DE3010314B1 - Verfahren zur Innenbeschichtung von elektrisch nicht leitfaehigen Rohren mittels Gasentladungen - Google Patents
Verfahren zur Innenbeschichtung von elektrisch nicht leitfaehigen Rohren mittels GasentladungenInfo
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
- C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/003—General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
- C03C17/004—Coating the inside
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/515—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using pulsed discharges
Description
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die gesamte zu beschichtende Rohrlänge
koaxial in einem Metallrohr angeordnet ist und die Gasentladung mit Mikrowellen erzeugt wird.
3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Mikrowellenleistung an
mehreren Stellen entlang der Rohrachse eingekoppelt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasentladung durch ein elektrisches
Längsfeld, das sich mindestens über die gesamte zu beschichtende Rohrlänge erstreckt,
erzeugt wird.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Innenbeschichtung von Glas- oder Keramikrohren mittels
reaktiver Abscheidung aus einem durch das Rohr strömenden Gas, das durch eine über die gesamte zu
beschichtende Rohrlänge ausgedehnte elektrische Gasentladung dissoziiert wird. Es handelt sich um ein
Plasmabeschichtungsverfahren.
Bei den Plasmabeschichtungsverfahren wird das durchströmende Gas ionisiert und seine Moleküle
dissoziiert. Obwohl der Ionisationsgrad gering ist — er übersteigt selten 1% — kann der Dissoziationsgrad
hohe Werte zwischen 50% und 100% erreichen. Die dissoziierten Bestandteile bilden an der Rohrwand neue
Moleküle, die das Schichtmaterial darstellen.
Plasmabeschichtungsverfahren sind Stand der Technik (DE-OS 23 28 930, DE-PS 24 44 100, DE-OS
26 42 949, DE-OS 27 12 993, DE-OS 28 04 125). Dabei wird das Gasentladungsplasma in einer im Vergleich zur
Rohrlänge nur kurzen Zone erzeugt und diese Plasrnazone axial verschoben, um eine möglichst
gleichmäßige Beschichtung über eine gewisse Rohrlänge von etwa einem Meter zu erhalten. Die bekannten
Plasmabesehichtungsverfahren haben gemeinsam, daß sie eine Relativbewegung zwischen der plasmaerregenden
Vorrichtung und dem zu beschichtenden Rohr benötigen.
Die Vorrichtung zur mechanischen Relativbewegung ist aufwendig und wartungsintensiv.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Plasmabeschichtungsverfahren
zu ermöglichen, bei dem die Beschichtung mit hoher Reaktionsausbeute gleichzeitig über die
gesamte Rohrlänge erfolgt.
Die Schwierigkeit liegt darin, daß bei einer über die gesamte Rohriänge brennenden Entladung das einströmende
Gas schon am Rohranfang verbraucht wird.
Eine Möglichkeit, eine gleichmäßige Beschichtung über die Rohrlänge zu erreichen, wäre dadurch gegeben,
die Gasentladung nur so schwach brennen zu lassen, daß der Dissoziationsgrad niedrig bleibt und so auch am
Rohrende noch genügend unverbrauchtes Gas vorhanden ist. Diese Lösung hat den Nachteil, daß auch
unverbrauchtes Gas ausströmt und Reaktionsausbeute und Beschichtungsgeschwindigkeit gering sind,
ίο Versuche mit Gasentladungspulsen in Sauerstoff haben gezeigt, daß der Dissoziationsgrad von der
zugeführten mittleren elektrischen Leistung abhängt, aber nicht vom Tastverhältnis, wenn nur die Bedingung
eingehalten wird, daß der Impulsabstand nicht länger ist als die Zeit, die das Gas zum Durchströmen der
Plasmazone benötigt.
Die Erfindung nutzt dieses Ergebnis aus und schlägt zur Lösung der Aufgabe einen Gasentladungspuls mit
kleinem Tastverhältnis von etwa 0,01 bis 0,1 vor, bei dem der Impulsabstand gleich der Durchströmzeit des Gases
durch die Rohrlänge ist. Durch diese Maßnahme wird erreicht, daß im gesamten Entladungsraum für jede
einzelne Entladung unverbrauchtes Gas zur Verfügung steht.
