DE2122263C2 - Verfahren zur Herstellung eines primären Glänzers für saure galvanische Verzinnungsbäder und dessen Verwendung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines primären Glänzers für saure galvanische Verzinnungsbäder und dessen VerwendungInfo
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Description
Aus sauren galvanischen Verzinnungsbädern hergestellte
Glanzniederschläge finden zunehmend Verwendung in der Elektroindustrie, z. B. für gedruckte
Schalungen oder elektrische Kontakte. Bei gedruckten Schaltungen ist es äußerst wichtig, daß die Niederschläge
glänzend sind, da solche glänzende Niederschläge einen besseren Schutz ergeben. Außerdem können
glänzende Niederschläge aus unbekannten Gründen leichter gelötet werden. Bei der Massenherstellung
solcher verzinnter Teile ist es wichtig, daß die Bäder für die Abscheidung von Zinn eine hohe Konstanz
aufweisen und leicht betrieben werden können.
Bei der Galvanisierung ist es wichtig, daß das verwendete Bad innerhalb eines möglichst großen
Stromdichtebereichs glänzende Abscheidungen ergibt, da die zu galvanisierenden Teile die verschiedenste
Form aufwehen können und in den verschiedensten Mengen verarbeitet werden müssen.
Weiterhin ist es wichtig, daß die Grenzstromdichte (diejenige Stromdichte, bei der keine gute Abscheidung
mehr erhalten wird) so hoch wie möglich ist, um die großen Kathodenstromdichten zu berücksichtigen, die
aufgrund der Form und der Größe der zu galvanisierenden Teile auftreten können.
In den bisherigen sauren galvanischen Verzinnungsbädern wurden als primäre Glänzer beispielsweise
durch trockene Destillation von Holz erhaltene Teere
ίο und Teerfraktionen, verwendet Solche Elektrolyte sind
schwierig mit der erforderlichen Reproduzierbarkeit herzustellen, und aus diesem Grunde ist es nicht leicht
glänzende Zinnabscheidungen mit einer konstanten Qualität während langer Perioden zu erzeugen.
Weiterhin waren die Zinnabscheidungen, die durch viele der bisher bekannten Bäder erhalten wurden, nicht
ausreichend glänzend. Schließlich leiden viele bekannte Bäder unter gewissen Betriebsschwierigkeit&rs wie z. B.
extreme Empfindlichkeit gegenüber Rühren. Eine nicht richtige Rührintensität führte oft zu streifigen Abscheidungen.
Es wurde nunmehr gefunden, daß man einen primären Glänzer für saure galvanische Verzinnungsbäder, die
einen verbesserten Glanz ergeben und vollständig reproduzierbare Abscheidungen ermöglichen, dadurch
herstellen kann, daß man Furfural und Crotonaldehyd in Mengen von äquimolekular bis zu 15% Überschuß
Furfural bei einer Temperatur von —5 bis 500C in Gegenwart einer katalytischen Menge eines Alkalis
umsetzt, das Reaktionsgemisch ansäuert und das Reaktionsprodukt abgetrennt
Der erfindungsgemäß hergestellte primäre Glänzer arbeitet mit bekannten Zusätzen, wie z. B. sekundären
Glänzern und Netzmitteln, gut zusammen, wobei sie deren Glanzwirkung und den bei ihrer Verwendung
zulässigen, zu glänzenden Abscheidungen führenden Kathodenstromdichtebereich erweitern.
Es ist also bei Verwendung des erfindungsgemäß hergestellten Glänzers eine viel geringere Wartung des
Bads erforderlich, was besonders bei der Massenproduktion wichtig ist
Bei der Herstellung des erfindungsgemäßen primären Glänzers wird die Verwendung eines äquimolekularen
Überschusses von 10% Furfural bevorzugt. Beispielsweise können 1,1 Mol Furfural und 1 Mol Crotonaldehyd
umgesetzt werden. Ein Überschuß an Crotonaldehyd sollte vermieden werden, da festgestellt wurde, daß
höhere Crotonaldehydkonzentrationen eine Selbstpolymerisation des Produkts ergeben können, welche
vermieden werden sollte, da solche Produkte streifige Abscheidungen liefern.
Vorzugsweise werden die Reaktionsteilnehmer vor dem Zusammenbringen in Wasser aufgelöst. Das
Arbeiten im wäßrigen Medium wird bevorzugt, es können aber auch organische Lösungsmittel verwendet
werden, wie z. B. Äthylenglykolmonoäthyläther oder Dioxan.
