DE2805152A1 - Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents

Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellung

Info

Publication number
DE2805152A1
DE2805152A1 DE19782805152 DE2805152A DE2805152A1 DE 2805152 A1 DE2805152 A1 DE 2805152A1 DE 19782805152 DE19782805152 DE 19782805152 DE 2805152 A DE2805152 A DE 2805152A DE 2805152 A1 DE2805152 A1 DE 2805152A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
dielectric
layer
polymer
dipl
gas phase
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19782805152
Other languages
English (en)
Inventor
Jean Claude Dubois
Maryse Gazard
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales SA
Original Assignee
Thomson CSF SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson CSF SA filed Critical Thomson CSF SA
Publication of DE2805152A1 publication Critical patent/DE2805152A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/62Plasma-deposition of organic layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/44Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
    • H01B3/443Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from vinylhalogenides or other halogenoethylenic compounds
    • H01B3/445Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from vinylhalogenides or other halogenoethylenic compounds from vinylfluorides or other fluoroethylenic compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/14Organic dielectrics
    • H01G4/145Organic dielectrics vapour deposited

Description

Aus einem organischen Polymerisat bestehendes Dielektrikum und Verfahren zu seiner Herstellung
Die Erfindung betrifft aus organischen Polymerisaten bestehende, in Form dünner Schichten verwendbare Dielektrika. Die Erfindung umfaßt auch das Verfahren zur Herstellung solcher DUnnschichten, die Anwendung dieses Verfahrens auf die Herstellung von elektrischen Kapazitäten sowie die so erhaltenen Kondensatoren mit einer oder mehreren dielektrischen Schichten.
In drei Kategorien einteilbare Verfahren zur Erzielung einer dünnen Polymerisatschicht mit interessanten dielektrischen Eigenschaften, ausgehend von organischen Verbindungen, sind bekannt:
Dr.Ha/Ma
809832/0943
Erste Verfahrenskategorie: Durch Eintauchen eines Substrats in eine organische Polymerlösung kann man eine dünne Schicht auf dem Substrat erhalten; das Verfahren läßt sich jedoch nur schwer auf die technische Herstellung in größeren Mengen, insbesondere für die Kondensatoren, anwenden.
Zweite Verfahrenskategorie: Durch Elektronenbeschuß oder durch Ultraviolettbestrahlung eines organischen Monomeren kann man homogene und gleichförmige dielektrische Schichten erhalten; die Bildungsgeschwindigkeit einer solchen Schicht ist Jedoch sehr langsam und liegt in der Größenordnung von 10 Ä/Min..
Dritte Verfahrenskategorie: Durch "lumineszierende" elektrische Entladung erhält man, ausgehend von einer Gasphase des Monomeren, eine Polymerisatschicht, die um einige hundert bis zu einigen tausend Angström pro Minute wächst. Das so erhaltene Dielektrikum besitzt jedoch in der Regel nicht alle erforderlichen Eigenschaften, nämlich:
- eine ausreichende WärmeStabilität, indem nämlich die dielektrischen Eigenschaften außerhalb eines bestimmten Temperaturbereichs verschwinden;
- ausreichend niedrige dielektrische Verluste, insbesondere bei hoher Frequenz;
- einen geringen Temperaturkoeffizient, indem nämlich die Kapazität mehr oder weniger mit der Temperatur und der Frequenz variiert; ·
- ein ausreichend hohes elektrisches Durchschlagfeld.
809832/0943
Die Erfindung ermöglicht bei Anwendung eines Verfahrens der dritten Kategorie die Erzielung einer Dielektrikumsschicht mit insgesamt besseren Eigenschaften als eine Schicht aus bekannten Polymerisaten, wobei die Wachstumsgeschwindigkeit der Schicht zu den schnellsten gehört.
Das erfindungsgemäße Dielektrikum besteht aus dem Polymerisationsprodukt der organischen Verbindung der Formel
C F3 -CF=CF-C F3 (Perfluor-2-buten).
Die Polymerisation wird erzielt, indem man die Gasphase dieser Verbindung einem elektrischen Wechselfeld aussetzt, welches lumineszierende Entladungen erzeugen kann.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beschreibung in Verbindung mit der Zeichnung näher erläutert. Die Zeichnung zeigt eine perspektivische Darstellung eines Kondensators mit einer einzigen dielektrischen Schicht.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Dielektrikums verwendet man Perfluor-2-buten (C^ FQ) der vorstehenden Formel, z.B. handelsübliches Perfluorbuten, d.h. in Spezialbehältern geliefertes verflüssigtes Gas.
Das Gas wird in eine übliche elektrische Entladungsvorrichtung mit einem Vakuumbehälter und einer einen Teil dieses Behälters bildenden Entladungskammer eingeführt. Diese Kammer ist mit einer isolierten ortsfesten Elektrode, die unter Spannung gesetzt werden kann, und einer an Masse angeschlossenen beweglichen Elektrode ausgerüstet. Die ortsfeste Elektrode nimmt ein Substrat auf, auf welchem das aus dem zwischen den Elektroden befindlichen Gas gebil-
809832/0943
dete Polymere abgeschieden wird. Der Gasdruck wird auf einen Wert zwischen 0,05 und 0,3 Torr erniedrigt.
Man legt dann an die ortsfeste Elektrode eine elektrische Wechselspannung mit einer Frequenz zwischen 25 Hz und 15 MHz an, z.B. eine der beiden folgenden Frequenzen:
- 1000 Hz für den Betrieb bei verhältnismäßig niedriger Frequenz;
- 13,56 MHz bei technischem Hochfrequenzbetrieb.
Man regelt entweder den Wert der Spannung oder die Stellung der beweglichen Elektrode so, daß man eine lumineszierende Entladung erhält. Diese erfolgt z.B. bei einer Wechselspannung von 300 V, wenn zwischen den in einem Abstand von 3 cm angeordneten Elektroden ein Druck von 0,1 Torr herrscht.
Dabei bildet sich eine gleichförmige und homogene Dünnschicht aus abgeschiedenem Polymerisat. Zur Gewinnung dieser Abscheidung bringt man vorher auf der ortsfesten Elektrode der Entladungsvorrichtung ein Substrat an.
Dieses Polymere ist sehr stark vernetzt. Es ist in den üblichen Lösungsmitteln für organische Verbindungen unlöslich und wird von üblichen chemischen Mitteln nicht angegriffen.
Die Bildungsgeschwindigkeit der Schicht liegt in der Größenordnung von 4000 bis 7000 Ä/Min. bei einem Druck von 0,1 Torr und einer Entladung mit einem Stromverbrauch von 5 bis 10 W/cm Elektrode. Man regelt die Leistung, indem man auf den Abstand der Elektroden und auf den Wert
809832/0943
der Spannung einwirkt. Die Bildungsgeschwindigkeit ist umso größer, je mehr sich diese Leistung 5 W/cm annähert.
Eine Temperaturerhöhung des Substrats bewirkt eine Verringerung der Bildungsgeschwindigkeit der Schicht. Diese liegt höher als die vorstehend genannten Werte, wenn das Substrat auf etwa O0C abgekühlt wird. Man erreicht so eine Wachstumsgeschwindigkeit der Schichtdicke in der Größenordnung von 0,7 Αϊ/Min, bei einer Frequenz der angelegten Spannung von 13»56 MHz.
Die Erfindung ist auf die Herstellung von Kondensatoren mit einer oder mehreren dielektrischen, durch Metallbelegungen getrennten Schichten anwendbar.
