DE102008009600A1 - Facet mirror e.g. field facet mirror, for use as bundle-guiding optical component in illumination optics of projection exposure apparatus, has single mirror tiltable by actuators, where object field sections are smaller than object field - Google Patents

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Abstract

The mirror e.g. field facet mirror (13), has a single mirror i.e. ellipsoid-single mirror, with single mirror-illumination channels for guiding lighting radiation (10) to an object field (5) of a projection exposure apparatus (1). The single mirror has a reflector surface such that the single mirror illuminating channels in the object field illuminate object field sections. The object field sections are smaller than the object field, where the single mirror is tiltable by actuators. An independent claim is also included for a method for manufacturing a micro or nano-structured component.

Description

Die Erfindung betrifft einen Facettenspiegel zum Einsatz als bündelführende optische Komponente in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie.The The invention relates to a facet mirror for use as a bundle-conducting optical component in a projection exposure apparatus for the micro-lithography.

Derartige Facettenspiegel sind bekannt aus der US 6,438,199 B1 und der US 6,658,084 B2 .Such facet mirrors are known from the US Pat. No. 6,438,199 B1 and the US 6,658,084 B2 ,

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Facettenspiegel der eingangs genannten Art weiterzubilden, dass durch den Einsatz dieses Facettenspiegels in der Projektionsbelichtungsanlage die Variabilität bei der Einstellung verschiedener Beleuchtungsgeometrien eines mit der Projektionsbelichtungsanlage zu belichtenden Objektfeldes erhöht ist.It It is an object of the present invention to provide a facet mirror further develop the type mentioned that through the use this facet mirror in the projection exposure system the Variability when setting different lighting geometries a to be exposed with the projection exposure system object field is increased.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch einen Facettenspiegel mit den im Anspruch 1 oder mit den im Anspruch 4 angegebenen Merkmalen.These The object is achieved by a faceted mirror with the in claim 1 or with in the claim 4 specified characteristics.

Die erfindungsgemäße Unterteilung des Facettenspiegels in eine Vielzahl von Einzelspiegeln, die unabhängig voneinander verkippt werden können, ermöglicht eine variable Vorgabe von Unterteilungen des Facettenspiegels in Einzelspiegel-Gruppen. Dies kann dazu genutzt werden, Gruppierungen mit verschiedenen Berandungen zu erzeugen, um auf diese Weise beispielsweise eine Anpassung an die Form eines auszuleuchtenden Objektfeldes zu gewährleisten. Die individuelle Ansteuerbarkeit der Einzelspiegel gewährleistet, dass eine Vielzahl verschiedener Beleuchtungen des Objektfeldes möglich wird, ohne hierbei Licht durch Abschattungen zu verlieren. Insbesondere ist eine Anpassung einer Beleuchtungsoptik, innerhalb der der Facettenspiegel einsetzbar ist, an optische Parameter einer Strahlungsquelle möglich, beispielsweise an eine Strahldivergenz oder an eine Intensitätsverteilung über den Strahlquerschnitt. Der Facettenspiegel kann so ausgeführt sein, dass mehrere Einzelspiegel-Gruppen jeweils für sich das gesamte Objektfeld ausleuchten. Es können mehr als zehn, mehr als 50 oder auch mehr als 100 derartiger Einzelspiegel-Gruppen beim erfindungsgemäßen Facettenspiegel vorgesehen sein.The subdivision of the facet mirror according to the invention into a variety of individual mirrors, which are independent of each other can be tilted, allows a variable Specification of subdivisions of the facet mirror into individual mirror groups. This can be used to groupings with different boundaries for example, to adapt to this To ensure the shape of an illuminated object field. The individual controllability of the individual mirrors ensures that a variety of different illuminations of the object field becomes possible without light by shadowing to lose. In particular, an adaptation of a lighting optical system, within which the facet mirror can be used, to optical parameters a radiation source possible, for example, to a Beam divergence or an intensity distribution over the beam cross section. The facet mirror can do this be that multiple individual mirror groups each for themselves illuminate the entire object field. There can be more than ten, more than 50 or even more than 100 such individual mirror groups be provided in the facet mirror according to the invention.

Bei Einzelspiegeln nach Anspruch 2 können die zugeordneten Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle das Objektfeld getrennt voneinander ausleuchten oder es kann eine gezielte Überlappung zwischen den Einzelspiegel-Ausleuchtungskanälen bereitgestellt werden. Das Objektfeld kann von mehr als zwei Einzelspiegel-Ausleuchtungskanälen ausgeleuchtet werden, beispielsweise von mehr als zehn Einzelspiegel-Ausleuchtungskanälen.at Individual mirrors according to claim 2, the associated Single-mirror illumination channels separate the object field illuminate each other or it can be a targeted overlap provided between the individual mirror illumination channels become. The object field may consist of more than two single-mirror illumination channels be illuminated, for example, more than ten individual mirror illumination channels.

Die Vorteile eines Facettenspiegels nach Anspruch 4 entsprechen denen, die vorstehend im Zusammenhang mit dem Facettenspiegel nach Anspruch 1 erläutert wurden.The Advantages of a facet mirror according to claim 4 correspond to those the above in connection with the facet mirror according to claim 1 were explained.

Ein Facettenspiegel nach Anspruch 5 wird insbesondere als Feldfacettenspiegel in einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt. Je nach Größe und Form der Einzelspiegel-Gruppen kann eine entsprechende Größe und Form des auszuleuchtenden Objektfeldes resultieren. Bei rechteckigem Objektfeld stimmt dann das Facetten-Aspektverhältnis der Einzelfacetten mit dem Feld-Aspektverhältnis überein.One Facet mirror according to claim 5, in particular as a field facet mirror used in an illumination optical system of the projection exposure system. Depending on the size and shape of the individual mirror groups can be an appropriate size and shape of the illuminated Object field result. For rectangular object field then true the facet aspect ratio of the individual facets with the Field aspect ratio match.

Anstelle von Einzelfacetten, deren Form der vollen Form des Objektfeldes entspricht, können auch Einzelfacetten bzw. Einzelspiegel-Gruppierungen realisiert werden, die Halbfeldern entsprechen, also einem Feld mit halber Erstreckung längs einer Objektfelddimension. Je zwei solcher Halbfelder werden dann zur Beleuchtung des gesamten Objektfeldes zusammengesetzt.Instead of of single facets whose shape is the full form of the object field can also be single facets or single mirror groupings be realized, which correspond to half fields, so a field with half extent along an object field dimension. Each two such half-fields are then used to illuminate the entire Object field composed.

Gruppenformen nach den Ansprüchen 6 und 7 sind gut an derzeitige Objektfeldgeometrien angepasst. Eine bogenförmige, ringförmige oder kreisförmige Einhüllende kann dabei auch durch pixelweise Annäherung erfolgen, indem aus einer rasterartigen Einzelspiegel-Anordnung eine Einzelspiegel-Gruppe ausgewählt wird, deren Berandung der gewünschten Einhüllenden angenähert ist.group forms according to claims 6 and 7 are good at current object field geometries customized. An arcuate, annular or circular envelope can also by pixel-by-pixel approximation done by a grid-like single-mirror arrangement a single-mirror group is selected, whose boundary approximated to the desired envelope is.

Ein Facettenspiegel nach Anspruch 8 kommt insbesondere als Pupillenfacettenspiegel in einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage zum Einsatz.One Facet mirror according to claim 8 comes in particular as a pupil facet mirror in an illumination optical system of the projection exposure apparatus for Commitment.

Bevorzugt werden innerhalb der Beleuchtungsoptik sowohl ein erfindungsgemäß in Einzelspiegel unterteilter Feldfacettenspiegel als auch ein erfindungsgemäß in Einzelspiegel unterteilter Pupillenfacettenspiegel eingesetzt. Es kann dann eine bestimmte Beleuchtungswinkelverteilung, also ein Beleuchtungssetting, durch entsprechende Gruppierung der Einzelspiegel-Gruppen auf dem Feldfacettenspiegel und den Pupillenfacettenspiegeln praktisch ohne Lichtverlust realisiert werden. Erfindungsgemäß in Einzelspiegel unterteilt sein kann auch ein spekularer Reflektor nach Art desjenigen, der beispielsweise in der US 2006/0132747 A1 beschrieben ist. Da mit dem spekularen Reflektor sowohl die Intensitäts- als auch die Beleuchtungswinkelverteilung im Objektfeld eingestellt wird, kommt hier die zusätzliche Variabilität aufgrund der Unterteilung in Einzelspiegel besonders gut zum Tragen.Within the illumination optics, both a field facet mirror subdivided into individual mirrors according to the invention and a pupil facet mirror subdivided into individual mirrors according to the invention are preferably used. It is then possible to realize a specific illumination angle distribution, that is to say an illumination setting, by practically grouping the individual mirror groups on the field facet mirror and the pupil facet mirrors with virtually no loss of light. According to the invention may be subdivided into individual mirrors, a specular reflector on the type of those who, for example, in the US 2006/0132747 A1 is described. Since both the intensity and the illumination angle distribution in the object field are set with the specular reflector, the additional variability due to the subdivision into individual mirrors comes into play here particularly well.

Eine Ausführung nach Anspruch 9 kann auf der Basis konstruktiver Lösungen realisiert werden, die aus dem Bereich von Mikrospiegel-Arrays bereits bekannt sind. Ein Mikrospiegel-Array ist beispielsweise beschrieben in der US 7,061,582 B2 . Die Art der Parkettierung wird je nach den geforderten Formen der Einzelspiegel-Gruppen gewählt. Es kann insbesondere eine Parkettierung zum Einsatz kommen, die bekannt ist aus Istvan Reimann: „Parkette, geometrisch betrachtet", in „Mathematisches Mosaik", Köln (1977) , und Jan Gulberg: „Mathematics-From the birth of numbers", New York/London (1997) .An embodiment according to claim 9 can be realized on the basis of constructive solutions that already in the field of micromirror arrays are known. A micromirror array is described, for example, in US Pat US 7,061,582 B2 , The type of tiling is chosen according to the required forms of individual mirror groups. It can be used in particular a tiling, which is known from Istvan Reimann: "Parquet, geometrically considered", in "Mathematisches Mosaik", Cologne (1977) , and Jan Gulberg: "Mathematics-From the Birth of Numbers", New York / London (1997) ,

Ein Einzelspiegel nach Anspruch 10 ist konstruktiv mit vergleichsweise geringem Aufwand realisierbar. Auch mit derart plan ausgeführten Einzelspiegeln lassen sich Einzelspiegel-Gruppen mit insgesamt angenähert gekrümmten Reflexionsflächen realisieren. Alternativ ist es möglich, die Einzelspiegel des Facettenspiegels gekrümmt, insbesondere elliptisch gekrümmt, auszuführen, sodass die Einzelspiegel für das Beleuchtungs- beziehungsweise Abbildungslicht eine bündelformende Wirkung haben. Die Einzelspiegel sind dabei insbesondere konkav gekrümmt. Der Facettenspiegel kann insbesondere als Multiellipsoidspiegel ausgeführt sein. Anstelle von gekrümmten Einzelspiegeln können derartige gekrümmte Einzelspiegel wiederum durch Einzelspieget-Gruppen mit planen Reflexionsflächen ersetzt werden, wobei die nichtplanen Oberflächen eines derart ersetzten gekrümmten Einzelspiegels durch ein Polyeder von Mikrofacetten approximiert werden.One Single mirror according to claim 10 is constructive with comparatively little effort feasible. Even with such plan running Single mirrors can be approximated individual mirror groups with a total realize curved reflecting surfaces. alternative is it possible to use the individual mirrors of the facet mirror curved, in particular elliptically curved, execute, so that the individual mirrors for the lighting or Imaging light have a bundle-forming effect. The Individual mirrors are in particular concavely curved. The facet mirror can be used in particular as a multi-ellipsoidal mirror be executed. Instead of curved individual mirrors can turn such curved individual mirror by single-mirror groups with flat reflection surfaces be replaced, the non-planar surfaces of such a replaced curved single mirror by a polyhedron be approximated by microfacets.

Eine Verlagerbarkeit nach Anspruch 11 erhöht die Variabilität bei der Vorgabe bestimmter Topographien der Reflexionsfläche des Facettenspiegels. Es ist dann nicht nur eine Gruppierung möglich, sondern auch innerhalb der jeweiligen Gruppierungen die Vorgabe bestimmter Reflexionsflächenkrümmungen und -freiformen, die eine gewünschte abbildende oder in sonstiger Weise bündelformende Wirkung haben.A Displaceability according to claim 11 increases the variability when specifying certain topographies of the reflection surface of the facet mirror. It is then not just a grouping possible, but also within the respective groupings the specification of certain Reflection surface curvatures and free-formations that a desired imaging or otherwise bundle-forming Have effect.

Eine Anordnung nach Anspruch 12 kann ebenfalls auf der Basis von konstruktiven Lösungen, die aus dem Bereich der Mikrospiegel-Arrays bekannt sind, realisiert werden.A Arrangement according to claim 12 can also be based on constructive Solutions known from the field of micromirror arrays are to be realized.

Eine Ansteuerung nach Anspruch 13 gewährleistet eine schnelle und je nach Vorgabe individuelle Ansteuerung der Einzelspiegel.A Control according to claim 13 ensures a fast and, depending on the specification, individual activation of the individual mirrors.

Eine reihenweise, also insbesondere zeilen- oder spaltenweise Ansteuerung nach Anspruch 14 ermöglicht eine unaufwändige gemeinsame Ansteuerung von Einzelspiegeln, falls dies, beispielsweise zur Gruppierung oder zur gemeinsamen Ausblendung von Einzelspiegeln, erforderlich ist.A row by row, ie in particular row-wise or column-by-column control according to claim 14 allows an unobtrusive common control of individual mirrors, if this, for example for Grouping or for the common suppression of individual mirrors, is required.

Eine Ausgestaltung nach Anspruch 15 ermöglicht eine Korrektur einer Homogenität der Objektfeldausleuchtung, was die Intensität der Ausleuchtung über das Objektfeld angeht. Alternativ oder zusätzlich ist möglich, eine Pupillenausleuchtung über die individuelle Ansteuerung der Einzelspiegel vorzugeben, sodass eine Intensitätsverteilung der Ausleuchtung einer Pupillenebene über die Ansteuerung der Einzelspiegel vorgegeben werden kann.A Embodiment according to claim 15 enables a correction a homogeneity of the object field illumination, what the intensity the illumination of the object field. alternative or additionally it is possible to have a pupil illumination over to specify the individual control of the individual mirrors, so an intensity distribution of the illumination of a pupil plane over the control of the individual mirror can be specified.

Ein planer Träger nach Anspruch 16 vereinfacht die Herstellung des Facettenspiegels. Eine plane Anordnung des Trägers des Facettenspiegels kann durch eine entsprechende Formung von Beleuchtungs- oder Abbildungslicht vor dem Facettenspiegel erreicht werden.One Plain support according to claim 16 simplifies the production of the facet mirror. A plane arrangement of the carrier of the facet mirror can be achieved by appropriate shaping of illumination or imaging light before the facet mirror.

Die Vorteile einer Beleuchtungsoptik nach Anspruch 17 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf den erfindungsgemäßen Facettenspiegel bereits ausgeführt wurden.The Advantages of a lighting optical system according to claim 17 correspond to those those with reference to the invention Facet mirrors have already been executed.

Eine Beleuchtungsoptik nach Anspruch 18 kann beispielsweise die Vorteile eines aus Einzelspiegeln aufgebauten Feldfacettenspiegels mit denen eines aus Einzelspiegeln aufgebauten Pupillenfacettenspiegels vereinen. Die Einstellung verschiedenster Beleuchtungssettings praktisch ohne Lichtverlust ist möglich. Der Pupillenfacettenspiegel kann eine größere Anzahl von Einzelspiegeln aufweisen als der vorgelagerte Feldfacettenspiegel. Mit dem vorgelagerten Feldfacettenspiegel lassen sich dann verschiedene Ausleuchtungsformen des Pupillenfacettenspiegels und damit verschiedene Beleuchtungssettings der Beleuchtungsoptik realisieren, soweit die Facetten zur Umstellung entsprechend aktorisch verlagert, insbesondere verkippt, werden können.A Illumination optics according to claim 18, for example, the advantages a built-up of individual mirrors field facet mirror with those unite a pupil facet mirror built from individual mirrors. The setting of various lighting settings practically without Light loss is possible. The pupil facet mirror may have a have larger numbers of individual mirrors than the upstream field facet mirror. With the upstream field facet mirror can then be different illumination forms of the pupil facet mirror and thus different illumination settings of the illumination optics realize, as far as the facets for conversion accordingly aktorisch be shifted, in particular tilted, can be.

Eine abschnittsweise Objektfeldbeleuchtung nach Anspruch 19 führt zu einer nochmals vergrößerten Flexibilität bei der Objektfeldausleuchtung, die zu einem weiteren Korrektur-Freiheitsgrad führt. Durch relative Verschiebung der ausgeleuchteten Objektfeldabschnitte innerhalb des Objektfeldes kann entsprechend eine Korrektur der Objektfeldausleuchtung erzielt werden.A Sectionally object field illumination according to claim 19 leads to a further increased flexibility in the object field illumination, which leads to another degree of correction leads. By relative displacement of the illuminated Object field sections within the object field can be correspondingly a correction of the object field illumination can be achieved.