Die Reaktionstemperatur beim erfindungsgemäßen Verfahren liegt zwischen —5 und 50° C. Ein Temperaturbereich
von 0 bis 25°C wird bevorzugt. Oberhalb 50eC wird zwar auch noch primärer Glänzer gebildet,
die Ausbeute nimmt jedoch dann stark ab.
Günstig hat sich das Arbeiten in Gegenwart einer katalytischen Menge eines Alkalis, vorzugsweise Natriumhydroxid,
erwiesen. Dabei kann man so vorgehen, daß man zunächst eine wäßrige Lösung der Reaktionsteilnehmer herstellt und dann eine wäßrige Natriumhydroxidlösung
tropfenweise zusetzt, währenddessen das
Das Ansäuern des Reaktionsgemische nach der Reaktion wird vorzugsweise mit einem leichten
Oberschuß von Eisessig ausgeführt.
Für die Abtrennung des Reaktionsprodukts kann man das Reaktionsgemisch mit Chloroform extrahieren und
das Chloroform abtrennen. Die Extraktion des Produkts kann auch durch Zusatz einer wäßrigen Natriumchloridlösung ausgeführt werden.
Die Zusätze, die gemeinsam mit dem erfindungsgemaß hergestellten primären Glänzer verwendet werden
können, sind z. B. nichtionische alkoxylierte Produkte
(Netzmittel) und Formaldehyd (sekundärer Glänzer). Die Verwendung solcher Stoffe ist allgemein bekannt.
Das Netzmittel hat zur Folge, daß nicht ein lose haftender fleckiger und manchmal dentritischer kristalliner Zinniederschlag erhalten wird, sondern ein dichter,
kontinuierlicher, haftender mikrokristalliner Niederschlag. Formaldehyd wirkt als Kathodendepolarisierungsmittel, wenn er gemeinsam mit dem Netzmittel
verwendet wird. Wenn Formaldehyd alleine mit einem Netzmittel (in Abwesenheit des erfindungsgemäß
hergestellten primären Glänzers) verwendet wird, dann werden nur unzufriedenstellende Niederschläge erhalten.
Es wird darauf hingewiesen, daß der erfindungsgemäß hergestellte primäre Glänzer bei den verschiedensten bekannten sauren galvanischen Verzinnungsbädern
brauchbar ist, wie z. B. bei Bädern, die zweiwertige Zinnsalze (Zinnsulfat oder Zinnfluoborat) und eine
Säure (Schwefelsäure oder Fluoborsäure) enthalten. Der Glänzer ist scvohl beim Trommelverfahren als
auch bei Verfahren anwendbar, br'· denen die zu
galvanisierenden Gegenstände aufschienen aufgehängt werden. Die Konzentration des Zinns und der freien
Säure kann innerhalb den üblichen Grenzwerten liegen. Beispielsweise liegen diese Gehalte bei den bekannten
Bädern zwischen 10 und 100 g/l (für Zinn) und zwischen
20 bis 200 g/l (für freie Säure).
Die Temperatur des Verzinnungsbads ist im allgemeinen die Raumtemperatur. Sie liegt vorzugsweise
unterhalb 35° C und insbesondere in einem Bereich zwischen ungefähr 15 und 20° C, um ein optimales
Arbeitsverhaiten des Bads zu erzielen.
Zur Erzielung guter Resultate wird der erfindungsgemaß hergestellte primäre Glänzer in etwa in den
gleichen Mengen verwendet, wie die bereits bekannten primären Glänzer. Der Konzentrationsbereich des
primären Glänzers im Bad kann stark variieren, je nach den gewünschten Resultaten und den anderen Zusätzen so
und Komponenten des Bads. Jedoch ergibt ein zu niedriger Gehalt einen mattgrauen ungleichförmigen
etwas körnigen Niederschlag. Zuviel Glänzer ergibt offensichtlich keinerlei Schaden; jedoch besteht dann
ein erhöhter Verbrauch an Glänzer, wodurch die ss Verfahrenskosten erhöht werden. Allgemein kann
gesagt werden, daß ein Bereich des primären Glänzers im Bad zwischen 0,1 und 1 g/l, bevorzugt zwischen
ungefähr 0,2 und 0,4 g/l, eine gute Wirkung ergibt.
Die folgende Badzusammensetzung ist ein Beispiel für ein gut arbeitendes Bad:
Zinn(ll)-sulfat (SnSO4) 30 g/l
Konzentrierte Schwefelsäure
(S.O. 1,84) 105 ml/l
Der sekundäre Glänzer besteht vorzugsweise aus Formaldehyd in einer 37%igen Lösung. Das Netzmittel
kann ein bekanntes nichtionisches alkoxyliertes Netzmittel sein, wie z, B. polyoxyäthyliertes Nonylphenol mit
durchschnittlich 15 Oxyäthylengruppen,
Erwähnenswert ist, daß bei Verwendung des erfindungsgemäß hergestellten primären Glänzers eine
periodische Stromunterbrechung während der Galvanisierung einen noch besseren Glanz ergibt Wenn man
beispielsweise das oben erwähnte Bad bei Raumtemperatur, mit einer reinen Zinnanode, mit einer Kathodenstromdichte zwischen ungefähr 1 und 3 A/dm2 und unter
Bewegung der Kathode verwendet, dann erhält man überraschend gute Ergebnisse, wenn man den Strom
periodisch jeweils nach 10 s während 2 s unterbricht Dieser Zyklus wird bevorzugt, es können aber auch gute
Resultate erhalten werden, wenn Stromperioden von ungefähr 10 bis 20 s durch stromlose Perioden von
ungefähr 1 bis 5 s unterbrochen werden.
41,1 mi Furfural (0,5 Moi) und 45 mi 90%iger
Crotonaldehyd (0,5 MoI) wurden zu 200 ml Wasser zugegeben. Die erhaltene Suspension wurde in einem
Eis/Salz-Bad auf eine Temperatur im Bereich zwischen ungefähr -1°C und +40C abgekühlt 4 g Natriumhydroxid (0,1 Mol) wurden in 50 ml Wasser aufgelöst Die
Natriumhydroxidlösung wurde hierauf zur Aldehydsuspension tropfenweise unter Kühlen und Rühren
zugesetzt. Nach der Zugabe der Natriumhydroxidlösung, währenddessen eine Maximaltemperatur von
15°C erreicht wurde, wurde das Rühren weitere 2 h fortgesetzt. Dann wurde die Lösung mit Eisessig
gegenüber Lackmus angesäuert. Die untere Schicht des Produkts wurde dreimal mit je 150 ml Chloroform
extrahiert Der Chloroformextrakt wurde dann über wasserfreiem Magnesiumsulfat getrocknet und filtriert
Dann wurden die flüchtigen Komponenten unter einem Wasserstrahlpumpenvakuum entfernt, wobei das Bad
auf eine Temperatur zwischen Td und EO0C gehalten
wurde. Es wurden 83 g Reaktionsprodukt erhalten. Das Produkt war eine etwas viskose gelbbraune Flüssigkeit
205 ml Furfural (2,5 Mol) 225 ml 90%iger Crotonaldehyd (2^ Mol) und 500 ml Wasser wurden gemischt und
in einem Eis/Salz-Bad gekühlt Nachdem die Temperatur auf 00C gesunken war, wurde eine Lösung von 20 g
Natriumhydroxid (0,5 Mol) als Lösung in 150 ml Wasser
tropfenweise unter Rühren und Kühlen zugesetzt. Die Reaktionstemperatur wurde unter 20° C gehalten.
Nach Zugabe der Natriumhydroxidlösung wurde die resultierende Lösung weitere 3 h gerührt. Dann wurden
35 ml Eisessig (ein leichter Überschuß von 0,5 Mol) unter Rühren zugesetzt. Das Reaktionsgemisch wurde
in einen 21 fassenden Scheidetrichter eingebracht. 200 ml gesättigte Natriumchloridlösung wurden zugegeben, um die Trennung der beiden Schichten zu
erleichtern. Die untere Schicht, welche die aktive Komponente enthielt, wurde abgetrennt. Sie wog 394 g.
Die wäßrige Schicht wurde mil Chloroform extrahiert, und es wurden 28 g einer dicken gelbbraunen
Flüssigkeit erhalten. Das bedeutet eine Gesamtausbeute von 442 g primären Glänzer.
Verwendet wurde ein 95 I fassender Behälter aus rostfreiem Stahl, der in einen 380 I fassenden mit Eis
gefüllten Kunststofftank eingetaucht war. Folgende Reaktionsteilnehmer wurden verwendet:
Sf {ft |
Furfural | 22,81 |
3: | Crotonaldehyd | 1901 |
Wasser | 381 | |
Natriumhydroxid | ||
(gelöst in 3,8 1 Wasser) | 840 g | |
Eisessig | 1700 |
10
Furfural, Crotonaldehyd und Wasser wurden gerührt und auf Γ C abgekühlt Die NaOH-Lösung wurde
langsam dem Gemisch zugegeben. Nachdem 800 ml zugegeben worden waren, begann die Temperatur zu
steigen. Bei einer Temperatur von 45°C wurde eine Kühlschlange aus Tantal, durch welche Leitungswasser
mit 4° C floß, eingetaucht Die Temperatur stieg innerhalb ungefähr 1 h auf maximal 500C. Nach
ungefähr 1 h war die Temperatur wieder auf ungefähr 15° C gefallen, worauf dann der Rest der NaOH-Lösung
zugegeben wurde, wobei kein weiterer Temperaturanstieg eintrat
Das Gemisch wurde dann 4 h gerührt, wobei 1700 ml
Eisessig in kleinen Portionen zugegeber: wurden, um den pH auf ungefähr 6,0 zu bringen. Das Reaktionsgemisch wurde hierauf stehengelassen, und die obere
wäßrige Schicht wurde abgehebert Das dicke verbleibende Material wurde in 13 Polyäthylenbehältern mit
einem Fassungsvermögen von jeweils 3,8 1 eingebracht. Diese wurden stehengelassen, um eine weitere Trennung des Wassers zu erreichen, welches dann
abdekantiert wurde. Das Gesamtgewicht der Produkte betrug ungefähr 543 kg.
Die weiteren Beispiele erläutern die Verwendung eines gemäß der Erfindung hergestellten Produkts,
wobei Abscheidungen mit den Produkten der Beispiele 1 bis 3 ausgeführt wurden.
Beispiel 5 wurde wiederholt, nachdem dem Bad zusätzlich 0,25 g/l des primären Glänzers von Beispiel I
in Form einer 25 g/| Grundlösung in Äthylenglycol-monoäthyl-äther zugesetzt wurde.
Der erhaltene Niederschlag war im gesamten Stromdichtebereich von 0 bis 6 A/dm3 glänzend und
hatte einen ausgesprochen guten Glanz.
Beispiel 6 wurde wiederholt, wobei jedoch als primärer Glänzer das Produkt von Beispiel 2 in Form
einer 25 g/l Grundlösung in Äthylenglycol-monoäthyläther verwendet wurde. Auch dieser Niederschlag war
gleichförmig glänzend über den ganzen Stromdichtebereich und hatte ein ausgesprochen gutes glänzendes
Aussehen.
Beispie! *
Beispiel 6 wurde wiederholt, wobei jedoch der primäre Glänzer von Beispiel 3 als 25 g/l Griindlösung
in Äthylenglycol-monoäthyl-äther verwendet wurde. Es
wurden im wesentlichen die gleichen Resultate erhalten.
40
In einer Standard-Hull-Zelle, die mit einem magnetischen Rührer ausgerüstet war, der eine mäßige Rührung
ergab, wurden 250 ml einer sauren VerziniKingsgrundlösung eingeführt, welche 30 g/l SnSO« und 105 ml/l
konzentrierte Schwefelsäure (S.G. 1,84) enthielt. Zur Lösung wurden 4 g/I eines nicntionischen oberflächenaktiven Mittels zugesetzt Eine polterte Messingplatte
wurde gesäubert, 1 min in ein Cyanidverkupferungsbad so eingetaucht und gespült. Hierauf wurde sie kurz in Säure
eingetaucht und mit Wasser gespült. Dann wurde sie bei Raumtemperatur bei einer Stromstärke von 1 Ampere
5 min lang in der HuIl-ZeIIe verwendet
Der erhaltene Niederschlag war mattweiß, gleichförmig und glatt und ergab eine Bedeckung nur innerhalb
eines engen Stromdichtebereichs.
60
Beispiel 4 wurde wiederholt, wobei als zusätzliche Badkomponente 10 ml/l 37%ige Formaldehydlösung
verwendet wurden.
Das erste Drittel der Platte im Bereich hoher Stromdichte besaß einen ungleichförmigen dunklen
fleckigen Niederschlag, wogegen der Rest der PIaUe wie in Beispiel 4 maU#eiß war.
In einer rechteckigen Glaswanne wurden bei Raumtemperatur (ungefähr 200C) 41 einer sauren
Verzinnungsgrundlösung mit einer Konzentration von 30 g/l SnSO4 und 105 ml/l konzentrierte Schwefelsäure
(S.G. 1,84) einer Elektrolyse unterworfen. Als Anode wurde in die Lösung an einem Titandraht eine
Zinnplatte von 9939% Reinheit singehängt. Die
Kathode bestand aus einem polierten Messingstreifen mit den Abmessungen 20,3x2,54x0,1 cm. r-Jach einer
Reinigung wurde die Kathode in das Plattierungsbad bis zu einer Tiefe von 18 cm eingetaucht, und zwar in einem
Abstand von 10 cm von der Anode, wobei die Vorderseite der Kathode parallel zur Anode verlief. Die
Kathode wurde in einer Ebene senkrecht zur Anode bewegt, und zwar mit einem Hub von 5 cm, wobei die
Laufgeschwindigkeit insgesamt 160 cm/min betrug.
Dem 4-I-Bad wurden 0,25 g des primären Glänzers
von Beispiel 2 und 4 g/l eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels sowie 10 ml/1 eines 37%igen
Formaldehydlösung zugegeben. Es wurde 10 min lang ein Strom von 23 A angelegt Die Abscheidung war
gleichförmig glänzend und hatte durchgehend ein milchiges Aussehen.
Beispiel 9 wurde wiederholt wobei eine periodische Stromunterbrechung, nämlich 10 see Abscheidung, 2 see
ohne Strom, und ein Strom von 23 A während eitler
Gesamtzeit vun 12 min angewendet wurde. Dies ergab
die gleiche Abscheidungszeit wie in Beispiel 9. Der erhaltene Niederschlag war wesentlich glänzender als in
Beispiel 9.
Unter Verwendung der 4-l-Lösung von Beispiel 9 (einschließlich Zusätze) wurde eine Trommelverzinnung
durchgeführt, wobei eine kleine Kunststofftrommel
verwendet wurde, die sich
Beschreibung ist wie folgt:
Beschreibung ist wie folgt:
Querschnitt
Länge
Durchmesser
Drehgeschwindigkeit
Anoden
horizontal drehte. Ihre
Hexagonal
25 cm
IO cm
5 U/min
außen. Platten mit
99,99% reinem Zinn
310 g Stahlnägel mit einer Länge von jeweils 3,8 cm
und einer Gesamtoberfläche von 930 cm-' wurden
gereinigl und in die Trommel eingebracht. Die Beschickung wurde I h unter Verwendung eines
Zellensiroms von 5 A ver/innt. (Dies bedeutet eine durchschnittliche Kathodenstromdichte von 0,5 A/dm2.)
Nach der Beschichtung wurde sorgfältig gespült und getrocknet. Der Niederschl?g auf den Nägeln w;ir
gleichmäßig und glänzend,
betrug ungefähr 6,4 μιτι.
betrug ungefähr 6,4 μιτι.
Die Niederschlagdicke
Beispiel 11 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Strom
von 10 A während 30 min verwendet wurde. Der erhaltene Niederschlag war gleichförmig und glänzend
und besaß ebenfalls eine durchschnittliche Dicke von 6.4 μιη.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wurde ein Lebensdauerlest mit dem Bad von Beispiel 9 während 3
Wochen durchgeführt. Es wurde 8 h pro Tag gearbeitet. Gelegentlich wurden die Zusätze ergänzt. Nach 3
Wochen arbeitete das Bad nach wie vor vorzüglich. Es konnte keinerlei Ansammlung von schädlichen Zersetzungsprodukten
der Zusätze festgestellt werden.
Claims (10)
1. Verfahren zur Herstellung eines primären Glänzers für saure galvanische Verzinnungsbäder,
dadurch gekennzeichnet, daß man Furfural und Crotonaldehyd in Mengen von äquimoleku-Iar
bis zu 15% Oberschuß bei einer Temperatur von —5 bis 500C in Gegenwart einer katalytischen
Menge eines Alkalis umsetzt, das Reaktionsgemisch ansäuert und das Reaktionsprodukt abtrennt
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Oberschuß von 10% Mol Furfural verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Reaktionsteilnehmer
vordem Zusammenbringen in Wasser auflöst
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man die Reaktion bei
einer Temperatur zwischen 0 und 25° C durchführt
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet daß die Umsetzung in
Gegenwart einer wäßrigen Nalriumhydroxidiösung ausgeführt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man zunächst eine wäßrige Lösung der
Reaktionsteilnehmer herstellt und dann die wäßrige Natriumhydroxidlösung tropfenweise zusetzt währenddessen
das Reaktionsgemisch gerührt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Ansäuern
des Reaktionsgemischs nach der Umsetzung mit einem leichten Überschuß von Eisessig ausgeführt
wird.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Abtrennung
des Reaktionsprodukts dadurch ausgeführt wird, daß man das Reaktionsprodukt mit Chloroform
extrahiert und das Chloroform abtrennt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Extraktion des
Produkts durch Zusatz einer wäßrigen Natriumchloridlösung ausgeführt wird.