Die Zeichnung zeigt eine beispielsweise Ausführungsform eines Kondensators, Er besteht aus einem Substrat 1 (aus Glas, Keramik, Kunststoff, gegebenenfalls Metall), einer ersten Belegung 100 mit einem Ansatz 101, der die Rolle einer Anschlußelektrode spielt. Auf dieser Belegung befindet sich eine erfindungsgemäße Polymerisatschicht 2, welche auf der Seite der Elektrode 101 deutlich die Belegung 100 mit einem Polymerisatteil 21 überlappt, der jedoch nur einen sehr kleinen Teil der Elektrode 101 bedeckt. Auf der Polymerisatschicht 2 befindet sich eine zweite Belegung 200, welche über die Schicht 2 nur mit einem auf dem Substrat 1 aufliegenden Teil 201 übersteht und eine analoge Rolle wie die Elektrode 101 spielt.
Das Herstellungsverfahren eines solchen Kondensators umfaßt drei Hauptstufen:
809832/0943
Erste Stufe; Herstellung der Belegung 100 durch Abscheidung einer Metallschicht auf dem Substrat 1. Eine solche Abscheidung kann z.B. durch Vakuumaufdampfung von Aluminium nach vorheriger Anbringung einer die Umrisse der Belegung begrenzenden Metallmaske erfolgen, welche den außerhalb des festgelegten Umrisses befindlichen Bereich vor einer Metallabscheidung schützt.
Anstelle einer Metallmaske kann man auch durch Lichtätzung eine Harzmaske herstellen.
Zweite Stufe: Herstellung der Polymerisatschicht 2 mittels des vorstehend beschriebenen elektrischen Entladungsverfahrens. Zuvor muß auf das mit der Belegung 100 versehene Substrat eine Metallmaske oder eine Harzmaske aufgebracht werden, so daß die Oberfläche der gewünschten Schicht begrenzt wird. Der am Rand abgelagerte Polymerisatüberschuß wird entweder durch Entfernung der Maske oder durch Auflösung des Harzes der Maske entfernt.
Dritte Stufe: Herstellung der Belegung 200. Diese Stufe verläuft analog der ersten Stufe.
Man kann einen "mehrschichtigen" Kondensator, ausgehend von dem nach den vorstehend beschriebenen drei Stufen erhaltenen Kondensator, nach Durchführung der folgenden Verfahrensschritte erhalten:
- Abscheidung einer zusätzlichen Polymerisatschicht auf gleiche Weise wie in Stufe 2, ohne die Elektroden 101 und 201 zu bedecken;
809832/0943
- Bildung einer zusätzlichen Belegung auf die gleiche Weise wie in der ersten Stufe, wobei die Belegung zum Teil die zusätzliche Polymerisatschicht und den größten Teil der Elektrode 101 überdeckt;
- Wiederholung der vorstehenden Maßnahmen, wobei die gebildeten Belegungen abwechselnde Schichten auf der Elektrode 201 und auf der Elektrode 101 bilden, während der ganze "mehrschichtige" Kondensator nur ein einziges Elektrodenpaar besitzt.
Zu den noch nicht genannten, mit der Erfindung erzielten Vorteilen gehören die folgenden Eigenschaften des Dielektrikums :
spezifischer Widerstand in der Größenordnung von
14
10 Ohm-cm;
- relative Dielektrizitätskonstante von etwa 3;
- Tangente des Verlustwinkels in der Größenordnung von 3.10" , wobei dieser Wert praktisch unabhängig von der Frequenz ist (zwischen 1 Hz und 100 KHz);
- elektrisches Durchschlagfeld von über 200 V/u;
- Koeffizient der relativen Kapazitätsänderung in Abhängigkeit von der Temperatur in der Größenordnung von 10" pro Grad Celsius in einem Bereich von - 650C bis + 1500C;
- geringe Änderung des Verlustwinkels von Raumtemperatur bis zu 1500C;
- Wärmebeständigkeit von - 1000C bis + 3000C.
809832/0943
28Qb152
Man kann in einem Dielektrikumvolumen von 6 mm auf 6 mm bei einer Dicke von etwa 1/2 ja eine elektrische Kapazität von 2000 pF unterbringen.
809832/0943

Claims (7)

PatentanwMe 2600152 Dipl.-lng. Dipl.-Chem. Dipl.-lng. E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. Leiser Ernsbergerstrasse 19 8 München 60 THOMSON - CSF 2. Februar 1978 173» Bd. Haussmann 75008 Paris / Frankreich Unser Zeichen; T 3054 Patentansprüche
1. j Durch Einwirkung eines zur Erzeugung lumineszierender " ' Entladungen fähigen elektrischen Wechselfelds auf die Gasphase einer organischen Verbindung unter Polymerisation derselben erhaltenes Dielektrikum, dadurch gekennzeichnet, daß es aus dem Polymerisationsprodukt von CF, -CF = CF-C F-, (Perf luor-2-buten) besteht.
2. Verfahren zur Herstellung eines Dielektrikums gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasphase einem Druck zwischen 0,05 und 0,3 Torr bei einer das elektrische Feld erzeugenden Spannungsfrequenz zwischen 25 Hz und 13,56 MHz ausgesetzt und das dielektrische Polymerisat auf einem in der Gasphase angeordneten Substrat aufgefangen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz 1000 Hz beträgt.
Dr-Ha/Ma 80983 2/0943 ORIGINAL INSPECTED
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz 13,56 MHz beträgt.
5. Mindestens eine Schicht aus einem Dielektrikum gemäß Anspruch 1 enthaltender elektrischer Kondensator.
6. Kondensator nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß er zwei oder mehr dielektrische Schichten besitzt.
7. Verfahren zur Herstellung eines Kondensators nach einem der Ansprüche 5 und 6, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrensstufen:
a) Abscheidung einer Metallschicht auf einem Substrat;
b) Erzeugung einer Polymerisatschicht auf der in der vorhergehenden Stufe abgeschiedenen Schicht durch lumineszierende Entladungen in einer Gasphase des das dielektrische Polymerisat ergebenden Monomeren;
c) Abscheidung einer zweiten Metallschicht auf der in der vorhergehenden Stufe abgeschiedenen Polymerisatschicht.
809832/0943
DE19782805152 1977-02-08 1978-02-07 Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellung Withdrawn DE2805152A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7703477A FR2379889A1 (fr) 1977-02-08 1977-02-08 Dielectrique constitue par un polymere en couche mince, procede de fabrication de ladite couche, et condensateurs electriques comportant un tel dielectrique

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2805152A1 true DE2805152A1 (de) 1978-08-10

Family

ID=9186436

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19782805152 Withdrawn DE2805152A1 (de) 1977-02-08 1978-02-07 Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4153925A (de)
JP (1) JPS5399455A (de)
DE (1) DE2805152A1 (de)
FR (1) FR2379889A1 (de)
GB (1) GB1575777A (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2843581A1 (de) * 1978-10-05 1980-04-10 Siemens Ag Elektrischer schichtkondensator und verfahren zu seiner herstellung
DE3024030A1 (de) * 1980-06-26 1982-01-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Rc-netzwerk in form einer folienschaltung
DE3442790A1 (de) * 1984-11-23 1986-06-05 Dieter Prof. Dr. Linz Bäuerle Verfahren zur herstellung von duennschichtkondensatoren

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2900772C2 (de) * 1979-01-10 1984-08-30 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Erzeugung von Schichten auf einer bandförmigen Trägerfolie
US4301765A (en) * 1979-01-10 1981-11-24 Siemens Aktiengesellschaft Apparatus for generating layers on a carrier foil
DE2908467A1 (de) * 1979-03-05 1980-09-11 Siemens Ag Regenerierfaehiger elektrischer schichtkondensator
DE3214804A1 (de) * 1982-04-21 1983-10-27 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum erzeugen einer lyophoben schicht
DE3231576A1 (de) * 1982-08-25 1984-03-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Regenerierfaehiger elektrischer schichtkondensator
US5125138A (en) * 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US4499520A (en) * 1983-12-19 1985-02-12 General Electric Company Capacitor with dielectric comprising poly-functional acrylate polymer and method of making
US5097800A (en) * 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US4842893A (en) * 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5018048A (en) * 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US5032461A (en) * 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US4954371A (en) * 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
JPH068503B2 (ja) * 1987-03-31 1994-02-02 セントラル硝子株式会社 含フツ素樹脂被膜の形成方法
WO1993014881A1 (en) * 1992-02-03 1993-08-05 The United States Of America Secretary Of The Army, The Pentagon Polymer based film capacitor with increased dielectric breakdown strengths
JP2009103192A (ja) * 2007-10-23 2009-05-14 Chugoku Electric Power Co Inc:The カップリングカバーおよびターニング工具

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB905713A (en) * 1958-03-05 1962-09-12 Gen Electric Method of making an electric capacitor
US3068510A (en) * 1959-12-14 1962-12-18 Radiation Res Corp Polymerizing method and apparatus
GB1342748A (de) * 1970-02-03 1974-01-03

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3318790A (en) * 1964-04-29 1967-05-09 Texas Instruments Inc Production of thin organic polymer by screened glow discharge
US3311801A (en) * 1966-06-23 1967-03-28 Intron Int Inc Electric capacitor
ES355157A1 (es) * 1967-06-08 1969-11-16 Western Electric Co Procedimiento para producir un revestimiento de polimero sobre un sustrato.
US3991451A (en) * 1968-10-04 1976-11-16 Tokyo Denki Kabushiki Kaisha Method of making a fluoride film capacitor
US3813266A (en) * 1970-05-01 1974-05-28 Getters Spa Process for producing a capacitor
US3776762A (en) * 1971-10-18 1973-12-04 Kote Corp Du Dry lubrication
GB1417085A (en) * 1973-05-17 1975-12-10 Standard Telephones Cables Ltd Plasma etching
US4013532A (en) * 1975-03-03 1977-03-22 Airco, Inc. Method for coating a substrate
US4054680A (en) * 1976-06-28 1977-10-18 General Electric Company Method of fabricating improved capacitors and transformers

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB905713A (en) * 1958-03-05 1962-09-12 Gen Electric Method of making an electric capacitor
US3068510A (en) * 1959-12-14 1962-12-18 Radiation Res Corp Polymerizing method and apparatus
GB1342748A (de) * 1970-02-03 1974-01-03

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2843581A1 (de) * 1978-10-05 1980-04-10 Siemens Ag Elektrischer schichtkondensator und verfahren zu seiner herstellung
DE3024030A1 (de) * 1980-06-26 1982-01-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Rc-netzwerk in form einer folienschaltung
DE3442790A1 (de) * 1984-11-23 1986-06-05 Dieter Prof. Dr. Linz Bäuerle Verfahren zur herstellung von duennschichtkondensatoren

Also Published As

Publication number Publication date
FR2379889B1 (de) 1981-05-29
US4153925A (en) 1979-05-08
GB1575777A (en) 1980-09-24
FR2379889A1 (fr) 1978-09-01
JPS5399455A (en) 1978-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2805152A1 (de) Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellung
EP0133621B1 (de) Verfahren zum Trockenätzen von Kupfer und seine Verwendung
DE2429434B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Widerständen und Kondensatoren in Dunnschichtschaltungen
DE4304679C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer dünnen dielektrischen Schicht eines Oxid-Systems unter Verwendung des CVD-Verfahrens
EP0254205A2 (de) Verfahren zum Herstellen transparenter Schutzschichten aus Siliziumverbindungen
DE3726006A1 (de) Vorrichtung zur herstellung von duennfilmen
DE3402971A1 (de) Vorrichtung zur beschichtung eines substrates mittels plasma-chemical vapour deposition oder hochfrequenz-kathodenzerstaeubung
DE2513858C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Tantal-Dünnschichtkondensators
DE2300813A1 (de) Verfahren zum niederschlagen von stickstoffdotiertem beta-tantal sowie eine beta-tantal-duennschicht aufweisender artikel
EP0381109A2 (de) Feuchtesperre für organische Dielektrika
DE3326377A1 (de) Verfahren zum erzeugen von glimmpolymerisat-schichten
DE3326376A1 (de) Verfahren zum erzeugen von glimmpolymerisat-schichten
DE10151036A1 (de) Isolator für ein organisches Elektronikbauteil
DE2652383C3 (de) Verfahren zur Herstellung von elektrisch isolierenden Schichten durch Polymerisation von Gasen mittels einer'"'1"111611 Wechselspannung
DE2514139A1 (de) Verfahren zum herstellen eines kondensators
DE895687C (de) Verfahren zur Herstellung von Schichten aus Metalloxyden
DE19600305A1 (de) Herstellverfahren für eine Siliziumoxid-Schicht auf einer Topographie
DE937212C (de) Verfahren zum Aufdampfen einer Dielektrikumschicht auf leitenden Unterlagen
DE3635524A1 (de) Verfahren zum herstellen von schutzschichten auf magnetischen datentraegern und durch das verfahren hergestellter datentraeger
EP0027885B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilm-Kondensators
DE2006702A1 (de) Verfahren zum Überziehen von Korpern mit isolierenden Stoffen
DE1795348A1 (de) Verfahren zur herstellung von duennen filmen und schichten aus organischen, hochmolekularen verbindungen
DE898478C (de) Elektrischer Kondensator fuer hohe Betriebstemperaturen
DE2105003A1 (de) Verfahren zum Überziehen von Korpern mit isolierenden Stoffen
DE2408608A1 (de) Verfahren zur herstellung von titannitrid-schichten

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: PRINZ, E., DIPL.-ING. LEISER, G., DIPL.-ING., PAT.

8136 Disposal/non-payment of the fee for publication/grant