Die Erzeugung von langen Plasmasäulen, die sich über die gesamte zu beschichtende Rohrlänge erstrekken,
kann mit Hilfe von Mikrowellenpulsen entsprechend den Unteransprüchen 2 und 3 erfolgen oder mit
elektrischen Gleich- oder Wechselfeldpulsen entsprechend Unteranspruch 4.
Bei der Mikrowellenanwendung wird das koaxiale System, bestehend aus Plasmasäule, Glasrohr und
Metallrohr, als Wellenleiter benutzt.
Ein axiales Längsfeld kann einfach durch innere Elektroden in der Nähe der Rohrenden angelegt
werden oder — bei genügend hohen Feldfrequenzen — durch äußere Elektroden.
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens liegen darin, daß einfache Entladungsgeometrien
verwendet werden können und eine Verschiebung der plasmaerregenden Vorrichtung nicht benötigt wird.
Ein Ausführungsbeispiel, bei dem ein Quarzglasrohr mit dotiertem S1O2 nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren unter 500 W mittlerer Mikrowellenleistung beschichtet wird, wird an Hand der Zeichnung erläutert:
Das Quarzrohr 1 (Innendurchmesser 1 cm, Länge 1 m) befindet sich koaxial im heizbaren Edelstahlrohr 2,
dessen Durchmesser 9 cm beträgt. Die elektrische Energie zur Plasmaerzeugung wird von zwei Magnetrons
(Typ YJ 1500, Frequenz 2450MHz) geliefert, die mit synchronen Stromimpulsen betrieben werden. Die
Mikrowellenenergie wird mittels der beiden Stifte 3 und 3a eingekoppelt. Auf diese Weise werden zwei
Hu-Wellen erregt, die senkrecht zueinander polarisiert
sind, so daß eine gegenseitige Beeinflussung der beiden Magnetrons vermieden wird. Die Durchströmgeschwindigkeit
des Gases (SiCl4 + O2 + GeCl4, Gesamtdruck
13 mbar) beträgt 10 m/s. Daraus folgt für den Impulsabstand eine Dauer von 100 ms. Die impulsleistung je
Magnetron ist 5 kW. Bei einer Impulsdauer von 5 ms ist die mittlere Gesamtleistung 500 W.
Eine Inhomogenität der Beschichtung in Längsrichtung, die durch den axialen Druckgradienten im
strömenden Gas verursacht wird, kann durch Einstellung ungleicher Impulsleistungen der beiden Magnetrons
vermindert werden.
Hierzu 1 Blatt ZeichnuBgea
Claims (1)
1. Verfahren zur Innenbeschichtung von elektrisch nicht leitfähigen Rohren mittels reaktiver Abscheidung
aus einem durch das Rohr strömenden Gas, das durch eine elektrische Gasentladung dissoziiert
wird, bei der die Abscheidung gleichzeitig über der gesamten Rohrlänge stattfindet, dadurch gekennzeichnet,
daß Impulsentladungen verwendet werden, bei denen der Impulsabstand so an die Durchlaufzeit des Gases durch das Rohr
angepaßt ist, daß der zeitliche Abstand zwischen zwei aufeinander folgenden Impulsen gerade der
Zeit entspricht, die zur Füllung des Rohres mit unverbrauchtem Gas benötigt wird.
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE3010314A DE3010314C2 (de) | 1980-03-18 | 1980-03-18 | Verfahren zur innenbeschichtung von elektrisch nicht leitfähigen Rohren mittels Gasentladungen |
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---|---|
DE3010314B1 true DE3010314B1 (de) | 1981-02-05 |
DE3010314C2 DE3010314C2 (de) | 1982-01-07 |
Family
ID=6097520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE3010314A Expired DE3010314C2 (de) | 1980-03-18 | 1980-03-18 | Verfahren zur innenbeschichtung von elektrisch nicht leitfähigen Rohren mittels Gasentladungen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4349582A (de) |
EP (1) | EP0036191B1 (de) |
JP (1) | JPS56139672A (de) |
CA (1) | CA1151105A (de) |
DE (1) | DE3010314C2 (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8380 | Miscellaneous part iii |
Free format text: DIE BEZEICHNUNG LAUTET RICHTIG: VERFAHREN ZUR INNENBESCHICHTUNG VON ELEKTRISCH NICHT LEITFAEHIGEN ROHREN MITTELSGASENTLADUNGEN |
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |