DE102008015550A1 - Optoelectronic protection device for projecting letters or pictograms on projection surface, comprises optoelectronic semiconductor component, which comprises luminescence diode chip - Google Patents
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Abstract
Description
Es wird eine optoelektronische Projektionsvorrichtung angegeben.It an optoelectronic projection device is specified.
Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, eine optoelektronische Projektionsvorrichtung anzugeben, mit der es möglich ist, einfache Muster wie geometrische Figuren, Bilder, Zeichen, Buchstaben oder Piktogramme auf einer Projektionsfläche abzubilden. Eine weitere zu lösende Aufgabe besteht darin, eine optoelektronische Projektionsvorrichtung anzugeben, welche besonders einfach herstellbar und besonders Platz sparend ist.A to be solved The object is an optoelectronic projection device indicate with which it is possible is simple patterns like geometric figures, pictures, signs, To represent letters or pictograms on a projection screen. A more to be solved The object is an optoelectronic projection device specify which is particularly easy to produce and especially space is saving.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung umfasst die optoelektronische Projektionsvorrichtung zumindest ein optoelektronisches Halbleiterbauelement, das zumindest einen Lumineszenzdiodenchip umfasst. Bei dem Lumineszenzdiodenchip handelt es sich beispielsweise um einen Leuchtdiodenchip oder einen Laserdiodenchip.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device includes the optoelectronic Projection device at least one optoelectronic semiconductor device, which comprises at least one luminescence diode chip. In the luminescence diode chip For example, it is a LED chip or a Laser diode chip.
Das optoelektronische Halbleiterbauelement umfasst neben dem Lumineszenzdiodenchip vorzugsweise äußere Anschlussstellen, über die das optoelektronische Halbleiterbauelement elektrisch kontaktiert werden kann.The Optoelectronic semiconductor component comprises in addition to the LED chip preferably external connection points over which electrically contacts the optoelectronic semiconductor component can be.
Beispielsweise handelt es sich bei dem optoelektronischen Halbleiterbauelement um eine Leuchtdiode oder um eine Laserdiode. Das optoelektronische Halbleiterbauelement ist im Betrieb geeignet, elektromagnetische Strahlung zu erzeugen.For example this is the optoelectronic semiconductor component to a light emitting diode or to a laser diode. The optoelectronic Semiconductor device is suitable in operation, electromagnetic Generate radiation.
Vorzugsweise ist das optoelektronische Halbleiterbauelement dabei geeignet, elektromagnetische Strahlung aus dem Wellenlängenbereich sichtbaren Lichts zu erzeugen. Das optoelektronische Halbleiterbauelement kann im Betrieb dann beispielsweise farbiges Licht oder weißes Licht erzeugen.Preferably the optoelectronic semiconductor component is suitable, electromagnetic Radiation from the wavelength range to produce visible light. The optoelectronic semiconductor component In operation, for example, then colored light or white light produce.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung umfasst die optoelektronische Projektionsvorrichtung eine Blende. Die Blende umfasst zumindest einen strahlungsundurchlässigen Bereich und zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich. Das heißt, durch einen Teil der Blende kann elektromagnetische Strahlung treten, von einem anderen Teil der Blende wird elektromagnetische Strahlung absorbiert und/oder reflektiert, sodass dieser Bereich der Blende strahlungsundurchlässig ist. Die Blende bildet dabei vorzugsweise das Bild gebende Element der optoelektronischen Projektionsvorrichtung. Das heißt, durch den zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich der Blende kann elektromagnetische Strahlung treten. Die elektromagnetische Strahlung wird dabei von der Blende in bestimmter Weise geformt, sodass sich das zu erzeugende Bild der optoelektronischen Projektionsvorrichtung ergibt.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device includes the optoelectronic Projection device a diaphragm. The aperture includes at least a radiopaque Area and at least one radiation-transmissive area. That is, through a part of the diaphragm can be exposed to electromagnetic radiation, from another part of the aperture becomes electromagnetic radiation absorbed and / or reflected, so this area of the aperture radiopaque is. The diaphragm preferably forms the image-giving element the optoelectronic projection device. That is, through the at least one radiation-transmissive region of the diaphragm can electromagnetic radiation occur. The electromagnetic radiation is thereby shaped by the aperture in a certain way, so that the image to be generated of the optoelectronic projection device results.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung tritt im Betrieb erzeugte elektromagnetische Strahlung des optoelektronischen Halbleiterbauelements durch den zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich der Blende. Vorzugsweise kann die vom optoelektronischen Halbleiterbauelement erzeugte elektromagnetische Strahlung nur durch den zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich der Blende treten. Das heißt, es gibt für die vom optoelektronischen Halbleiterbauelement im Betrieb erzeugte elektromagnetische Strahlung keine andere Möglichkeit, die Projektionsvorrichtung zu verlassen, als durch den zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich der Blende.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device occurs generated during operation electromagnetic radiation of the optoelectronic semiconductor component through the at least one radiation-transmissive region of the diaphragm. Preferably, that of the optoelectronic semiconductor device generated electromagnetic radiation only through the at least one radiation-transmissive area the aperture occur. This means, there are for the generated by the optoelectronic semiconductor device in operation electromagnetic radiation no other way, the projection device leave as through the at least one radiation-transmissive area of the Cover.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung umfasst diese zumindest ein optoelektronisches Halbleiterbauelement, welches zumindest einen Lumineszenzdiodenchip umfasst. Die Blende umfasst ferner zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich und zumindest einen strahlungsundurchlässigen Bereich, wobei die Blende das Bild gebende Element der optoelektronischen Projektionsvorrichtung ist. Die vom optoelektronischen Halbleiterbauelement im Betrieb erzeugte elektromagnetische Strahlung tritt dabei durch den zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich der Blende.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device includes these at least an optoelectronic semiconductor component which has at least one Luminescence diode chip comprises. The diaphragm further comprises at least a radiolucent Area and at least one radiopaque area, wherein the aperture the image giving element of the optoelectronic projection device is. The of the optoelectronic semiconductor device in operation generated electromagnetic radiation occurs through the at least a radiolucent Area of the aperture.
Das heißt, im optoelektronischen Halbleiterbauelement wird beispielsweise von einem Lumineszenzdiodenchip sichtbares Licht erzeugt. Dieses Licht trifft auf die Blende und kann dort durch strukturierte, strahlungsdurchlässige Bereiche aus der Blende austreten. Die Blende bildet das Bild gebende Element der optoelektronischen Projektionsvorrichtung.The is called, in the optoelectronic semiconductor component, for example generates visible light to a luminescence diode chip. This light meets the aperture and can there through structured, radiation-permeable areas exit from the aperture. The aperture forms the image-giving element the optoelectronic projection device.
Die strahlungsdurchlässigen Bereiche der Blende sind beispielsweise derart strukturiert, dass sie ein vorgegebenes Muster bilden. Dieses wird dann positiv auf eine Projektionsfläche abgebildet. Andererseits ist es auch möglich, dass das darzustellende Muster durch die strahlungsundurchlässigen Bereiche der Blende gebildet ist. In diesem Fall wird das Muster als Negativ auf eine Projektionsfläche abgebildet. Mit anderen Worten wird das Muster durch den Schatten gebildet, welcher vom strahlungsundurchlässigen Bereich der Blende erzeugt wird.The radiolucent Areas of the diaphragm are structured, for example, such that they form a given pattern. This will be positive for you projection displayed. On the other hand, it is also possible that the displayed Pattern through the radiopaque areas of the panel is formed. In this case, the pattern turns negative on one projection displayed. In other words, the pattern is through the shadow formed, which generates from the radiopaque region of the diaphragm becomes.
