DE3232633A1 - Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor - Google Patents

Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor

Info

Publication number
DE3232633A1
DE3232633A1 DE19823232633 DE3232633A DE3232633A1 DE 3232633 A1 DE3232633 A1 DE 3232633A1 DE 19823232633 DE19823232633 DE 19823232633 DE 3232633 A DE3232633 A DE 3232633A DE 3232633 A1 DE3232633 A1 DE 3232633A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
film
discharge tube
range
thickness
lamp according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19823232633
Other languages
English (en)
Inventor
Jerome Sidney Schenectady N.Y. Prener
Seth David Silverstein
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of DE3232633A1 publication Critical patent/DE3232633A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/82Lamps with high-pressure unconstricted discharge having a cold pressure > 400 Torr
    • H01J61/825High-pressure sodium lamps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/30Vessels; Containers
    • H01J61/35Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings

Description

-U-
Hochdruck-Natriumdampflampe mit verbessertem Infrarot-Reflektor
Die Erfindung bezieht sich auf Hochdruck-Natriumdampflampen und sie richtet sich auf das Verbesserung der Wirksamkeit solcher Lampen durch die kombinierte Wirkung des vergrößerten Entladungsrohr-Durchmessers und der Verwendung eines verbesserten Infrarot reflektierenden Films, um die Temperatur der Wandung des Entladungsrohrs im optimalen Bereich zu halten.
Eine Hochdruck-Natriumdampflampe umfaßt im allgemeinen ein inneres Entladungsrohr, das innerhalb einer äußeren Schutzumhüllung angeordnet ist, und die ein übliches ionisierbares Medium aus Natrium, Quecksilber und einem Inertgas enthält, letzteres um das Zünden zu erleichtern. Strom wird durch die Elektroden geführt, die an jedem Ende des Entladungsrohrs angeordnet sind, wobei das inerte Gas ionisiert und einen Bogen zwischen den Elektroden bildet. Aufgrund der Hitze des Bogens verdampft das Natrium. Eine optimale Temperatur für die Wandung des Entladungsrohrs solcher Lampen liegt im Bereich von 1 400 bis 1 500°K. Der Durchmesser des Entladungsrohrs einer üblichen Hochdruck-Natriumdampflampe von 400 Watt beträgt etwa 7 mm.
Ein wichtiger Gesichtspunkt für die Schaffung von Hochdruck-Natriumdampflampen ist die "Wandbelastung", die als Leistung pro Flächeneinheit definiert ist. Im praktischen wird die Wandbelastung dadurch bestimmt, daß man die der Lampe zugeführte Leistung durch die Fläche der inneren Oberfläche des Entladungsrohrs dividiert. Die Bedeutung der Wandbelastung ergibt sich aus ihrer merklichen Wirkung auf die Temperatur der Wandung des Entladungsrohrs, die wiederum in einer engen Beziehung zur Lampenwirksamkeit, die in Lumen/Watt gemessen ist, steht. Es ist daher in hohem Maße erwünscht, eine vorbestimte Wandtemperatür für das Entladungsrohr in einer Hochdruck-Natriumdampflampe aufrechtzuerhalten.
J. F. Weymouth und E. F. Wyner haben in einem Vortrag, der bei dem jährlichen Treffen der IES im August 1980 gehalten wurde, demonstriert, daß die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe durch Vergrößern des Durchmessers des Entladungsrohrs bei konstanter Wandungstemperatur des Entladungsrohrs verbessert wird. In einer üblichen Hochdruck-Natriumdampflampe wird ein merklicher Anteil der der Lampe zugeführten Energie als langwellige Infrarotstrahlung des erhitzten Entladungsrohrs aus Al3O3 abgestrahlt. Da die thermische Strahlung proportional zur Fläche des Entladungsrohres ist, führt ein größerer Durchmesser des Entladungsrohrs, der eine größere Fläche zur Folge hat, zu einer stärkeren Abstrahlung von Wärme. Wenn nicht Schritte unternommen werden, die abgestrahlte Wärme wiederzugewinnen, dann wird die Temperatur der Wandung des Entladungsrohrs unterhalb des optimalen Temperaturbereiches abfallen.und es muß mehr Energie zugeführt werden, um die Wandtemperatur des Entladungsrohrs wieder anzuheben. Außerdem ist die Natriumkonzentration umgekehr proportional zur Wandtemperatur des Entladungsrohrs. Je kühler die Wandtemperatur um so mehr wird die Hauptnatriumemissionslinie (NaD) reabsorbiert und dies führt zu einer Verminderung der Lampenwirksamkeit.
Das von Weymouth und Wyner vorgeschlagene Verfahren zur Aufrechterhaltung der Wandtemperatur des Entladungsrohrs bei einem größeren Durchmesser besteht im Ersatz des Aluminiums als Material für das Entladungsrohr durch Yttriumoxid (Y2°3^' das eine geringere Emission, insbesondere im Infrarotbereich des Spektrums; als Aluminiumoxid aufweist.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe mit einem Durchmesser für das Entladungsrohr, der größer als üblich ist, dadurch erhöht, daß man einen Infrarot reflektierenden Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Lampenumhüllung anordnet, der aus mit Zinn dotiertem Indiumoxid (In-O..: Sn) oder mit Fluor
dotiertem Zinnoxid (SnO,, :F) in ,Kombination mit dielektrischen
2 und/
Filmen aus Titanoxid (TiO2) oder Siliciumoxid (SiO2) besteht. Der IR reflektierende Verbundfilm ist für sichtbare Strahlung im wesentlichen transparent, doch reflektiert er Infrarotstrahlung, die sonst verloren ginge, zu dem Entladungsrohr zurück. Ein beträchtlicher Anteil der IR-Emission des Bogens wird in das in dem Entladungsrohr enthaltene Plasma zurückreflektiert, wo dieses Infrarot reabsorbiert wird und dadurch die erforderliche Eingangsleistung vermindert. Dielektrische TiO-- und SiO2~Filme in Kombination mit dem In2O3:Sn- oder SnO-:F-FiIm können die reflektierende Wirkung des Verbundfilmes für die sichtbaren Wellenlängen vermindern, die für die nahe dem sichtbaren Bereich liegenden Infrarotwellenlängen dagegen erhöhen. Die dielektrischen Filme können auch die chemische Stabilität des Verbundfilmes bei hoher Temperatur erhöhen. Auf diese Weise wird die Wandtemperatur des Entladungsrohres wirksam im optimalen Bereich gehalten.
In der Vergangenheit sind Infrarot reflektierende Filme bei Niederdruck-Natriumdampflampen als Mittel zur Verbesserung der Wirksamkeit eingesetzt worden. In der US-PS 3,400 288 ist eine solche Lampe beschrieben. Die Betriebsart einer Niederdruck-Natriumdampflampe ist jedoch von der einer Hochdruck-Natriumdampflampe verschieden. Infolgedessen ist auch der Mechanismus zum Erhöhen der Wirksamkeit bei der Niederdruck-Natriumdampflampe von dem bei der Hochdruck-Natriumdampflampe verschieden. Bei der Niederdruck-Natriumdampflampe ist die Wirksamkeitszunahme ein Ergebnis der Erhöhung des Natriumdampfdruckes bei konstanter Eingangsleistung aufgrund der höheren Wandtemperatur. Im Gegensatz dazu beruht die Wirksamkeitszunähme bei der erfindungsgemäßen Hochdruck-Natriumdampflampe auf der kombinierten Wirkung des vergrößerten Entladungsrohrdurchmessers und der Anwendung des Infrarot reflektierenden Verbundfilmes, um die optimale Wandbelastung aufrecht zu erhalten und einen Teil der nicht sichtbaren Emission des Plasmas wieder in das Plasma zurückzureflektieren. Darüber hinaus ist die Vergrößerung des Entladungsrohrdurchmessers einer Niederdrucklampe nicht von einer Änderung in der Wirksamkeit begleitet, wie sie in
3
- ar -
Hochdruck-Natriumdampflampen beobachtet wird.
In den US-PS 3,931,536 und 3,662,203 sind Hochdruck-Natriumdampflampen mit Infrarot reflektierenden Filmen beschrieben. In der US-PS 3,931,536 besteht der reflektierende Film aus alternierenden Schichten von Titandioxid und Siliziumdioxid. Ein solcher Reflektor besteht aus 13 alternierenden Viertelwellenschichten aus TiO- und SiO2, die sandwichartig zwischen Achtelwellenschichten von SiO2 angeordnet sind. Ein solcher Reflektor ist daher deutlich komplexer als der in der vorliegenden Erfindung angewendete Infrarot reflektierende Verbundfilm.
In der US-PS 3,662,203 wird ein zusätzliches Erhitzen des Entladungsrohres vorgeschlagen, indem man die äußere Umhüllung in sehr enge Nachbarschaft zum Entladungsrohr bringt. Die äußere Umhüllung, die aus stark reflektierendem Quarz besteht, strahlt die Bogenwärme zu dem ebenfalls aus Quarz bestehenden Entladungsrohr zurück. Bei dieser Lampe verwendet man daher nicht nur eine aus relativ teurem Quarz bestehende äußere Umhüllung, sondern die reduzierte Oberfläche der äußeren Umhüllung kann außerdem zu einem unerwünschten Überhitzen der auf der äußeren Umhüllung angeordneten reflektierenden Filme führen.
Keine der beiden US-PS 3,931,536 und 3,662,203 weist in irgendeiner Weise auf die vorteilhafte Wirkung des vergrößerten Entladungsrohrdurchmessers einer Hochdruck-Natriumdampflampe und eines Infrarot reflektierenden In3O3ISn- oder SnO2:F-Films auf die Wirksamkeit einer solchen Lampe hin.
Nach der vorliegenden Erfindung wird die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe dadurch verbessert, daß man gleichzeitig den Durchmesser des Entladungsrohres erhöht und einen IR reflektierenden Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Lampenumhüllung anordnet, der aus solchen halbleitenden Oxiden,
wie In3O3ISn oder SnO3:F und Dielektrika, wie TiO3 und SiO3 besteht.
Die Filme aus Halbleiteroxid und Dielektrikum reflektieren Infrarotenergie, die sonst entweder absorbiert oder direkt durch die äußere Umhüllung abgestrahlt werden würde, in das Plasma im Entladungsrohr zurück. Die dielektrischen Materialien fördern auch die chemische Stabilität der Halbleiteroxid-Filme bei hoher Temperatur.
So führt das überziehen von Halbleiteroxidfilm aus In3O3:Sn oder SnO3:F mit TiO2 zu einer erhöhten Stabilität des Halbleiteroxides, erhöht jedoch die Wirksamkeit der Hochdruck-Natriumdampflampe gegenüber nur dem Halbleiteroxid-Film nicht. Doch wird die Wirksamkeit der Hochdruck-Natriumdampflampe gegenüber einer solchen mit nur einem Halbleiteroxid-Film erhöht, indem man einen 150nm dicken In_0,:Sn-FiIm mit einem 120 nm dicken SiO3-FiIm überzieht, wodurch gleichzeitig die chemische Stabilität des Halbleiteroxid-Filmes verbessert wird. Ein Verbundfilm aus drei Schichten schließlich, bestehend aus In-O3:Sn zwischen einem TiO„-Grundfilm und einem SiO -überzug auf dem Halbleiteroxid,
~ 2
ergibt eine noch größere Zunahme in der Wirksamkeit, verglichen mit dem vorstehenden Zwei-Schichten-Verbundfilm.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist die erfindungsgemäße Lampe einen Dreischicht-Verbundfilm aus TiO_- In3O-:Sn-SiO„ auf, deren einzelne Filmdicken 130-150-120 nm betragen. Im allgemeinen können die optimalen Dicken für die dielektrischen TiO3- und SiO„-Filme um +^ 10 nm variieren.
Auf diese Weise wird die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich von 1400 bis 15000K bei einem Entladungsrohr mit einem größeren als üblichen Durchmesser aufrecht erhalten.
Die Dicke des Halbleiteroxid-Films kann im Bereich von 80 bis 350 nm variieren, liegt jedoch vorzugsweise zwischen 130 und 200 nm für In3O3:Sn und zwischen 130 und 250 nm für SnO2:F.
Der Entladungsrohrdurchmesser liegt vorzugsweise im Bereich von 10 bis 14 mm, der bevorzugteste Bereich ist der zwischen 12 und 14 mm, doch kann dieser Innendurchmesser bis zu 25 mm betragen.
Der In2O :Sn-FiIm kann unter Verwendung eines Sprays an der Luft mit anschließendem Glühen auf Glas aufgebracht werden. Die dielektrischen Filme können nach einer Reihe von Verfahren abgeschieden werden. So kann amorphes SiO„ durch übliche Hydrolyse von Siliziumverbindungen, wie Siliziumhalogeniden und organischen Silikatestern bei tiefer Temperatur abgeschieden werden. TiO2 kann man bei tiefer Temperatur durch Hydrolyse von TiCl. abscheiden.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe und die chemische Stabilität Infrarot reflektierender Halbleiteroxid-Filme bei hoher Temperatur zu verbessern. Weiter soll die Wirksamkeit einer solchen Lampe dadurch verbessert werden, daß man den Durchmesser des Entladungsrohres vergrößert und einen Infrarot reflektierenden Verbundfilm aus einem Halbleiteroxid-Film und dielektrischen Filmen auf die innere Oberfläche der äußeren Umhüllung aufbringt, um die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich zu halten. Schließlich wird durch die vorliegende Erfindung eine hochwirksame Hochdruck-Natriumdampflampe geschaffen, die ein Entladungsrohr aufweist mit einem Durchmesser, der größer ist als üblich, und einer äußeren Umhüllung, die einen Halbleiteroxid-Film aus In2O-:Sn oder SnO-:F überzogen mit einem dielektrischen Film aus TiO- und SiO2 aufweist, wobei der Halbleiterfilm auch sandwichartig zwischen den beiden dielektrischen Materialien angeordnet sein kann, um so die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich zu halten.
Im folgenden wird die Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert. Im einzelnen zeigen:
Figur 1 - eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Hochdruck-Natriumdampflampe mit einem Infrarot reflektierenden
* mm
Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Umhüllung,
Figur 2 - die Wellenlängen der emittierten Linien der Hochdruck-Natriumdampflampe und das spektrale Reflexionsvermögen und die Durchlässigkeit eines 150 nm dicken In-O3ISn-FiImS, der auf Glas aufgebracht ist,
Figur 3 - das spektrale Reflexionsvermögen einer einzelnen 150 nm dicken Schicht aus In_O_:Sn auf einem Glassubstrat und das spektrale Reflexionsvermögen des gleichen Filmes, der mit einem 120 nm dicken Film aus SiO? überzogen ist,
Figur 4 - ähnlich der Figur 3 das spektrale Reflexionsvermögen des In3O-:Sn-Filmes, der jedoch mit einem 120 nm dicken Film aus TiO„ überzogen ist, und
Figur 5 - das spektrale Reflexionsvermögen eines Dreischicht-Verbundfilmes aus TiO3-In2O-:Sn-SiO2, wobei die einzelnen Schichten eine Dicke von 130-150-120 nm haben.
Die in Figur 1 gezeigte Ausführungsform einer Hochdruck-Natriumdampflampe 10 umfaßt eine äußere Glasumhüllung 1 mit einem Infrarot reflektierenden Verbundfilm 2, der vorzugsweise auf der inneren Oberfläche der Umhüllung 1 angeordnet ist. Ein Natrium einschließendes übliches ionisierbares Entladungsmedium ist innerhalb eines Bogenentladungsrohres 4 angeordnet, das innerhalb der äußeren Umhüllung 1 mittels der Elektroden 5 und 6, die elektrisch mit leitenden Endkappen 7 und 8 verbunden sind, montiert ist.Mechanische Abstützung für die Elektrode 6 wird durch eine Vertiefung 11 in der äußeren Umhüllung 1 gewährt, um die die Elektrode 6 teilweise gewickelt ist. Das flexible Teil 12 verbindet die Elektrode 6 mechanisch und elektrisch mit der Endkappe 8 und sorgt für eine Kompensation der thermischen Ausdehnung des Entladungsrohres. Der Innendurchmesser des Entladungsrohres kann im Bereich von 10 bis 25 mm liegen, ist jedoch vorzugsweise im Bereich von 10 bis 14 mm und am bevorzugtesten zwischen 12 und
14 mm. Der Durchmesser des Entladungsrohres 4 hängt auch von der Leistung der Lampe ab. So hat eine konventionelle Hochdruck-Natriumdampflampe von 400 Watt einen Entladungsrohrdurchmesser von etwa 6 bis 7 Millimetern. Die Lampe 10 kann auch mit einem üblichen Edison-Schraubsockel 3 versehen sein. Der Raum 9 zwischen dem Entladungsrohr 4 und der äußeren Umhüllung 1 kann mit einem Inertgas, wie Argon, gefüllt sein, doch ist er in der bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Lampe evakuiert.
Der IR reflektierende Verbundfilm 2 kann stark mit Zinn dotiertes In3O3 oder mit Fluor dotiertes SnO2 umfassen, wobei dieser Halbleiteroxid-Film eine Dicke im Bereich von 80 bis 350 nm aufweist und er mit einem 120 nm dicken dielektrischen Film aus TiO2 oder SiO2 überzogen ist. In einer anderen Ausführungsform besteht der Infrarot reflektierende Film 2 aus einem Halbleiteroxid-Film, der auf einem TiO^-Film als Substrat angeordnet und mit einem Film aus SiO2 überzogen ist. Bei dieser Ausführungsform betragen die jeweiligen Dicken der Filme Ti02-Halbleiteroxid-Si02 130-15Ö-120 nm. Um optimale Ergebnisse zu erzielen, betragen die Dicken der dielektrischen TiO2- und SiO2~Filme 130 bzw. 120 nm, jeweils + 10 nm. Der bevorzugte Dickenbereich für den Halbleiteroxid-Film aus In,
bis 250 nm.
Film aus In2O.,:Sn oder SnO2:F reicht von 130 bis 200 nm bzw. 130
Die Halbleiteroxid-Filme aus In3O :Sn oder SnO3:F können mit Hilfe der üblichen an der freien Luft ausgeführten Sprühtechnik auf die äußere oder innere Oberfläche der äußeren Lampenumhüllung aufgebracht werden. Bei dieser Technik wird das Halbleitermaterial auf Glassubstrate aufgesprüht, die auf 4000C oder höher erhitzt sind. Die SiO2~Filme können durch Tieftemperaturhydrolyse von Siliziumverbindungen, wie Siliziumhalogeniden und organischen Silikatestern, erhalten werden. TiO2-Filme kann man durch Tieftemperaturhydrolyse von z.B. TiCl. abscheiden.
