelte cw-Leistung von 25 mW/cm2. Somit beträgt die pro Tag applizierte Energiedichte 120-150 J/cm2. Bei insgesamt 2 Bestrahlungen wöchentlich ist die Gesamtenergiedichte 240-300 J/cm2, wobei die Behandlung vorzugsweise 4-8 Wochen dauert.
Die beschriebene Bestrahlungstherapie wurde darüber hinaus mit einer Frequenz von 0,05 Hz durchgeführt, wobei die Werte für t1, t3 und t4 sowie des Bestrahlungspeaks beibehalten wurden. Aufgrund der Verzehnfachung von t2 erniedrigen sich die applizierte Energiedichte pro Behandlungszyklus und die gemittelte cw-Leistung um den Faktor zehn, wobei die Behandlungsergebnisse-Ergebnisse vergleichbar waren. Dies liegt vermutlich an der sehr langsamen Sauerdiffusion, so daß ohne zusätzliche Sauerstoffzufuhr eine beliebige Erhöhung der Energiedichte in gleichen Zeiten kaum noch einen zusätzlichen therapeutischen Effekt bewirkt.
In der Fig. 8b ist der Bestrahlungszyklus mit einer Bestrahlungsanordnung gemäß Fig. 4 dargestellt, wobei die Bestrahlungsquelle im cw-Betrieb betrieben wird. Der Bestrahlungspeak liegt dabei bei 5 W/cm2, also erheblich niedriger als beim Pulsbetrieb gemäß Fig. 8a. Die Zeit t1 entspricht dabei der Zeit, die die Bestrahlungsquelle aufgrund ihrer flächenhaften Bestrahlung ein bestimmtes Gebiet während des Scan-Vorganges bestrahlt und liegt vorzugsweise zwischen 0,1 und 0,5 s. Die Zeit t2 ist die Zeit eines kompletten Scan- Vorganges abzüglich der Zeit t1. Während dieser Zeit kann wieder Sauerstoff nachdiffundieren und sich das Gewebe abkühlen, t2 liegt zwischen 1 und 10 s, vorzugsweise zwischen 2-4 s.
In der Fig. 8c ist letztlich die Kombination zwischen der Scan-Bewegung mit Pulsen dargestellt, wobei die Bestrahlungspeaks zwischen 250 und 500 W/cm2 liegen. Dabei werden während der Zeit t3, wo die Bestrahlungsquelle ein bestimmtes Gebiet überstreicht, vorzugsweise 5 Pulse erzeugt, wobei der erste und der letzte Puls nur noch teilweise aufgrund der Bewegung das Gebiet erreichen. Die effektive Pulslänge wird vorzugweise mit 100 µs gewählt und die Bestrahlungsquelle mit 25 Hz getaktet, so daß sich t2 zu 40 ms bei einer Bestrahlungszeit t3 von 0,2 s ergibt. Jedoch sind die verschiedensten Kombinationen aus den Zahlenangaben der Ausführungsbeispiele nach den Fig. 8a und b möglich.

Claims (18)

1. Bestrahlungsanordnung, insbesondere zur Behandlung von ganz oder teilweise zellvermittelten Entzündungen der Haut und der inneren Organe, umfassend mindestens eine Bestrahlungsquelle zur flächenhaften Bestrahlung einer Behandlungsfläche, wobei die Wellenlänge der emittierten Strahlung auf der Behandlungsfläche größer als 400 nm ist und mindestens einen Spektralanteil im Wellenlängenbereich von 400-500 nm umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsanordnung Mittel zur Erzeugung von optischen Pulsen auf der Behandlungsfläche umfaßt, wobei die Bestrahlungsstärke der Bestrahlungspeaks der optischen Pulse größer 1 W/cm2 und kleiner als 100 kW/cm2 ist.
2. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Energie eines emittierten optischen Pulse zwischen 0,05 und 10 J/cm2 beträgt.
3. Bestrahlungsanordnung, nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die gemittelte cw-Bestrahlungsstärke ein optischen Pulses zwischen 1 mW/cm2-10 W/cm2 liegt.
4. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsquelle pulsbar betreibbar ist.
5. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die effektive Pulslänge zwischen 10 µs-250 ms liegt.
6. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsquelle mit einer Frequenz von 0,001-1000 Hz getaktet ist.
7. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsquelle als Xe-Blitzlampe ausgebildet ist, der eine Einrichtung zur Unterdrückung und/oder zur Transformierung der UV-Anteile und anderer nicht erwünschter Spektralanteile in dem gewünschten Spektralbereich zugeordnet ist.
8. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Bestrahlungsquelle eine Leuchtstoffschicht mit UVC- transparentem Trägermaterial angeordnet ist.
9. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das transparente Trägermaterial als Leuchtstofffolie (8) aus einem Silikonelastomer ausgebildet ist, die mit anorganischen Leuchtstoffpartikeln dotiert ist.
10. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß das transparente Trägermaterial oder die Leuchtstofffolie (8) mit mindestens einem der nachfolgenden Leuchtstoffpartikeln, fluoreszierend in den Spektralbereichen 410-490 nm
[Sr2P2O7 : Eu, Sr5(PO4)3Cl : Eu, BaMg2Al16O27 : Eu, CaWO4 : Pb; (Sr, Ca, Ba)5(PO4)3Cl : Eu; Sr2P2O7 : Sn; (Ba, Ca)5(PO4)3Cl : Eu)]
und/oder 510-560 nm
[ZnSIO4 : Mn; MgAl11O19 : Ce, Tb, Mn; YBO3 : Tb; LaPO4 : Ce, Tb]
und/oder 610-670 nm
[Y2O3 : Eu; Y(P, V)O4 : Eu; CaSIO3 : Pb, Mn; (Sr, Mg)3(PO4)2 : Sn; 3.5MgO.0.5MgF2.GeO2 : Mn]
dotiert ist.
11. Bestrahlungsanordnung nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsquelle in einem Simmerbetrieb betreibbar ist.
12. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsanordnung eine Einrichtung umfaßt, mittels derer eine zu bestrahlende Fläche relativ zu der Bestrahlungsquelle bewegbar ist.
13. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsanordnung eine Einrichtung zur Kühlung einer zu bestrahlenden Fläche zugeordnet ist.
14. Bestrahlungsanordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung als Luftkühlung ausgebildet ist.
15. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestrahlungsanordnung Mittel zur topischen und/oder transpiratorischen Sauerstoffzufuhr zugeordnet sind.
16. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsquelle zusätzlich im Bereich von 520-550 nm und/oder von 630-670 nm emittiert.
17. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungsquelle von einem Parabol- oder Ellipsoid-Reflektor umgeben ist.
18. Bestrahlungsanordnung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlendurchmesser der emittierten Strahlung in mindestens einer Dimension größer 10 mm und kleiner 60 mm ist.
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Priority Applications (18)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10123926A DE10123926A1 (de) 2001-03-08 2001-05-10 Bestrahlungsanordnung
PCT/DE2002/000775 WO2002072199A1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung und verfahren zur behandlung von akne und aknenarben
JP2002571155A JP4167901B2 (ja) 2001-03-08 2002-03-05 治療用目的の照射装置
AT02750510T ATE484317T1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung-für therapeutische zwecke
AT02726054T ATE406192T1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung zur behandlung von akne und aknenarben
EP02750510A EP1365840B1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung-für therapeutische zwecke
EP10075516A EP2258446A1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung für therapeutische Zwecke
EP02726054A EP1365839B1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung zur behandlung von akne und aknenarben
DE50212701T DE50212701D1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung zur behandlung von akne und aknenarben
CA002435916A CA2435916A1 (en) 2001-03-08 2002-03-05 Irradiation device
DE50214709T DE50214709D1 (de) 2001-03-08 2002-03-05
DE10297083T DE10297083D2 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung und Verfahren zur Behandlung von Akne und Aknenarben
PCT/DE2002/000778 WO2002072200A1 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung_für therapeutische zwecke
DE10290911T DE10290911D2 (de) 2001-03-08 2002-03-05 Bestrahlungsanordnung für therapeutische Zwecke
US10/094,431 US7985219B2 (en) 2001-03-08 2002-03-08 Irradiation device and method for the treatment of acne and acne scars
US10/094,430 US6902563B2 (en) 2001-03-08 2002-03-08 Irradiation device for therapeutic treatment of skin and other ailments
US10/971,790 US20050085878A1 (en) 2001-03-08 2004-10-22 Irradiation device for therapeutic treatment of skin diseases and other ailments
US11/606,702 US20070073276A1 (en) 2001-03-08 2006-11-30 Irradiation device and method for the treatment of acne and acne scars

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WO (1) WO2002072200A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005042100A1 (de) * 2003-11-03 2005-05-12 Plasmaphotonics Gmbh Strahlungskonverter und den konverter enthaltende bestrahlungsanordnung

Families Citing this family (124)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8182473B2 (en) 1999-01-08 2012-05-22 Palomar Medical Technologies Cooling system for a photocosmetic device
US6517532B1 (en) 1997-05-15 2003-02-11 Palomar Medical Technologies, Inc. Light energy delivery head
US6508813B1 (en) 1996-12-02 2003-01-21 Palomar Medical Technologies, Inc. System for electromagnetic radiation dermatology and head for use therewith
DK0991372T3 (da) 1997-05-15 2004-12-06 Palomar Medical Tech Inc Apparat til dermatologisk behandling
US7494488B2 (en) * 1998-05-28 2009-02-24 Pearl Technology Holdings, Llc Facial tissue strengthening and tightening device and methods
US6283956B1 (en) 1998-11-30 2001-09-04 David H. McDaniels Reduction, elimination, or stimulation of hair growth
US20060212025A1 (en) * 1998-11-30 2006-09-21 Light Bioscience, Llc Method and apparatus for acne treatment
US6887260B1 (en) 1998-11-30 2005-05-03 Light Bioscience, Llc Method and apparatus for acne treatment
HU224941B1 (en) * 2001-08-10 2006-04-28 Bgi Innovacios Kft Phototerapy apparatus
US7303578B2 (en) 2001-11-01 2007-12-04 Photothera, Inc. Device and method for providing phototherapy to the brain
US8308784B2 (en) 2006-08-24 2012-11-13 Jackson Streeter Low level light therapy for enhancement of neurologic function of a patient affected by Parkinson's disease
US7534255B1 (en) 2003-01-24 2009-05-19 Photothera, Inc Low level light therapy for enhancement of neurologic function
US6960201B2 (en) * 2002-02-11 2005-11-01 Quanticum, Llc Method for the prevention and treatment of skin and nail infections
US7494502B2 (en) * 2002-02-11 2009-02-24 Keraderm, Llc Alteration of the skin and nail for the prevention and treatment of skin and nail infections
AUPS051002A0 (en) * 2002-02-14 2002-03-07 Riancorp Pty Ltd Low level laser therapy method and means
GB0301737D0 (en) * 2003-01-24 2003-02-26 Enfis Ltd Method and device for treatment of skin conditions
WO2003086460A2 (en) * 2002-04-05 2003-10-23 Candela Corporation High fluence rate activation of photosensitizers for dermatological applications
IL149689A (en) * 2002-05-15 2009-07-20 Roei Medical Technologies Ltd An efficient operating mechanism for precise lateral cutting of biological tissues and a method for its use
JP2006500972A (ja) * 2002-06-19 2006-01-12 パロマー・メディカル・テクノロジーズ・インコーポレイテッド ある深さの組織を輻射熱によって治療する方法および装置
BR0312430A (pt) 2002-06-19 2005-04-26 Palomar Medical Tech Inc Método e aparelho para tratamento de condições cutâneas e subcutâneas
US20040034397A1 (en) * 2002-08-14 2004-02-19 Lin J. T. Method and apparatus for treating skin disorders using a short pulsed incoherent light
US20040126272A1 (en) * 2002-08-28 2004-07-01 Eric Bornstein Near infrared microbial elimination laser system
US20040156743A1 (en) * 2002-08-28 2004-08-12 Eric Bornstein Near infrared microbial elimination laser system