Die Vorteile einer Beleuchtungsoptik mit einem Feldfacettenspiegel nach Anspruch 20 entsprechen denen, die vorstehend im Zusammenhang mit der Beleuchtungsoptik nach Anspruch 18 bereits erläutert wurden.The Advantages of a lighting optics with a field facet mirror after Claim 20 correspond to those described above in connection with the Illumination optics according to claim 18 have already been explained.

Die Vorteile einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 21 entsprechen denen, die vorstehend bereits diskutiert wurden.The Advantages of a projection exposure system according to claim 21 correspond those already discussed above.

Eine Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 22 ermöglicht eine hohe Strukturauflösung.A Projection exposure system according to claim 22 allows a high structure resolution.

Ein spekularer Reflektor nach Anspruch 23 vermindert die Anzahl der innerhalb einer Beleuchtungsoptik notwendigen Reflexionen des Beleuchtungslichts. Dies erhöht die Gesamttransmission der Beleuchtungsoptik.A specular reflector according to claim 23 reduces the number of necessary within an illumination optical reflections of the lighting tung light. This increases the overall transmission of the illumination optics.

Eine diskrete Ausleuchtung nach Anspruch 24 ermöglicht es, die Einzelspiegel des spekularen Reflektors beabstandet zueinander anzuordnen. Zwischen den Einzelspiegeln ist dann Platz beispielsweise für Aufhänge- und Verlagerungsmechaniken sowie für Verlagerungsaktoren der Einzelspiegel.A discrete illumination according to claim 24 allows the Individual mirror of the specular reflector spaced to arrange each other. Between the individual mirrors is then room for example for Suspension and displacement mechanisms as well as for Displacement factors of the individual mirrors.

Ein Facettenspiegel nach Anspruch 25 kann beispielsweise als Kollektor-Facettenspiegel ausgeführt sein. Ein derartiger Kollektor-Facettenspiegel, der insbesondere Ellipsoid-Einzelspiegel aufweisen kann, ist auch prinzipiell bei nicht mit einem spekularen Reflektor arbeitenden Beleuchtungsoptiken einsetzbar.One Facet mirror according to claim 25, for example, as a collector facet mirror be executed. Such a collector facet mirror, the In particular, ellipsoidal individual mirror may have, is also in principle when not working with a specular reflector illumination optics used.

Wenn der spekulare Reflektor nach Anspruch 26 mehr Einzelspiegel aufweist als der vorgelagerte Facettenspiegel, lassen sich mit dem vorgelagerten Facettenspiegel verschiedene Ausleuchtungsformen des spekularen Reflektors und damit verschiedene Beleuchtungssettings der Beleuchtungsoptik realisieren.If the specular reflector according to claim 26 has more individual mirrors as the upstream facet mirror, can be compared with the upstream Facet mirror different forms of illumination of the specular Reflectors and thus different illumination settings of the illumination optics realize.

Ein Kollektor nach Anspruch 27 vermindert die Anforderungen an die Bündelformung des Beleuchtungslichts durch den nachgeordneten Facettenspiegel.One Collector according to claim 27 reduces the requirements for the bundle forming of the illumination light by the downstream facet mirror.

Ein Kollektor nach Anspruch 28 ist im Vergleich zu einem Facettenspiegel in seiner Herstellung unaufwändiger.One A collector according to claim 28 is compared to a facet mirror in his production less expensive.

Ein Winkel zwischen der Scanrichtung und der langen Feldachse nach Anspruch 29 vermeidet bzw. vermindert Beleuchtungsinhomogonitäten bei einer abschnittsweisen Ausleuchtung des Objektfeldes. Dieser Winkel liegt beispielsweise bei 10°. Auch andere Winkel, beispielsweise im Bereich zwischen 1 und 3°, im Bereich von 3 und 5°, im Bereich zwischen 5 und 7° oder im Bereich zwischen 7 und 9°, sind möglich. Prinzipiell sind auch Winkel möglich, die größer sind als 10°. Alternativ ist es möglich, die Objektfeldabschnitte so anzuordnen, dass längs einer Scanrichtung keine durchgehenden Begrenzungen zwischen den Objektfeldabschnitten vorliegen.One Angle between the scanning direction and the long field axis according to claim 29 avoids or reduces illumination inhomogeneities in a section-wise illumination of the object field. This Angle is for example at 10 °. Other angles, for example in the range between 1 and 3 °, in the range from 3 and 5 °, in the range between 5 and 7 ° or in the range between 7 and 9 °, are possible. in principle angles are also possible, the larger are as 10 °. Alternatively, it is possible to use the object field sections to arrange so that along a scan direction no continuous There are boundaries between the object field sections.

Die Vorteile eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 30 und eines mikrostrukturierten Bauteils nach Anspruch 31 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Ansprüche 1 bis 29 bereits erläutert wurden. Es lassen sich mikrostrukturierte Bauteile mit hohen Integrationsdichten bis hin in den Sub-Mikrometer-Bereich realisieren.The Advantages of a manufacturing method according to claim 30 and a microstructured component according to claim 31 correspond to those those with reference to claims 1 to 29 already explained. It can be microstructured Components with high integration densities down to the sub-micron range realize.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:embodiments The invention will be described below with reference to the drawing explained. Show it:

1 schematisch einen Meridionalschnitt durch eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Lithographie; 1 schematically a meridional section through a projection exposure system for EUV projection lithography;

2 schematisch eine Aufsicht auf einen aus Einzelspiegel aufgebauten Feldfacettenspiegel zum Einsatz in der Projektionsbelichtungsanlage nach 1; 2 schematically a plan view of a constructed from single mirror field facet mirror for use in the projection exposure system according to 1 ;

3 eine Ansicht eines Ausschnitts einer Einzelspiegel-Zeile des Facettenspiegels nach 2 aus Blickrichtung III in 2; 3 a view of a section of a single mirror row of facet mirror behind 2 from viewing direction III in 2 ;

4 bis 6 stark schematisch verschiedene Formen einer aus den Einzelspiegeln der in der 3 dargestellten Einzelspiegel-Zeile gebildeten Zeilen-Reflexionsfläche in drei verschiedenen Konfigurationen; 4 to 6 very schematically different forms one of the individual mirrors of the 3 illustrated single-row mirror row reflective surface in three different configurations;

7 einen Ausschnitt einer weiteren Ausführung eines aus Einzelfacetten aufgebauten Feldfacettenspiegels mit einer beispielhaften Gruppierung der Einzelspiegel in eine Anordnung von Einzelfacetten vorgebenden Einzelspiegel-Gruppen in einer Aufsicht; 7 a detail of another embodiment of a built-up of individual facets field facet mirror with an exemplary grouping of the individual mirrors in an array of single facets predetermining individual mirror groups in a plan view;

8 schematisch einen aus Einzelspiegeln aufgebauten Pupillenfacettenspiegel zum Einsatz in der Projektionsbelichtungsanlage nach 1 beispielsweise zur Vergabe verschiedener annularer bzw. ringförmiger Beleuchtungssettings in einer Aufsicht; 8th schematically a built-up of individual mirrors pupil facet mirror for use in the projection exposure system according to 1 for example, to award different annular or annular illumination settings in a plan view;

9 bis 13 Beispiele verschiedener Gruppierungen der Einzelspiegel des Facettenspiegels nach 2 in Einzelfacetten vorgebende Einzelspiegel-Gruppen; 9 to 13 Examples of different groupings of the individual mirrors of the facet mirror 2 in individual facets prescribing individual mirror groups;

14 einen zu 8 ähnlichen, ebenfalls aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln aufgebauten Pupillenfacettenspiegel, wobei eine Mehrzahl kreisförmig ausgeleuchteter Einzelspiegel-Gruppen zur Vorgabe eines ersten, angenähert konventionellen Beleuchtungssettings ausgeleuchtet sind; 14 one too 8th similar, also made of a plurality of individual mirrors Pupillenfacettenspiegel, wherein a plurality of circularly illuminated individual mirror groups are illuminated to specify a first, approximately conventional Beleuchtungssettings;

15 den Pupillenfacettenspiegel nach 14, wobei die gleiche Anzahl von Einzelspiegel-Gruppen ebenfalls kreisförmig zur Vorgabe eines weiteren, angenähert ringförmigen Beleuchtungssettings ausgeleuchtet ist; 15 after the pupil facet mirror 14 wherein the same number of individual mirror groups is also illuminated in a circle to specify a further, approximately annular illumination setting;

16 eine weitere Variante einer Gruppierung der Einzelspiegel des Feldfacettenspiegels nach 2 zur Ausleuchtung eines Ring- bzw. Bogenfeldes; 16 a further variant of a grouping of the individual mirror of the field facet mirror after 2 for illuminating a ring or arc field;

17 bis 20 weitere Beispiele von Gruppierungen von Einzelspiegeln eines Feldfacettenspiegels in Einzelspiegel-Gruppen; 17 to 20 further examples of groupings of individual mirrors of a field facet mirror into individual mirror groups;

21 und 22 weitere Beispiele von Gruppierungen von Einzelspiegeln eines Pupillenfacettenspiegels in Einzelspiegel-Gruppen; 21 and 22 further examples of groupings of individual levels of a pupil facet mirror in individual mirror groups;

23 eine weitere Ausführung einer Belegung einer Reflexionsfläche eines aus Einzelspiegeln aufgebauten Facettenspiegels mit Einzelspiegeln; 23 a further embodiment of an occupancy of a reflection surface of a built-up of individual mirrors facet mirror with individual mirrors;

24 schematisch im Meridionalschnitt eine weitere Ausführung eines optischen Designs einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Lithographie, wobei eine Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage einen spekularen Reflektor aufweist; 24 schematically in meridional section a further embodiment of an optical design of a projection exposure apparatus for EUV projection lithography, wherein an illumination optical system of the projection exposure apparatus has a specular reflector;

25 schematisch im Meridionalschnitt einen Ausschnitt einer weiteren Ausführung eines Beleuchtungssystems für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Lithographie; 25 schematically in meridional section a detail of another embodiment of a lighting system for a projection exposure system for EUV projection lithography;

26 in einer zu 24 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung eines optischen Designs einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Lithographie mit einem spekularen Reflektor; 26 in one too 24 a similar embodiment of another embodiment of an optical design of an illumination optical system of a projection exposure apparatus for EUV projection lithography with a specular reflector;

27 in einer zu 26 ähnlichen Darstellung eine Variante einer Zuordnung von Ellipsoid-Einzelspiegeln eines Kollektorfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik zu Einzelspiegeln des spekularen Reflektors; 27 in one too 26 a similar representation of a variant of an assignment of ellipsoidal individual mirrors of a collector facet mirror of the illumination optics to individual mirrors of the specular reflector;

28 eine Aufsicht auf eine Quellbilder-Beaufschlagung des spekularen Reflektors nach den 26 und 27; und 28 a plan view of a source image exposure of the specular reflector according to the 26 and 27 ; and

29 eine Aufsicht auf ein abschnittsweise beleuchtetes Objektfeld einer Variante der Projektionsbelichtungsanlage. 29 a plan view of a partially illuminated object field of a variant of the projection exposure system.

1 zeigt schematisch in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikro-Lithographie. Ein Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Belichtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 5 angeordnetes und in der Zeichnung nicht dargestelltes Retikel, das von einem ebenfalls nicht dargestellten Retikelhalter gehalten ist. Eine Projektionsoptik 7 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 8 in einer Bildebene 9. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 8 in der Bildebene 9 angeordneten Wafers, der in der Zeichnung ebenfalls nicht dargestellt ist und von einem ebenfalls nicht dargestellten Waferhalter gehalten ist. 1 schematically shows in a meridional section a projection exposure system 1 for micro-lithography. A lighting system 2 the projection exposure system 1 has next to a radiation source 3 an illumination optics 4 for the exposure of an object field 5 in an object plane 6 , One is exposed in the object field 5 arranged and not shown in the drawing reticle, which is held by a reticle holder, also not shown. A projection optics 7 serves to represent the object field 5 in a picture field 8th in an image plane 9 , A structure on the reticle is imaged onto a photosensitive layer in the area of the image field 8th in the picture plane 9 arranged wafer, which is also not shown in the drawing and is held by a wafer holder, also not shown.

Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle mit einer emittierten Nutzstrahlung im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Es kann sich dabei um eine Plasmaquelle, beispielsweise um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, gasdischargeproduced plasma) oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Laser, laser-produced plasma) handeln. Auch eine Strahlungsquelle, die auf einem Synchrotron basiert, ist für die Strahlungsquelle 3 einsetzbar. Informationen zu einer derartigen Strahlungsquelle findet der Fachmann beispielsweise aus der US 6,859,515 B2 . EUV-Strahlung 10, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 11 gebündelt. Ein entsprechender Kollektor ist aus der EP 1 225 481 A bekannt. Nach dem Kollektor 11 propagiert die EUV-Strahlung 10 durch eine Zwischenfokusebene 12, bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel 13 trifft. Der Feldfacettenspiegel 13 ist in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zur Objektebene 6 optisch konjugiert ist.At the radiation source 3 it is an EUV radiation source with an emitted useful radiation in the range between 5 nm and 30 nm. It can be a plasma source, for example a GDPP source (plasma generation by gas discharge, gasdischargeproduced plasma) or an LPP source ( Plasma generation by laser, laser-produced plasma) act. Also, a radiation source based on a synchrotron is for the radiation source 3 used. Information about such a radiation source is the expert, for example from the US Pat. No. 6,859,515 B2 , EUV radiation 10 coming from the radiation source 3 emanating from a collector 11 bundled. A corresponding collector is from the EP 1 225 481 A known. After the collector 11 propagates the EUV radiation 10 through an intermediate focus level 12 before moving to a field facet mirror 13 meets. The field facet mirror 13 is in a plane of illumination optics 4 arranged to the object level 6 is optically conjugated.

Die EUV-Strahlung 10 wird nachfolgend auch als Beleuchtungslicht oder als Abbildungslicht bezeichnet.The EUV radiation 10 is hereinafter also referred to as illumination light or as imaging light.

Nach dem Feldfacettenspiegel 13 wird die EUV-Strahlung 10 von einem Pupillenfacettenspiegel 14 reflektiert. Der Pupillenfacettenspiegel 14 ist in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 7 optisch konjugiert ist. Mit Hilfe des Pupillenfacettenspiegels 14 und einer abbildenden optischen Baugruppe in Form einer Übertragungsoptik 15 mit in der Reihenfolge des Strahlengangs bezeichneten Spiegeln 16, 17 und 18 werden nachfolgend noch näher beschriebene Feld-Einzelfacetten 19, die auch als Subfelder oder als Einzelspiegel-Gruppen bezeichnet werden, des Feldfacettenspiegels 13 in das Objektfeld 5 abge bildet. Der letzte Spiegel 18 der Übertragungsoptik 15 ist ein Spiegel für streifenden Einfall („Grazing Incidence-Spiegel").After the field facet mirror 13 becomes the EUV radiation 10 from a pupil facet mirror 14 reflected. The pupil facet mirror 14 is in a pupil plane of the illumination optics 4 arranged to a pupil plane of the projection optics 7 is optically conjugated. With the help of the pupil facet mirror 14 and an imaging optical assembly in the form of a transmission optics 15 with mirrors in the order of the beam path 16 . 17 and 18 will be described in more detail below field single facets 19 , also referred to as subfields or as single mirror groups, of the field facet mirror 13 in the object field 5 abge forms. The last mirror 18 the transmission optics 15 is a grazing incidence mirror.

2 zeigt Details des Aufbaus des Feldfacettenspiegels 13 in einer stark schematischen Darstellung. Eine gesamte Reflexionsfläche 20 des Feldfacettenspiegels 13 ist zeilen- und spaltenweise unterteilt in ein Raster aus Einzelspiegeln 21. Die Einzelreflexions-Flächen der individuellen Einzelspiegel 21 sind plan. Eine Einzelspiegel-Zeile 22 weist eine Mehrzahl der direkt nebeneinander liegenden Einzelspiegel 21 auf. In einer Einzelspiegel-Zeile 22 können mehrere zehn bis mehrere hundert der Einzelspiegel 21 vorgesehen sein. Im Beispiel nach 2 sind die Einzelspiegel 21 quadratisch. Auch andere Formen von Einzelspiegeln, die eine möglichst lückenlose Belegung der Reflexionsfläche 20 ermöglichen, können eingesetzt sein. Derartige alternative Einzelspiegel-Formen sind aus der mathematischen Theorie der Parkettierung bekannt. In diesem Zusammenhang sei verwiesen auf Istvan Reimann: "Parkette, geometrisch betrachtet", in „Mathematisches Mosaik", Köln (1977) , sowie auf Jan Gulberg: „Mathematics-From the birth of numbers", New York/London (1997) . 2 shows details of the construction of the field facet mirror 13 in a very schematic representation. An entire reflection surface 20 of the field facet mirror 13 is divided into rows and columns into a grid of individual mirrors 21 , The single reflection surfaces of the individual individual mirrors 21 are plan. A single-mirror line 22 has a plurality of directly adjacent individual mirrors 21 on. In a single-mirror line 22 can be several tens to several hundred of the individual mirrors 21 be provided. In the example below 2 are the individual mirrors 21 square. Other forms of individual mirrors, the most complete occupation of the reflection surface 20 can be used. Such alternative single mirror shapes are known from the mathematical theory of tiling. In this connection, please refer to Istvan Reimann: "Parquets, geometrically considered ", in" Mathematisches Mosaik ", Cologne (1977) , as well as on Jan Gulberg: "Mathematics-From the Birth of Numbers", New York / London (1997) ,

Der Feldfacettenspiegel 13 kann beispielsweise so ausgeführt sein, wie in der DE 10 2006 036 064 A1 beschrieben.The field facet mirror 13 can be carried out, for example, as in the DE 10 2006 036 064 A1 described.

Eine Einzelspiegel-Spalte 23 hat, je nach Ausführung des Feldfacettenspiegels 13, ebenfalls eine Mehrzahl von Einzelspiegeln 21. Pro Einzelspiegel-Spalte 23 sind beispielsweise einige zehn Einzelspiegel 21 vorgesehen.A single mirror column 23 has, depending on the design of the field facet mirror 13 , also a plurality of individual mirrors 21 , Per single-mirror column 23 For example, there are a few tens of individual mirrors 21 intended.

Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der 2 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem als lokales Koordinatensystem des Feldfacettenspiegels 13 eingezeichnet. Entsprechende lokale xyz-Koordinatensysteme finden sich auch in den nachfolgenden Figuren, die Facettenspiegel oder einen Ausschnitt hiervon in Aufsicht zeigen. In der 2 verläuft die x-Achse horizontal nach rechts parallel zu den Einzelspiegel-Zeilen 22. Die y-Achse läuft in der 2 nach oben parallel zu den Einzelspiegel-Spalten 23. Die z-Achse steht senkrecht auf der Zeichenebene der 2 und läuft aus dieser heraus.To facilitate the description of positional relationships is in the 2 a Cartesian xyz coordinate system as the local coordinate system of the field facet mirror 13 located. Corresponding local xyz coordinate systems can also be found in the following figures, which show facet mirrors or a section thereof in a top view. In the 2 the x-axis runs horizontally to the right parallel to the individual mirror lines 22 , The y-axis runs in the 2 upwards parallel to the individual mirror columns 23 , The z-axis is perpendicular to the plane of the 2 and runs out of this.

Bei der Projektionsbelichtung werden der Retikelhalter und der Waferhalter synchronisiert zueinander in y-Richtung gescannt. Auch ein kleiner Winkel zwischen der Scanrichtung und der y-Richtung ist möglich, wie noch erläutert wird.at The projection exposure becomes the reticle holder and the wafer holder synchronized with each other in the y-direction scanned. Also a small angle between the scanning direction and the y-direction is possible as will be explained.

In x-Richtung hat die Reflexionsfläche 20 des Feldfacettenspiegels 13 eine Erstreckung von x0. In y-Richtung hat die Reflexionsfläche 20 des Feldfacettenspiegels 13 eine Erstreckung von y0.In the x-direction has the reflection surface 20 of the field facet mirror 13 an extension of x 0 . In the y-direction has the reflection surface 20 of the field facet mirror 13 an extension of y 0 .

Je nach Ausführung des Feldfacettenspiegels 13 haben die Einzelspiegel 21 x/y-Erstreckungen im Bereich beispielsweise von 600 µm × 600 µm bis beispielsweise 2 mm × 2 mm. Der gesamte Feldfacettenspiegel 13 hat eine x0/y0-Erstreckung, die je nach Ausführung beispielsweise 300 mm × 300 mm oder 600 mm × 600 mm beträgt. Die Feld-Einzelfacetten 19 haben typische x/y-Erstreckungen von 25 mm × 4 mm oder von 104 mm × 8 mm. Je nach dem Verhältnis zwischen der Größe der jeweiligen Feld-Einzelfacetten 19 und der Größe der Einzelspiegel 21, die diese Feld-Einzelfacetten 19 aufbauen, weist jede der Feld-Einzelfacetten 19 eine entsprechende Anzahl von Einzelspiegeln 21 auf.Depending on the version of the field facet mirror 13 have the individual mirrors 21 x / y extensions in the range, for example, of 600 μm × 600 μm to, for example, 2 mm × 2 mm. The entire field facet mirror 13 has an x 0 / y 0 extension which, depending on the design, is for example 300 mm × 300 mm or 600 mm × 600 mm. The field single facets 19 have typical x / y dimensions of 25 mm x 4 mm or 104 mm x 8 mm. Depending on the relationship between the size of the respective field single facets 19 and the size of the individual mirror 21 who have used this field single facets 19 build, assigns each of the field single facets 19 a corresponding number of individual mirrors 21 on.

Jeder der Einzelspiegel 21 ist zur individuellen Ablenkung von auftreffendem Beleuchtungslicht 10 jeweils mit einem Aktor bzw. Aktuator 24 verbunden, wie in der 2 anhand zweier in einer Ecke links unten der Reflexionsfläche 20 angeordneten Einzelspiegel 21 gestrichelt angedeutet und näher in der 3 anhand eines Ausschnitts einer Einzelfacetten-Zeile 22 dargestellt. Die Aktuatoren 24 sind auf der einer reflektierenden Seite der Einzelspiegel 21 abgewandten Seite jedes der Einzelspiegel 21 angeordnet. Die Aktuatoren 24 können beispielsweise als Piezo-Aktuatoren ausgeführt sein. Ausgestaltungen derartiger Aktuatoren sind vom Aufbau von Mikrospiegel-Arrays her bekannt.Each of the individual mirrors 21 is for the individual distraction of incident illumination light 10 each with an actuator or actuator 24 connected, as in the 2 based on two in a corner at the bottom left of the reflection surface 20 arranged individual mirrors 21 indicated by dashed lines and closer in the 3 based on a section of a single facet line 22 shown. The actuators 24 are on the one reflective side of the individual mirror 21 opposite side of each of the individual mirrors 21 arranged. The actuators 24 For example, they can be designed as piezoactuators. Embodiments of such actuators are known from the structure of micromirror arrays ago.

Die Aktuatoren 24 einer Einzelspiegel-Zeile 22 sind jeweils über Signalleitungen 25 mit einem Zeilen-Signalbus 26 verbunden. Jeweils einem der Zeilen-Signalbusse 26 ist einer Einzelspiegel-Zeile 22 zugeordnet. Die Zeilen-Signalbusse 26 der Einzelspiegel-Zeilen 22 sind ihrerseits mit einem Haupt-Signalbus 27 verbunden. Letzterer steht mit einer Steuereinrichtung 28 des Feldfacettenspiegels 13 in Signalverbindung. Die Steuereinrichtung 28 ist insbesondere zur reihenweise, also zeilen- oder spaltenweise, gemeinsamen Ansteuerung der Einzelspiegel 21 ausgeführt.The actuators 24 a single-mirror line 22 are each via signal lines 25 with a line signal bus 26 connected. Each one of the line signal buses 26 is a single-mirror line 22 assigned. The line signal buses 26 the single-mirror lines 22 are in turn with a main signal bus 27 connected. The latter is connected to a control device 28 of the field facet mirror 13 in signal connection. The control device 28 is in particular to the row, so row or column wise, common control of the individual mirror 21 executed.

Jeder der Einzelspiegel 21 ist individuell unabhängig um zwei senkrecht aufeinander stehende Kippachsen verkippbar, wobei eine erste dieser Kippachsen parallel zur x-Achse und die zweite dieser beiden Kippachsen parallel zur y-Achse verläuft. Die beiden Kippachsen liegen in den Einzel-Reflexionsflächen der jeweiligen Einzelspiegel 21.Each of the individual mirrors 21 is independently tiltable about two mutually perpendicular tilt axes, with a first of these tilt axes parallel to the x-axis and the second of these two tilt axes parallel to the y-axis. The two tilt axes lie in the individual reflection surfaces of the respective individual mirrors 21 ,

Zusätzlich ist mittels der Aktuatoren 24 noch eine individuelle Verlagerung der Einzelspiegel 21 in z-Richtung möglich. Die Einzelspiegel 21 sind also separat voneinander ansteuerbar längs einer Normalen auf die Reflexionsfläche 20 verlagerbar. Hierdurch kann die Topographie der Reflexi onsfläche 20 insgesamt verändert werden. Dies ist stark schematisch beispielhaft anhand der 4 bis 6 dargestellt. Dadurch können auch Konturen der Reflexionsfläche mit großen Pfeilhöhen, also großen Variationen in der Topografie der Reflexionsfläche, in Form von insgesamt in einer Ebene angeordneten Spiegelabschnitten nach Art von Fresnel-Linsen gefertigt werden. Eine Grundkrümmung einer derartigen Spiegelflächentopografie mit großer Pfeilhöhe wird durch eine solche Unterteilung in Abschnitte nach Art von Fresnel-Zonen eliminiert.In addition, by means of the actuators 24 still an individual shift of the individual mirror 21 in z-direction possible. The individual mirrors 21 are therefore separately controllable along a normal to the reflection surface 20 displaced. This allows the topography of the reflection surface 20 be changed altogether. This is very schematically exemplified by the 4 to 6 shown. As a result, it is also possible to produce contours of the reflection surface with large arrow heights, that is to say large variations in the topography of the reflection surface, in the form of mirror sections arranged overall in one plane in the manner of Fresnel lenses. A base curve of such a mirror-image topography with large arrow height is eliminated by such a division into sections in the manner of Fresnel zones.

4 zeigt Einzel-Reflexionsflächen der Einzelspiegel 21 eines Ausschnitts einer Einzelspiegel-Zeile 22, wobei alle Einzelspiegel 21 dieser Einzelspiegel-Zeile 22 über die Steuereinrichtung 28 und die Aktuatoren 24 in die gleiche absolute z-Position gestellt sind. Es resultiert eine plane Zeilen-Reflexionsfläche der Einzelspiegel-Zeile 22. Wenn alle Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels 13 entsprechend der 4 ausgerichtet sind, ist die gesamte Reflexionsfläche 20 des Feldfacettenspiegels 13 plan. 4 shows single reflection surfaces of the individual mirrors 21 a section of a single-mirror line 22 , where all individual mirrors 21 this single-mirror line 22 via the control device 28 and the actuators 24 are placed in the same absolute z-position. The result is a flat line reflection surface of the single-mirror line 22 , If all individual mirrors 21 of the field facet mirror 13 according to the 4 are aligned, is the entire reflection surface 20 of the field facet mirror 13 plan.

5 zeigt eine Ansteuerung der Einzelspiegel 21 der Einzelspiegel-Zeile 22, bei der der mittige Einzelspiegel 21m gegenüber benachbarten Einzelspiegeln 21r1 , 21r2 , 21r3 in negativer z-Richtung versetzt eingestellt ist. Hierdurch ergibt sich eine Stufenanordnung, die zu einem entsprechenden Phasenversatz der auf die Einzelspiegel-Zeile 22 nach 5 auftreffenden EUV-Strahlung 10 führt. Die von den beiden mittigen Einzelspiegeln 21m reflektierte EUV-Strahlung 10 wird dabei am stärksten phasenverzögert. Die randseitigen Einzelspiegel 21r3 erzeugen die geringste Phasenverzögerung. Die zwischenliegenden Einzelspiegel 21r1 , 21r2 erzeugen entsprechend stufenweise eine, ausgehend von der Phasenverzögerung durch die mittigen Einzelspiegel 21m zunehmend geringere Phasenverzögerung. 5 shows a control of the individual mirrors 21 the single-mirror line 22 in which the central single mirror 21 m opposite adjacent individual mirrors 21 r1 . 21 r2 . 21 r3 is set offset in negative z-direction. This results in a step arrangement which results in a corresponding phase offset of the individual mirror row 22 to 5 incident EUV radiation 10 leads. The of the two central individual mirrors 21 m reflected EUV radiation 10 is thereby phase-delayed the most. The marginal single mirror 21 r3 generate the least phase delay. The intermediate individual mirror 21 r1 . 21 r2 generate stepwise one, starting from the phase delay through the central individual mirrors 21 m increasingly lower phase delay.

6 zeigt eine Ansteuerung der Einzelspiegel 21 des dargestellten Ausschnitts der Einzelspiegel-Zeile 22 derart, dass insgesamt eine konvex geformte Einzelspiegel-Zeile 22 resultiert. Dies kann zur Erzeugung einer abbildenden Wirkung von Einzelspiegel-Gruppen des Feldfacettenspiegels 13 genutzt werden. In gleicher Weise ist natürlich auch beispielsweise eine konkave Anordnung von Gruppen der Einzelspiegel 21 möglich. 6 shows a control of the individual mirrors 21 the illustrated section of the single-mirror row 22 such that overall a convex shaped single-mirror row 22 results. This can produce an imaging effect of single-mirror groups of the field facet mirror 13 be used. In the same way, of course, for example, a concave arrangement of groups of individual mirrors 21 possible.

Entsprechende Formgestaltungen, wie vorstehend unter Bezugnahme auf die 5 und 6 erläutert, sind nicht auf die x-Dimension beschränkt, sondern können, je nach Ansteuerung über die Steuereinrichtung 28, auch über die y-Dimension des Feldfacettenspiegels 13 fortgesetzt werden.Corresponding shapes, as described above with reference to the 5 and 6 are not limited to the x-dimension, but can, depending on the control via the control device 28 , also about the y-dimension of the field facet mirror 13 to be continued.

Durch die individuelle Ansteuerung der Aktuatoren 24 über die Steuereinrichtung 28 ist eine vorgegebene Gruppierung der Einzelspiegel 21 in die vorstehend schon erwähnten Einzelspiegel- Gruppen aus je mindestens zwei Einzelspiegeln 21 einstellbar, wobei jeweils eine Einzelspiegel-Gruppe eine Feld-Einzelfacette 19 des Feldfacettenspiegels 13 vorgibt. Diese, aus mehreren Einzelspiegeln 21 zusammengesetzten Feld-Einzelfacetten 19 haben die gleiche Wirkung wie die beispielsweise aus der US 6,438,199 B1 oder der US 6,658,084 B2 bekannten Feldfacetten.Due to the individual actuation of the actuators 24 via the control device 28 is a given grouping of individual mirrors 21 in the above-mentioned single-mirror groups from at least two individual mirrors 21 adjustable, each with a single mirror group a field single facet 19 of the field facet mirror 13 pretends. These, from several individual mirrors 21 composite field single facets 19 have the same effect as the example from the US Pat. No. 6,438,199 B1 or the US 6,658,084 B2 known field facets.

7 verdeutlicht eine derartige Gruppierung. Dargestellt ist ein Ausschnitt aus der Reflexionsfläche 20 einer Feldfacettenplatte einer Variante des Feldfacettenspiegels 13 mit einer im Vergleich zur Darstellung nach 2 größeren Anzahl von Einzelspiegeln 21. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend schon unter Bezugnahme auf die 2 bis 6 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. 7 clarifies such a grouping. Shown is a section of the reflection surface 20 a field facet plate of a variant of the field facet mirror 13 with one in comparison to the representation after 2 larger number of individual mirrors 21 , Components which correspond to those described above with reference to the 2 to 6 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Durch entsprechende Zusammenfassung der Ansteuerungen durch die Steuereinrichtung 28 sind innerhalb der Reflexionsfläche 20 beim Beispiel der 7 insgesamt 12 Einzelspiegel-Gruppen 19 gebildet. Jede der Einzelspiegel-Gruppen 19 besteht aus einem 24 × 3-Array von Einzelspiegeln 21, hat also drei Einzelspiegel-Zeilen zu je vierundzwanzig Einzelspiegeln 21. Jede der Einzelspiegel-Gruppen 19, also jede der durch diese Gruppierung gebildeten Feld-Einzelfacetten, hat also ein Aspektverhältnis von 8 zu 1. Dieses Aspektverhältnis entspricht dem Aspektverhältnis des auszuleuchtenden Objektfeldes 5.By appropriate summary of the controls by the controller 28 are inside the reflection surface 20 in the example of 7 a total of 12 single-mirror groups 19 educated. Each of the individual mirror groups 19 consists of a 24 × 3 array of individual mirrors 21 , so has three single-mirror lines, each with twenty-four individual mirrors 21 , Each of the individual mirror groups 19 Thus, each of the individual field facets formed by this grouping has an aspect ratio of 8 to 1. This aspect ratio corresponds to the aspect ratio of the object field to be illuminated 5 ,

Innerhalb jeder der Einzelspiegel-Gruppen 19 sind die Einzelspiegel 21 derart zueinander ausgerichtet, dass die Form jeder der Einzelspiegel-Gruppen 19 der Form einer Einzelfacette eines konventionellen Feldfacettenspiegels entspricht. Daher gibt jede der Einzelspiegel-Gruppen 19 eine Einzelfacette vor.Within each of the individual mirror groups 19 are the individual mirrors 21 aligned with each other such that the shape of each of the individual mirror groups 19 corresponds to the shape of a single facet of a conventional field facet mirror. Therefore, each of the individual mirror groups gives 19 a single facet ago.

8 zeigt Details des Pupillenfacettenspiegels 14, der in der Projektionsbelichtungsanlage 1 eingesetzt ist. Der Pupillenfacettenspiegel 14 weist eine runde Pupillenfacettenplatte 29 auf, auf der eine Vielzahl von Einzelspiegeln 21 angeordnet ist. Bei der Ausführung nach 8 sind die nutzbaren Einzelspiegel 21 in einer ringförmigen Konfiguration um ein Zentrum 30 der Pupillenfacettenplatte 29 angeordnet. Eine Ringbreite dieser Konfiguration entspricht etwa der Breite von elf nebeneinander liegenden Einzelspiegeln 21. Auch im Zentrum 30 der Pupillenfacettenplatte 29 liegen entsprechend gerastert angeordnete Einzelspiegel 21 vor, die jedoch, da sie beim annularen, also ringförmigen, Setting nach 8 nicht genutzt werden, nicht dargestellt sind. 8th shows details of the pupil facet mirror 14 working in the projection exposure machine 1 is used. The pupil facet mirror 14 has a round pupil facet plate 29 on, on the a variety of individual mirrors 21 is arranged. In the execution after 8th are the usable individual mirrors 21 in an annular configuration about a center 30 the pupil facet plate 29 arranged. A ring width of this configuration corresponds approximately to the width of eleven adjacent individual mirrors 21 , Also in the center 30 the pupil facet plate 29 are correspondingly rasterized arranged individual mirror 21 before, however, because they are in the annular, so annular setting after 8th not used, not shown.

Die Einzelspiegel 21 sind innerhalb dieser ringförmigen Konfiguration zeilen- und spaltenweise rasterartig angeordnet, entsprechend dem, was vorstehend im Zusammenhang mit dem Feldfacettenspiegel 13 nach den 2 bis 7 erläutert wurde. Die Einzelspiegel 21 des Pupillenfacettenspie gels 14 haben ebenfalls Aktuatoren und eine Ansteuerung über der Steuereinrichtung 28. Diese Aktuatoren sowie die Art der Signalverbindung der Ansteuerung entsprechen dem, was vorstehend im Zusammenhang mit dem Feldfacettenspiegel 13 erläutert wurde.The individual mirrors 21 are arranged in rows and columns within this annular configuration in a grid-like manner, in accordance with what has been said above in connection with the field facet mirror 13 after the 2 to 7 was explained. The individual mirrors 21 of the pupil facet mirror 14 also have actuators and a control over the controller 28 , These actuators as well as the type of signal connection of the drive correspond to what was mentioned above in connection with the field facet mirror 13 was explained.

Auch die Einzelspiegel 21 des Pupillenfacettenspiegels 14 können zu Einzelspiegel-Gruppen zusammengefasst werden. Dies wird nachfolgend anhand der 14 und 15 noch erläutert werden.Also the individual mirrors 21 of the pupil facet mirror 14 can be grouped into single-mirror groups. This will be explained below with reference to 14 and 15 yet to be explained.

Die 9 bis 13 zeigen verschiedene Beispiele von Gruppierungen der Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels 13 in Einzelspiegel-Gruppen.The 9 to 13 show different examples of groupings of individual mirrors 21 of the field facet mirror 13 in single-mirror groups.

9 zeigt den Fall, bei dem alle Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels 13 zu einer einzigen Einzelspiegel-Gruppe 31 zusammengefasst sind. Alle Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels 13 werden dann in gleicher Weise von der Steuereinrichtung 28 angesteuert, werden also beispielsweise bei gleicher z-Lage jeweils um den gleichen Kippwinkel um die x-Achse und um die y-Achse verkippt. Für den Fall, dass diese beiden Kippwinkel jeweils Null sind, stellt der Feldfacettenspiegel 13 einfach einen aus den Einzelspiegeln 21 zusammengesetzten Planspiegel dar. Das Aspektverhältnis des Feldfacettenspiegels 13 insgesamt beträgt x0/y0. 9 shows the case where all individual mirrors 21 of the field facet mirror 13 to a single Single Spiegel Group 31 are summarized. All individual mirrors 21 of the field facet mirror 13 are then in the same way by the controller 28 Thus, for example, with the same z-position, in each case the same tilt angle is tilted about the x-axis and about the y-axis. In the event that these two tilt angles are each zero, the field facet mirror represents 13 just one of the individual mirrors 21 composite plane mirror. The aspect ratio of the field facet mirror 13 in total, x is 0 / y 0 .

10 zeigt eine Gruppierung des Feldfacettenspiegels 13 in zwei Einzelspiegel-Gruppen 32, 33. Die in der 10 obere Einzelspiegel-Gruppe 32 umfasst die obere Hälfte des Feldfacettenspiegels 13 und die Einzelspiegel-Gruppe 33 die untere Hälfte des Feldfacettenspiegels 13. Innerhalb der beiden Gruppen 32, 33 werden die Einzelspiegel 21 wiederum von der Steuereinrichtung 28 in gleicher Weise angesteuert. Auf diese Weise ist es möglich, einen Feldfacettenspiegel mit zwei Einzelfacetten vorzugeben, die den Einzelspiegel-Gruppen 32, 33 entsprechen. Das Aspektverhältnis dieser Einzelfacetten 32, 33 ist 2 x0/y0. 10 shows a grouping of the field facet mirror 13 in two single-mirror groups 32 . 33 , The in the 10 upper single-mirror group 32 includes the upper half of the field facet mirror 13 and the single-mirror group 33 the lower half of the field facet mirror 13 , Within the two groups 32 . 33 become the individual mirror 21 again from the controller 28 controlled in the same way. In this way, it is possible to specify a field facet mirror with two individual facets, which are the individual mirror groups 32 . 33 correspond. The aspect ratio of these single facets 32 . 33 is 2 x 0 / y 0 .

11 zeigt eine Unterteilung des Feldfacettenspiegels 13 in insgesamt vier jeweils die gesamte Zeilenbreite der Reflexionsfläche 20 überstreichende Einzelspiegel-Gruppen 34 bis 37 mit einem Aspektverhältnis von 4 x0/y0. Diese vier Einzelspiegel-Gruppen 34 bis 37 geben daher vier Einzelfacetten mit diesem Aspektverhältnis vor. 11 shows a subdivision of the field facet mirror 13 in total four in each case the entire line width of the reflection surface 20 sweeping single-mirror groups 34 to 37 with an aspect ratio of 4 x 0 / y 0 . These four single-mirror groups 34 to 37 therefore give four single facets with this aspect ratio.

12 zeigt eine Gruppierung der Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels 13 in insgesamt acht Einzelspiegel-Gruppen 38 bis 45, die jeweils einer Zeile des Feldfacettenspiegels 13 entsprechen und ein Aspektverhältnis von 8 x0/y0 haben. Bei dieser Gruppierung kann also ein Feldfacettenspiegel mit insgesamt acht Einzelfacetten erzeugt werden. 12 shows a grouping of individual mirrors 21 of the field facet mirror 13 in a total of eight individual mirror groups 38 to 45 , each one line of the field facet mirror 13 and have an aspect ratio of 8 x 0 / y 0 . In this grouping, therefore, a field facet mirror with a total of eight individual facets can be generated.

13 zeigt eine Gruppierung der Einzelfacetten 21 des Feldfacettenspiegels 13, bei der innerhalb jeder Zeile des Feldfacettenspiegels 13 acht benachbarte Einzelspiegel 21 zu jeweils einer Einzelspiegel-Gruppe 46 zusammengefasst sind. Jede dieser Einzelspiegel-Gruppen 46 hat ein Aspektverhältnis von 8:1. Wenn jede Einzelspiegel-Zeile 22 des Feldfacettenspiegels 13 beispielsweise 80 Einzelspiegel 21 aufweist, liegen pro Zeile 22 bei der Gruppierung nach 13 zehn Einzelspiegel-Gruppen 46, insgesamt also 80 Einzelspiegel-Gruppen 46 vor. Bei der Ausführung nach 13 kann also ein Feldfacettenspiegel 13 mit 80 Einzelfacetten 46 vorgegeben werden. 13 shows a grouping of single facets 21 of the field facet mirror 13 in which within each row of the field facet mirror 13 eight adjacent individual mirrors 21 to a single mirror group 46 are summarized. Each of these individual mirror groups 46 has an aspect ratio of 8: 1. If every single-mirror row 22 of the field facet mirror 13 for example, 80 individual mirrors 21 has, are per line 22 after grouping 13 ten individual mirror groups 46 , a total of 80 single-mirror groups 46 in front. In the execution after 13 So can a field facet mirror 13 with 80 single facets 46 be specified.

14 und 15 zeigen eine Ausleuchtung eines Pupillenfacettenspiegels 47, der dem Pupillenfacettenspiegel 14 ähnlich ist, durch einen Feldfacettenspiegel, der insgesamt neunzehn Einzelspiegel-Gruppen aufweist, die entsprechend dem gruppiert wurden, was vorstehend im Zusammenhang mit den 2 bis 7 sowie 9 bis 13 erläutert wurde. Die runde Pupillenfacettenplatte 29 des Pupillenfacettenspiegels 47 ist wie beim Pupillenfacettenspiegel 14 nach 8 insgesamt zeilen- und spaltenweise rasterartig mit den Einzelspiegeln 21 belegt. Beleuchtete dieser Einzelspiegel 21 des Pupillenfacettenspiegels 47 sind durch eine Schraffur hervorgehoben. Beleuchtet werden dabei jeweils kreisförmig berandete Einzelspiegel-Gruppen 48. Innerhalb der kreisförmigen Berandungen der Einzelspiegel-Gruppen 48 liegen die vom im Strahlengang des Beleuchtungslichts vorgeordneten Feldfacettenspiegel erzeugten multiplen Bilder einer beispielsweise als kreisförmig angenommenen Strahlungsquelle beziehungsweise die multiplen Bilder eines Bildes dieser als kreisförmig angenommenen Strahlungsquelle in einem Zwischenfokus des Strahlengangs des Beleuchtungs- und Abbildungslichts. Diese multiplen Bilder werden auch als Quellbilder bezeichnet. Wenn das Bild der Quelle im Zwischenfokus des Pupillenfacettenspiegels 47 von einer Kreisform abweicht, können die Einzelspiegel-Gruppen in ihrer Form an die Form der Quellbilder entsprechend angepasst werden. Falls das Bild der Strahlungsquelle beispielsweise elliptisch ist, können die Einzel-Spiegelgruppen 48 auf dem Pupillenfacettenspiegel 47 entsprechend elliptisch berandet sein. Auch andere Formen der Bilder der Strahlungsquelle bzw. der Quellbilder sind möglich, beispielsweise hexagonale oder rechteckige Formen, die auf dem Pupillenfacettenspiegel 47 beispielsweise eine optimale Parkettierung ergeben. Derartige Formen des Bildes der Strahlungsquelle können durch eine entsprechende Blendenanordnung in der Zwischenfokusebene erreicht werden. Durch entsprechende Umgruppierung von Einzelspiegel-Gruppen 48 des Pupillenfacettenspiegels 47 kann eine Anpassung der Beleuchtungsoptik 4 an beispielsweise durch Blendenaustausch im Zwischenfokus sich ändernde Formen des Bildes der Strahlungsquelle erreicht werden. Auch einem Wechsel des Strahlungsquellentyps, beispielsweise einem Wechsel zwischen einer GDPP- hin zu einer LPP-Strahlungsquelle, kann auf diese Weise Rechnung getragen werden. 14 and 15 show an illumination of a pupil facet mirror 47 , the pupil facet mirror 14 Similarly, by a field facet mirror having a total of nineteen individual mirror groups grouped according to what was previously described in connection with FIGS 2 to 7 and 9 to 13 has been explained. The round pupil facet plate 29 of the pupil facet mirror 47 is like the pupil facet mirror 14 to 8th Total row and column-wise grid-like with the individual mirrors 21 busy. Illuminated this single mirror 21 of the pupil facet mirror 47 are highlighted by hatching. In each case circularly confined individual mirror groups are illuminated 48 , Within the circular borders of the individual mirror groups 48 The multiple images of a field source assumed to be circular, for example, assumed by the field facet mirror in the beam path of the illumination light, or the multiple images of an image of this radiation source assumed to be circular, lie in an intermediate focus of the beam path of the illumination and imaging light. These multiple images are also referred to as source images. If the image of the source in the intermediate focus of the pupil facet mirror 47 deviates from a circular shape, the individual mirror groups can be adapted in shape to the shape of the source images accordingly. For example, if the image of the radiation source is elliptical, the individual mirror groups 48 on the pupil facet mirror 47 be elliptically bounded accordingly. Other forms of the images of the radiation source or of the source images are also possible, for example hexagonal or rectangular shapes, which are based on the pupil facet mirror 47 For example, give an optimal tiling. Such forms of the image of the radiation source can be achieved by a corresponding aperture arrangement in the Zwischenfokusebene. By appropriate regrouping of individual mirror groups 48 of the pupil facet mirror 47 may be an adjustment of the illumination optics 4 can be achieved, for example, by aperture change in the intermediate focus changing forms of the image of the radiation source. A change of the radiation source type, for example a change between a GDPP to an LPP radiation source, can also be taken into account in this way.

Jede der Einzelspiegel-Gruppen 48 des Pupillenfacettenspiegels 47 wird von genau einer Einzelspiegel-Gruppe, also beispielsweise von den Einzelspiegel-Gruppen 19 (vergleiche 7), des Feldfacettenspiegels 13 beleuchtet. Insgesamt liegen neunzehn beleuchtete Einzelspiegel-Gruppen 48 auf dem Pupillenfacettenspiegel 47 vor. Der vorgelagerte Feldfacettenspiegel 13 ist, wie schon erwähnt, in neunzehn zugeordnete Einzelspiegel-Gruppen 19 unterteilt. Durch die Zuordnung der neunzehn Einzelspiegel-Gruppen 19 des Feldfacettenspiegels 13 zu den neunzehn Einzelspiegel-Gruppen 48 auf dem Pupillenfacettenspiegel 47 ergeben sich insgesamt neunzehn Kanäle für den Lichtweg der EUV-Strahlung 10 vom Feldfacettenspiegel 13 bis hin zum Objektfeld 5.Each of the individual mirror groups 48 of the pupil facet mirror 47 is from exactly one single-mirror group, so for example from the individual mirror groups 19 (see 7 ), the field facet mirror 13 illuminated. There are a total of nineteen illuminated single-mirror groups 48 on the pupil facet mirror 47 in front. The upstream field facet mirror 13 is, as already mentioned, in nineteen assigned individual mirror groups 19 divided. By assigning the nineteen individual mirror groups 19 of the field facet mirror 13 to the nineteen single-mirror groups 48 on the Pupil facet mirror 47 result in a total of nineteen channels for the light path of the EUV radiation 10 from the field facet mirror 13 up to the object field 5 ,

Innerhalb jeder der Einzelspiegel-Gruppen 48 des Pupillenfacettenspiegels 47 werden typischerweise neun zentrale Einzelspiegel 21 voll und um die zentralen Einzelspiegel 21 herum weitere Einzelspiegel 21 teilweise ausgeleuchtet. Diese mindestens teilweise ausgeleuchteten Einzelspiegel 21 bilden die mit Hilfe der Steuereinrichtung 28 jeweils gruppiert anzusteuernde Einzelspiegel-Gruppe 48. Diese Ansteuerung der Einzelspiegel 21 jeder der Einzelspiegel-Gruppen 48 ist so, dass eine Abbildung der zugehörigen Einzelspiegel-Gruppe des Feldfacettenspiegels 13, also beispielsweise der zugehörigen Einzelspiegel-Gruppe 19 bei der Ausführung nach 7, über diese Einzelspiegel-Gruppe 48 des Pupillenfacettenspiegels 47 und die nachgelagerte Übertragungsoptik 16 in das Objektfeld 5 abgebildet wird. Mit dem Feldfacettenspiegel 13 werden am Ort der Einzelspiegel-Gruppen 48 sekundäre Lichtquellen erzeugt, die in eine Pupillenebene der Projektionsebene 7 abgebildet werden. Die Intensitätsverteilung der EUV-Strahlung 10 auf dem Pupillenfacettenspiegel 47 ist daher direkt korreliert mit einer Beleuchtungswinkelverteilung der Beleuchtung des Objektfeldes 5 in der Objektebene 6.Within each of the individual mirror groups 48 of the pupil facet mirror 47 Typically, there are nine central individual mirrors 21 full and around the central individual mirror 21 around more individual mirrors 21 partially lit. These at least partially illuminated individual mirrors 21 form the with the help of the control device 28 each grouped to be controlled single-mirror group 48 , This control of the individual mirrors 21 each of the individual mirror groups 48 is such that an image of the associated single mirror group of the field facet mirror 13 , so for example, the associated individual mirror group 19 in the execution after 7 , about this single-mirror group 48 of the pupil facet mirror 47 and the downstream transmission optics 16 in the object field 5 is shown. With the field facet mirror 13 be on the spot of individual mirror groups 48 secondary light sources generated in a pupil plane of the projection plane 7 be imaged. The intensity distribution of EUV radiation 10 on the pupil facet mirror 47 is therefore directly correlated with an illumination angle distribution of the illumination of the object field 5 in the object plane 6 ,

Die Einzelspiegel-Gruppen 48 sind beim Beleuchtungsbeispiel nach 14 über die Pupillenfacettenteile 29 in etwa gleich verteilt angeordnet. Entsprechend resultiert eine Beleuchtung des Objektfeldes 5 aus über die gesamte Apertur der Pupillenfacettenplatte 29 verteilten Beleuchtungswinkeln. Es resultiert also eine angenähert konventionelle Beleuchtung des Objektfeldes 5 aus allen Richtungen, die durch die bildseitige numerische Apertur der Projektionsoptik 7 vorgegeben sind.The single-mirror groups 48 are in the lighting example after 14 over the pupil facet parts 29 arranged roughly equally distributed. The result is a lighting of the object field 5 from across the entire aperture of the pupil facet plate 29 distributed illumination angles. This results in an approximately conventional illumination of the object field 5 from all directions, through the image-side numerical aperture of the projection optics 7 are predetermined.

15 zeigt eine gegenüber 14 geänderte Ausleuchtung des Pupillenfacettenspiegels 47, also ein gewechseltes Beleuchtungssetting der Projektionsbelichtungsanlage 1. Durch entsprechende gruppenweise Ansteuerung der zugehörigen Einzelspiegel-Gruppen des Feldfacettenspiegels 13, beispielsweise der Einzelspiegel-Gruppen 19 nach 7, werden nun am Rand der Pupillenfacettenplatte 29 angeordnete Einzelspiegel-Gruppen 49 ausgeleuchtet. Es resultiert eine angenähert annulare Beleuchtungswinkelverteilung der Beleuchtung des Objektfeldes 5 in der Objektebene 6. 15 shows one opposite 14 changed illumination of the pupil facet mirror 47 , ie a changed lighting setting of the projection exposure machine 1 , By appropriate group control of the associated individual mirror groups of the field facet mirror 13 For example, the individual mirror groups 19 to 7 , are now on the edge of the pupil facet plate 29 arranged individual mirror groups 49 illuminated. This results in an approximately annular illumination angle distribution of the illumination of the object field 5 in the object plane 6 ,

Eine minimale Breite eines Rings einer solcherart einstellbaren Beleuchtungsverteilung ist vorgegeben durch die Breite der Einzelspiegel-Gruppen 49.A minimum width of a ring of such an adjustable illumination distribution is predetermined by the width of the individual mirror groups 49 ,

Damit die Abbildung der Feld-Einzelfacetten in das Objektfeld 5 auch bei dem geänderten Beleuchtungssetting nach 15 gewährleistet ist, müssen nicht nur die Feld-Einzelfacetten, also beispielsweise die Einzelspiegel-Gruppen 19 der Ausführung nach 7, sondern auch die Einzelspiegel 21 der Einzelspiegel-Gruppen 49 durch über die Steuereinrichtung 28 angesteuerte gruppenweise Verkippung entsprechend nachjustiert werden. Es muss also eine synchronisierte Ansteuerung der Einzelspiegel-Gruppen des Feldfacettenspiegels 13 einerseits und des Pupillenfacettenspiegels andererseits beim Wechsel des Beleuchtungssettings über die Steuereinrichtung 28 erfolgen.Thus the mapping of the field single facets into the object field 5 even with the changed lighting setting 15 is guaranteed, not only the field single facets, so for example, the individual mirror groups 19 according to the execution 7 but also the individual mirrors 21 the single-mirror groups 49 through the control device 28 controlled groupwise tilting be readjusted accordingly. It must therefore be a synchronized control of the individual mirror groups of the field facet mirror 13 on the one hand and the pupil facet mirror on the other hand when changing the illumination setting via the control device 28 respectively.

Eine Ausleuchtung nach 15 ist auch beim Einsatz des Pupillenfacettenspiegels 14 nach 8 möglich. Letzterer kann zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 mit verschiedenen annularen Beleuchtungssettings, die sich durch die minimalen und maximalen Beleuchtungswinkel im Objektfeld unterscheiden, genutzt werden.An illumination after 15 is also when using the pupil facet mirror 14 to 8th possible. The latter can be used to illuminate the object field 5 be used with different annular illumination settings, which differ by the minimum and maximum illumination angle in the object field.

16 zeigt eine weitere Variante einer Gruppierung der Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels 13. Eine Einzelspiegel-Gruppe 50 des Feldfacettenspiegels 13 ist nach 16 so gruppiert, dass diese Einzelspiegel-Gruppe 50 eine bogenförmige Einhüllende 51 hat. Die Einhüllende 51 wird durch Auswahl entsprechender Einzelspiegel 21 nachgebildet. Die Einzelspiegel-Gruppe 50 umfasst diejenigen Einzelspiegel 21, die in der 16 schraffiert dargestellt sind. Entsprechend wird durch die Einzelspiegel-Gruppe 50 eine bogenförmige Einzelfacette zur Ausleuchtung eines entsprechend bogen- oder ringförmigen Objektfeldes 5 in der Objektebene 6 gebildet. Genauso kann natürlich auch eine Mehrzahl derartiger Einzelspiegel-Gruppen 50 mit bogen- oder ringförmigen Einhüllenden 51 zur Ausleuchtung entsprechend geformter Objektfelder gebildet werden. Die Anzahl der Einzelfacetten 21, die hierfür beim Feldfacettenspiegel 13 benötigt werden, richtet sich, wie auch bei den sonstigen vorstehend erläuterten Gruppierungen in Einzelspiegel-Gruppen einerseits nach der gewünschten Anzahl der Einzelspiegel-Gruppen und andererseits nach der geforderten Auflösung, mit der eine gewünschte Einhüllende, beispielsweise die Einhüllende 51, durch das Raster oder die Parkettierung der Einzelspiegel 21 nachgebildet werden soll. 16 shows a further variant of a grouping of individual mirrors 21 of the field facet mirror 13 , A single mirror group 50 of the field facet mirror 13 is after 16 grouped so that this single-mirror group 50 an arcuate envelope 51 Has. The envelope 51 is by selecting appropriate individual mirrors 21 simulated. The single mirror group 50 includes those individual mirrors 21 in the 16 hatched are shown. Accordingly, by the single mirror group 50 an arcuate Einzelfacette for illuminating a corresponding arcuate or annular object field 5 in the object plane 6 educated. Equally, of course, a plurality of such individual mirror groups 50 with bow-shaped or annular envelopes 51 be formed to illuminate correspondingly shaped object fields. The number of individual facets 21 for this purpose at the field facet mirror 13 are required, as well as in the other groups described above in individual mirror groups on the one hand after the desired number of individual mirror groups and on the other hand according to the required resolution, with a desired envelope, such as the envelope 51 , through the grid or the tiling of the individual mirrors 21 to be reproduced.

17 bis 20 zeigen verschiedene Beispiele von Anordnungen bzw. Konfigurationen von Einzelspiegel-Gruppen bzw. Einzelfacetten 19 des Feldfacettenspiegels 13. Jede dieser Einzelspiegel-Gruppen 19 ist ihrerseits, wie vorstehend im Zusammenhang mit den 2 bis 16 erläutert, in eine Mehrzahl von nicht im Einzelnen dargestellten Einzelspiegeln 21 unterteilt. Jede der Gruppierungen, die in den 17 bis 20 dargestellt sind, kann mit ein und demselben Feldfacettenspiegel 13 realisiert werden. Dargestellt sind jeweils nur die Einzelspiegel-Gruppen 19, nicht aber die zwischen diesen Gruppen ebenfalls vorhandenen, aber nicht genutzten Einzelspiegel. 17 to 20 show various examples of arrangements or configurations of individual mirror groups or Einzelfacetten 19 of the field facet mirror 13 , Each of these individual mirror groups 19 For its part, as discussed above in connection with 2 to 16 explained in a plurality of individual mirrors not shown in detail 21 divided. Each of the groupings in the 17 to 20 can be shown with one and the same field facet mirror 13 will be realized. Shown are only the individual mirror groups 19 but not the individual mirrors that are also present between these groups but not used.

Bei der Gruppierung der Feldfacettenspiegels 13 nach 17 liegen insgesamt vier Spalten 52 von Einzelspiegel-Gruppen 19 vor. Dort, wo in einem zentral kreuzförmigen Abschnitt 53 eine Abschattung des Feldfacettenspiegels 13 durch vorgelagerte Komponenten stattfindet, sind benachbarte Einzelspiegel-Gruppen 19 entsprechend stärker voneinander beabstandet, sodass im Abschnitt 53 keine gruppierten Einzelspiegel vorliegen.When grouping the field facet mirror 13 to 17 There are four columns in total 52 of single-mirror groups 19 in front. Where, in a central cross-shaped section 53 a shading of the field facet mirror 13 by upstream components, are adjacent single mirror groups 19 correspondingly more spaced apart, so in the section 53 there are no grouped individual levels.

Bei der Gruppierung des Feldfacettenspiegels 13 nach 18 sind die Einzelspiegel-Gruppen 19, die ihrerseits wiederum aus einer Mehrzahl nicht dargestellter Einzelspiegel aufgebaut sind, nach Art des in der 7 dargestellten Ausschnitts spaltenweise zueinander versetzt angeordnet. Bei dieser Konfiguration der Einzelspiegel-Gruppen 19 ist ein horizontal verlaufender zentraler Abschnitt 54 des Feldfacettenspiegels 13, der sich im Zentrum erweitert, nicht mit gruppierten Einzelspiegeln 21 belegt. Auch der Abschnitt 54 wird durch dem Feldfacettenspiegel 13 nach 18 vorgelagerte Komponenten abgeschattet.When grouping the field facet mirror 13 to 18 are the individual mirror groups 19 , which in turn are constructed of a plurality of unrepresented individual mirrors, in the manner of the in the 7 portion shown arranged offset by columns to each other. In this configuration, the individual mirror groups 19 is a horizontal central section 54 of the field facet mirror 13 which expands in the center, not with grouped individual mirrors 21 busy. Also the section 54 becomes through the field facet mirror 13 to 18 shaded upstream components.

Die Einzelspiegel-Gruppen 19 sind beim Feldfacettenspiegel 13 nach 18 in Übergruppen 55 angeordnet. Manche der benachbarten Übergruppen-Zeilen sind zur Erzeugung einer kreisförmigen Einhüllenden des Feldfacettenspiegels 13 nach 18 zueinander versetzt angeordnet.The single-mirror groups 19 are at the field facet mirror 13 to 18 in overgroups 55 arranged. Some of the adjacent overgroup rows are for creating a circular envelope of the field facet mirror 13 to 18 arranged offset from one another.

Die Einzelspiegel-Gruppen 19 der Feldfacettenspiegel 13 nach den 17 und 18 haben ein Aspektverhältnis x/y von 13:1. Diese Einzelspiegel-Gruppen 19 können also jeweils durch 13 nebeneinander angeordnete quadratische Einzelspiegel 21 erzeugt werden.The single-mirror groups 19 the field facet mirror 13 after the 17 and 18 have an aspect ratio x / y of 13: 1. These individual mirror groups 19 So each can be arranged by 13 juxtaposed quadratic individual mirror 21 be generated.

19 zeigt ein Beispiel einer Konfiguration einer Mehrzahl bogen- bzw. ringförmiger Einzelspiegel-Gruppen 50, wobei jede Einzelspiegel-Gruppe 50 derjenigen entspricht, die vorstehend unter Bezugnahme auf 16 erläutert wurde. Die Einzelspiegel-Gruppen 50, also die Einzelfacetten des Feldfacettenspiegels 13 nach 19, sind in Übergruppen 56 zu je zehn in der 19 übereinander angeordneten Einzelspiegel-Gruppen 50 angeordnet. Die Übergruppen 56 sind wiederum spaltenweise in fünf Übergruppen-Spalten angeordnet. Die Übergruppen 56 sind derart symmetrisch angeordnet, dass sie in eine kreisförmige Einhüllende 57 eingeschrieben sind. 19 FIG. 12 shows an example of a configuration of a plurality of arc-shaped or annular single-mirror groups. FIG 50 , each individual mirror group 50 corresponds to that referred to above with reference to 16 was explained. The single-mirror groups 50 So the single facets of the field facet mirror 13 to 19 , are in super-groups 56 to ten in the 19 superimposed individual mirror groups 50 arranged. The overgroups 56 are again arranged column by column in five super-column columns. The overgroups 56 are arranged symmetrically so that they are in a circular envelope 57 are inscribed.

20 zeigt eine weitere Konfiguration des Feldfacettenspiegels 13 in bogen- oder ringförmige Einzelspiegel-Gruppen 50. Die Einzelspiegel-Gruppen 50 sind wiederum in Übergruppen 58 gruppiert, die sich in der Anzahl der Einzelspiegel-Gruppen 50 unterscheiden. Die in der 20 links unten dargestellte Übergruppe 58a ist beispielsweise in neun Einzelspiegel-Gruppen 50 unterteilt. Andere Übergruppen 58 haben mehr oder weniger Einzelspiegel-Gruppen 50. Aufgrund einer durch den Kollektor 11 erzeugten Mittenabschattung weist einer zentraler Abschnitt 59 des Feldfacettenspiegels 13 keine Einzelspiegel-Gruppen 13 auf. 20 shows another configuration of the field facet mirror 13 in arcuate or annular single-mirror groups 50 , The single-mirror groups 50 are again in supergroups 58 grouped, resulting in the number of single-mirror groups 50 differ. The in the 20 subgroup shown on the left below 58a is for example in nine single-mirror groups 50 divided. Other supergroups 58 have more or less single-mirror groups 50 , Due to a through the collector 11 center shading produced has a central section 59 of the field facet mirror 13 no single-mirror groups 13 on.

Das Aspektverhältnis der Einzelspiegel-Gruppen 50 der Ausführungen nach den 19 und 20 beträgt ebenfalls x/y = 13:1. x bezeichnet dabei die Breite einer der Einzelspiegel-Gruppen 50 in x-Richtung und y deren Erstreckung in y-Richtung.The aspect ratio of the single-mirror groups 50 according to the explanations 19 and 20 is also x / y = 13: 1. x denotes the width of one of the individual mirror groups 50 in the x-direction and y their extent in the y-direction.

21 und 22 zeigen verschiedene Unterteilungen des Pupillenfacettenspiegels 47 in Einzelspiegel-Gruppen 60, 61. Dargestellt sind auch hier wiederum nur die Einzelspiegel-Gruppen, nicht aber die zwischen den so gruppierten Einzelspiegeln ebenfalls noch vorhandenen Einzelspiegel. Die Unterteilungen nach den 21 und 22 können mit ein und demselben Pupillenfacettenspiegel 47 erzeugt werden. 21 and 22 show different subdivisions of the pupil facet mirror 47 in single-mirror groups 60 . 61 , Once again, only the single-mirror groups are shown, but not the individual mirrors still existing between the individual mirrors grouped in this way. The subdivisions after the 21 and 22 can have one and the same pupil facet mirror 47 be generated.

Der Pupillenfacettenspiegel 47 ist bei der Ausführung nach 21 in Einzelspiegel-Gruppen 60 unterteilt, die eine Mehrzahl konzentrischer Kreise um einen Zentralbereich 62 herum bilden. Jede einzelne der Einzelspiegel-Gruppen 61 ist ihrerseits aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln 21 des Pupillenfacettenspiegels 47 aufgebaut, wie vorstehend unter Bezugnahme auf die 8 sowie 14 und 15 erläutert. Es liegen insgesamt mehr als 100 Einzelspiegel-Gruppen 60 vor, sodass der Pupillenfacettenspiegel 47 beispielsweise bei der Ausführung nach 21 mehr als 1.000 Einzelspiegel 21 aufweist.The pupil facet mirror 47 is in the execution after 21 in single-mirror groups 60 divided, a plurality of concentric circles around a central area 62 form around. Each one of the individual mirror groups 61 is in turn from a plurality of individual mirrors 21 of the pupil facet mirror 47 constructed as above with reference to the 8th such as 14 and 15 explained. There are a total of more than 100 individual mirror groups 60 before, so the pupil facet mirror 47 for example, in the execution after 21 more than 1,000 individual mirrors 21 having.

Bei der Gruppierung der Einzelspiegel 21 nach 22 liegen die Einzelspiegel-Gruppen 61 angenähert in einer hexagonal dichtesten Packung der wiederum runden Einzelspiegel-Gruppen 61 vor.When grouping the individual mirror 21 to 22 lie the individual mirror groups 61 Approximated in a hexagonal closest packing of turn round single mirror groups 61 in front.

Die Gruppierungen nach den 21 und 22 haben sich zur variablen Herstellung von Beleuchtungssettings mit vorgegebener Beleuchtungswinkelverteilung als besonders geeignet herausgestellt. Nach Bedarf können einzelne der Einzelspiegel-Gruppen 60, 61 oder auch Übergruppen hiervon, beispielsweise durch Verkippen der ihnen vorgeordneten Einzelspiegel-Gruppen 19 des Feldfacettenspiegels 13, auch zur Vorgabe eines bestimmten Beleuchtungssettings ausgeblendet werden.The groupings after the 21 and 22 have been found to be particularly suitable for the variable production of lighting settings with predetermined illumination angle distribution. As needed, individual of the single-mirror groups 60 . 61 or also supergroups thereof, for example by tilting the individual mirror groups preceding them 19 of the field facet mirror 13 , are also hidden to specify a specific lighting settings.

23 zeigt eine zur 2 alternative Parkettierung der Reflexionsfläche 20 eines der vorstehend beschriebenen Facettenspiegel mit Einzelspiegeln 21. Die Einzelspiegel 21 sind auch bei der Parkettierung nach 23 quadratisch ausgeführt. Die Einzelspiegel 21 sind nicht zeilen- und spaltenweise rasterartig zueinander angeordnet, sondern benachbarte Spalten sind jeweils um eine halbe Kantenlänge der Einzelspiegel 21 zueinander versetzt. 23 shows one to 2 alternative tiling of the reflection surface 20 one of the above-described faceted mirrors with individual mirrors 21 , The individual mirrors 21 are also at the par chaining to 23 square executed. The individual mirrors 21 are not rows and columns grid-like arranged to each other, but adjacent columns are each about half the edge length of the individual mirror 21 offset from each other.

Mit der Parkettierung nach 23 können bogen- oder ringförmige Einzelspiegel-Gruppen, beispielsweise die Einzelspiegel-Gruppen 50 nach den 19 und 20, mit geringeren Verlusten benachbart zur Einhüllenden 51 erzeugt werden, wobei hierzu im Vergleich zu einer zeilen- und spaltenweise rasterartigen Parkettierung eine geringere Einzelspiegel- oder Pixelauflösung bei gegebenem maximal tolerierbarem Verlust erforderlich ist.With the tiling after 23 may be arcuate or annular single-mirror groups, for example the single-mirror groups 50 after the 19 and 20 , with lower losses adjacent to the envelope 51 For this purpose, a lower individual mirror or pixel resolution for a given maximum tolerable loss is required compared to a row and column-wise grid-like tiling.

24 zeigt eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer alternativen Beleuchtungsoptik. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend schon unter Bezugnahme auf die 1 bis 23 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. 24 shows a projection exposure system with an alternative illumination optics. Components which correspond to those described above with reference to the 1 to 23 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Der Strahlungsquelle 3 nachgeordnet ist zunächst ein bündelformender Kollektor 63, der ansonsten die Funktion des Kollektors 11 bei der Anordnung nach 1 hat. Dem Kollektor 63 nachgeordnet ist ein spekularer Reflektor 64. Dieser formt die einfallende EUV-Strahlung 10 so, dass die EUV-Strahlung 10 in der Objektebene 6 das Objektfeld 5 ausleuchtet, wobei in einer dem Retikel nachgeordneten Pupillenebene 65 der in der 24 nicht dargestellten Projektionsoptik eine vorgegebene, beispielsweise homogen ausgeleuchtete, kreisförmig berandete Pupillen-Beleuchtungsverteilung, also ein entsprechendes Beleuchtungssetting, resultiert. Die Wirkung des spekularen Reflektors 64 ist beschrieben in der US 2006/0132747 A1 . Eine Reflexionsfläche des spekularen Reflektors 64 ist wie die vorstehend beschriebenen Facettenspiegel in Einzelspiegel 21 unterteilt. Je nach den Beleuchtungsanforderungen werden diese Einzelspiegel des spekularen Reflektors 64 zu Einzelspiegel-Gruppen, also zu Facetten des spekularen Reflektors 64, gruppiert.The radiation source 3 downstream is initially a bundle-forming collector 63 otherwise the function of the collector 11 in the arrangement after 1 Has. The collector 63 downstream is a specular reflector 64 , This forms the incoming EUV radiation 10 so that the EUV radiation 10 in the object plane 6 the object field 5 illuminates, wherein in a pupil plane downstream of the reticle 65 the Indian 24 Projection optics, not shown, a predetermined, for example, homogeneously illuminated, circular-walled pupil illumination distribution, ie a corresponding illumination setting results. The effect of the specular reflector 64 is described in the US 2006/0132747 A1 , A reflection surface of the specular reflector 64 is like the above-described faceted mirrors in individual mirrors 21 divided. Depending on the lighting requirements, these individual mirrors of the specular reflector 64 to individual mirror groups, that is to facets of the specular reflector 64 grouped.

25 zeigt eine zur Ausleuchtung nach 1 alternative Ausleuchtung des Pupillenfacettenspiegels 14. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 23 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugszeichen und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. Dargestellt ist das Beleuchtungssystem 2 in der 25 bis einschließlich des Pupillenfacettenspiegels 14. 25 shows one for illumination 1 alternative illumination of the pupil facet mirror 14 , Components which correspond to those described above with reference to 1 to 23 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail. Shown is the lighting system 2 in the 25 up to and including the pupil facet mirror 14 ,

Im Unterschied zum Beleuchtungssystem 2 nach 1 liegt beim Beleuchtungssystem 2 nach 25 zwischen dem Kollektor 11 und dem Feldfacettenspiegel 13 keine Zwischenfokusebene vor. Die Reflexionsflächen der Einzelspiegel-Gruppen des Feldfacettenspiegels 13 können als plane Flächen ausgestaltet sein.In contrast to the lighting system 2 to 1 lies with the lighting system 2 to 25 between the collector 11 and the field facet mirror 13 no intermediate focus level. The reflection surfaces of the individual mirror groups of the field facet mirror 13 can be designed as flat surfaces.

Innerhalb einer der vorstehend beschriebenen Einzelspiegel-Gruppen des Feldfacettenspiegels 13 können einzelne der Einzelspiegel 21 definiert anders als die anderen Einzelspiegel 21 dieser Gruppe angesteuert, also aus der Einzelspiegel-Gruppe herausgenommen werden. Die verschiedenen erzeugten Einzelfacetten des Feldfacettenspiegels 13 können also mit gezielten Abblendungen individuell ausgestattet werden, was zur Korrektur der Intensitäts-Homogenität der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 genutzt werden kann.Within one of the above-described individual mirror groups of the field facet mirror 13 can single the individual mirror 21 defined differently than the other individual mirrors 21 controlled in this group, so be taken out of the single-mirror group. The different generated single facets of the field facet mirror 13 can therefore be equipped with targeted dimming individually, which helps to correct the intensity homogeneity of the illumination of the object field 5 can be used.

Entsprechend können auch innerhalb einer der vorstehend beschriebenen Einzelspiegel-Gruppen des Pupillenfacettenspiegels 14, 47 einzelne der Einzelspiegel 21 definiert anders als die anderen Einzelspiegel 21 dieser Gruppe angesteuert, also aus der Einzelspiegel-Gruppe herausgenommen werden. Die verschiedenen Quellbilder (vergleiche 48 in den 14 und 15) auf dem Pupillenfacettenspiegel können also mit gezielten Abblendungen individuell ausgeschaltet werden, was zur Korrektur beziehungsweise zur Vorgabe bestimmter Intensitätsverteilungen über die Beleuchtungswinkel des Objektfeldes 5 genutzt werden kann.Correspondingly, within one of the above-described individual mirror groups of the pupil facet mirror, too 14 . 47 single of the individual mirrors 21 defined differently than the other individual mirrors 21 controlled in this group, so be taken out of the single-mirror group. The different source images (compare 48 in the 14 and 15 ) on the pupil facet mirror can therefore be switched off individually with targeted dimming, resulting in the correction or the specification of specific intensity distributions via the illumination angle of the object field 5 can be used.

Entsprechend können auch Einzelfacetten von auf den spekularen Reflektor 64 zusammengefassten Einzelspiegel-Gruppen individuell aus der Einzelspiegel-Gruppe herausgenommen werden.Correspondingly, individual facets can also be applied to the specular reflector 64 grouped individual mirror groups are taken individually from the single-mirror group.

26 zeigt eine weitere Variante einer Beleuchtungsoptik. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend schon unter Bezugnahme auf die 1 bis 25 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. 26 shows a further variant of a lighting optical system. Components and functions that correspond to those described above with reference to the 1 to 25 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Der Strahlungsquelle 3 ist zunächst ein Kollektor 66 mit einer durchgehenden, also nicht facettierten, Spiegelfläche nachgeordnet. Herbei kann es sich beispielsweise um eine elliptische Spiegelfläche handeln. Anstelle des Kollektors 66 kann auch ein genesteter Kollektor eingesetzt sein.The radiation source 3 is first a collector 66 arranged downstream with a continuous, not faceted, mirror surface. For example, it can be an elliptical mirror surface. Instead of the collector 66 It is also possible to use a nested collector.

Nach der Zwischenfokusebene 12 trifft die EUV-Strahlung 10 auf einen Kollektorfacettenspiegel 67. Letzterer hat eine plane Trägerplatte 68, mit der ein hierauf angebrachtes x/y-Array aus Ellipsoid-Einzelspiegeln 69 verbunden ist. Die Ellipsoid-Einzelspiegel 69 haben dicht aneinander angrenzende Reflexionsflächen, sodass der größte Anteil der EUV-Strahlung 10 von den Ellipsoid-Einzelspiegeln 69 des Kollektorfacettenspiegels 67 reflektiert wird. Die Ellipsoid-Einzelspiegel 69 sind mit nicht dargestellten Aktoren verbunden, über die sich die Ellipsoid-Einzelspiegel 69 individuell verkappen lassen. Die Ellipsoid-Einzelspiegel 69 sind so geformt, dass sie alle den gleichen Raumwinkel der EUV-Strahlung 10 aufnehmen.After the Zwischenfokusbene 12 meets the EUV radiation 10 on a collector porcelain mirror 67 , The latter has a flat carrier plate 68 , with which an attached x / y array of ellipsoidal individual mirrors 69 connected is. The ellipsoidal individual mirror 69 have closely adjacent reflection surfaces, so that the largest share of EUV radiation 10 from the ellipsoid individual mirrors 69 of the collector facet mirror 67 is reflected. The ellipsoidal individual mirror 69 are connected to actuators, not shown, about which the ellipso id-individual mirrors 69 individually capped. The ellipsoidal individual mirror 69 are shaped so that they all have the same solid angle of EUV radiation 10 take up.

Die Strahlungsquelle 3 liegt in einem und der Zwischenfokus in der Zwischenfokusebene 12 liegt im anderen Brennpunkt des elliptischen Kollektors 66.The radiation source 3 lies in one and the Zwischenfokus in the Zwischenfokusebene 12 lies in the other focal point of the elliptical collector 66 ,

Dem Kollektorfacettenspiegel 67 ist im Strahlengang der EUV-Strahlung 10 nachgeordnet ein spekularer Reflektor 70 mit einem x/y-Array aus Einzelspiegeln 21. Jedem Ellipsoid-Einzelspiegel 69, der mit der EUV-Strahlung 10 beaufschlagt ist, ist im nachfolgenden Strahlengang einer der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 zugeordnet, sodass die EUV-Strahlung 10 entsprechend der Anzahl der beaufschlagten Ellipsoid-Einzelspiegel 69 in eine Anzahl von Strahlungskanälen aufgeteilt wird, wobei jeder dieser Strahlungskanäle zunächst einen der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 und dann den diesem zugeordneten Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 beaufschlagt.The collector facet mirror 67 is in the beam path of the EUV radiation 10 downstream of a specular reflector 70 with an x / y array of individual mirrors 21 , Each ellipsoidal single mirror 69 that with the EUV radiation 10 is acted upon, is in the subsequent beam path of the individual mirror 21 of the specular reflector 70 assigned, so the EUV radiation 10 according to the number of applied ellipsoidal individual mirror 69 is divided into a number of radiation channels, each of these radiation channels first one of the ellipsoidal individual mirror 69 and then the individual mirror associated with it 21 of the specular reflector 70 applied.

In jeweils einem der Brennpunkte eines der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 liegt der Zwischenfokus der Zwischenfokusebene 12 und im anderen Brennpunkt des Ellipsoid-Einzelspiegels 69 liegt der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70, der diesem Ellipsoid-Einzelspiegel 69 zugeordnet ist. Der spekulare Reflektor 70 liegt also in einer Bildebene 71 für Quellbilder 72 der Strahlungsquelle 3. Diese Quellbilder 72 liegen in der Bildebene 71 diskret, also voneinander beabstandet vor. Dies ist in der 28 dargestellt, die eine Aufsicht auf die Quellbilder 72 am Ort des spekularen Reflektors 70 darstellt. Insgesamt liegen, entsprechend der Anzahl der beleuchteten Einzelfacetten 21 des spekularen Reflektors 70, mehrere hundert derartiger Quellbilder 72 vor, die in einem äquidistanten x/y-Raster angeordnet sind. Eine Einhüllende der Gesamtheit der Quellbilder 72 hat eine in etwa nieren- oder bohnenförmige Form.In each one of the focal points of one of the ellipsoidal individual mirror 69 lies the intermediate focus of the Zwischenfokusebene 12 and in the other focal point of the ellipsoidal single mirror 69 is the individual mirror 21 of the specular reflector 70 , this single ellipsoidal mirror 69 assigned. The specular reflector 70 is thus in an image plane 71 for source images 72 the radiation source 3 , These source images 72 lie in the picture plane 71 discrete, so spaced apart from each other. This is in the 28 shown a top view of the source images 72 at the location of the specular reflector 70 represents. Total are, according to the number of illuminated Einzelfacetten 21 of the specular reflector 70 , several hundred such source images 72 which are arranged in an equidistant x / y grid. An envelope of the entirety of the source images 72 has a roughly kidney or bean shape.

Ausgehend von den Quellbildern 72 auf dem spekularen Reflektor 70 werden über die individuellen Strahlungskanäle Objektfeldabschnitte 73 des Objektfeldes 5 in der Objektebene 6, in der das Retikel angeordnet ist, ausgeleuchtet. Die Objektfeldabschnitte 73 bedecken das Objektfeld 5 nach Art eines in der Regel verzerrten rechteckigen x/y-Rasters.Starting from the source images 72 on the specular reflector 70 become object field sections over the individual radiation channels 73 of the object field 5 in the object plane 6 , in which the reticle is arranged, illuminated. The object field sections 73 cover the object field 5 in the manner of a generally distorted rectangular x / y grid.

Die Objektfeldabschnitte 73 werden, da sie jeweils einem Quellbild 72 zugeordnet sind, auch als Quellspots bezeichnet.The object field sections 73 since they each have a source image 72 are assigned, also referred to as source spots.

Der spekulare Reflektor 70 ist nicht in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik nach 26 angeordnet.The specular reflector 70 is not at a pupil level of the illumination optics 26 arranged.

Das Objektfeld 5 hat eine Teilring-Form beispielsweise mit einer Schlitzweite von 2 mm in y-Richtung und einer Breite von 26 mm in x-Richtung. Die Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 formen die Strahlungskanäle der EUV-Strahlung derart, dass in der Objektebene 6 das Objektfeld, zusammengesetzt über die Objektfeldabschnitte 73, ausgeleuchtet und dass in einer nachgeordneten Pupillenebene der Beleuchtungsoptik, die mit einer Pupillenebene der nachgeschalteten Projektionsoptik zusammenfällt, eine gewünschte Intensitätsverteilung vorliegt, sodass sichergestellt ist, dass eine gewünschte Beleuchtungswinkelverteilung auf dem Retikel vorliegt.The object field 5 has a part ring shape, for example, with a slot width of 2 mm in the y direction and a width of 26 mm in the x direction. The individual mirrors 21 of the specular reflector 70 form the radiation channels of the EUV radiation such that in the object plane 6 the object field, composed over the object field sections 73 Illuminated and that in a downstream pupil plane of the illumination optics, which coincides with a pupil plane of the downstream projection optics, there is a desired intensity distribution, so that it is ensured that a desired illumination angle distribution is present on the reticle.

In der 26 ist eine kanalweise Beleuchtung schematisch angedeutet, bei der benachbarte Ellipsoid-Einzelspiegel 69 für die Beaufschlagung benachbarter Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 mit der EUV-Strahlung 10 sorgen. Eine derartige benachbarte Zuordnung ist nicht zwingend. Vielmehr kann es gewünscht sein, eine derartige Nachbarschaftszuordnung aufzuheben, sodass sich beispielsweise die Nachbarschaftsbeziehungen der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 einerseits und der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 andererseits nicht durch eine Punktinversion, eine Spiegelung oder durch eine identische Abbildung ineinander überführen lassen. Dies wird nachfolgend auch als Mischen von Nachbarschaftsbeziehungen bezeichnet und ist bei der Zuordnungsvariante der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 zu den Einzelspiegeln 21 des spekularen Reflektors 70 nach 27 dargestellt.In the 26 is a channel-wise lighting schematically indicated in the adjacent ellipsoidal individual mirror 69 for the admission of adjacent individual mirrors 21 of the specular reflector 70 with the EUV radiation 10 to care. Such an adjacent assignment is not mandatory. Rather, it may be desirable to cancel such a neighborhood assignment, so that, for example, the neighborhood relationships of the ellipsoidal individual mirror 69 on the one hand and the individual mirror 21 of the specular reflector 70 On the other hand, it can not be converted into one another by a point inversion, a reflection or by an identical mapping. This is also referred to below as mixing of neighborhood relationships and is in the assignment variant of the ellipsoidal individual mirror 69 to the individual mirrors 21 of the specular reflector 70 to 27 shown.