Figur 2 veranschaulicht die spektrale Durchlässigkeit T und das spektrale Reflexionsvermögen R eines einzelnen 150 nm dicken In3O3:Sn-Films, der eine freie Trägerkonzentration von 1,3 χ 10 cm aufweist. Die emittierten Linien eines Hochdrucknatrium-
bogens (bei dem die Höhen der relativen Stärke entsprechen), sind entlang der horizontalen Achse aufgetragen. Der Anteil des durchgelassenen oder reflektierten Lichtes läßt sich auf der vertikalen Achse ablesen. Aus Figur 2 ergibt sich, daß der In2O3:Sn-FiIm im Bereich von 1000 bis 3000 nm stark reflektierend ist und ein geringes Absorptionsvermögen im sichtbaren Spektralbereich aufweist, der die Hauptemissionslinie des Natriums im Bereich von 600 nm (NaD) einschließt. Das durchschnittliche Absorptionsvermögen für sichtbares Licht des Verbundstoffes aus In3O3:Sn-FiIm und Glassubstrat beträgt ungefähr 0,03. Der sichtbare Abschnitt des Spektrums, der in Figur 2 veranschaulicht ist, erstreckt sich bis etwa 700 nm, während der dem sichtbaren Bereich nahe Infrarot-Bereich von 700 bis etwa 1000 nm reicht. Die diskreten infraroten Natriumemissionen, die von erregten atomaren Zuständen herrühren, erscheinen bei 1100, 1850 und 2100 nm. Diese Emissionen werden partiell zum Entladungsrohr und in das Plasma zurückreflektiert, wo sie teilweise reabsorbiert werden, und so die Verminderung der Eingangsleistung bewirken. Der reflektierende Film reflektiert auch kontinuierliche Infrarot-Emissionen zu dem Entladungsrohr zurück, die hauptsächlich von der Rekombination ionisierter Na„-Moleküle resultieren und zu einem gewissen Maße auch Strahlung von molekularen Natrium-Quecksilber-Komplexen, was die Lampenwirksamkeit weiter verbessert.
Die Verwendung eines einzelnen 150 nm dicken reflektierenden In-O.,:Sn-Filmes in Kombination mit einem Entladungsrohr, dessen Durchmesser größer ist als üblich, führt zu einer beträchtlichen Verbesserung der Wirksamkeit der Hochdruck-Natriumdampflampe. Ein Teil der Wirksamkeitszunahme ist das Ergebnis des vergrößerten Entladungsrohr-Durchmessers. Eine weitere Zunahme ergibt sich aus der partiellen Reflexion und Absorption der IR Emission des Plasmas aufgrund der Infrarot reflektierenden Wirkung des In?0_:Sn. Der Einsatz des Infrarot reflektierenden Filmes ergibt einen merklichen Beitrag zur Verbesserung der Lampenwirksamkeit, insbesondere wenn man in Betracht zieht, daß in einer üblichen Hochdruck-Natriumdampflampe ungefähr 35% der Eingangsenergie als langwellige IR-Strahlung des erhitzten Aluminiumoxid-Entladungsrohres zerstreut werden.
AO
Das spektrale Reflexionsvermögen eines 150 nm dicken In3O3:Sn-Filmes, der mit einem 120 nm dicken Film aus SiO2 überzogen ist, ist in Figur 3 dargestellt, wo zum erleichterten Vergleich auch das spektrale Reflexionsvermögen eines einzelnen 150 nm dicken In3O3:Sn-Filmes gezeigt ist. Es ist zu erkennen, daß für den überzogenen In-O :Sn-FiIm das Reflexionsvermögen im sicht-
^ 3
baren Bereich leicht reduziert ist, verbunden mit der durch den Druck verbreiterten NaD-Linie und daß das Reflexionsvermögen im Bereich der Natriumemissionslinie bei 819 nm (nahes Infrarot) erhöht ist. Diese beiden Wirkungen führen zu einer Erhöhung der Wirksamkeit des Verbundfilmes gegenüber der, die durch einen einzelnen In O3:Sn-FiIm erhalten wird.
Figur 4 zeigt das spektrale Reflexionsvermögen eines In3O3:Sn-Filmes ähnlich dem in Figur 3, der jedoch in Abweichung von Figur 3 mit einem 120 nm dicken Film aus TiO3 überzogen ist. Bei dieser Ausführungsform erhält man gegenüber einem einzelnen In9O-:Sn-FiIm keine Zunahme der Wirksamkeit, da der Gewinn hinsichtlich der Reflexion der 819 nm-Linie aufgrund einer Abnahme in der Durchlässigkeit für die NaD-Linie wieder verloren geht. Der TiO_-Decküberzug verbessert jedoch die chemische Stabilität des In3O3:Sn-Filmes bei hoher Temperatur.
Das Reflexionsvermögen — — ■
einer bevorzugten Ausführungsform eines aus drei Schichten bestehenden Verbundfilmes aus einem 150 nm dicken In3O3:Sn-FiIm, der auf einem 130 nm dicken TiO3-Filmsubstrat angeordnet und dann mit einem 120 nm dicken SiO3-FiIm überzogen ist, kann der Figur 5 entnommen werden. Der Vergleich mit dem Reflexionsvermögen eines einzelnen 150 nm dicken In3O3:Sn-Filmes zeigt das erhöhte Reflexionsvermögen bei der im nahen Infrarot bei 819 nm liegenden Natriumlinie und ein vermindertes Reflexionsvermögen bei der sichtbaren NaD-Linie. Es wurde abgeschätzt, daß der Dreischicht-Verbundfilm eine Wirksamkeitszunähme von etwa 4% gegenüber einem einzelnen In3O3CSn-FiIm ergibt. Aufgrund des verstärkten Reflexionsvermögens im 819 nm-Bereich der Natriumemission ergibt der Dreischicht-Verbundfilm auch eine größere Wirksamkeit als ein Verbundfilm, der nur eine einzelne SiO^-Deckschicht aufweist.