Die hier beschriebene Projektionsvorrichtung zeichnet sich dabei insbesondere dadurch aus, dass sie besonders einfach herstellbar und besonders Platz sparend ist. Die Projektionsvorrichtung kann beispielsweise Einsatz in mobilen Geräten, wie Mobiltelefonen, Laptops oder Spielkonsolen, finden. Sie kann zu Werbezwecken, zum Beispiel in Kugelschreibern, eingebracht werden, welche dann ein Firmenlogo auf eine Projektionsfläche projizieren können. Bei der Kombination von mehreren dieser optoelektronischen Projektionsvorrichtungen können komplexere Informationen wie Wörter wiedergegeben werden, welche dann einfache Anzeigetafeln bilden können. Ferner ist der Einsatz solcher Projektionsvorrichtungen in Spielzeugen denkbar. Auch der Einsatz der Projektionsvorrichtung zur Dekoration, wie zum Beispiel bei der Projektion von Piktogrammen wie Sternen, Smileys, Blumen oder dergleichen in verschiedenen Farben auf Wände ist denkbar. Ferner können Zeichen, wie beispielsweise Pfeile, Buchstaben oder Logos, auf Wände projiziert werden.The projection device described here is characterized in particular by the fact that it is particularly easy to manufacture and very space-saving. The projection device may, for example, be used in mobile devices, such as mobile telephones, laptops or game consoles. It can be introduced for advertising purposes, for example in pens, which can then project a company logo on a projection screen. With the combination of several of these opto-electronic projection devices, more complex information such as words can be reproduced, which can then form simple scoreboards. Furthermore, the use of such projection devices in toys is conceivable. Also, the use of the projection device for decoration, such as in the projection of pictograms such as stars, smileys, flowers or the like in different colors on walls is conceivable. Furthermore, characters, such as arrows, letters or logos, can be projected onto walls.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung ist die Blende mechanisch fest und unlösbar mit dem optoelektronischen Halbleiterbauelement verbunden. Das heißt, die Blende ist nicht austauschbar. Ein Entfernen der Blende vom optoelektronischen Halbleiterbauelement würde zur Schädigung des optoelektronischen Halbleiterbauelements und/oder der Blende führen. Beispielsweise ist die Blende mit dem optoelektronischen Halbleiterbauelement verklebt. Dabei kann die Blende auf ein Gehäuse des optoelektronischen Halbleiterbauelements geklebt sein. Es ist aber auch möglich, dass die Blende direkt auf den zumindest einen Lumineszenzdiodenchip des optoelektronischen Halbleiterbauelements geklebt ist.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device, the aperture is mechanical firm and unsolvable connected to the optoelectronic semiconductor device. That is, the Aperture is not interchangeable. A removal of the aperture from the optoelectronic Semiconductor device would to injury the optoelectronic semiconductor component and / or the diaphragm to lead. By way of example, the diaphragm is with the optoelectronic semiconductor component bonded. In this case, the aperture on a housing of the optoelectronic Be glued semiconductor device. But it is also possible that the aperture directly on the at least one Lumineszenzdiodenchip the optoelectronic semiconductor device is glued.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung ist der zumindest eine strahlungsundurchlässige Bereich der Blende reflektierend ausgebildet, derart, dass auf den zumindest einen strahlungsundurchlässigen Bereich treffende elektromagnetische Strahlung in das optoelektronische Halbleiterbauelement zurückreflektiert wird. Das heißt, vom optoelektronischen Halbleiterbauelement im Betrieb erzeugte elektromagnetische Strahlung trifft zum Teil auf den zumindest einen strahlungsundurchlässigen Bereich der Blende. Dieser ist zumindest für einen Teil dieser Strahlung reflektierend ausgebildet, sodass zumindest ein Teil dieser Strahlung in das optoelektronische Halbleiterbauelement zurückreflektiert wird.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device is the at least one radiopaque Area of the aperture formed reflective, such that on the at least one radiopaque region impinging electromagnetic Radiation reflected back into the optoelectronic semiconductor device becomes. This means, generated by the optoelectronic semiconductor device in operation Electromagnetic radiation is partly due to the at least one radiopaque Area of the aperture. This is at least part of this radiation formed reflective, so that at least a part of this radiation reflected back into the opto-electronic semiconductor device becomes.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung trifft zumindest ein Teil der zurückreflektierten Strahlung auf den zumindest einen Lumineszenzdiodenchip auf und wird dort Photonen-recycelt oder wiederum in Richtung der Blende zurückreflektiert. Das heißt, die auf den Lumineszenzdiodenchip zurückreflektierte elektromagnetische Strahlung kann von diesem reabsorbiert werden und zur erneuten Erzeugung von Strahlung genutzt werden. Ferner ist es möglich, dass der Lumineszenzdiodenchip reflektierende Flächen wie einen Spiegel oder eine teilweise reflektierende Außenfläche aufweist, sodass auf ihn treffende elektromagnetische Strahlung zurückgeworfen wird.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device meets at least a part the reflected back Radiation on the at least one Lumineszenzdiodenchip and is there photons-recycled or turn in the direction of the aperture reflected back. This means, the electromagnetic reflected back to the LED chip Radiation can be reabsorbed by this and for re-generation be used by radiation. Furthermore, it is possible for the luminescence diode chip reflective surfaces as having a mirror or a partially reflecting outer surface, so that the electromagnetic radiation striking him was thrown back becomes.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung trifft zumindest ein Teil der vom reflektierend ausgebildeten strahlungsundurchlässigen Bereich der Blende zurückreflektierten elektromagnetischen Strahlung auf einen Reflektor des optoelektronischen Halbleiterbauelements und wird von dort zur Blende hin zurückreflektiert. Das zumindest eine optoelektronische Halbleiterbauelement kann dabei beispielsweise ein Gehäuse mit reflektierenden Seitenwänden umfassen, in welches der zumindest eine Lumineszenzdiodenchip eingebracht ist. Diese reflektierenden Seitenwände bilden einen Reflektor, welcher auftreffende Strahlung zur Blende zurückreflektieren kann.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device meets at least a part the reflective trained radiopaque region the panel reflected back electromagnetic radiation on a reflector of the optoelectronic Semiconductor device and is reflected back from there to the aperture. The at least one optoelectronic semiconductor component can thereby for example, a housing with reflective sidewalls include, in which the at least one LED chip inserted is. These reflective side walls form a reflector, which can reflect incident radiation back to the aperture.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung umfasst die Blende einen Grundkörper, der aus einem strahlungsdurchlässigen Material besteht, wobei auf dem Grundkörper eine strukturierte strahlungsundurchlässige Schicht aufgebracht ist, welche den zumindest einen strahlungsundurchlässigen Bereich bildet. Beispielsweise kann eine strahlungsundurchlässige Schicht ganzflächig auf eine Seite eines scheibenartigen Grundkörpers aufgebracht werden und anschließend durch beispielsweise fotolithografische Methoden in strahlungsundurchlässige und strahlungsdurchlässige Bereiche strukturiert werden. Insbesondere ist es dabei möglich, dass der Grundkörper ein Glas oder einen transparenten Kunststoff enthält oder aus diesen Materialien besteht. Die strukturierte strahlungsundurchlässige Schicht kann dann ein Metall, insbesondere Aluminium, enthalten. Eine solche strahlungsundurchlässige Schicht zeichnet sich dadurch aus, dass sie beispielsweise mittels Aufdampfen sehr einfach hergestellt werden kann. Ferner weist eine metallische Schicht eine gute Reflektivität für elektromagnetische Strahlung im Wellenlängenbereich für sichtbares Licht auf.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device includes the aperture a Body, made of a radiolucent Material exists, wherein on the body a structured radiopaque layer is applied, which forms the at least one radiopaque region. For example, a radiopaque layer over the entire surface one side of a disk-like base body can be applied and subsequently for example, by photolithographic methods in radiopaque and radiation-transmissive areas be structured. In particular, it is possible that the main body a Contains glass or a transparent plastic or of these materials consists. The structured radiopaque layer may then be Metal, in particular aluminum, included. Such a radiopaque layer is characterized by the fact that, for example, by vapor deposition can be made very easily. Furthermore, a metallic layer a good reflectivity for electromagnetic Radiation in the wavelength range for visible Light up.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist an der Blende an ihrer dem optoelektronischen Halbleiterbauelement abgewandten Seite ein optisches Element, insbesondere eine asphärische Linse, angeordnet. Das heißt, vom optoelektronischen Halbleiterbauelement im Betrieb erzeugte elektromagnetische Strahlung tritt zunächst durch die Blende, welche das darzustellende Bild formt. Dieses Bild wird dann von dem optischen Element, welches der Blende in Abstrahlrichtung nachfolgt, auf eine Projektionsfläche projiziert. Das optische Element kann dabei auch geeignet sein, die Hauptabstrahlrichtung der Strahlung zu ändern, sodass beispielsweise eine Drehung der Hauptabstrahlrichtung um 90° stattfinden kann.At least an embodiment is at the aperture at its the optoelectronic semiconductor device opposite side an optical element, in particular an aspherical lens, arranged. This means, generated by the optoelectronic semiconductor device in operation Electromagnetic radiation first passes through the aperture, which forms the image to be displayed. This image is then taken from the optical Element which follows the aperture in the emission direction, on a projection projected. The optical element may also be suitable change the main radiation direction of the radiation, so for example a rotation of the main emission by 90 ° can take place.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist das optische Element dabei mit einem optischen Klebstoff direkt auf die Blende geklebt. Dies ermöglicht eine besonders einfache und kostengünstige Herstellung der optoelektronischen Projektionsvorrichtung.In accordance with at least one embodiment The optical element is glued with an optical adhesive directly to the panel. This allows a particularly simple and cost-effective production of the optoelectronic projection device.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der optoelektronischen Projektionsvorrichtung ist die Blende direkt auf eine Strahlungsaustrittsfläche des zumindest einen Lumineszenzdiodenchips aufgebracht. Das heißt, die Blende ist beispielsweise direkt auf die Strahlungsaustrittsfläche des Lumineszenzdiodenchips anodisch gebondet oder geklebt. Dies ermöglicht einen besonders Platz sparenden Aufbau der optoelektronischen Projektionsvorrichtung. Auf die Blende kann dann direkt ein optisches Element geklebt sein, sodass sich insgesamt für die optoelektronische Projektionsvorrichtung ein besonders flacher und damit Platz sparender Aufbau ergibt.At least an embodiment of the Optoelectronic projection device is the aperture directly on a radiation exit surface the at least one LED chip applied. That is, the Aperture is, for example, directly on the radiation exit surface of LED chips anodically bonded or glued. This allows one particularly space-saving construction of the optoelectronic projection device. An optical element can then be glued directly to the panel, so in total for the optoelectronic projection device a particularly flat and thus space-saving construction results.
Es wird darüber hinaus ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von optoelektronischen Projektionsvorrichtungen angegeben.It gets over it In addition, a method for producing a plurality of optoelectronic projection devices specified.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens wird zunächst eine Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen, die je zumindest einen Lumineszenzdiodenchip umfassen, bereitgestellt. In einem nachfolgenden Verfahrensschritt wird eine Scheibe mit einem Grundkörper aus strahlungsdurchlässigem Material auf die Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen aufgebracht. Vor dem Aufbringen oder nach dem Aufbringen der Scheibe wird zumindest ein strahlungsundurchlässiger Bereich pro optoelektronischem Halbleiterbauelement auf dem Grundkörper der Scheibe hergestellt. Beispielsweise kann der Grundkörper der Scheibe vor oder nach Aufbringen der Scheibe auf die Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen mit einem Metall beschichtet werden. Anschließend können auf der beschichteten Scheibe strahlungsdurchlässige Bereiche beispielsweise durch fotolithografische Verfahren erzeugt werden.At least an embodiment of the Procedure will be first a variety of optoelectronic semiconductor devices, the each comprise at least one luminescence diode chip provided. In a subsequent process step, a disc with a body made of radiolucent Material on the variety of optoelectronic semiconductor devices applied. Before applying or after applying the disc becomes at least one radiopaque region per optoelectronic semiconductor device on the body the disc produced. For example, the main body of the Disc before or after applying the disc to the plurality of Optoelectronic semiconductor devices are coated with a metal. Subsequently can on the coated disc radiation-transmissive areas, for example produced by photolithographic processes.
Der Vorteil eines Herstellens der strahlungsundurchlässigen und der strahlungsdurchlässigen Bereiche nach dem Aufbringen der Scheibe besteht darin, dass die Bereiche dann in einfacher Weise sehr genau zum zugehörigen optoelektronischen Halbleiterbauelement strukturiert werden können.Of the Advantage of making the radiopaque and radiopaque regions after applying the disc is that the areas then in a simple manner very closely to the associated optoelectronic semiconductor device can be structured.
In einem abschließenden Verfahrensschritt wird die Anordnung aus optoelektronischen Halbleiterbauelementen und Scheibe zur optoelektronischen Projektionsvorrichtungen mit je zumindest einem optoelektronischen Halbleiterbauelement vereinzelt.In a final one The method step is the arrangement of optoelectronic semiconductor components and disc for optoelectronic projection devices with each isolated at least one optoelectronic semiconductor device.
Die vereinzelte Scheibe mit den strahlungsundurchlässigen Bereichen bildet nach dem Vereinzeln der Anordnung dann die Blende der optoelektronischen Projektionsvorrichtung, welche zumindest einen strahlungsundurchlässigen Bereich sowie zumindest einen strahlungsdurchlässigen Bereich umfasst.The isolated disc with the radiopaque areas forms after the separation of the arrangement then the aperture of the optoelectronic Projection device, which at least one radiopaque region and at least one radiation-transmissive region.
Bei diesem Verfahren ist es möglich, dass die strahlungsundurchlässigen und die strahlungsdurchlässigen Bereiche für jedes der optoelektronischen Halbleiterbauelemente gleich gestaltet sind. Das heißt, es wird dann eine Vielzahl optoelektronischer Projektionsvorrichtungen erzeugt, welche alle das gleiche Bild gebende Element aufweisen und damit im Betrieb das gleiche Bild projizieren. Es ist jedoch auch möglich, dass die strahlungsundurchlässigen und die strahlungsdurchlässigen Bereiche pro optoelektronischem Halbleiterbauelement zueinander verschieden sind, sodass verschiedenartige optoelektronische Projektionsvorrichtungen mittels des Verfahrens erzeugt werden, welche jeweils voneinander verschiedene Bilder projizieren.at this method it is possible that the radiopaque and the radiation-transmissive Areas for each of the optoelectronic semiconductor devices designed the same are. This means, It then becomes a variety of optoelectronic projection devices generated, which all have the same image-giving element and thus project the same image during operation. However, it is also possible, that the radiopaque and the radiation-transmissive Areas per optoelectronic semiconductor device to each other different, so various optoelectronic projection devices be generated by the method, each of which project different images.
In Abwandlung des Verfahrens ist es auch möglich, dass auf jedes optoelektronische Halbleiterbauelement eine einzelne Blende aufgebracht wird. Das heißt, in diesem Fall wird keine Scheibe aufgebracht, welche anschließend zu den Blenden vereinzelt wird, sondern jedes optoelektronische Halbleiterbauelement wird von vornherein mit seiner eigenen Blende bestückt.In Variation of the method, it is also possible that on each optoelectronic Semiconductor component is applied a single aperture. The is called, in this case, no disc is applied, which then to the aperture is separated, but each optoelectronic semiconductor device is equipped from the outset with its own aperture.
Mittels der hier beschriebenen Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von optoelektronischen Projektionsvorrichtungen ist vorzugsweise eine der hier beschriebenen optoelektronischen Projektionsvorrichtungen herstellbar.through the method of manufacturing a variety described herein of optoelectronic projection devices is preferred one of the optoelectronic projection devices described here produced.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens wird die Scheibe auf eine Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen oder Lumineszenzdiodenchips aufgebracht, die im Verbund vorliegen.At least an embodiment of the The process is the disc on a variety of optoelectronic Semiconductor devices or LED chips applied, which exist in the network.
Die Lumineszenzdiodenchips können dabei beispielsweise im Waferverbund vorliegen. Das heißt, die Lumineszenzdiodenchips werden im Waferverbund epitaktisch gewachsen. Der so erzeugte Wafer mit einem Aufwachssubstrat oder einem Träger und den Lumineszenzdiodenchips wird mit der Scheibe verbunden. Durch das anschließende Vereinzeln werden optoelektronische Projektionsvorrichtungen mit Lumineszenzdiodenchips und Blenden erzeugt.The Luminescence diode chips can in this case, for example, in the wafer composite. That is, the Luminescence diode chips are grown epitaxially in the wafer composite. The wafer thus produced with a growth substrate or a carrier and the LED chip is connected to the disk. By the subsequent one Separate optoelectronic projection devices with Luminescence diode chips and diaphragms generated.
Darüber hinaus ist es auch möglich, dass die optoelektronischen Halbleiterbauelemente im Verbund vorliegen. Dazu können Lumineszenzdiodenchips auf einen gemeinsamen Träger aufgebracht sein. Bei dem Träger kann es sich beispielsweise um eine Leiterplatte handeln, auf der die Lumineszenzdiodenchips elektrisch angeschlossen sind. Die Leiterplatte kann beispielsweise einen Grundkörper aus Keramik oder Silizium umfassen, auf welchen Leiterbahnen aus elektrisch leitfähigem Material strukturiert sind.In addition, it is also possible for the optoelectronic semiconductor components to be present in a composite. For this purpose, luminescence diode chips can be applied to a common carrier. For example, the carrier may be act a circuit board on which the LED chips are electrically connected. The circuit board may comprise, for example, a base body made of ceramic or silicon, on which strip conductors of electrically conductive material are structured.
Ferner ist es möglich, dass die Vielzahl von Lumineszenzdiodenchips in so genannten QFN (Quad Flat No leads) – Gehäusen eingebracht ist. Vorzugsweise ist dann in jedem QFN-Gehäuse genau ein Lumineszenzdiodenchip eingebracht.Further Is it possible, that the plurality of LED chips in so-called QFN (Quad Flat No leads) - Housings introduced is. Preferably, then in each QFN housing exactly one Lumineszenzdiodenchip brought in.
Im Folgenden werden die hier beschriebenen optoelektronischen Projektionsvorrichtungen sowie die hier beschriebenen Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Projektionsvorrichtungen anhand von Ausführungsbeispielen und den dazugehörigen Figuren näher erläutert.in the The following are the optoelectronic projection devices described here as well as the methods described here for the production of optoelectronic Projection devices based on embodiments and the associated figures explained in more detail.
Die
Die
Die
Die
Die
Die
Die
In den Ausführungsbeispielen und Figuren sind gleiche oder gleich wirkende Bestandteile jeweils mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Die dargestellten Elemente sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.In the embodiments and figures are the same or equivalent components respectively provided with the same reference numerals. The illustrated elements are not to scale to look at, rather Exaggerated individual elements for better understanding be.
Die
Beispielsweise
handelt es sich bei dem optoelektronischen Halbleiterbauelement
Der
Grundkörper
Auf
das optoelektronische Halbleiterbauelement
Bei
der Blende
Im
Ausführungsbeispiel
der
In
Verbindung mit der
Die
Die
Im
Ausführungsbeispiel,
wie es in Verbindung mit der
In
Verbindung mit der
In
Verbindung mit der
In
Verbindung mit der
Die
In
Verbindung mit den
In
Verbindung mit der
In
Verbindung mit der
In
Verbindung mit der
In
Verbindung mit der
In
Verbindung mit den
Auf
die Grundkörper
wird eine Scheibe
Wie
durch die gestrichelten Linien in der
Die hier beschriebene Erfindung ist nicht durch die Beschreibungen anhand der Ausführungsbeispiele und den Figuren beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Merkmalskombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The The invention described herein is not by the descriptions the embodiments and limited to the figures. Rather, the invention encompasses every new feature as well as every combination of features, in particular any combination of features in Claims includes even if this feature or this combination of features is not itself explicitly in the claims or embodiments is specified.
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DE200810015550 DE102008015550A1 (en) | 2008-03-25 | 2008-03-25 | Optoelectronic protection device for projecting letters or pictograms on projection surface, comprises optoelectronic semiconductor component, which comprises luminescence diode chip |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2375388A3 (en) * | 2010-04-09 | 2012-10-31 | Zumtobel Lighting GmbH | Emergency lighting assembly |
FR2989521A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-18 | Waitrony Optoelectronics Ltd | LED integrated image projection apparatus, has transparent epoxy layer encapsulating body entirely and provided with convex form adapted to connect light emitted by LED and image formed by pattern layer, optically in order to project image |
DE102013207111A1 (en) * | 2013-04-19 | 2014-11-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic component |
US9444022B2 (en) | 2011-05-18 | 2016-09-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic semiconductor chip, optoelectronic semiconductor component, and a method for producing an optoelectronic semiconductor component |
WO2016189149A1 (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic arrangement and depth measuring system |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4019196A (en) * | 1974-11-22 | 1977-04-19 | Stanley Electric Co., Ltd. | Indicating element and method of manufacturing same |
DE2722291A1 (en) * | 1976-05-17 | 1977-11-24 | Int Vibration Engineer | LIGHT DISPLAY BOARD |
GB2265998A (en) * | 1992-04-07 | 1993-10-13 | Smiths Industries Plc | Solid state display |
DE19738972A1 (en) * | 1997-08-11 | 1999-02-18 | Man Technologie Gmbh | Display arrangement for displaying information and its use |
WO2002007131A1 (en) * | 2000-07-18 | 2002-01-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Passive radiation optical system module especially for use with light-emitting diodes |
US6987613B2 (en) * | 2001-03-30 | 2006-01-17 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Forming an optical element on the surface of a light emitting device for improved light extraction |
-
2008
- 2008-03-25 DE DE200810015550 patent/DE102008015550A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4019196A (en) * | 1974-11-22 | 1977-04-19 | Stanley Electric Co., Ltd. | Indicating element and method of manufacturing same |
DE2722291A1 (en) * | 1976-05-17 | 1977-11-24 | Int Vibration Engineer | LIGHT DISPLAY BOARD |
GB2265998A (en) * | 1992-04-07 | 1993-10-13 | Smiths Industries Plc | Solid state display |
DE19738972A1 (en) * | 1997-08-11 | 1999-02-18 | Man Technologie Gmbh | Display arrangement for displaying information and its use |
WO2002007131A1 (en) * | 2000-07-18 | 2002-01-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Passive radiation optical system module especially for use with light-emitting diodes |
US6987613B2 (en) * | 2001-03-30 | 2006-01-17 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Forming an optical element on the surface of a light emitting device for improved light extraction |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2375388A3 (en) * | 2010-04-09 | 2012-10-31 | Zumtobel Lighting GmbH | Emergency lighting assembly |
US9444022B2 (en) | 2011-05-18 | 2016-09-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic semiconductor chip, optoelectronic semiconductor component, and a method for producing an optoelectronic semiconductor component |
US9882097B2 (en) | 2011-05-18 | 2018-01-30 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic semiconductor chip, optoelectronic semiconductor component, and a method for producing an optoelectronic semiconductor component |
FR2989521A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-18 | Waitrony Optoelectronics Ltd | LED integrated image projection apparatus, has transparent epoxy layer encapsulating body entirely and provided with convex form adapted to connect light emitted by LED and image formed by pattern layer, optically in order to project image |
DE102013207111A1 (en) * | 2013-04-19 | 2014-11-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic component |
US9780273B2 (en) | 2013-04-19 | 2017-10-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic component |
DE102013207111B4 (en) * | 2013-04-19 | 2021-07-01 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelectronic component |
WO2016189149A1 (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic arrangement and depth measuring system |
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