US20080131968A1 (en) * 2002-08-28 2008-06-05 Nomir Medical Technologies, Inc. Near-infrared electromagnetic modification of cellular steady-state membrane potentials
US7713294B2 (en) 2002-08-28 2010-05-11 Nomir Medical Technologies, Inc. Near infrared microbial elimination laser systems (NIMEL)
WO2007014130A2 (en) * 2005-07-21 2007-02-01 Nomir Medical Technologies, Inc. Near infrared microbial elimination laser system (nimels)
US8506979B2 (en) 2002-08-28 2013-08-13 Nomir Medical Technologies, Inc. Near-infrared electromagnetic modification of cellular steady-state membrane potentials
EP1555948A2 (de) 2002-10-23 2005-07-27 Palomar Medical Technologies, Inc. Lichtbehandlungseinrichtung zur verwendung mit kühlmitteln und topischen substanzen
US7255560B2 (en) * 2002-12-02 2007-08-14 Nomir Medical Technologies, Inc. Laser augmented periodontal scaling instruments
EP2604215B1 (de) 2003-02-25 2017-10-11 Tria Beauty, Inc. Vorrichtung und Verfahren für augensichere, dermatologische Behandlung
US7118563B2 (en) * 2003-02-25 2006-10-10 Spectragenics, Inc. Self-contained, diode-laser-based dermatologic treatment apparatus
EP1596744B1 (de) * 2003-02-25 2016-02-17 Tria Beauty, Inc. Eigenständiges gerät und verfahren zur verhinderung des nachwachsens von haaren ohne gefährdung der augen
EP1596747B1 (de) * 2003-02-25 2016-02-17 Tria Beauty, Inc. Augensicheres dermatologisches behandlungsgerät
WO2004077020A2 (en) * 2003-02-25 2004-09-10 Spectragenics, Inc. Skin sensing method and apparatus
WO2004075731A2 (en) * 2003-02-25 2004-09-10 Spectragenics, Inc. Acne treatment device and method
US20040176754A1 (en) * 2003-03-06 2004-09-09 Island Tobin C. Method and device for sensing skin contact
WO2004075976A2 (en) 2003-02-25 2004-09-10 Spectragenics, Inc. Method and apparatus for the treatment of benign pigmented lesions
US20040176824A1 (en) * 2003-03-04 2004-09-09 Weckwerth Mark V. Method and apparatus for the repigmentation of human skin
US20050055070A1 (en) * 2003-03-07 2005-03-10 Gareth Jones Method and device for treatment of skin conditions
KR20060041161A (ko) 2003-04-10 2006-05-11 라이트 바이오사이언스, 엘엘씨 세포 증식 및 유전자 발현의 조절을 위한 광조절 방법 및광조절 장치
US7470124B2 (en) * 2003-05-08 2008-12-30 Nomir Medical Technologies, Inc. Instrument for delivery of optical energy to the dental root canal system for hidden bacterial and live biofilm thermolysis
AU2004243109A1 (en) * 2003-05-24 2004-12-09 Ledeep, Llc Skin tanning and light therapy system and method
JP4266706B2 (ja) * 2003-05-29 2009-05-20 Necライティング株式会社 ナローバンドuv−b光線治療器
US7291140B2 (en) * 2003-07-18 2007-11-06 Cutera, Inc. System and method for low average power dermatologic light treatment device
KR101160343B1 (ko) 2003-07-31 2012-06-26 젠틀웨이브즈 엘엘씨. 화상, 상처 및 관련 피부 질환의 광역학적 치료 장치 및방법
WO2005018473A1 (en) * 2003-08-19 2005-03-03 The General Hospital Corporation Method and apparatus for reducing the appearance of skin markings
US20080172045A1 (en) * 2003-10-24 2008-07-17 Shanks Steven C Acne treatment device
JP2007520285A (ja) 2004-02-06 2007-07-26 バロレ,ダニエル 哺乳類組織の治療方法及び装置
US20050256553A1 (en) * 2004-02-09 2005-11-17 John Strisower Method and apparatus for the treatment of respiratory and other infections using ultraviolet germicidal irradiation
US20060009749A1 (en) * 2004-02-19 2006-01-12 Weckwerth Mark V Efficient diffuse light source assembly and method
US8777935B2 (en) 2004-02-25 2014-07-15 Tria Beauty, Inc. Optical sensor and method for identifying the presence of skin
CA2559058A1 (en) * 2004-03-09 2005-09-22 Ledeep, Llc Phototherapy systems and methods
EP1742588B1 (de) 2004-04-01 2016-10-19 The General Hospital Corporation Gerät für die dermatologische behandlung und gewebeumformung
WO2005117828A2 (en) * 2004-04-12 2005-12-15 Ledeep, Llc Phototherapy systems and methods
JP4024227B2 (ja) * 2004-04-14 2007-12-19 昇 堀口 電位治療器と電位治療器用波形整形器
GB2416699B (en) * 2004-08-05 2010-04-14 Photo Therapeutics Ltd Skin rejuvenation
US8277495B2 (en) 2005-01-13 2012-10-02 Candela Corporation Method and apparatus for treating a diseased nail
US8109981B2 (en) * 2005-01-25 2012-02-07 Valam Corporation Optical therapies and devices
US7856985B2 (en) 2005-04-22 2010-12-28 Cynosure, Inc. Method of treatment body tissue using a non-uniform laser beam
EP1733691A1 (de) * 2005-06-14 2006-12-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Gerät zur kosmetischen Hautverjüngungsbehandlung
JP4431527B2 (ja) * 2005-07-12 2010-03-17 株式会社フューテック 美容機器
CN101258222A (zh) * 2005-09-06 2008-09-03 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于处理皮肤的uv灯
AU2006292526A1 (en) 2005-09-15 2007-03-29 Palomar Medical Technologies, Inc. Skin optical characterization device
US20070208395A1 (en) * 2005-10-05 2007-09-06 Leclerc Norbert H Phototherapy Device and Method of Providing Phototherapy to a Body Surface
US20070135876A1 (en) * 2005-12-08 2007-06-14 Weber Paul J Acne and skin defect treatment via non-radiofrequency electrical current controlled power delivery device and methods
US20070197884A1 (en) * 2006-01-24 2007-08-23 Nomir Medical Technologies, Inc. Optical method and device for modulation of biochemical processes in adipose tissue
US20090254154A1 (en) 2008-03-18 2009-10-08 Luis De Taboada Method and apparatus for irradiating a surface with pulsed light
US10357662B2 (en) 2009-02-19 2019-07-23 Pthera LLC Apparatus and method for irradiating a surface with light
US7575589B2 (en) 2006-01-30 2009-08-18 Photothera, Inc. Light-emitting device and method for providing phototherapy to the brain
JP5010327B2 (ja) * 2006-06-26 2012-08-29 パナソニック株式会社 毛成長調節装置
WO2008008971A1 (en) * 2006-07-13 2008-01-17 Candela Corporation Compact, handheld device for home-based acne treatment
US7586957B2 (en) 2006-08-02 2009-09-08 Cynosure, Inc Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use
US20080055755A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Searete Llc, A Limited Liability Corporation Of The State Of Delaware Electromagnetic device and method
US20080058905A1 (en) * 2006-09-01 2008-03-06 Wagner Darrell O Method and apparatus utilizing light as therapy for fungal infection
WO2008062655A1 (fr) * 2006-11-21 2008-05-29 Konica Minolta Opto, Inc. Procédé de fabrication de moule et miroir de réflexion de système optique de projection
WO2008106576A1 (en) * 2007-02-28 2008-09-04 Keraderm Llc Phototherapy treatment and device to improve the appearance of nails and skin
WO2009021225A1 (en) 2007-08-08 2009-02-12 Spectragenics, Inc. Capacitive sensing method and device for detecting skin
EP2236150B1 (de) * 2007-12-21 2019-05-29 Asac Compañía De Biotecnología E Investigación SA Verfahren zur erhöhung der therapeutischen wirksamkeit von curcuminoiden
WO2009132355A1 (en) 2008-04-25 2009-10-29 Tria Beauty, Inc. Optical sensor and method for identifying the presence of skin and the pigmentation of skin
US8348938B2 (en) 2008-05-06 2013-01-08 Old Dominian University Research Foundation Apparatus, systems and methods for treating a human tissue condition
US7848035B2 (en) 2008-09-18 2010-12-07 Photothera, Inc. Single-use lens assembly
JP5204606B2 (ja) * 2008-09-30 2013-06-05 パナソニック株式会社 発毛調節光照射装置
FR2936714B1 (fr) * 2008-10-02 2016-06-24 Oreal Procede de traitement cosmetique et ensemble pour la mise en oeuvre d'un tel procede
US20100100083A1 (en) * 2008-10-22 2010-04-22 Scott Lundahl Method of treatment for dermatologic disorders
EP2403598A4 (de) * 2009-03-05 2013-07-31 Cynosure Inc Gepulstes therapielichtsystem und verfahren dafür
EP2229980B1 (de) * 2009-03-16 2015-08-12 Nuvolase, Inc. Behandlung mikrobiologischer Krankheitserreger in einem Zehennagel mit antimikrobiellem Licht