10. Verwendung des nach einem der Ansprüche 1 bis 9 hergestellten Reaktionsprodukts in sauren
galvanischen Verzinnungsbädern als primärer Glänzer.
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---|---|---|---|
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Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4844780A (en) * | 1988-02-17 | 1989-07-04 | Maclee Chemical Company, Inc. | Brightener and aqueous plating bath for tin and/or lead |
US5750017A (en) * | 1996-08-21 | 1998-05-12 | Lucent Technologies Inc. | Tin electroplating process |
US6670071B2 (en) * | 2002-01-15 | 2003-12-30 | Quallion Llc | Electric storage battery construction and method of manufacture |
US6838114B2 (en) * | 2002-05-24 | 2005-01-04 | Micron Technology, Inc. | Methods for controlling gas pulsing in processes for depositing materials onto micro-device workpieces |
US6821347B2 (en) * | 2002-07-08 | 2004-11-23 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for depositing materials onto microelectronic workpieces |
US6955725B2 (en) | 2002-08-15 | 2005-10-18 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
US6818249B2 (en) * | 2003-03-03 | 2004-11-16 | Micron Technology, Inc. | Reactors, systems with reaction chambers, and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
US7335396B2 (en) * | 2003-04-24 | 2008-02-26 | Micron Technology, Inc. | Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
US7235138B2 (en) * | 2003-08-21 | 2007-06-26 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing apparatus and methods for batch deposition of materials on microfeature workpieces |
US7344755B2 (en) * | 2003-08-21 | 2008-03-18 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces; methods for conditioning ALD reaction chambers |
US7422635B2 (en) * | 2003-08-28 | 2008-09-09 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces, e.g., for depositing materials on microfeature workpieces |
US7056806B2 (en) | 2003-09-17 | 2006-06-06 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing apparatus and methods for controlling deposition of materials on microfeature workpieces |
US7282239B2 (en) * | 2003-09-18 | 2007-10-16 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
US7323231B2 (en) * | 2003-10-09 | 2008-01-29 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and methods for plasma vapor deposition processes |
US7581511B2 (en) * | 2003-10-10 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and methods for manufacturing microfeatures on workpieces using plasma vapor processes |
US7647886B2 (en) * | 2003-10-15 | 2010-01-19 | Micron Technology, Inc. | Systems for depositing material onto workpieces in reaction chambers and methods for removing byproducts from reaction chambers |
US7258892B2 (en) | 2003-12-10 | 2007-08-21 | Micron Technology, Inc. | Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition |
US7906393B2 (en) * | 2004-01-28 | 2011-03-15 | Micron Technology, Inc. | Methods for forming small-scale capacitor structures |
US7584942B2 (en) * | 2004-03-31 | 2009-09-08 | Micron Technology, Inc. | Ampoules for producing a reaction gas and systems for depositing materials onto microfeature workpieces in reaction chambers |
US20050249873A1 (en) * | 2004-05-05 | 2005-11-10 | Demetrius Sarigiannis | Apparatuses and methods for producing chemically reactive vapors used in manufacturing microelectronic devices |
US8133554B2 (en) * | 2004-05-06 | 2012-03-13 | Micron Technology, Inc. | Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces |
US7699932B2 (en) * | 2004-06-02 | 2010-04-20 | Micron Technology, Inc. | Reactors, systems and methods for depositing thin films onto microfeature workpieces |
US7156470B1 (en) * | 2004-06-28 | 2007-01-02 | Wright James P | Wheel trim hub cover |
US20060165873A1 (en) * | 2005-01-25 | 2006-07-27 | Micron Technology, Inc. | Plasma detection and associated systems and methods for controlling microfeature workpiece deposition processes |
US20060237138A1 (en) * | 2005-04-26 | 2006-10-26 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for supporting microelectronic devices during plasma-based fabrication processes |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1544726A (en) * | 1924-08-28 | 1925-07-07 | Us Smelting Refining & Mining | Electrolytic refining of metals |
FR1392257A (fr) * | 1964-04-29 | 1965-03-12 | Friedr Blasberg G M B H | Agent de brillantage pour la séparation électrolytique de dépôts d'étain à haut brillant à partir de solutions aqueuses acides de sels d'étain, et son utilisation |
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