4b
Bei jedem der vorbeschriebenen Infrarot reflektierenden Verbundfilme sollte die äußere Umhüllung ausreichend groß gemacht werden, um eine Beschädigung des Filmes aufgrund von überhitzung zu vermeiden.
Die vorliegende Erfindung schafft eine merkliche Verbesserung hinsichtlich der Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe und hinsichtlich der chemischen Stabilität des Infrarot reflektierenden Halbleiteroxid-Filmes bei hoher Temperatur. Halbleiteroxid-Filme in Kombination mit dieelektrischen Filmen aus und SiO„ gestatten eine wirtschaftliche und wirksame Wiedergewinnung von Infrarotstrahlung, die dann vorteilhaft zu einem Entladungsrohr mit vergrößertem Durchmesser zurückreflektiert wird und dadurch die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich hält. Die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe mit einem Entladungsrohr mit vergrößertem Durchmesser, sowie den oben beschriebenen, verbesserten reflektierenden Verbundfilmen, ist größer als die einer ähnlichen Lampe, die nur einen einzelnen In„0_:Sn- oder SnO_:F-FiIm aufweist.

Claims (22)

  1. Patentan Sprüche
    ρ.)Hochdruck-Natriumdampflampe mit
    einem langgestreckten, sichtbares Licht durchlassenden, druckbeständigen Entladungsrohr mit Elektroden in den gegenüberliegenden Enden,
    wobei das Entladungsrohr einen Innendurchmesser im Bereich von 10 bis 25 mm aufweist,
    einem atomaren Natrium im Entladungsrohr, wobei das Natrium auf Anregung Energie im sichtbaren und Infrarot-Bereich des elektromagnetischen Spektrums emittiert und einer evakuierbaren äußeren Umhüllung, die das Entladungsrohr umgibt,
    wobei auf der äußeren Umhüllung ein zusammengesetzter Infrarot reflektierender Film vorhanden ist, der einen In2O^rSn-FiIm einschließt, der mit einem Dielektrikum überzogen, das ausgewählt ist aus TiO2 und SiO2 und der Verbundfilm einen beträchtlichen Anteil des sichtbaren Lichtes durchläßt und einen beträchtlichen Anteil des Infrarotlichtes zu
    dem Entladungsrohr reflektiert, so daß eine ausreichende Menge des reflektierten Infrarotlichtes durch das Entladungsrohr absorbiert wird, um die Temperatur der Wandung des Entladungsrohres in einem optimalen Temperaturbereich zu halten.
  2. 2. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der In3O3: S]
    Bereich von 80 bis 350 nm aufweist.
    zeichnet , daß der In„0_:Sn-FiIm eine Dicke im
  3. 3. Lampe nach Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, daß der In7O^:Sn-FiIm eine Dicke im Bereich von 130 bis 200 nm aufweist.
  4. 4. Lampe nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet , daß der Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Umhüllung vorhanden ist.
  5. 5. Lampe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß der Verbundfilm im wesentlichen durchlässig ist für elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge im 600 nm-Bereich des elektromagnetischen
    Spektrums, daß er jedoch die Energie mit einer Wellenlänge von mehr als 1000 nm im wesentlichen reflektiert.
  6. 6. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der optimale Temperaturbereich
    von 1 400 bis 1 5000K reicht.
  7. 7. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum einen TiO2-FiIm mit einer Dicke von 110 bis 130 nm umfaßt.
  8. 8. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum
    einer Dicke von 110 bis 130 nm umfaßt.
    zeichnet , daß das Dielektrikum einen SiO2-FiIm mit
  9. 9. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Infrarot reflektierende Verbundfilm TiOr, In-O :Sn-und SiO2-Filme in einer Reihenfolge auf der äußeren Glasumhüllung umfaßt.
  10. 10. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der TiO2- und der SiO3-FiIm je eine Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm haben und daß der In„0_:Sn-FiIm eine Dicke im Bereich von 130 bis 200 nm hat.
  11. 11. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der TiOp-FiIm eine Dicke von 130 nm, der In2O^rSn-FiIm eine Dicke von 150 nm und der SiO2-FiIm eine Dicke von 120 nm aufweist.