WO2010142013A1 (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Biolux Research Limited Method and device for accelerating orthodontic tooth movement
US8814922B2 (en) * 2009-07-22 2014-08-26 New Star Lasers, Inc. Method for treatment of fingernail and toenail microbial infections using infrared laser heating and low pressure
US9919168B2 (en) 2009-07-23 2018-03-20 Palomar Medical Technologies, Inc. Method for improvement of cellulite appearance
JP5702529B2 (ja) * 2009-10-26 2015-04-15 良典 丸中 医療用光照射装置
AU2011212887B2 (en) * 2010-02-05 2016-02-25 Wisconsin Alumni Research Foundation Method of treating multiple sclerosis
US10780295B2 (en) 2010-02-05 2020-09-22 Wisconsin Alumni Research Foundation Method for treating multiple sclerosis
WO2012062884A1 (de) * 2010-11-10 2012-05-18 Nath Guenther Optisches bestrahlungsgerät für dermatologie und kosmetik
US9165756B2 (en) 2011-06-08 2015-10-20 Xenex Disinfection Services, Llc Ultraviolet discharge lamp apparatuses with one or more reflectors
US9093258B2 (en) 2011-06-08 2015-07-28 Xenex Disinfection Services, Llc Ultraviolet discharge lamp apparatuses having optical filters which attenuate visible light
EP2839552A4 (de) 2012-04-18 2015-12-30 Cynosure Inc Pikosekunderlaservorrichtung und verfahren zur behandlung von zielgewebe damit
USD722383S1 (en) 2012-05-01 2015-02-10 Carol Cole Company Skin clearing and toning device
US10285757B2 (en) 2013-03-15 2019-05-14 Cynosure, Llc Picosecond optical radiation systems and methods of use
CN105682603A (zh) 2013-10-22 2016-06-15 碧奥鲁克斯研究有限公司 口腔内光疗法装置以及使用它们的方法
USD738517S1 (en) * 2013-10-30 2015-09-08 Trophy Skin, Inc. Skin toning device
JP6429338B2 (ja) 2014-02-03 2018-11-28 クラリファイ メディカル,インク. 光線療法のためのシステムと方法
USD739541S1 (en) 2014-05-12 2015-09-22 Carol Cole Company Skin clearing and toning device
WO2016011233A1 (en) * 2014-07-16 2016-01-21 LiteProducts LLC Device and method for inactivating pathogens using visible light
AU2015317384B2 (en) 2014-09-18 2018-01-18 Xenex Disinfection Services, Llc Room and area disinfection utilizing pulsed light with modulated power flux and light systems with visible light compensation between pulses
EP3206721A1 (de) 2014-10-15 2017-08-23 Xenex Disinfection Services, LLC System und verfahren zur desinfektion vor dem ausziehen
US10039600B2 (en) * 2015-02-03 2018-08-07 L'oreal Apparatus and method for skin treatment using pulsed light
USD752237S1 (en) 2015-03-03 2016-03-22 Carol Cole Company Skin toning device
AU2016245001B2 (en) 2015-04-10 2020-09-03 Zerigo Health, Inc. Phototherapy light engine
US11638834B2 (en) 2015-07-24 2023-05-02 Zerigo Health, Inc. Systems and methods for phototherapy control
DE102016200425B3 (de) * 2016-01-15 2017-04-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Flexible, umweltfreundliche Lampenvorrichtung mit Gasentladungslampe und Verwendungen hiervon
US10632324B2 (en) 2017-04-27 2020-04-28 9127-4910 Quebec Inc. Method for the treatment of skin tissues
US11590248B2 (en) * 2017-10-30 2023-02-28 Hubbell Lighting, Inc. Pulsing high intensity narrow spectrum light
WO2019165426A1 (en) 2018-02-26 2019-08-29 Cynosure, Inc. Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser
USD854699S1 (en) 2018-05-15 2019-07-23 Carol Cole Company Elongated skin toning device
WO2021021066A1 (ru) * 2019-07-30 2021-02-04 Анатолий Анатольевич ТЕМИРОВ Мобильное световое устройство для удаления запаха пота в области подмышек
USD953553S1 (en) 2020-02-19 2022-05-31 Carol Cole Company Skin toning device
USD913508S1 (en) * 2020-03-06 2021-03-16 Cryoconcepts Lp Device for dispensing carbon dioxide enhanced topical substances
US11717698B1 (en) 2020-04-23 2023-08-08 Hugh McGrath, Jr. Therapy, treatment, and process for photodynamic inactivation of COVID-19
US11602640B2 (en) * 2020-05-16 2023-03-14 Light Tree Ventures Holding B.V. Irradiation device with adjustable beam angle
US11247066B2 (en) * 2020-06-15 2022-02-15 Light Tree Ventures Holding B.V. Irradiation device
USD957664S1 (en) 2020-07-29 2022-07-12 Carol Cole Company Skin toning device
US11896728B2 (en) 2020-09-29 2024-02-13 Abl Ip Holding Llc Techniques for directing ultraviolet energy towards a moving surface
US11850319B2 (en) 2020-09-29 2023-12-26 Abl Ip Holding Llc Techniques for directing ultraviolet energy towards a moving surface
IT202100002870A1 (it) * 2021-02-10 2022-08-10 Giardinagroup S R L Metodo e apparato per la reticolazione di una vernice

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8232530U1 (de) * 1982-11-20 1983-04-14 Golf Gmbh & Co Kg, 4520 Melle Bestrahlungsgeraet mit fahrbarem strahlungserzeuger ueber einer liege
EP0592794A2 (de) * 1992-08-26 1994-04-20 Imab-Stiftung Vorrichtung zur Erzeugung und Emission Elektromagnetischer Strahlung
EP0726083A2 (de) * 1995-02-07 1996-08-14 ESC Medical Systems Ltd. Verfahren und Vorrichtung zur Diagnose und Behandlung mit zusammengesetzter gepulster Erwärmung und photodynamischer Therapie
DE19524461A1 (de) * 1994-11-11 1997-01-30 Optomed Optomedical Systems Bestrahlungsgerät
DE29613075U1 (de) * 1996-07-27 1997-11-27 Shv Besonnungsanlagen Verwaltu Besonnungsanlage
DE9321497U1 (de) * 1992-04-09 1998-08-20 Esc Medical Systems Ltd Therapeutische elektromagnetische Behandlung
WO2000002491A1 (en) * 1998-07-09 2000-01-20 Curelight Ltd. Apparatus and method for efficient high energy photodynamic therapy of acne vulgaris and seborrhea
WO2000028575A1 (de) * 1998-11-06 2000-05-18 Spectrometrix Optoelectronic Systems Gmbh Bestrahlungseinrichtung für therapeutische und kosmetische zwecke

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3521111A (en) 1965-10-01 1970-07-21 Mitsubishi Electric Corp Discharge lamp having a fill including mercury and gallium iodide
US3540789A (en) 1968-04-08 1970-11-17 Engelhard Hanovia Inc Method of dosing vapor-discharge lamps with gallium
US4167669A (en) 1971-09-09 1979-09-11 Xenon Corporation Apparatus for rapid curing of resinous materials and method
DE2609273A1 (de) * 1976-03-05 1977-09-08 Mutzhas Maximilian F Bestrahlungseinrichtung mit ultraviolett-strahlenquelle
US5184044A (en) 1990-08-13 1993-02-02 Welch Allyn, Inc. Dental curing lamp
US5591219A (en) * 1992-03-06 1997-01-07 Dungan; Thomas E. Frequency modulator
US5683380A (en) * 1995-03-29 1997-11-04 Esc Medical Systems Ltd. Method and apparatus for depilation using pulsed electromagnetic radiation
US6280438B1 (en) * 1992-10-20 2001-08-28 Esc Medical Systems Ltd. Method and apparatus for electromagnetic treatment of the skin, including hair depilation
DE4438294A1 (de) 1994-10-26 1996-05-02 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Metallhalogenid-Entladungslampe für fotooptische Zwecke
US5964749A (en) 1995-09-15 1999-10-12 Esc Medical Systems Ltd. Method and apparatus for skin rejuvenation and wrinkle smoothing
US5836999A (en) * 1995-09-28 1998-11-17 Esc Medical Systems Ltd. Method and apparatus for treating psoriasis using pulsed electromagnetic radiation
US5798523A (en) * 1996-07-19 1998-08-25 Theratechnologies Inc. Irradiating apparatus using a scanning light source for photodynamic treatment
US6214034B1 (en) * 1996-09-04 2001-04-10 Radiancy, Inc. Method of selective photothermolysis
IL119683A (en) * 1996-11-25 2002-12-01 Rachel Lubart Method and device for light irradiation into tissue
CA2192036A1 (en) 1996-12-04 1998-06-04 Harvey Lui Fluorescence scope system for dermatologic diagnosis
US6050990A (en) * 1996-12-05 2000-04-18 Thermolase Corporation Methods and devices for inhibiting hair growth and related skin treatments
US6063108A (en) * 1997-01-06 2000-05-16 Salansky; Norman Method and apparatus for localized low energy photon therapy (LEPT)
JPH11238488A (ja) * 1997-06-06 1999-08-31 Toshiba Lighting & Technology Corp メタルハライド放電ランプ、メタルハライド放電ランプ点灯装置および照明装置
US5968034A (en) * 1997-06-24 1999-10-19 Laser Aesthetics, Inc. Pulsed filament lamp for dermatological treatment
US6016038A (en) * 1997-08-26 2000-01-18 Color Kinetics, Inc. Multicolored LED lighting method and apparatus
WO1999017668A1 (en) * 1997-10-08 1999-04-15 The General Hospital Corporation Phototherapy methods and systems
US6223071B1 (en) * 1998-05-01 2001-04-24 Dusa Pharmaceuticals Inc. Illuminator for photodynamic therapy and diagnosis which produces substantially uniform intensity visible light
DE19838304A1 (de) * 1998-08-24 2000-03-02 Pierre Nicolas Foss Externum oder Objektnah zu installierendes leuchtstoffhaltiges Mittel für phototherapeutische Zwecke
US6183496B1 (en) * 1998-11-02 2001-02-06 Datascope Investment Corp. Collapsible hemostatic plug
US6183500B1 (en) 1998-12-03 2001-02-06 Sli Lichtsysteme Gmbh Process and apparatus for the cosmetic treatment of acne vulgaris
US6514242B1 (en) * 1998-12-03 2003-02-04 David Vasily Method and apparatus for laser removal of hair
GB9905173D0 (en) 1999-03-05 1999-04-28 Sls Biophile Limited Wrinkle reduction
RU2181571C2 (ru) * 1999-03-18 2002-04-27 Закрытое акционерное общество "LC" Устройство для терапевтической и косметологической фотообработки биотканей и способ его использования
US6663658B1 (en) 1999-04-27 2003-12-16 The General Hospital Corporation Phototherapy method for treatment of acne
US20030216795A1 (en) * 1999-07-07 2003-11-20 Yoram Harth Apparatus and method for high energy photodynamic therapy of acne vulgaris, seborrhea and other skin disorders
US20040122492A1 (en) * 1999-07-07 2004-06-24 Yoram Harth Phototherapeutic treatment of skin conditions
GB2368020A (en) * 2000-10-18 2002-04-24 Icn Photonics Ltd Treatment of acne vulgaris skin condition by irradiation with light of specific wavelengths to target specific chromophores & stimulate collagen production
US20030068297A1 (en) * 2001-08-18 2003-04-10 Deepak Jain Composition and methods for skin rejuvenation and repair

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8232530U1 (de) * 1982-11-20 1983-04-14 Golf Gmbh & Co Kg, 4520 Melle Bestrahlungsgeraet mit fahrbarem strahlungserzeuger ueber einer liege
DE9321497U1 (de) * 1992-04-09 1998-08-20 Esc Medical Systems Ltd Therapeutische elektromagnetische Behandlung
EP0565331B1 (de) * 1992-04-09 2001-01-24 ESC Medical Systems Ltd. Gerät zur elektromagnetischen Therapie
EP0592794A2 (de) * 1992-08-26 1994-04-20 Imab-Stiftung Vorrichtung zur Erzeugung und Emission Elektromagnetischer Strahlung
DE19524461A1 (de) * 1994-11-11 1997-01-30 Optomed Optomedical Systems Bestrahlungsgerät
EP0726083A2 (de) * 1995-02-07 1996-08-14 ESC Medical Systems Ltd. Verfahren und Vorrichtung zur Diagnose und Behandlung mit zusammengesetzter gepulster Erwärmung und photodynamischer Therapie
DE29613075U1 (de) * 1996-07-27 1997-11-27 Shv Besonnungsanlagen Verwaltu Besonnungsanlage
WO2000002491A1 (en) * 1998-07-09 2000-01-20 Curelight Ltd. Apparatus and method for efficient high energy photodynamic therapy of acne vulgaris and seborrhea
WO2000028575A1 (de) * 1998-11-06 2000-05-18 Spectrometrix Optoelectronic Systems Gmbh Bestrahlungseinrichtung für therapeutische und kosmetische zwecke

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005042100A1 (de) * 2003-11-03 2005-05-12 Plasmaphotonics Gmbh Strahlungskonverter und den konverter enthaltende bestrahlungsanordnung
US8089057B2 (en) 2003-11-03 2012-01-03 Spectrometrix Optoelectronic Systems Gmbh Radiation converter and irradiation arrangement containing said converter

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