DE2805152A1 - Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
Aus einem organischen polymerisat bestehendes dielektrikum und verfahren zu seiner herstellungInfo
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Description
Aus einem organischen Polymerisat bestehendes Dielektrikum und Verfahren zu seiner Herstellung
Die Erfindung betrifft aus organischen Polymerisaten bestehende, in Form dünner Schichten verwendbare Dielektrika.
Die Erfindung umfaßt auch das Verfahren zur Herstellung solcher DUnnschichten, die Anwendung dieses Verfahrens auf
die Herstellung von elektrischen Kapazitäten sowie die so erhaltenen Kondensatoren mit einer oder mehreren dielektrischen
Schichten.
In drei Kategorien einteilbare Verfahren zur Erzielung einer dünnen Polymerisatschicht mit interessanten dielektrischen
Eigenschaften, ausgehend von organischen Verbindungen, sind bekannt:
Dr.Ha/Ma
809832/0943
Erste Verfahrenskategorie: Durch Eintauchen eines
Substrats in eine organische Polymerlösung kann man eine dünne Schicht auf dem Substrat erhalten; das
Verfahren läßt sich jedoch nur schwer auf die technische Herstellung in größeren Mengen, insbesondere
für die Kondensatoren, anwenden.
Zweite Verfahrenskategorie: Durch Elektronenbeschuß oder durch Ultraviolettbestrahlung eines organischen
Monomeren kann man homogene und gleichförmige dielektrische Schichten erhalten; die Bildungsgeschwindigkeit
einer solchen Schicht ist Jedoch sehr langsam und liegt in der Größenordnung von 10 Ä/Min..
Dritte Verfahrenskategorie: Durch "lumineszierende"
elektrische Entladung erhält man, ausgehend von einer Gasphase des Monomeren, eine Polymerisatschicht, die
um einige hundert bis zu einigen tausend Angström pro Minute wächst. Das so erhaltene Dielektrikum besitzt
jedoch in der Regel nicht alle erforderlichen Eigenschaften, nämlich:
- eine ausreichende WärmeStabilität, indem nämlich die
dielektrischen Eigenschaften außerhalb eines bestimmten Temperaturbereichs verschwinden;
- ausreichend niedrige dielektrische Verluste, insbesondere bei hoher Frequenz;
- einen geringen Temperaturkoeffizient, indem nämlich die Kapazität mehr oder weniger mit der Temperatur
und der Frequenz variiert; ·
- ein ausreichend hohes elektrisches Durchschlagfeld.
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Die Erfindung ermöglicht bei Anwendung eines Verfahrens der dritten Kategorie die Erzielung einer Dielektrikumsschicht mit insgesamt besseren Eigenschaften als eine
Schicht aus bekannten Polymerisaten, wobei die Wachstumsgeschwindigkeit der Schicht zu den schnellsten gehört.
Das erfindungsgemäße Dielektrikum besteht aus dem Polymerisationsprodukt
der organischen Verbindung der Formel
C F3 -CF=CF-C F3 (Perfluor-2-buten).
Die Polymerisation wird erzielt, indem man die Gasphase dieser Verbindung einem elektrischen Wechselfeld aussetzt,
welches lumineszierende Entladungen erzeugen kann.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beschreibung in Verbindung mit der Zeichnung näher erläutert. Die Zeichnung
zeigt eine perspektivische Darstellung eines Kondensators mit einer einzigen dielektrischen Schicht.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Dielektrikums verwendet man Perfluor-2-buten (C^ FQ) der vorstehenden
Formel, z.B. handelsübliches Perfluorbuten, d.h. in Spezialbehältern
geliefertes verflüssigtes Gas.
Das Gas wird in eine übliche elektrische Entladungsvorrichtung
mit einem Vakuumbehälter und einer einen Teil dieses Behälters bildenden Entladungskammer eingeführt. Diese
Kammer ist mit einer isolierten ortsfesten Elektrode, die unter Spannung gesetzt werden kann, und einer an Masse
angeschlossenen beweglichen Elektrode ausgerüstet. Die ortsfeste Elektrode nimmt ein Substrat auf, auf welchem
das aus dem zwischen den Elektroden befindlichen Gas gebil-
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dete Polymere abgeschieden wird. Der Gasdruck wird auf
einen Wert zwischen 0,05 und 0,3 Torr erniedrigt.
Man legt dann an die ortsfeste Elektrode eine elektrische Wechselspannung mit einer Frequenz zwischen 25 Hz und
15 MHz an, z.B. eine der beiden folgenden Frequenzen:
- 1000 Hz für den Betrieb bei verhältnismäßig niedriger Frequenz;
- 13,56 MHz bei technischem Hochfrequenzbetrieb.
Man regelt entweder den Wert der Spannung oder die Stellung der beweglichen Elektrode so, daß man eine lumineszierende
Entladung erhält. Diese erfolgt z.B. bei einer Wechselspannung von 300 V, wenn zwischen den in einem Abstand von
3 cm angeordneten Elektroden ein Druck von 0,1 Torr herrscht.
Dabei bildet sich eine gleichförmige und homogene Dünnschicht aus abgeschiedenem Polymerisat. Zur Gewinnung
dieser Abscheidung bringt man vorher auf der ortsfesten Elektrode der Entladungsvorrichtung ein Substrat an.
Dieses Polymere ist sehr stark vernetzt. Es ist in den üblichen Lösungsmitteln für organische Verbindungen unlöslich
und wird von üblichen chemischen Mitteln nicht angegriffen.
Die Bildungsgeschwindigkeit der Schicht liegt in der Größenordnung von 4000 bis 7000 Ä/Min. bei einem Druck
von 0,1 Torr und einer Entladung mit einem Stromverbrauch von 5 bis 10 W/cm Elektrode. Man regelt die Leistung,
indem man auf den Abstand der Elektroden und auf den Wert
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der Spannung einwirkt. Die Bildungsgeschwindigkeit ist umso größer, je mehr sich diese Leistung 5 W/cm annähert.
Eine Temperaturerhöhung des Substrats bewirkt eine Verringerung der Bildungsgeschwindigkeit der Schicht. Diese
liegt höher als die vorstehend genannten Werte, wenn das Substrat auf etwa O0C abgekühlt wird. Man erreicht so
eine Wachstumsgeschwindigkeit der Schichtdicke in der Größenordnung von 0,7 Αϊ/Min, bei einer Frequenz der angelegten
Spannung von 13»56 MHz.
Die Erfindung ist auf die Herstellung von Kondensatoren mit einer oder mehreren dielektrischen, durch Metallbelegungen
getrennten Schichten anwendbar.
Die Zeichnung zeigt eine beispielsweise Ausführungsform eines Kondensators, Er besteht aus einem Substrat 1 (aus
Glas, Keramik, Kunststoff, gegebenenfalls Metall), einer ersten Belegung 100 mit einem Ansatz 101, der die Rolle
einer Anschlußelektrode spielt. Auf dieser Belegung befindet sich eine erfindungsgemäße Polymerisatschicht 2,
welche auf der Seite der Elektrode 101 deutlich die Belegung 100 mit einem Polymerisatteil 21 überlappt, der jedoch
nur einen sehr kleinen Teil der Elektrode 101 bedeckt. Auf der Polymerisatschicht 2 befindet sich eine zweite
Belegung 200, welche über die Schicht 2 nur mit einem auf dem Substrat 1 aufliegenden Teil 201 übersteht und
eine analoge Rolle wie die Elektrode 101 spielt.
Das Herstellungsverfahren eines solchen Kondensators umfaßt drei Hauptstufen:
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Erste Stufe; Herstellung der Belegung 100 durch Abscheidung einer Metallschicht auf dem Substrat 1. Eine solche
Abscheidung kann z.B. durch Vakuumaufdampfung von Aluminium
nach vorheriger Anbringung einer die Umrisse der Belegung begrenzenden Metallmaske erfolgen, welche den außerhalb
des festgelegten Umrisses befindlichen Bereich vor einer Metallabscheidung schützt.
Anstelle einer Metallmaske kann man auch durch Lichtätzung eine Harzmaske herstellen.
Zweite Stufe: Herstellung der Polymerisatschicht 2 mittels des vorstehend beschriebenen elektrischen Entladungsverfahrens.
Zuvor muß auf das mit der Belegung 100 versehene Substrat eine Metallmaske oder eine Harzmaske aufgebracht
werden, so daß die Oberfläche der gewünschten Schicht begrenzt wird. Der am Rand abgelagerte Polymerisatüberschuß
wird entweder durch Entfernung der Maske oder durch Auflösung
des Harzes der Maske entfernt.
Dritte Stufe: Herstellung der Belegung 200. Diese Stufe verläuft analog der ersten Stufe.
Man kann einen "mehrschichtigen" Kondensator, ausgehend von dem nach den vorstehend beschriebenen drei Stufen
erhaltenen Kondensator, nach Durchführung der folgenden Verfahrensschritte erhalten:
- Abscheidung einer zusätzlichen Polymerisatschicht auf gleiche Weise wie in Stufe 2, ohne die Elektroden 101
und 201 zu bedecken;
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- Bildung einer zusätzlichen Belegung auf die gleiche Weise wie in der ersten Stufe, wobei die Belegung zum
Teil die zusätzliche Polymerisatschicht und den größten Teil der Elektrode 101 überdeckt;
- Wiederholung der vorstehenden Maßnahmen, wobei die gebildeten Belegungen abwechselnde Schichten auf der
Elektrode 201 und auf der Elektrode 101 bilden, während der ganze "mehrschichtige" Kondensator nur ein einziges
Elektrodenpaar besitzt.
Zu den noch nicht genannten, mit der Erfindung erzielten Vorteilen gehören die folgenden Eigenschaften des Dielektrikums
:
spezifischer Widerstand in der Größenordnung von
14
10 Ohm-cm;
10 Ohm-cm;
- relative Dielektrizitätskonstante von etwa 3;
- Tangente des Verlustwinkels in der Größenordnung von 3.10" , wobei dieser Wert praktisch unabhängig von der
Frequenz ist (zwischen 1 Hz und 100 KHz);
- elektrisches Durchschlagfeld von über 200 V/u;
- Koeffizient der relativen Kapazitätsänderung in Abhängigkeit von der Temperatur in der Größenordnung von 10" pro
Grad Celsius in einem Bereich von - 650C bis + 1500C;
- geringe Änderung des Verlustwinkels von Raumtemperatur bis zu 1500C;
- Wärmebeständigkeit von - 1000C bis + 3000C.
809832/0943
28Qb152
Man kann in einem Dielektrikumvolumen von 6 mm auf 6 mm bei einer Dicke von etwa 1/2 ja eine elektrische Kapazität
von 2000 pF unterbringen.
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Claims (7)
1. j Durch Einwirkung eines zur Erzeugung lumineszierender
" ' Entladungen fähigen elektrischen Wechselfelds auf die
Gasphase einer organischen Verbindung unter Polymerisation derselben erhaltenes Dielektrikum, dadurch
gekennzeichnet, daß es aus dem Polymerisationsprodukt von CF, -CF = CF-C F-, (Perf luor-2-buten) besteht.
2. Verfahren zur Herstellung eines Dielektrikums gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasphase
einem Druck zwischen 0,05 und 0,3 Torr bei einer das elektrische Feld erzeugenden Spannungsfrequenz zwischen
25 Hz und 13,56 MHz ausgesetzt und das dielektrische Polymerisat auf einem in der Gasphase angeordneten
Substrat aufgefangen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz 1000 Hz beträgt.
Dr-Ha/Ma 80983 2/0943 ORIGINAL INSPECTED
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz 13,56 MHz beträgt.
5. Mindestens eine Schicht aus einem Dielektrikum gemäß Anspruch 1 enthaltender elektrischer Kondensator.
6. Kondensator nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß er zwei oder mehr dielektrische Schichten besitzt.
7. Verfahren zur Herstellung eines Kondensators nach einem der Ansprüche 5 und 6, gekennzeichnet durch
die folgenden Verfahrensstufen:
a) Abscheidung einer Metallschicht auf einem Substrat;
b) Erzeugung einer Polymerisatschicht auf der in der vorhergehenden Stufe abgeschiedenen Schicht durch
lumineszierende Entladungen in einer Gasphase des das dielektrische Polymerisat ergebenden Monomeren;
c) Abscheidung einer zweiten Metallschicht auf der in der vorhergehenden Stufe abgeschiedenen Polymerisatschicht.
809832/0943
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---|---|---|---|
FR7703477A FR2379889A1 (fr) | 1977-02-08 | 1977-02-08 | Dielectrique constitue par un polymere en couche mince, procede de fabrication de ladite couche, et condensateurs electriques comportant un tel dielectrique |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE (1) | DE2805152A1 (de) |
FR (1) | FR2379889A1 (de) |
GB (1) | GB1575777A (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2843581A1 (de) * | 1978-10-05 | 1980-04-10 | Siemens Ag | Elektrischer schichtkondensator und verfahren zu seiner herstellung |
DE3024030A1 (de) * | 1980-06-26 | 1982-01-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Rc-netzwerk in form einer folienschaltung |
DE3442790A1 (de) * | 1984-11-23 | 1986-06-05 | Dieter Prof. Dr. Linz Bäuerle | Verfahren zur herstellung von duennschichtkondensatoren |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2900772C2 (de) * | 1979-01-10 | 1984-08-30 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Erzeugung von Schichten auf einer bandförmigen Trägerfolie |
US4301765A (en) * | 1979-01-10 | 1981-11-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Apparatus for generating layers on a carrier foil |
DE2908467A1 (de) * | 1979-03-05 | 1980-09-11 | Siemens Ag | Regenerierfaehiger elektrischer schichtkondensator |
DE3214804A1 (de) * | 1982-04-21 | 1983-10-27 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum erzeugen einer lyophoben schicht |
DE3231576A1 (de) * | 1982-08-25 | 1984-03-01 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Regenerierfaehiger elektrischer schichtkondensator |
US5125138A (en) * | 1983-12-19 | 1992-06-30 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same |
US4499520A (en) * | 1983-12-19 | 1985-02-12 | General Electric Company | Capacitor with dielectric comprising poly-functional acrylate polymer and method of making |
US5097800A (en) * | 1983-12-19 | 1992-03-24 | Spectrum Control, Inc. | High speed apparatus for forming capacitors |
US4842893A (en) * | 1983-12-19 | 1989-06-27 | Spectrum Control, Inc. | High speed process for coating substrates |
US5018048A (en) * | 1983-12-19 | 1991-05-21 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making |
US5032461A (en) * | 1983-12-19 | 1991-07-16 | Spectrum Control, Inc. | Method of making a multi-layered article |
US4954371A (en) * | 1986-06-23 | 1990-09-04 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
JPH068503B2 (ja) * | 1987-03-31 | 1994-02-02 | セントラル硝子株式会社 | 含フツ素樹脂被膜の形成方法 |
WO1993014881A1 (en) * | 1992-02-03 | 1993-08-05 | The United States Of America Secretary Of The Army, The Pentagon | Polymer based film capacitor with increased dielectric breakdown strengths |
JP2009103192A (ja) * | 2007-10-23 | 2009-05-14 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | カップリングカバーおよびターニング工具 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB905713A (en) * | 1958-03-05 | 1962-09-12 | Gen Electric | Method of making an electric capacitor |
US3068510A (en) * | 1959-12-14 | 1962-12-18 | Radiation Res Corp | Polymerizing method and apparatus |
GB1342748A (de) * | 1970-02-03 | 1974-01-03 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3318790A (en) * | 1964-04-29 | 1967-05-09 | Texas Instruments Inc | Production of thin organic polymer by screened glow discharge |
US3311801A (en) * | 1966-06-23 | 1967-03-28 | Intron Int Inc | Electric capacitor |
ES355157A1 (es) * | 1967-06-08 | 1969-11-16 | Western Electric Co | Procedimiento para producir un revestimiento de polimero sobre un sustrato. |
US3991451A (en) * | 1968-10-04 | 1976-11-16 | Tokyo Denki Kabushiki Kaisha | Method of making a fluoride film capacitor |
US3813266A (en) * | 1970-05-01 | 1974-05-28 | Getters Spa | Process for producing a capacitor |
US3776762A (en) * | 1971-10-18 | 1973-12-04 | Kote Corp Du | Dry lubrication |
GB1417085A (en) * | 1973-05-17 | 1975-12-10 | Standard Telephones Cables Ltd | Plasma etching |
US4013532A (en) * | 1975-03-03 | 1977-03-22 | Airco, Inc. | Method for coating a substrate |
US4054680A (en) * | 1976-06-28 | 1977-10-18 | General Electric Company | Method of fabricating improved capacitors and transformers |
-
1977
- 1977-02-08 FR FR7703477A patent/FR2379889A1/fr active Granted
-
1978
- 1978-02-06 GB GB4741/78A patent/GB1575777A/en not_active Expired
- 1978-02-06 US US05/875,575 patent/US4153925A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-02-07 DE DE19782805152 patent/DE2805152A1/de not_active Withdrawn
- 1978-02-08 JP JP1335678A patent/JPS5399455A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB905713A (en) * | 1958-03-05 | 1962-09-12 | Gen Electric | Method of making an electric capacitor |
US3068510A (en) * | 1959-12-14 | 1962-12-18 | Radiation Res Corp | Polymerizing method and apparatus |
GB1342748A (de) * | 1970-02-03 | 1974-01-03 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2843581A1 (de) * | 1978-10-05 | 1980-04-10 | Siemens Ag | Elektrischer schichtkondensator und verfahren zu seiner herstellung |
DE3024030A1 (de) * | 1980-06-26 | 1982-01-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Rc-netzwerk in form einer folienschaltung |
DE3442790A1 (de) * | 1984-11-23 | 1986-06-05 | Dieter Prof. Dr. Linz Bäuerle | Verfahren zur herstellung von duennschichtkondensatoren |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2379889B1 (de) | 1981-05-29 |
US4153925A (en) | 1979-05-08 |
GB1575777A (en) | 1980-09-24 |
FR2379889A1 (fr) | 1978-09-01 |
JPS5399455A (en) | 1978-08-30 |
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