DE19817799A1 - Festkörper-Laserbauelement - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft einen Festkörperlaser und insbe
sondere einen durch einen Halbleiterlaser gepumpten Festkör
perlaser.
In den letzten Jahren wurden aktive Forschungs- und Ent
wicklungsarbeiten auf dem Gebiet von Festkörperlasern mit
Halbleiterlaseranregung durchgeführt, wobei man in Elektronik
und Maschinenbau von der Lampenanregung zur Halbleiterlaser
anregung bei solchen Lasern wie Festkörperlasern mit niedri
ger Ausgabe(leistung) übergeht.
Für die am weitesten verbreiteten Laserart, den Nd-YAG-
Laser (Neodym-YAG; Wellenlänge: 1,06 Mikrometer), wurde ein
sehr zuverlässiger, durch einen Halbleiterlaser angeregter
Festkörperlaser entwickelt, der auf hoher Kristallqualität
und Technologieakkumulation beruht.
Bei Anregung eines Nd-YAG-Kristalls mit einem Halblei
terlaser beträgt jedoch bei einer Anregungswellenlänge von
808 nm die Laserwellenlänge 1064 nm, so daß die Quantenaus
beute, bei der es sich um das Photonenenergieverhältnis han
delt, 76% beträgt.
Von sich aus kann der optische optische Laserumwand
lungswirkungsgrad diesen Wert nicht übersteigen. Dazu kommt,
daß sich die Umwandlung von 30% der Anregungsleistung in
Wärme (Wärmeerzeugungsverhältnis) nicht vermeiden läßt.
Aus diesem Grund bewirkt bei Hochleistungsanregung die
im Nd-YAG-Kristall erzeugte Wärme einen Temperaturanstieg,
was Verzerrung im Kristall verursacht.
Bei übermäßiger Anregung übersteigt die Wärmebeanspru
chung die mechanische Festigkeit des Kristalls, was zu seiner
Zerstörung führt. Außerdem bewirkt der Temperaturanstieg im
Kristall die Bildung einer Wärmelinse und thermische Doppel
brechung im Kristall, was die Laserkennwerte (Wirkungsgrad
und Strahlqualität) beeinträchtigt.
Im allgemein treten bei einem Laser mit hoher Ausgabe,
dessen Ausgabe 100 W oder mehr beträgt, diese thermisch ver
ursachten Erscheinungen ausgeprägt auf, und solche Kennwerte
wie Laserwirkungsgrad und Strahlqualität sind wesentlich
schlechter als die eines Lasers mit niedriger Ausgabe.
In letzter Zeit richteten sich aktive Forschungs- und
Entwicklungsarbeiten auf Festkörperlaser mit einer Wellen
länge im 1-Mikrometer-Band, die andere aktive Ionen als Neo
dymionen verwenden.
Bei diesen erzielt man die vorgenannten Quantenausbeute
durch Anregung eines Yb-(Ytterbium)-Festkörperlasers und spe
ziell eines Yb-YAG-Lasers mit einem Halbleiterlaser mit einer
Wellenlänge von 940 oder 970 nm, der Licht mit 1030 nm emit
tiert, wodurch die Quantenausbeute des Yb-YAG-Lasers 90%
übersteigt.
Aus diesem Grund ist der intrinsische Wirkungsgrad hoch.
Da außerdem das Wärmeerzeugungsverhältnis etwa 10% beträgt,
kann eine einfache Skalierung auf eine hohe Ausgabe bis auf
das Dreifache der eines Nd-YAG-Lasers erfolgen.
Zu anderen überlegenen Merkmalen von Ytterbium gehören
breite Absorptionsspektrallinien (etwa das 2,5 bis 10fache
der von Nd-YAG; insbesondere 18 nm bei 940 nm und 4 nm bei
970 nm), ein großer Absorptionsquerschnitt und keine Aufwär
tsumwandlung oder Anregungsniveauabsorption.
Da aber das untere Laserniveau ein Stark-Niveau im
Grundzustandsmultiplett (Quasi-Dreiniveausystem) ist, befin
den sich bis zu 5% aller Ytterbiumionen im unteren Laserni
veau bei Raumtemperatur in einem thermisch angeregten Zu
stand.
Deshalb ist es schwierig, die zur Laserschwingung erfor
derliche Besetzungsinversion zu erreichen, und da außerdem
die Besetzungszahl im unteren Laserniveau temperaturabhängig
ist, sind der Schwellwert für die Laserschwingung und die
Ausgabekennwerte ebenfalls temperaturabhängig.
In der Vergangenheit wurde zum Erreichen eines hohen
Wirkungsgrads und einer hohen Ausgabe durch Verringern der
Besetzungszahl in unteren Niveaus der Kristall abgekühlt.
Beispielsweise wird in "Optics Letters", Band 16, Seite
1089 (1991) über einen Yb-YAG-Laser berichtet, der mit 941 nm
angeregt und bei zwei Arbeitspunkten betrieben wird, bei de
nen der Kristall Raumtemperatur (27°C) bzw. die Temperatur
von flüssigem Stickstoff (-196°C) hat.
In "Applied Physics B", Band 58, Seite 365 (1994) findet
sich ein Bericht über einen mit 940 nm und 970 nm angeregten
Yb-YAG-Laser, bei dem die Kristalltemperatur von -193°C bis
+27°C mit einem Kryostat unter Nutzung von Flüssigstickstoff
variiert wird.
In diesen beiden Berichten wurde ein kontinuierlich
schwingender Titan-Saphir-Laser als Anregungslichtquelle ver
wendet.
In "Optics Letters", Band 21, Seite 480 (1996) wird über
einen mit 940 nm durch einen Halbleiterlaser angeregten Yb-
YAG-Laser berichtet, bei dem der Kristall durch ein Peltier
element auf einer Temperatur von 15°C gehalten wird.
Außerdem berichtet "Trends in Optics and Photonics",
Band 1, Seite 12 über einen Yb-YAG-Laser, der mit 940 nm
durch einen Halbleiterlaser angeregt und bei dem der Kristall
auf -70°C abgekühlt wird.
Die Laserkennwerte bei einem durch einen Halbleiterlaser
gepumpten Yb-YAG-Laser, der für industrielle Anwendungen äu
ßerst attraktiv ist, unterscheiden sich völlig vom zuvor be
schriebenen Fall eines Titan-Saphir-angeregten Yb-YAG-Lasers.
Ein völlig unterschiedlicher Aspekt besteht darin, daß
"eine Änderung des Absorptionswirkungsgrads bezüglich der An
regungsleistung des Halbleiterlasers durch eine Änderung des
Absorptionsspektrums des Kristalls verursacht ist, die mit
einer Änderung der Kristalltemperatur einhergeht".
Bei Abkühlung verengt sich die Absorptionslinienbreite,
was den Absorptionsspitzenwert verringert.
Daher ist bei einem durch einen Halbleiterlaser angereg
ten Yb-YAG-Laser die Emissionsspektralbreite des Halbleiter
lasers etwa die gleiche wie die Absorptionsspektralbreite des
Kristalls, so daß die Spektrumüberlappung sinkt, was eine
starke Änderung des Absorptionswirkungsgrads verursacht.
Das Emissionsspektrum des kontinuierlich schwingenden
Titan-Saphir-Lasers ist kleiner als 0,1 nm, so daß durch eine
Änderung der Absorptionslinienbreite der Absorptionswirkungs
grad nicht beeinflußt wird.
Bisher wurde bei einem Yb-YAG-Laser, der durch einen
Halbleiterlaser angeregt wird, der nahe Raumtemperatur oder
bei etwa -70°C arbeitet, die Besetzung der unteren Niveaus
nicht ausreichend reduziert, was zu den Problemen führte, daß
"die Optimalausgabe nicht erhalten werden kann" und "ein ge
ringer Umwandlungswirkungsgrad im optischen Bereich" vor
liegt.
Obwohl bei übermäßiger Abkühlung des Kristalls auf den
Bereich von -200°C die Besetzung der unteren Niveaus ausrei
chend reduziert wird, sinkt jedoch der Absorptionseffekt der
Anregungsleistung bei einem durch einen Halbleiterlaser ange
regten Yb-YAG-Laser, was zu den Problemen einer verringerten
Ausgabe und eines geringeren Wirkungsgrads führt.
Außerdem erfordert eine Abkühlung auf eine solche tiefe
Temperatur wie -200°C einen Kryostat, der ein Medium wie
Flüssigstickstoff verwendet. Zum kontinuierlichen Laserbe
trieb muß daher ein Kühlmittel von außen zugeführt werden,
was die Verwendung an Ort und Stelle in der Produktion er
schwert, da hierfür ein äußerst kompliziertes Steuersystem
zum Einsatz kommt und die Herstellungskosten hoch sind.
Zusätzlich zeigen sich die vorgenannten Probleme gemein
sam bei Quasi-Dreiniveaulasern.
Daher besteht eine Aufgabe der Erfindung darin, diese
Nachteile der herkömmlichen Technologien zu beheben und ein
Festkörper-Laserbauelement mit einem vereinfachten Lasersy
stem bereitzustellen, das eine lange Lebensdauer haben kann
und die laufenden Kosten des Lasers senkt.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen der Ansprüche ge
löst.
Durch Steuern der Betriebstemperatur des Laserkristalls
auf eine geeignete Temperatur läßt sich in der Erfindung so
wohl ein großer optischer Umwandlungswirkungsgrad des durch
einen Halbleiterlaser angeregten Quasi-Dreiniveau-Festkörper
lasers als auch eine hohe Ausgabe erreichen, was eine verrin
gerte Leistungsausgabe des Halbleiterlasers und eine hohe
Ausgabe des Quasi-Dreiniveau-Festkörperlasers ermöglicht.
Da außerdem nicht übermäßig gekühlt werden muß, ist kein
Kühlmittel, z. B. Flüssigstickstoff, notwendig.
Durch Einsatz eines im geschlossenen Kreislauf arbeiten
den Kühlers, der Frostschutzmittel als Kühlmittel verwendet,
oder einer Kühlvorrichtung unter Ausnutzung von adiabatischer
Ausdehnung kann ein Laser lediglich mit einer elektrischen
Eingabe betrieben werden. Daher läßt er sich als Festkörper-
Laserbauelement für Industrieanwendungen einsetzen.
Im folgenden wird der Fall eines Yb-YAG-Quasi-Dreini
veaulasers beschrieben, wobei auf die jeweiligen Zeichnungen
und Gleichungen Bezug genommen wird.
Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 2 ist eine den Stand der Technik veranschaulichende
Ansicht.
Fig. 3 zeigt die Temperaturabhängigkeit der Ausgabe und
des Wirkungsgrads eines Quasi-Dreiniveaulasers der Erfindung.
Fig. 4 zeigt die Temperaturabhängigkeit des Besetzungs
verhältnisses des unteren Niveaus bei einem Quasi-Dreini
veaulaser der Erfindung.
Fig. 5 zeigt die Temperaturabhängigkeit der Schwingungs
schwelle bei einem Quasi-Dreiniveaulaser der Erfindung.
Fig. 6 zeigt die Temperaturabhängigkeit des Absorptions
wirkungsgrads bei einem Quasi-Dreiniveaulaser der Erfindung.
Fig. 2 zeigt eine Ausführungsform im Stand der Technik.
In einem herkömmlichen System erhält man einen Festkörperla
ser durch einen V-förmigen Resonator, der mit einem rücksei
tigen Spiegel 10 und einem Ausgabespiegel 9 mit einem Yb-YAG-
Kristall 1 am Scheitel gebildet ist, und der durch Licht an
geregt wird, wobei ein Halbleiterlaserstrahl 14 von einem
Halbleiterlaser 13 durch eine Kollimatorlinse 12 und eine
Lichtsammellinse 8 emittiert wird.
Während diese Zeichnung den Fall eines "aktiven Spie
gels" zeigt, bei dem ein dünner scheibenförmiger Yb-YAG-Kri
stall 1 mit einem Kühlkörper 5 verbunden ist, kann die im
folgenden beschriebene Erfindung von sich aus die gleiche
Wirkung unabhängig von der Konfiguration hervorbringen (z. B.
mit Kantenanregung oder Seitenanregung).
Bisher kam zum Kühlen eines Ytterbiumkristalls 1 auf ei
ne niedrige Temperatur ein Kryostat, z. B. gemäß Fig. 2, un
ter Verwendung von Flüssigstickstoff zum Einsatz. Um in die
sem Fall den Laser kontinuierlich zu betreiben, muß als Kühl
mittel wirkender Flüssigstickstoff von außen intermittierend
(periodisch) zugeführt werden, was den Einsatz in Industrie
anwendungen erschwert.
Dagegen wird mit der Erfindung durch Anordnen des Kri
stalls in einem vakuumabgedichteten (oder mit Trockenstick
stoff abgedichteten) Gehäuse gemäß Fig. 1 der Kryostat besei
tigt, so daß durch Abkühlen auf den Bereich von etwa -100°C,
was allein durch elektrische Eingabe möglich ist, eine hohe
Ausgabe und ein hoher Wirkungsgrad des Lasers selbst erreicht
werden können; und da kein Kühlmittel notwendig ist, erleich
tert sich der Einsatz in Industrieanwendungen.
Durch Verwendung einer im geschlossenen Kreislauf arbei
tenden Kühlvorrichtung oder eines Stirling-Kühlers, der durch
adiabatische Ausdehnung kühlt, kann eine Abkühlung auf den
Bereich von -100°C mit lediglich einer elektrischen Eingabe
erfolgen.
Im folgenden wird der Grundaufbau des Festkörper-Laser
bauelements der Erfindung anhand von Fig. 1 beschrieben.
Gemäß Fig. 1 weist das Festkörper-Laserbauelement der
Erfindung einen V-förmigen Resonator auf, der mit einem rück
seitigen Spiegel 10 und einem Ausgabespiegel 9 mit einem Yb-
YAG-Kristall 1 am Scheitel gebildet ist, und der durch Licht
angeregt wird, wobei ein Halbleiterlaserstrahl 14 von einem
Halbleiterlaser 13 durch eine Kollimatorlinse 12 und eine
Lichtfokussierungslinse 8 emittiert wird.
Hierbei wird ein Ausgabelaserstrahl 18 vom Ausgabespie
gel 9 ausgegeben, und der Ausgabewert des Laserstrahls 18 ist
in Abhängigkeit von einem Schwingungsschwellwert eingestellt,
der durch einen vorbestimmten Reflexionsgrad des Resonator
spiegels 9 gemäß Fig. 5 bestimmt ist.
In der Erfindung ist gemäß Fig. 1 der Quasi-Dreiniveau-
Festkörperlaser 1 mit einem Kristallhalter 7, der innerhalb
eines in einem Vakuumzustand im Inneren gehaltenen Gehäuses
17 vorgesehen ist, und einer Kühlvorrichtung 5 in Berührung
gebracht, die durch eine geeignete Temperatursteuervorrich
tung 2 gesteuert sein kann, die den Quasi-Dreiniveau-Festkör
perlaser 1 nur mit einem elektrischen Signal, das ihr über
Leitungen 16 zugeführt wird, die die Temperatursteuervorrich
tung 2 und die Kühlvorrichtung 5 verbinden, auf eine Tempera
tur von etwa -100 ± 20°C abkühlen kann.
In der Erfindung kann die Kühlvorrichtung 5 bei Bedarf
mit einem geeigneten Wärmetauscher 6 verbunden sein, und fer
ner kann der Halbleiterlaserstrahl 14 auf eine Oberfläche des
Quasi-Dreiniveau-Festkörperlasers 1 durch ein geeignetes Fen
ster 11 abgestrahlt werden, das auf einer Vorderfläche des
Festkörper-Laserbauelements vorgesehen ist.
Ferner ist das Festkörper-Laserbauelement in der Erfin
dung mit einem Temperatursensor zum Erfassen der Temperatur
des Quasi-Dreiniveau-Festkörperlasers 1 versehen, wobei die
durch den Sensor detektierten Temperaturinformationen zur
Temperatursteuervorrichtung 2 über geeignete Signalleitungen
4 zu übertragen sind.
Wie zuvor erläutert wurde, weist das Festkörper-Laser
bauelement der Erfindung grundsätzlich einen Quasi-Dreini
veau-Festkörperlaser auf, der durch Lichtenergie angeregt
wird und einen Festkörper-Laserkristall hat, wobei das Bau
element ferner eine temperatursteuernde Kühlvorrichtung auf
weist, die eine Kristalltemperatur des Festkörper-Laserkri
stalls auf etwa -100 ± 20°C hält.
In der Erfindung kann das Festkörper-Laserbauelement mit
der temperatursteuernden Kühlvorrichtung versehen sein, die
sich lediglich durch elektrischen Strom betreiben läßt.
Ferner kann in der Erfindung der Quasi-Dreiniveau-Fest
körperlaser in der Verwendung für das Festkörper-Laserbauele
ment durch einen Halbleiterlaser angeregt sein.
In der Erfindung weist der Festkörper-Laserkristall des
Quasi-Dreiniveau-Festkörperlasers vorzugsweise Ytterbium (Yb)
als aktives Ion auf.
Genauer erläutert hat der in der Erfindung verwendete
Quasi-Dreiniveau-Festkörperlaser vorzugsweise einen Yb-YAG-
Kristall mit Ytterbium als aktives Ion und YAG (Yttrium-Alu
minium-Granat) als Grundmaterial oder einen Yb-YAG-Kristall
mit Ytterbium als aktives Ion und LuAG (Lutetium-Aluminium-
Granat) als Grundmaterial.
Außerdem läßt sich in der Erfindung der Festkörper-La
serkristall des Quasi-Dreiniveau-Festkörperlasers vorzugswei
se durch einen Halbleiterlaser mit hoher Ausgabe und einem
Band von etwa 940 nm oder 970 nm als Anregungslichtleistung
anregen.
In der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung kann
das Festkörper-Laserbauelement einen durch Lichtenergie ange
regten Quasi-Dreiniveau-Festkörperlaserkristall aufweisen,
wobei das Bauelement ferner eine temperatursteuernde Kühlvor
richtung aufweist, die den Festkörper-Laserkristall bei einer
Temperatur von etwa -100 ± 20°C betreibt.
Zudem weist der Festkörper-Laserkristall einen Kristall
auf, der ausgewählt ist aus einem Quasi-Dreiniveau-Festkör
perlaser mit einem Yb-YAG-Kristall mit Ytterbium als aktives
Ion und YAG (Yttrium-Aluminium-Granat) als Grundmaterial und
einem Quasi-Dreiniveau-Festkörperlaser mit einem Yb-YAG-
Kristall mit Ytterbium als aktives Ion und LuAG (Lutetium-
Aluminium-Granat) als Grundmaterial, und der Quasi-Dreini
veau-Festkörperlaser kann vorzugsweise durch einen Halblei
terlaser mit hoher Ausgabe und einem Band von etwa 940 nm
oder 970 nm als Anregungslichtleistung angeregt sein.
Als nächstes werden die optimalen Temperaturbedingungen
aus Sicht der Temperaturabhängigkeit des Laserbetriebs be
schrieben.
Allgemein lassen sich die Ausgabekennwerte eines Quasi-
Dreiniveaulasers durch die folgenden Gleichungen (1) und (2)
beschreiben.
Hierin sind ηabs(T) der temperaturabhängige Absorpti
onswirkungsgrad, ηB der Modenanpassungswirkungsgrad, ηS der
Stokessche Faktor (d. h. Anregungswellenlänge/Laserwellen
länge), ηC der Ausgabekoppelwirkungsgrad, Pinc die auf den
Kristall treffende Anregungsleistung, Pth(T) der Wert der
temperaturabhängigen Schwingungsschwellenleistung (die auf
den Kristall trifft), Pout(T) die temperaturabhängige Ausga
beleistung, T die Kristalltemperatur, Aeff die effektive Mo
denquerschnittfläche, IS die Sättigungsintensität, σem der
Wirkungsquerschnitt für stimulierte Emission, N0 die Dotier
konzentration des aktivierten Elements, d die Kristallänge,
fa(T) das Besetzungsverhältnis in unteren Niveaus und δ der
Resonatorverlust.
Obwohl bei einem Vierniveaulaser, z. B. einem unter Ver
wendung von Nd-YAG, der Absorptionswirkungsgrad Temperaturab
hängigkeit zeigt, ist die Temperaturabhängigkeit des Schwin
gungsschwellwerts nicht so ausgeprägt wie bei einem Quasi-
Dreiniveaulaser.
Zunächst wird der Effekt einer Ausgabeerhöhung aufgrund
der Verringerung des Besetzungsverhältnisses unterer Niveaus
beschrieben.
Das Besetzungsverhältnis der unteren Niveaus fa(T) ist
proportional zur Gesamtheit der Ytterbiumionen, die dem auf
einem unteren Laserniveau befindlichen Kristall zugegeben
sind.
Je größer dieser Wert ist, um so größer ist die Beset
zung im unteren Niveau und um so schwieriger ist es daher,
die zur Laserschwingung notwendige Besetzungsinversion zu er
reichen.
In einem Quasi-Dreiniveau-Yb-YAG-Laser berechnet sich
die Temperaturabhängigkeit des Besetzungsverhältnisses in un
teren Laserniveaus nach Gleichung (3) (siehe "IEEE Journal of
Quantum Electronics", Band 33, Seite 605, 1987).
Hierin sind gi die Entartungszahl im Multiplett, ga die
Entartungszahl in unteren Laserniveaus, Ei die Stark-Ener
gieniveaus im Multiplett und Ea die Energie in unteren La
serniveaus.
Bei der Berechnung unter Verwendung detaillierter Daten
für die Stark-Energieniveaus der Ytterbiumionen entspricht
das Ergebnis Fig. 4.
Bei Raumtemperatur sind 5% der Ytterbiumionen im unte
ren Laserniveau mit Ea = 613 cm-1 verteilt.
Fig. 5 zeigt die Intensität des Schwingungsschwellwerts
Pth(T)/Aeff in der Berechnung anhand dieser Werte für das
Besetzungsverhältnis im unteren Niveau. Die Ergebnisse tat
sächlicher Experimente fallen mit diesen Kurven sehr gut zu
sammen.
Durch Abkühlung wird das durch Gleichung (3) berechnete
Besetzungsverhältnis im unteren Niveau gesenkt, und aus Glei
chung (2) wird deutlich, daß der Schwingungsschwellwert zu
nehmend kleiner wird. In dem Fall, in dem die auf den Kri
stall treffende Anregungsleistung Pinc und der Absorptions
wirkungsgrad ηabs(T) als konstant betrachtet werden können,
steigt die Ausgabeleistung Pout(T) mit der Abkühlung. Bei
Temperaturen unterhalb des Bereichs von -100°C ist dieser
Effekt nicht ausgeprägt.
Neben dem vorgenannten Effekt tritt bei Abkühlung ein
weiterer gesonderter Effekt auf. Bei Abkühlung zeigt sich
allgemein eine allmähliche Verengung der Absorptionslinien
breite des Kristalls.
Normalerweise kommt es zur Schrumpfung auf etwa die
Emissionsspektrum-Linienbreite eines Halbleiterlasers mit ho
her Ausgabe oder auf noch kleinere Werte.
Aufgrund dieses Effekts entspricht die Temperaturabhän
gigkeit des Absorptionswirkungsgrads ηabs(T), die durch die
Überlappung des Halbleiterlaser-Emissionsspektrums mit dem
Kristallabsorptionsspektrum zustande kommt, Fig. 6 (worin die
Ergebnisse eines Experiments mit dem Anregungsfall mit 970 nm
gezeigt sind), so daß das Absorptionsverhältnis bis in den
Bereich von -100°C zwar etwa 90% seines Werts bei Raumtem
peratur hat, aber bei tieferen Temperaturen das Absorptions
verhältnis auf nur etwa 30% des Raumtemperaturwerts fällt.
Deshalb kommt es gemäß Gleichung (1) unter realen Bedin
gungen, unter denen die Anregungsleistung Pinc begrenzt ist,
durch Temperatursenkung zu einer Verringerung der vom Kri
stall absorbierten Leistung, wodurch die Ausgabeleistung
Pout(T) (für einen bestimmten konstanten Schwellwert Pth(T))
fällt.
Aus der Kombination der beiden zuvor beschriebenen Ef
fekte ergibt sich folgendes.
Die durch Abkühlung erreichte Besetzungsverringerung im
unteren Niveau hat eine große Auswirkung auf die Ausgabeerhö
hung beginnend im Bereich von etwa der Raumtemperatur.
Bei Abkühlung von der Raumtemperatur auf etwa -100°C
kann der Schwellwert auf etwa 1/4 gesenkt werden (von 4 kW/cm2
auf 1 kW/cm2).
Da kein ausgeprägter Effekt einer Verringerung des Ab
sorptionswirkungsgrads bis in den Bereich von -100°C vor
liegt, zeigt für eine konstante Anregungsleistung die Laser
ausgabeleistung die im folgenden dargestellte Abhängigkeit
von der Laserkristalltemperatur.
Von nahe Raumtemperatur bis -100°C kann der Absorpti
onswirkungsgrad als nahezu konstant behandelt werden, und die
Ausgabe erhöht sich aufgrund einer Besetzungsverringerung im
unteren Niveau.
Auch bei Temperaturen unter -100°C lassen sich die Be
setzung im unteren Niveau und der Schwellwert hinreichend
verringern.
Aufgrund der Verringerung des Absorptionsverhältnisses
ηabs(T) sinkt jedoch die wirksame Anregungsleistung ηabs(T)
Pinc, was bewirkt, das die Ausgabe zunehmend sinkt (siehe
Fig. 3).
Aus den zuvor beschriebenen Erscheinungen geht hervor,
daß es einen optimalen Temperaturbereich für die Abkühlung
eines Yb-YAG-Laserkristalls gibt.
Durch Abkühlung auf -100°C läßt sich eine mehr als etwa
dreifache Wirkungsgradzunahme und eine etwa dreifache Steige
rung der Ausgabeleistung verglichen mit diesen Werten bei
Raumtemperatur erreichen.
Zusätzlich läßt sich durch Steuerung der Kristalltempe
ratur auf -100 ± 20°C die Ausgabeverringerung auf etwa 10
bis 20% der maximalen Ausgabe reduzieren.
Bei einem durch einen Halbleiterlaser im 970-nm-Band an
geregten Yb-YAG-Laser konnte für eine 600-mW-Ausgabe im Raum
temperaturbereich (6% Wirkungsgrad) im Bereich von -100°C
eine Ausgabe von 2,1 W erreicht werden (22% Wirkungsgrad).
Bei weiterer Abkühlung verringerte sich die Ausgabe auf 1 W
(10% Wirkungsgrad) im Bereich von -200°C.
Im Prinzip würde die gleiche vorbeschriebene Art von
Phänomenen auch bei Yb-YAG-Lasern mit höherer Ausgabe auftre
ten.
Außerdem sind diese Erscheinungen auch anderen Quasi-
Dreiniveaulasern eigen. Beispielsweise zeigt ein Yb-LuAG-
Laser, der ebenfalls Ytterbium als aktives Ion verwendet, die
gleiche Art von Temperaturabhängigkeit.
Erfindungsgemäß lassen sich durch Abkühlung des Festkör
per-Laserkristalls auf etwa -100°C als optimale Betriebstem
peratur, die durch den Effekt einer Laserausgabesteigerung
als Folge einer Entleerung der unteren Zustände und den Ef
fekt der Verengung der Absorptionslinienbreite mit dem Ergeb
nis einer Senkung des Absorptionswirkungsgrads festgelegt
wurde, der optische Umwandlungswirkungsgrad und die Ausgabe
des Lasers maximieren, wodurch außerdem der Laser mit gerin
gem Stromverbrauch betrieben werden kann.
Hierbei wird keine weitere Kühlung benötigt, weshalb ein
Kühlmittel, z. B. Flüssigstickstoff, für den Laser entfallen
kann, was den Laser vereinfacht, eine lange Betriebsdauer des
Lasers ermöglicht und die laufenden Kosten des Lasers senkt.
Claims (10)
1. Festkörper-Laserbauelement mit einem Quasi-Dreiniveau-
Festkörperlaser, der durch Lichtenergie angeregt wird
und einen Festkörper-Laserkristall hat, wobei das Bau
element ferner eine temperatursteuernde Kühlvorrichtung
aufweist, die eine Kristalltemperatur des Festkörper-
Laserkristalls von etwa -100 ± 20°C beibehält.
2. Bauelement nach Anspruch 1, wobei die temperatursteuern
de Kühlvorrichtung durch elektrischen Strom betrieben
wird.
3. Bauelement nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Quasi-Drei
niveau-Festkörperlaser durch einen Halbleiterlaser ange
regt wird.
4. Bauelement nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei der Festkör
per-Laserkristall des Quasi-Dreiniveau-Festkörperlasers
Ytterbium (Yb) als aktives Ion aufweist.
5. Bauelement nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, wobei der Fest
körper-Laserkristall des Quasi-Dreiniveau-Festkörperla
sers einen Yb-YAG-Kristall mit Ytterbium als aktives Ion
und YAG (Yttrium-Aluminium-Granat) als Grundmaterial
aufweist.
6. Bauelement nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, wobei der Fest
körper-Laserkristall des Quasi-Dreiniveau-Festkörperla
sers einen Yb-YAG-Kristall mit Ytterbium als aktives Ion
und LuAG (Lutetium-Aluminium-Granat) als Grundmaterial
aufweist.
7. Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der
Festkörper-Laserkristall des QuaSi-Dreiniveau-Festkör
perlasers durch einen Halbleiterlaser mit hoher Ausgabe
und einem Band von etwa 940 nm oder 970 nm als Anre
gungslichtleistung angeregt wird.
8. Festkörper-Laserbauelement mit einem durch Lichtenergie
angeregten Quasi-Dreiniveau-Festkörperlaserkristall, wobei das
Bauelement ferner eine temperatursteuernde Kühlvorrich
tung aufweist, die den Festkörper-Laserkristall bei ei
ner Temperatur von etwa -100 ± 20°C betreibt.
9. Bauelement nach Anspruch 8, wobei der Festkörper-Laser
kristall einen Kristall aufweist, der ausgewählt ist aus
einem Quasi-Dreiniveau-Festkörperlaser mit einem Yb-YAG-
Kristall mit Ytterbium als aktives Ion und YAG (Yttrium-
Aluminium-Granat) als Grundmaterial und einem Quasi-
Dreiniveau-Festkörperlaser mit einem Yb-YAG-Kristall mit
Ytterbium als aktives Ion und LuAG (Lutetium-Aluminium-
Granat) als Grundmaterial.
10. Festkörper-Laserbauelement nach Anspruch 8 oder 9, wobei
der Festkörper-Laserkristall des Quasi-Dreiniveau-Fest
körperlasers durch einen Halbleiterlaser mit hoher Aus
gabe und einem Band von etwa 940 nm oder 970 nm als An
regungslichtleistung angeregt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9103307A JP3067686B2 (ja) | 1997-04-21 | 1997-04-21 | 固体レーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19817799A1 true DE19817799A1 (de) | 1998-10-22 |
Family
ID=14350574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19817799A Ceased DE19817799A1 (de) | 1997-04-21 | 1998-04-21 | Festkörper-Laserbauelement |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5982792A (de) |
JP (1) | JP3067686B2 (de) |
DE (1) | DE19817799A1 (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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8131 | Rejection |