Durch diese Mischung der Nachbarschaftsbeziehungen nach 27 wird erreicht, dass über den spekularen Reflektor 70 die Objektfeldabschnitte 73 mit entsprechender Mischung ausgeleuchtet werden, was zu einer guten Homogenität der Ausleuchtung des Objektfelds 5 führt. Veränderungen der Abstrahlcharakteristik der Strahlungsquelle 3 oder Änderungen, insbesondere über die Fläche, der Reflektivitäten von dem spekularen Reflektor 70 vorgeschalteten Optiken beispielsweise durch selektive Kontamination der Spiegelflächen, haben dann weniger starke Auswirkungen auf die Homogenität der Objektfeldausleuchtung.By this mixture of neighborhood relations after 27 is achieved that over the specular reflector 70 the object field sections 73 be illuminated with appropriate mixture, resulting in a good homogeneity of the illumination of the object field 5 leads. Changes in the radiation characteristic of the radiation source 3 or changes, particularly over the area, of the reflectivities from the specular reflector 70 upstream optics, for example, by selective contamination of the mirror surfaces, then have less impact on the homogeneity of the object field illumination.

Eine Mischzuordnung der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 zu den Einzelspiegeln 21 des spekularen Reflektors 70 kann beispielsweise mit Hilfe von Algorithmen erfolgen, die aus der US 6,438,199 B1 bekannt sind.A mixed classification of ellipsoidal single mirrors 69 to the individual mirrors 21 of the specular reflector 70 can be done, for example, with the help of algorithms from the US Pat. No. 6,438,199 B1 are known.

Die Anzahl der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 ist größer als die Anzahl der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 des Kollektorfacettenspiegels 67. Auf diese Weise lassen sich durch entsprechende Ansteuerung der Aktoren der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 verschiedene Untergruppen der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 zur Vorgabe verschiedener gewünschter Beleuchtungen des Objektfeldes 5 verstellen.The number of individual mirrors 21 of the specular reflector 70 is greater than the number of individual ellipsoidal mirrors 69 of the collector facet mirror 67 , In this way, by appropriate control of the actuators of the ellipsoidal individual mirror 69 different subgroups of the individual levels 21 of the specular reflector 70 for specifying various desired illuminations of the object field 5 adjust.

Auch die Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 sind jeweils mit Aktoren verbunden, sodass sie sich individuell gegenüber der Bildebene 71 verkippen lassen. Hierdurch ist es möglich, nach einer Umstellung der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 eine entsprechende Nachstellung der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 zu erreichen.Also the individual mirrors 21 of the specular reflector 70 are each connected to actuators so that they are individually opposite the image plane 71 let tilt. This makes it possible, after a conversion of the ellipsoidal individual mirror 69 a corresponding adjustment of the individual mirror 21 of the specular reflector 70 to reach.

In den 26 und 27 schematisch dargestellt ist eine längs der y-Richtung verlaufende Gruppe 74 von Ellipsoid-Einzelspiegeln 69, die einer ebenfalls längs der y-Richtung verlaufenden Gruppe 75 von Einzelspiegeln 21 des spekularen Reflektors 70 sowie einer ebenfalls in y-Richtung verlaufenden Gruppe von Objektfeldabschnitten 73 zugeordnet sind.In the 26 and 27 is shown schematically a running along the y-direction group 74 of ellipsoidal single mirrors 69 , the one also along the y-direction extending group 75 of individual mirrors 21 of the specular reflector 70 and a likewise in the y direction extending group of object field sections 73 assigned.

Die Aktuatoren des Kollektorfacettenspiegels 67 einerseits und des spekularen Reflektors 70 andererseits können so angesteuert werden, dass eine gruppenweise Ansteuerung der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 beziehungsweise der Einzelspiegel 21 des spekularen Reflektors 70 möglich ist. Eine derartige gruppenweise Ansteuerung ist allerdings nicht zwingend.The actuators of the collector facet mirror 67 on the one hand and the specular reflector 70 on the other hand, can be controlled so that a group-wise control of the ellipsoidal individual mirror 69 or the individual mirror 21 of the specular reflector 70 is possible. However, such group-wise activation is not mandatory.

Der Kollektorfacettenspiegel 67 kann aus vorher separat gefertigten Ellipsoid-Einzelspiegeln 69 montiert werden. Bei einer weiteren Herstellungsvariante für den Kollektorfacettenspiegel 67 wird dieser monolithisch, beispielsweise durch Einzeldiamantbearbeitung geformt. Der Kollektorfacettenspiegel 67 wird dann mit Hilfe von HSQ- oder mit Hilfe von Polyimid-Spincoating geglättet. Das HSQ-Verfahren ist beschrieben in Farhad Salmassi et al., Applied Optics, Volume 45, Nr. 11, S. 2404 bis 2408 .The collector porcelain mirror 67 can be made from previously separately manufactured ellipsoidal individual mirrors 69 to be assembled. In another manufacturing variant for the collector facet mirror 67 this is monolithic, shaped, for example, by single diamond machining. The collector porcelain mirror 67 is then smoothed using HSQ or polyimide spincoating. The HSQ method is described in Farhad Salmassi et al., Applied Optics, Vol. 45, No. 11, pp. 2404-2408 ,

Bei einer weiteren Herstellungsvariante ist es möglich, den Kollektorfacettenspiegel 67 von einem Mutterkörper beispielsweise galvanisch abzuformen.In a further production variant, it is possible to use the collector facet mirror 67 For example, from a mother body to form galvanically.

Die Strahlungsquelle 3, der Kollektor 66 und der Kollektorfacettenspiegel 67 können in ein Mehrquellen-Array (Multisource-Array) integriert sein. Ein derartiges Multisource-Array ist beschrieben in der deutschen Patentanmeldung 10 2007 008 702.2 , die vollumfänglich Bestandteil dieser Anmeldung sein soll. Jede Lichtquelle des Multisource-Arrays kann im auszuleuchtenden Bereich, also im Objektfeld, nur einen Teilbereich, also einen Objektfeldabschnitt, ausleuchten.The radiation source 3 , the collector 66 and the collector facet mirror 67 can be integrated into a multi-source array. Such a multi-source array is described in U.S. Patent Nos. 4,767,866 German patent application 10 2007 008 702.2 , which should be part of this application in full. Each light source of the multisource array can illuminate only a partial area, that is to say an object field section, in the area to be illuminated, that is to say in the object field.

Die Ellipsoid-Einzelspiegel 69 oder auch die Einzelspiegel 21 der vorstehend erläuterten Ausführungsbeispiele, soweit diese Einzelspiegel 21 gekrümmt ausgeführt sind, können ihrerseits aus einer Mehrzahl von planen Mikrospiegeln ausgeführt sein, wobei diese Mehrzahl an Planflächen die jeweilige gekrümmte Fläche des Ellipsoid-Einzelspiegels 69 oder des gekrümmten Einzelspiegels 21 nach Art eines Polyeders approximiert.The ellipsoidal individual mirror 69 or the individual mirrors 21 the above-described embodiments, as far as these individual mirrors 21 curved in turn, may in turn be made of a plurality of plan micromirrors, said plurality of planar surfaces, the respective curved surface of the ellipsoidal single mirror 69 or the curved single mirror 21 approximated in the manner of a polyhedron.

Prinzipiell können die Mikrospiegel, die die gekrümmten Flächen der Ellipsoid-Einzelspiegel 69 oder der gekrümmten Einzelspiegel 21 approximieren, wiederum aktuatorisch verlagerbar ausgeführt sein. In diesem Falle ist es möglich, über die Mikrospiegel eine Beeinflussung der Abbildungseigenschaften der Einzelspiegel 69, 21 herbeizuführen.In principle, the micromirrors that make up the curved surfaces of the ellipsoidal individual mirror 69 or the curved single mirror 21 be approximated, in turn be actuarially displaced executed. In this case it is possible, via the micromirrors, to influence the imaging properties of the individual mirrors 69 . 21 bring about.

Derartige Mikrospiegel können beispielsweise nach Art eines Mikrospiegel-Arrays (MMA-Arrays) realisiert werden, bei dem die einzelnen Spiegel mittels seitlich angebrachter Federgelenke beweglich gelagert sind und elektrostatisch aktuiert werden können. Derartige Mikrospiegelanordnungen sind dem Fachmann unter dem Stichwort „MEMS" (mikroelektromechanische Systeme) beispielsweise aus der EP 1 289 273 A1 bekannt.Such micromirrors can be realized, for example, in the manner of a micromirror array (MMA array) in which the individual mirrors are movably mounted by means of laterally mounted spring joints and can be electrostatically actuated. Such micromirror arrangements are those skilled in the art under the keyword "MEMS" (microelectromechanical systems), for example, from EP 1 289 273 A1 known.

Bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen stellen die Einzelspiegel 21 bzw. 69 Ausleuchtungskanäle zur Überlagerung der EUV-Strahlung 10, also der Beleuchtungsstrahlung, im Objektfeld 5 der Projektionsbelichtungsanlage 1 bereit. Derartige Ausleuchtungskanäle AK sind in den 26 und 27 schematisch dargestellt. Entsprechende Ausleuchtungskanäle liegen auch bei den Varianten nach den 1 bis 25 vor. Die Einzelspiegel 21 bzw. 69 haben Spiegelflächen mit einer derartigen Ausdehnung, dass diese Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle im Objektfeld 5 Objektabschnitte beleuchten, die kleiner als das Objektfeld 5 sind. Dies ist in den 26 und 27 schematisch für das Beispiel mit dem spekularen Reflektor 70 dargestellt. Prinzipiell gilt diese Beleuchtung des Objektfeldes 5 durch Zusammensetzung von Objektfeldabschnitten, die verschiedenen Einzelspiegel-Ausleuchtungskanälen zugeordnet sind, jedoch genauso für die Ausführungsvarianten der 1 bis 25.In the embodiments described above, the individual mirrors 21 respectively. 69 Illumination channels for superimposing the EUV radiation 10 , ie the illumination radiation, in the object field 5 the projection exposure system 1 ready. Such illumination channels AK are in the 26 and 27 shown schematically. Corresponding illumination channels are also in the variants according to the 1 to 25 in front. The individual mirrors 21 respectively. 69 have mirror surfaces with such an extent that these individual mirror illumination channels in the object field 5 Illuminate object sections that are smaller than the object field 5 are. This is in the 26 and 27 schematically for the example with the specular reflector 70 shown. In principle, this illumination of the object field applies 5 by composition of object field sections which are assigned to different individual mirror illumination channels, but just as for the variants of the 1 to 25 ,

29 zeigt schematisch ein mit beispielhaft insgesamt zweiundzwanzig Ausleuchtungskanälen beleuchtetes Objektfeld 5, wobei diese Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle entsprechend zweiundzwanzig Objektfeldabschnitte 76 beleuchten. Grenzen 77, 78 zwischen den Objektfeldabschnitten 76 verlaufen in der x-Richtung bzw. in der y-Richtung. 29 schematically shows an illuminated example with a total of twenty-two illumination channels object field 5 These single mirror illumination channels correspond to twenty-two object field sections 76 illuminate. border 77 . 78 between the object field sections 76 run in the x-direction and in the y-direction.

Eine Scanrichtung yscan, mit der der Waferhalter und der Retikelhalter bei der Projektionsbelichtung mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 mit der Objektfeldausleuchtung nach 29 synchronisiert zueinander verlagert werden, verläuft nicht exakt parallel zur y-Richtung, also nicht senkrecht zur langen Feldachse x des Objektfeldes 5, sondern zu dieser um einen Winkel α verkippt. Dies führt dazu, dass ein Punkt auf dem Retikel eine der in y-Richtung verlaufenden Grenzen 78 zwischen zwei Objektfeldabschnitten 76 nur längs eines Teils seines Scans durch das Objektfeld 5 sieht, falls überhaupt. Es ist verhindert, dass abzubildende Punkte auf dem Retikel während des gesamten Scans durch das Objektfeld 5 ständig längs einer der Grenzen 78 verlaufen. Dies verbessert die Homogenität der Intensitätsbeaufschlagung der abzubildenden Punkte auf dem Retikel bei einer abschnittsweisen Objektfeldausleuchtung.A scan direction y scan , with which the wafer holder and the reticle holder in the projection exposure with the projection exposure system 1 with the object field illumination after 29 synchronized shifted to each other, does not exactly pa parallel to the y-direction, ie not perpendicular to the long field axis x of the object field 5 but tilted to this by an angle α. This results in a point on the reticle extending one of the y-directional boundaries 78 between two object field sections 76 only along part of its scan through the object field 5 sees, if any. It prevents points to be imaged on the reticle during the entire scan through the object field 5 constantly along one of the borders 78 run. This improves the homogeneity of the application of the intensity of the points to be imaged on the reticle in the case of sectional object field illumination.

Alternativ ist es möglich, die Objektfeldabschnitte so anzuordnen, dass längs einer Scanrichtung keine durchgehenden Begrenzungen zwischen den Objektfeldabschnitten vorliegen. Eine derartig Anordnung gegeneinander versetzt sich überlagernder Objektfeldabschnitte ergibt sich beispielsweise, wenn das Objektfeld 5 nach Art einer um 90° gedrehten Anordnung nach 23 mit Objektfeldabschnitten ausgeleuchtet wird, die den Einzelfacetten 21 nach 23 entsprechen. In diesem Fall liegen senkrecht zur Scanrichtung gegeneinander versetzte Reihen von Objektfeldabschnitten vor, so dass auch dann, wenn die Scanrichtung yscan exakt in der y-Richtung verläuft, kein Punkt auf dem Retikel durchgehend längs einer Begrenzung zwischen Objektfeldabschnitten durch das Objektfeld 5 gescannt wird. Auch eine derartige versetzte Anordnung vermeidet daher unerwünschte Inhomogonitäten bei der Intensitätsbeaufschlagung der Feldpunkte während des Scannens.Alternatively, it is possible to arrange the object field sections in such a way that there are no continuous boundaries between the object field sections along a scan direction. Such an arrangement offset from each other superimposed object field sections results, for example, when the object field 5 in the manner of a 90 ° rotated arrangement 23 illuminated with object field sections, the single facets 21 to 23 correspond. In this case, mutually offset rows of object field sections are present perpendicular to the scan direction, so that even if the scan direction y scan runs exactly in the y direction, no point on the reticle runs continuously along a boundary between object field sections through the object field 5 is scanned. Even such a staggered arrangement therefore avoids undesirable inhomogeneities in the intensity exposure of the field points during scanning.

Eine entsprechende Homogenisierung kann auch erreicht werden, wenn die Objektfeldabschnitte Berandungsformen mit nicht zur Scanrichtung parallelen Kanten aufweisen. Dies kann beispielsweise durch trapezförmige oder rautenförmige Einzelspiegel 21 erzeugt werden, deren Gestalt formgebend für die Objektfeldabschnitte ist.A corresponding homogenization can also be achieved if the object field sections have boundary shapes with edges that are not parallel to the scan direction. This can be done, for example, by trapezoidal or diamond-shaped individual mirrors 21 are generated, whose shape is shaping for the object field sections.

Die Einzelspiegel 21, 69 können eine Multilager-Beschichtung mit Einzellagen aus Molybdän und Silizium aufweisen, so dass die Reflektivität der Einzelspiegel 21, 69 für die verwendete EUV-Wellenlänge optimiert ist.The individual mirrors 21 . 69 can have a multilayer coating with single layers of molybdenum and silicon, so that the reflectivity of the individual mirror 21 . 69 optimized for the EUV wavelength used.

Die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle können im Falle eines Pupillenfacettenspiegels mit nicht in Einzelspiegeln unterteilten Pupillenfacetten gruppenweise von ein und derselben Pupillenfacette zum Objektfeld 5 weitergeführt werden. Jede dieser Pupillenfacette gibt dann einen Gruppen-Ausleuchtungskanal vor, der die dieser Pupillenfacette zugeordneten Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle zusammenfasst. Die Anzahl der Gruppen-Ausleuchtungskanäle entspricht dann der Anzahl der nicht in Einzelspiegel unterteilten Pupillenfacetten. Jeder dieser Pupillenfacetten und jedem Gruppen-Ausleuchtungskanal ist dann eine Anzahl von Einzelspiegeln des Feldfa cettenspiegels entsprechend der Unterteilung des Gruppen-Ausleuchtungskanals in Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle zugeordnet.The individual mirror illumination channels can, in the case of a pupil facet mirror with pupil facets not subdivided into individual mirrors, be grouped from one and the same pupil facet to the object field 5 be continued. Each of these pupil facets then specifies a group illumination channel which combines the individual mirror illumination channels assigned to this pupil facet. The number of group illumination channels then corresponds to the number of pupil facets not subdivided into individual mirrors. Each of these pupil facets and each group illumination channel is then assigned a number of individual mirrors of the field acetate mirror corresponding to the subdivision of the group illumination channel into individual mirror illumination channels.

Bei den Ausführungen, bei denen sowohl der Feldfacettenspiegel als auch der Pupillenfacettenspiegel in Einzelspiegel 21 unterteilt sind, müssen, ähnlich wie dies vorstehend bei den Ausführungen zum spekularen Reflektor nach den 26 und 27 erläutert wurde, benachbarte Einzelspiegel 21 des Feldfacettenspiegels nicht über benachbarte Pupillenfacetten-Einzelspiegel weitergeleitet werden, sondern es kann eine beliebige räumliche Durchmischung von gemeinsam die Ausleuchtung des gesamten Objektfeldes 5 bewerkstelligenden Gruppen aus Feldfacetten-Einzelspiegeln und Pupillenfacetten-Einzelspiegeln vorgesehen sein.In the embodiments where both the field facet mirror and the pupil facet mirror are in single mirror 21 are subdivided, similar to the above in the embodiments of the specular reflector according to the 26 and 27 was explained, adjacent individual mirrors 21 of the field facet mirror can not be forwarded via adjacent pupil facets individual mirror, but it can be any spatial mixing of the illumination of the entire object field 5 bewerkstelligenden groups of field faceted individual mirrors and pupil faceted individual mirrors.

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Claims (31)

Facettenspiegel (13, 14; 47; 64; 67, 70) zum Einsatz als optische Komponente in einer Projektionsbelichtungsanlage (1) für die EUV-Mikrolithografie, – wobei der Facettenspiegel (13, 14; 47; 64; 67, 70) Einzelspiegel (21; 69) aufweist, die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle (AK) zur Führung von Beleuchtungsstrahlung (10) hin zu einem Objektfeld (5) der Projektionsbelichtungsanlage (1) bereitstellen, – wobei die Einzelspiegel (21; 69) eine Spiegelfläche derart aufweisen, dass die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle (AK) im Objektfeld (5) Objektfeldabschnitte (73; 76) beleuchten, die kleiner als das Objektfeld (5) sind, und – wobei die Einzelspiegel (21; 69) über Aktuatoren (24) verkippbar sind.Facet mirror ( 13 . 14 ; 47 ; 64 ; 67 . 70 ) for use as an optical component in a projection exposure apparatus ( 1 ) for EUV microlithography, - the facet mirror ( 13 . 14 ; 47 ; 64 ; 67 . 70 ) Individual mirror ( 21 ; 69 ), the individual mirror illumination channels (AK) for guiding illumination radiation ( 10 ) to an object field ( 5 ) of the projection exposure apparatus ( 1 ), the individual mirrors ( 21 ; 69 ) have a mirror surface such that the individual mirror illumination channels (AK) in the object field ( 5 ) Object field sections ( 73 ; 76 ), which are smaller than the object field ( 5 ), and - wherein the individual mirrors ( 21 ; 69 ) via actuators ( 24 ) are tiltable. Facettenspiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel (21; 69) eine Spiegelfläche derart aufweisen, dass mindestens zwei Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle (AK) zur Ausleuchtung des gesamten Objektfeldes (5) erforderlich sind.Facet mirror according to claim 1, characterized in that the individual mirrors ( 21 ; 69 ) have a mirror surface such that at least two individual mirror illumination channels (AK) for illuminating the entire object field ( 5 ) required are. Facettenspiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Einzelspiegel-Gruppe (19; 31; 32, 33; 34 bis 37; 38 bis 45; 46; 48; 49; 50; 60; 61) zur Ausleuchtung des gesamten Objektfeldes (5) ausgeführt ist.Facet mirror according to claim 1, characterized in that at least one single-mirror group ( 19 ; 31 ; 32 . 33 ; 34 to 37 ; 38 to 45 ; 46 ; 48 ; 49 ; 50 ; 60 ; 61 ) for illuminating the entire object field ( 5 ) is executed. Facettenspiegel (13, 14; 47; 64; 67, 70) zum Einsatz als optische Komponente in einer Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikro-Lithographie – mit einer Vielzahl von Einzelspiegeln (21; 69), – die zur individuellen Ablenkung auftreffenden Beleuchtungslichts (10) jeweils mit mindestens einem Aktuator (24) derart verbunden sind, – dass sie separat voneinander ansteuerbar um mindestens eine Kippachse (x, y) verkippbar sind, – wobei eine Steuereinrichtung (28), die mit den Aktuatoren (24) verbunden ist, so ausgestaltet ist, dass eine vorgegebene Gruppierung der Einzelspiegel (21; 69) in Einzelspiegel-Gruppen (19; 31; 32, 33; 34 bis 37; 38 bis 45; 46; 48; 49; 50; 60; 61) aus je mindestens zwei Einzelspiegeln (21) einstellbar ist.Facet mirror ( 13 . 14 ; 47 ; 64 ; 67 . 70 ) for use as an optical component in a projection exposure apparatus ( 1 ) for micro lithography - with a plurality of individual mirrors ( 21 ; 69 ), - the illuminating light impinging on the individual deflection ( 10 ) each with at least one actuator ( 24 ) are connected in such a way that they can be tilted separately from one another by at least one tilting axis (x, y), 28 ), with the actuators ( 24 ) is configured such that a predetermined grouping of the individual mirrors ( 21 ; 69 ) in single-mirror groups ( 19 ; 31 ; 32 . 33 ; 34 to 37 ; 38 to 45 ; 46 ; 48 ; 49 ; 50 ; 60 ; 61 ) of at least two individual mirrors ( 21 ) is adjustable. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 3 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel-Gruppen Einzelfacetten (19; 31; 32, 33; 34 bis 37; 38 bis 45; 46; 50) bilden mit einer Facettenform, welche einer Feldform eines in der Projektionsbelichtungsanlage (1) auszuleuchtenden Objektfeldes (5) entspricht.Facet mirror according to one of Claims 3 to 4, characterized in that the individual-mirror groups have individual facets ( 19 ; 31 ; 32 . 33 ; 34 to 37 ; 38 to 45 ; 46 ; 50 ) having a facet shape corresponding to a field shape of a field in the projection exposure apparatus ( 1 ) to be illuminated object field ( 5 ) corresponds. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel-Gruppen (19; 31; 32, 33; 34 bis 37; 38 bis 45; 46) eine rechteckige Einhüllende haben.Facet mirror according to one of claims 3 to 5, characterized in that the individual mirror groups ( 19 ; 31 ; 32 . 33 ; 34 to 37 ; 38 to 45 ; 46 ) have a rectangular envelope. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel-Gruppen (48; 49; 50) eine bogenförmige, ringförmige oder kreisförmige Einhüllende (51) haben.Facet mirror according to one of claims 3 to 6, characterized in that the individual mirror groups ( 48 ; 49 ; 50 ) an arcuate, annular or circular envelope ( 51 ) to have. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 3 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel-Gruppen Spiegelbereiche (48; 49; 60; 61) bilden, die eine Anordnung haben, die einer Beleuchtungswinkelverteilung in einem in der Projektionsbelichtungsanlage (1) auszuleuchtenden Objektfeld (5) entspricht.Facet mirror according to one of claims 3 to 7, characterized in that the individual mirror groups mirror areas ( 48 ; 49 ; 60 ; 61 ), which have an arrangement which corresponds to an illumination angle distribution in one in the projection exposure apparatus ( 1 ) object field to be illuminated ( 5 ) corresponds. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel (21) mehreckig ausgeführt sind und die Einzelfacetten oder Spiegelbereiche nach Art einer Parkettierung abdecken.Facet mirror according to one of claims 1 to 8, characterized in that the individual mirrors ( 21 ) are polygonal and cover the individual facets or mirror areas in the manner of a tiling. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Einzelspiegel (21) eine plane Reflexionsfläche hat.Facet mirror according to one of claims 1 to 9, characterized in that each of the individual mirrors ( 21 ) has a plane reflection surface. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel (21) separat voneinander ansteuerbar längs einer Normalen (z) auf die Reflexionsfläche (20) des Facettenspiegels verlagerbar sind.Facet mirror according to one of claims 1 to 10, characterized in that the individual mirrors ( 21 ) separately controllable along a normal (z) on the reflection surface ( 20 ) of the facet mirror are displaceable. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 11, gekennzeichnet durch eine zeilen- und spaltenweise Anordnung der Einzelspiegel innerhalb einer Einzelfacette (19; 31; 32, 33; 34 bis 37; 38 bis 45; 46; 50) oder eines Spiegelbereichs (48; 49; 60; 61).Facet mirror according to one of Claims 1 to 11, characterized by a row and column arrangement of the individual mirrors within a single facet ( 19 ; 31 ; 32 . 33 ; 34 to 37 ; 38 to 45 ; 46 ; 50 ) or a mirror area ( 48 ; 49 ; 60 ; 61 ). Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (28) mit den Aktuatoren (24) über einen Signalbus (26, 27) verbunden ist.Facet mirror according to one of claims 1 to 12, characterized in that the control device ( 28 ) with the actuators ( 24 ) via a signal bus ( 26 . 27 ) connected is. Facettenspiegel nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (28) zur reihenweise gemeinsamen Ansteuerung der Einzelspiegel (21) ausgeführt ist.Facet mirror according to claim 13, characterized in that the control device ( 28 ) for serial control of the individual mirrors ( 21 ) is executed. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 3 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (28) derart ausgeführt ist, dass innerhalb einer Einzelspiegel-Gruppe (19; 31; 32, 33; 34 bis 37; 38 bis 45; 46; 48; 49; 50; 60; 61) einzelne Einzelspiegel (21) individuell anders als die restlichen Einzelspiegel (21) der Einzelspiegel-Gruppe angesteuert werden können.Facet mirror according to one of claims 3 to 14, characterized in that the control device ( 28 ) is designed such that within a single mirror group ( 19 ; 31 ; 32 . 33 ; 34 to 37 ; 38 to 45 ; 46 ; 48 ; 49 ; 50 ; 60 ; 61 ) individual individual mirrors ( 21 ) individually different than the remaining individual mirrors ( 21 ) of the single-mirror group can be controlled. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass alle Einzelspiegel (21; 69) auf einem gemeinsamen planen Träger (68) angeordnet sind.Facet mirror according to one of claims 1 to 15, characterized in that all individual mirrors ( 21 ; 69 ) on a common plan carrier ( 68 ) are arranged. Beleuchtungsoptik (4) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikro-Lithographie mit mindestens einem Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 16.Illumination optics ( 4 ) for a projection lighting system ( 1 ) for micro-lithography with at least one facet mirror according to one of claims 1 to 16. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 17, gekennzeichnet durch zwei Facettenspiegel (13, 14) nach einem der Ansprüche 1 bis 16.Illumination optics according to claim 17, characterized by two facet mirrors ( 13 . 14 ) according to one of claims 1 to 16. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegel-Gruppen (74, 75) Einzelspiegel-Ausleuchtungskanälen zugeordnet sind, die in einem Objektfeld (5) benachbarte Objektfeldabschnitte (73; 76) ausleuchten und sich zum gesamten Objektfeld ergänzen.Illumination optics according to claim 17 or 18, characterized in that the individual mirror groups ( 74 . 75 ) Are assigned to individual mirror illumination channels which are located in an object field ( 5 ) adjacent object field sections ( 73 ; 76 ) and complement each other to the entire object field. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel (13) in einer Feldebene der Beleuchtungsoptik (4) angeordnet ist.Illumination optics according to one of claims 17 to 19, characterized in that the facet mirror ( 13 ) in a field plane of the illumination optics ( 4 ) is arranged. Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungsoptik (4) nach einem der Ansprüche 17 bis 20, einer Strahlungsquelle (3) zur Erzeugung des Beleuchtungs- und Abbildungslichts (10) und mit einer Projektionsoptik (7) zur Abbildung eines Objektfeldes (5) der Projektionsbelichtungsanlage in ein Bildfeld (8).Projection exposure apparatus with illumination optics ( 4 ) according to one of claims 17 to 20, a radiation source ( 3 ) for generating the illumination and imaging light ( 10 ) and with a projection optics ( 7 ) for mapping an object field ( 5 ) of the projection exposure apparatus into an image field ( 8th ). Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle (3) als EUV-Strahlungsquelle ausgeführt ist.Projection exposure apparatus according to claim 21, characterized in that the radiation source ( 3 ) is designed as EUV radiation source. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel als spekularer Reflektor (64; 70) im Strahlengang des Beleuchtungslichts (10) zwischen der Strahlungsquelle (3) und dem Objektfeld (5) angeordnet ist.Projection exposure apparatus according to claim 21 or 22, characterized in that the facet mirror as a specular reflector ( 64 ; 70 ) in the beam path of the illumination light ( 10 ) between the radiation source ( 3 ) and the object field ( 5 ) is arranged. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 23, gekennzeichnet durch eine Bündelformung des Beleuchtungslichts (10) vor dem spekularen Reflektor (70) derart, dass der spekulare Reflektor (70) mit einer den Einzelspiegeln (21) des spekularen Reflektors (70) zugeordneten Mehrzahl von Bildern (72) der Strahlungsquelle (3) diskret ausgeleuchtet wird.Projection exposure apparatus according to claim 23, characterized by bundle shaping of the illumination light ( 10 ) in front of the specular reflector ( 70 ) such that the specular reflector ( 70 ) with a single mirror ( 21 ) of the specular reflector ( 70 ) associated with a plurality of images ( 72 ) of the radiation source ( 3 ) is lit discreetly. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 21 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel (67) zwischen der Strahlungsquelle (3) und einem spekularen Reflektor (64; 70) angeordnet ist.Projection exposure apparatus according to one of Claims 21 to 24, characterized in that the facet mirror ( 67 ) between the radiation source ( 3 ) and a specular reflector ( 64 ; 70 ) is arranged. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 24 und 25, dadurch gekennzeichnet, dass der zwischen der Strahlungsquelle (3) und dem spekularen Reflektor (70) angeordnete Facettenspiegel (67) eine kleinere Anzahl von Einzelspiegeln (69) aufweist als der spekulare Reflektor (70).Projection exposure apparatus according to claim 24 and 25, characterized in that between the radiation source ( 3 ) and the specular reflector ( 70 ) arranged facet mirror ( 67 ) a smaller number of individual mirrors ( 69 ) than the specular reflector ( 70 ). Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 21 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Strahlungsquelle (3) und dem mindestens einen Facettenspiegel (67) ein Kollektor (66) für das Beleuchtungslicht (10) angeordnet ist.Projection exposure apparatus according to one of claims 21 to 26, characterized in that between the radiation source ( 3 ) and the at least one facet mirror ( 67 ) a collector ( 66 ) for the illumination light ( 10 ) is arranged. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass der Kollektor (66) eine durchgehende, also nicht facettierte, Spiegelfläche aufweist.Projection exposure apparatus according to claim 27, characterized in that the collector ( 66 ) has a continuous, not faceted, mirror surface. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 18 bis 25, wobei eine Scanrichtung (yscan), längs der ein Waferhalter zum Halten eines Wafers, auf dem projiziert werden soll, während der Projektionsbelichtung synchronisiert zu einem Retikelhalter zum Halten eines Retikels, welches das zu projizierende Muster aufweist, verlagert wird, unter einem Winkel (α) zu einer Senkrechten (y) auf eine lange Feldachse (x) eines Objektfeldes (5) und eines Bildfeldes (8) der Projektionsbelichtungsanlage (1) verläuft.A projection exposure apparatus according to any one of claims 18 to 25, wherein a scan direction (y scan ) along which a wafer holder for holding a wafer to be projected is synchronized to a reticle holder for holding a reticle having the pattern to be projected during the projection exposure , is displaced at an angle (α) to a vertical (y) on a long field axis (x) of an object field ( 5 ) and a picture field ( 8th ) of the projection exposure apparatus ( 1 ) runs. Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten: – Bereitstellen eines Wafers, auf den zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist, – Bereitstellen eines Retikels, das abzubildende Strukturen aufweist, – Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der Ansprüche 21 bis 29, – Projizieren wenigstens eines Teils des Retikels auf einen Bereich der Schicht mit Hilfe einer Projektionsoptik (7) der Projektionsbelichtungsanlage (1).Method for producing a microstructured or nanostructured component with the following method steps: provision of a wafer on which at least partially a layer of a photosensitive material is applied, provision of a reticle which has structures to be imaged, provision of a projection exposure apparatus 1 ) according to one of claims 21 to 29, - projecting at least part of the reticle onto a region of the layer with the aid of projection optics ( 7 ) of the projection exposure apparatus ( 1 ). Mikrostrukturiertes Bauteil, hergestellt durch ein Verfahren nach Anspruch 30.Microstructured component manufactured by Method according to claim 30.
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