  12. 12. Hochdruck-Natriumdampflampe mit
    einem langgestreckten, für sichtbares Licht durchlässigen, druckbeständigen Entladungsrohr mit Elektroden in den gegenüberliegenden Enden,
    wobei das Entladungsrohr einen Innendurchmesser von 10 bis 25 mm aufweist,
    einem atomaren Natriummetall innerhalb des Entladungsrohrs, wobei dieses Natriummetall bei Erregung Energie im sichtbaren und infraroten Bereich des elektromagnetischen Spektrums emittiert und
    einer evakuierbaren äußeren Umhüllung, die das Entladungsrohr umgibt,
    wobei die äußere Umhüllung einen Infrarot reflektierenden Verbundfilm trägt, der einen SnO3:F-FiIm einschließt, der mit einem Dielektrikum überdeckt ist, das ausgewählt ist aus TiO- und SiO„ und der Verbundfilm einen beträchtlichen Anteil der Energie sichtbarer Wellenlänge durchläßt und einen beträchtlichen Anteil der Energie infraroter Wellenlänge zu dem Entladungsrohr reflektiert, so daß eine ausreichende Menge der reflektierten infraroten Energie durch das Entladungsrohr absorbiert wird, um die Temperatur der
    Wandung des Entladungsrohrs in einem optimalen Temperaturbereich zu halten.
  13. 13. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß der
    reich von 80 bis 350 nm hat.
    zeichnet , daß der SnO-rF-Film eine Dicke im Be-
  14. 14. Lampe nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der SnO-:F-FiIm eine Dicke im Bereich von 130 bis 250 nm hat.
  15. 15. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß sich der SnO2:F-Film auf der inneren Oberfläche der äußeren Umhüllung befindet.
  16. 16. Lampe nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Verbundfilm für elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge im 600 nm-Bereich des elektromagnetischen Spektrums im wesentlichen transparent ist, daß er jedoch für elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge mit mehr als 1000 nm im wesentlichen reflektierend wirkt.
  17. 17. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß der optimale Temperaturbereich sich von 1 400 bis 1 500°K erstreckt.
  18. 18. Verbundfilm nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum einen TiO2 -FiIm mit einer Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm umfaßt.
  19. 19. Lampe nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum einen SiO2-FiIm mit einer Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm umfaßt.
  20. 20. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Infrarot reflektierende Verbundfilm ΤχΟ_-, SnO_:F- und SiO2-Filme aufeinanderfolgend auf der äußeren Glasumhüllung umfaßt.
  21. 21. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der TiO2- und der SiO-FiIm je eine Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm haben, und der SnO2:F-Film eine Dicke im Bereich von 130 bis 250 nm aufweist.
  22. 22. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der TiO--Film eine Dicke von 130 nm, der SnO2:F-Film eine Dicke von 150 nm und der SiO3-FiIm eine Dicke von 120 nm aufweist.
DE19823232633 1981-09-03 1982-09-02 Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor Withdrawn DE3232633A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/298,836 US4467238A (en) 1981-09-03 1981-09-03 High-pressure sodium lamp with improved IR reflector

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3232633A1 true DE3232633A1 (de) 1983-03-10

Family

ID=23152193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19823232633 Withdrawn DE3232633A1 (de) 1981-09-03 1982-09-02 Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4467238A (de)
JP (1) JPS5878363A (de)
BR (1) BR8205197A (de)
DE (1) DE3232633A1 (de)
FR (1) FR2512273B1 (de)
GB (1) GB2105515B (de)
MX (1) MX152210A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004011976A1 (de) * 2004-03-10 2005-09-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU3615884A (en) * 1984-10-23 1986-05-15 Duro-Test Corporation Variable index film for transparent heat mirrors
US4701664A (en) * 1986-01-09 1987-10-20 Becton, Dickinson And Company Mercury arc lamp suitable for inclusion in a flow cytometry apparatus
US5003214A (en) * 1986-12-19 1991-03-26 Gte Products Corporation Metal halide lamp having reflective coating on the arc tube
US5168193A (en) * 1991-09-30 1992-12-01 General Electric Company Lamp having boron nitride reflective coating
US5952768A (en) * 1994-10-31 1999-09-14 General Electric Company Transparent heat conserving coating for metal halide arc tubes
US6212004B1 (en) 1996-05-10 2001-04-03 Applied Coatings, Inc. Reflector with directional control of visible and infra-red radiation
JP3190984B2 (ja) * 1998-06-24 2001-07-23 経済産業省産業技術総合研究所長 二酸化珪素を含有する二酸化チタン薄膜及びその製造方法
JP3603723B2 (ja) * 1999-03-26 2004-12-22 松下電工株式会社 メタルハライドランプ及び放電灯点灯装置
FI118804B (fi) * 1999-12-03 2008-03-31 Asm Int Menetelmä oksidikalvojen kasvattamiseksi
US7513815B2 (en) * 1999-12-23 2009-04-07 General Electric Company Optimal silicon dioxide protection layer thickness for silver lamp reflector
US6382816B1 (en) 1999-12-23 2002-05-07 General Eectric Company Protected coating for energy efficient lamp
US6781303B2 (en) * 2001-09-10 2004-08-24 Light Sources, Inc. Mercury vapor lamp amalgam target
DE10204691C1 (de) * 2002-02-06 2003-04-24 Philips Corp Intellectual Pty Quecksilberfreie Hochdruckgasentladungslampe und Beleuchtungseinheit mit einer solchen Hochdruckgasentladungslampe
KR20050111770A (ko) 2003-03-18 2005-11-28 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 가스 방전 램프
US20050023983A1 (en) * 2003-08-01 2005-02-03 Rajasingh Israel Optimal silicon dioxide protection layer thickness for silver lamp reflector
JP4274053B2 (ja) * 2004-06-07 2009-06-03 ウシオ電機株式会社 光源装置
US20060226777A1 (en) * 2005-04-07 2006-10-12 Cunningham David W Incandescent lamp incorporating extended high-reflectivity IR coating and lighting fixture incorporating such an incandescent lamp
US20090009085A1 (en) * 2006-01-25 2009-01-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Tld Low-Pressure Gas Discharge Lamp
US8436519B2 (en) * 2006-07-25 2013-05-07 David W. Cunningham Incandescent lamp incorporating infrared-reflective coating system, and lighting fixture incorporating such a lamp
US7345414B1 (en) 2006-10-04 2008-03-18 General Electric Company Lamp for night vision system
US8501637B2 (en) * 2007-12-21 2013-08-06 Asm International N.V. Silicon dioxide thin films by ALD
WO2010151709A1 (en) * 2009-06-24 2010-12-29 Cunningham David W Incandescent illumination system incorporating an infrared-reflective shroud
CN102568978B (zh) * 2012-01-18 2014-08-13 山东布莱特辉煌新能源有限公司 一种纳米金属氧化物的使用方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL269925A (de) * 1961-10-04
DE1260627B (de) * 1965-11-13 1968-02-08 Philips Nv Natriumdampfentladungslampe
GB1305065A (de) * 1969-05-20 1973-01-31 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh
US3898504A (en) * 1970-12-09 1975-08-05 Matsushita Electronics Corp High pressure metal vapor discharge lamp
US3949259A (en) * 1973-08-17 1976-04-06 U.S. Philips Corporation Light-transmitting, thermal-radiation reflecting filter
NL7405071A (nl) * 1974-04-16 1975-10-20 Philips Nv Gloeilamp met infrarood filter.
US3931536A (en) * 1974-07-15 1976-01-06 Gte Sylvania Incorporated Efficiency arc discharge lamp
GB1562929A (en) * 1977-01-14 1980-03-19 Gen Electric Co Ltd High pressure electric discharge lamps
US4071798A (en) * 1977-04-01 1978-01-31 Xerox Corporation Sodium vapor lamp with emission aperture
GB1579624A (en) * 1977-07-27 1980-11-19 Gen Electric High pressure electric discharge lamps
DE2840771A1 (de) * 1978-09-19 1980-03-27 Patra Patent Treuhand Hochdruckentladungslampe mit metallhalogeniden

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004011976A1 (de) * 2004-03-10 2005-09-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung

Also Published As

Publication number Publication date
BR8205197A (pt) 1983-08-16
FR2512273A1 (fr) 1983-03-04
JPS5878363A (ja) 1983-05-11
GB2105515A (en) 1983-03-23
GB2105515B (en) 1985-10-23
US4467238A (en) 1984-08-21
MX152210A (es) 1985-06-07
FR2512273B1 (fr) 1986-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3232633A1 (de) Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor
EP0706201B1 (de) Quecksilberdampf-Kurzbogenlampe
DE69829278T2 (de) Gluhmikrohohlraum-lichtquelle und methode
EP0254111B1 (de) UV-Strahler
DE2624897A1 (de) Aluminiumoxyd-ueberzuege fuer quecksilberdampf-lampen
DE3428125A1 (de) Verbesserte gluehlampe
US3400288A (en) Sodium vapor discharge lamp with infrared reflecting coating
HU202672B (en) High pressure discharge lamp with small electric power consumption
DE69911539T2 (de) Elektrische Lampe mit Interferenzfilter
DE3227096A1 (de) Fuer hohe temperaturen geeignete optische beschichtungen
DE2619674C2 (de) Halogen-Metalldampfentladungslampe
DE3590006T1 (de) Selektives Farbfilter
DE1489527B2 (de) Quecksilberdampfhochdrucklampe
WO2004096365A2 (de) Infrarotstrahler und bestrahlungsvorrichtung
JPH09171800A (ja) 放電ランプ
DE2711733C2 (de) Natriumdampf-Hochdruckentladungslampe
DE2418131B2 (de) Leuchtstofflampe mit Fenster
DE3922865A1 (de) Quecksilber-niederdruckentladungslampe mit einer festkoerper-rekombinationsstruktur
DE3233966A1 (de) Entladungslampe hoher intensitaet mit einer einrichtung zum reflektieren von infrarot zur verbesserung der wirksamkeit
DE3910431C2 (de)
DE3232632A1 (de) Hochdruck-alkalimetalldampflampe mit verbesserter wirksamkeit
DE2260205C3 (de) Elektrolumineszenz-Anordnung
DE1994024U (de) Kurzbogen-quecksilberdampf - entladungslampe.
DE2535921A1 (de) Quecksilberdampf-hochdruckentladungslampe mit zusatz von metallhalogeniden fuer horizontale brennlage
EP1220294A1 (de) Hochdruckentladungslampe

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee