DE3232633A1 - Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor - Google Patents
Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektorInfo
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Description
-U-
Hochdruck-Natriumdampflampe mit verbessertem Infrarot-Reflektor
Die Erfindung bezieht sich auf Hochdruck-Natriumdampflampen und
sie richtet sich auf das Verbesserung der Wirksamkeit solcher Lampen durch die kombinierte Wirkung des vergrößerten Entladungsrohr-Durchmessers
und der Verwendung eines verbesserten Infrarot reflektierenden Films, um die Temperatur der Wandung des Entladungsrohrs
im optimalen Bereich zu halten.
Eine Hochdruck-Natriumdampflampe umfaßt im allgemeinen ein
inneres Entladungsrohr, das innerhalb einer äußeren Schutzumhüllung angeordnet ist, und die ein übliches ionisierbares Medium
aus Natrium, Quecksilber und einem Inertgas enthält, letzteres um das Zünden zu erleichtern. Strom wird durch die Elektroden geführt,
die an jedem Ende des Entladungsrohrs angeordnet sind, wobei das inerte Gas ionisiert und einen Bogen zwischen den
Elektroden bildet. Aufgrund der Hitze des Bogens verdampft das Natrium. Eine optimale Temperatur für die Wandung des Entladungsrohrs
solcher Lampen liegt im Bereich von 1 400 bis 1 500°K. Der Durchmesser des Entladungsrohrs einer üblichen Hochdruck-Natriumdampflampe
von 400 Watt beträgt etwa 7 mm.
Ein wichtiger Gesichtspunkt für die Schaffung von Hochdruck-Natriumdampflampen
ist die "Wandbelastung", die als Leistung pro Flächeneinheit definiert ist. Im praktischen wird die Wandbelastung
dadurch bestimmt, daß man die der Lampe zugeführte Leistung durch die Fläche der inneren Oberfläche des Entladungsrohrs
dividiert. Die Bedeutung der Wandbelastung ergibt sich aus ihrer merklichen Wirkung auf die Temperatur der Wandung des Entladungsrohrs,
die wiederum in einer engen Beziehung zur Lampenwirksamkeit, die in Lumen/Watt gemessen ist, steht. Es ist daher in
hohem Maße erwünscht, eine vorbestimte Wandtemperatür für das
Entladungsrohr in einer Hochdruck-Natriumdampflampe aufrechtzuerhalten.
J. F. Weymouth und E. F. Wyner haben in einem Vortrag, der bei dem jährlichen Treffen der IES im August 1980 gehalten
wurde, demonstriert, daß die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe
durch Vergrößern des Durchmessers des Entladungsrohrs bei konstanter Wandungstemperatur des Entladungsrohrs
verbessert wird. In einer üblichen Hochdruck-Natriumdampflampe wird ein merklicher Anteil der der Lampe
zugeführten Energie als langwellige Infrarotstrahlung des erhitzten Entladungsrohrs aus Al3O3 abgestrahlt. Da die thermische
Strahlung proportional zur Fläche des Entladungsrohres ist, führt ein größerer Durchmesser des Entladungsrohrs,
der eine größere Fläche zur Folge hat, zu einer stärkeren Abstrahlung von Wärme. Wenn nicht Schritte unternommen
werden, die abgestrahlte Wärme wiederzugewinnen, dann wird die Temperatur der Wandung des Entladungsrohrs unterhalb
des optimalen Temperaturbereiches abfallen.und es muß mehr
Energie zugeführt werden, um die Wandtemperatur des Entladungsrohrs
wieder anzuheben. Außerdem ist die Natriumkonzentration umgekehr proportional zur Wandtemperatur des Entladungsrohrs.
Je kühler die Wandtemperatur um so mehr wird die Hauptnatriumemissionslinie (NaD) reabsorbiert und dies führt
zu einer Verminderung der Lampenwirksamkeit.
Das von Weymouth und Wyner vorgeschlagene Verfahren zur Aufrechterhaltung
der Wandtemperatur des Entladungsrohrs bei einem größeren Durchmesser besteht im Ersatz des Aluminiums als
Material für das Entladungsrohr durch Yttriumoxid (Y2°3^' das
eine geringere Emission, insbesondere im Infrarotbereich des Spektrums; als Aluminiumoxid aufweist.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe mit einem Durchmesser für das
Entladungsrohr, der größer als üblich ist, dadurch erhöht, daß man einen Infrarot reflektierenden Verbundfilm auf der
inneren Oberfläche der äußeren Lampenumhüllung anordnet, der aus mit Zinn dotiertem Indiumoxid (In-O..: Sn) oder mit Fluor
dotiertem Zinnoxid (SnO,, :F) in ,Kombination mit dielektrischen
2 und/
Filmen aus Titanoxid (TiO2) oder Siliciumoxid (SiO2) besteht.
Der IR reflektierende Verbundfilm ist für sichtbare Strahlung im wesentlichen transparent, doch reflektiert er Infrarotstrahlung, die sonst verloren ginge, zu dem Entladungsrohr
zurück. Ein beträchtlicher Anteil der IR-Emission des Bogens wird in das in dem Entladungsrohr enthaltene Plasma zurückreflektiert,
wo dieses Infrarot reabsorbiert wird und dadurch die erforderliche Eingangsleistung vermindert. Dielektrische
TiO-- und SiO2~Filme in Kombination mit dem In2O3:Sn- oder
SnO-:F-FiIm können die reflektierende Wirkung des Verbundfilmes
für die sichtbaren Wellenlängen vermindern, die für die nahe dem sichtbaren Bereich liegenden Infrarotwellenlängen dagegen erhöhen.
Die dielektrischen Filme können auch die chemische Stabilität des Verbundfilmes bei hoher Temperatur erhöhen. Auf
diese Weise wird die Wandtemperatur des Entladungsrohres wirksam im optimalen Bereich gehalten.
In der Vergangenheit sind Infrarot reflektierende Filme bei
Niederdruck-Natriumdampflampen als Mittel zur Verbesserung der Wirksamkeit eingesetzt worden. In der US-PS 3,400 288 ist eine
solche Lampe beschrieben. Die Betriebsart einer Niederdruck-Natriumdampflampe
ist jedoch von der einer Hochdruck-Natriumdampflampe verschieden. Infolgedessen ist auch der Mechanismus
zum Erhöhen der Wirksamkeit bei der Niederdruck-Natriumdampflampe von dem bei der Hochdruck-Natriumdampflampe verschieden.
Bei der Niederdruck-Natriumdampflampe ist die Wirksamkeitszunahme ein Ergebnis der Erhöhung des Natriumdampfdruckes bei
konstanter Eingangsleistung aufgrund der höheren Wandtemperatur. Im Gegensatz dazu beruht die Wirksamkeitszunähme bei der erfindungsgemäßen
Hochdruck-Natriumdampflampe auf der kombinierten Wirkung des vergrößerten Entladungsrohrdurchmessers und der
Anwendung des Infrarot reflektierenden Verbundfilmes, um die
optimale Wandbelastung aufrecht zu erhalten und einen Teil der nicht sichtbaren Emission des Plasmas wieder in das Plasma
zurückzureflektieren. Darüber hinaus ist die Vergrößerung des Entladungsrohrdurchmessers einer Niederdrucklampe nicht von
einer Änderung in der Wirksamkeit begleitet, wie sie in
3
- ar -
- ar -
Hochdruck-Natriumdampflampen beobachtet wird.
In den US-PS 3,931,536 und 3,662,203 sind Hochdruck-Natriumdampflampen
mit Infrarot reflektierenden Filmen beschrieben. In der US-PS 3,931,536 besteht der reflektierende Film aus alternierenden
Schichten von Titandioxid und Siliziumdioxid. Ein solcher Reflektor besteht aus 13 alternierenden Viertelwellenschichten
aus TiO- und SiO2, die sandwichartig zwischen Achtelwellenschichten
von SiO2 angeordnet sind. Ein solcher Reflektor ist daher deutlich
komplexer als der in der vorliegenden Erfindung angewendete Infrarot reflektierende Verbundfilm.
In der US-PS 3,662,203 wird ein zusätzliches Erhitzen des Entladungsrohres
vorgeschlagen, indem man die äußere Umhüllung in sehr enge Nachbarschaft zum Entladungsrohr bringt. Die äußere
Umhüllung, die aus stark reflektierendem Quarz besteht, strahlt die Bogenwärme zu dem ebenfalls aus Quarz bestehenden Entladungsrohr
zurück. Bei dieser Lampe verwendet man daher nicht nur eine aus relativ teurem Quarz bestehende äußere Umhüllung, sondern
die reduzierte Oberfläche der äußeren Umhüllung kann außerdem zu einem unerwünschten Überhitzen der auf der äußeren Umhüllung
angeordneten reflektierenden Filme führen.
Keine der beiden US-PS 3,931,536 und 3,662,203 weist in irgendeiner
Weise auf die vorteilhafte Wirkung des vergrößerten Entladungsrohrdurchmessers einer Hochdruck-Natriumdampflampe und
eines Infrarot reflektierenden In3O3ISn- oder SnO2:F-Films auf
die Wirksamkeit einer solchen Lampe hin.
Nach der vorliegenden Erfindung wird die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe
dadurch verbessert, daß man gleichzeitig den Durchmesser des Entladungsrohres erhöht und einen IR reflektierenden
Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Lampenumhüllung anordnet, der aus solchen halbleitenden Oxiden,
wie In3O3ISn oder SnO3:F und Dielektrika, wie TiO3 und SiO3 besteht.
Die Filme aus Halbleiteroxid und Dielektrikum reflektieren
Infrarotenergie, die sonst entweder absorbiert oder direkt durch die äußere Umhüllung abgestrahlt werden würde, in das Plasma im
Entladungsrohr zurück. Die dielektrischen Materialien fördern auch die chemische Stabilität der Halbleiteroxid-Filme bei hoher
Temperatur.
So führt das überziehen von Halbleiteroxidfilm aus In3O3:Sn
oder SnO3:F mit TiO2 zu einer erhöhten Stabilität des Halbleiteroxides,
erhöht jedoch die Wirksamkeit der Hochdruck-Natriumdampflampe gegenüber nur dem Halbleiteroxid-Film nicht. Doch wird die
Wirksamkeit der Hochdruck-Natriumdampflampe gegenüber einer solchen
mit nur einem Halbleiteroxid-Film erhöht, indem man einen 150nm dicken In_0,:Sn-FiIm mit einem 120 nm dicken SiO3-FiIm überzieht,
wodurch gleichzeitig die chemische Stabilität des Halbleiteroxid-Filmes verbessert wird. Ein Verbundfilm aus drei
Schichten schließlich, bestehend aus In-O3:Sn zwischen einem
TiO„-Grundfilm und einem SiO -überzug auf dem Halbleiteroxid,
~ 2
ergibt eine noch größere Zunahme in der Wirksamkeit, verglichen mit dem vorstehenden Zwei-Schichten-Verbundfilm.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist die erfindungsgemäße
Lampe einen Dreischicht-Verbundfilm aus TiO_- In3O-:Sn-SiO„ auf,
deren einzelne Filmdicken 130-150-120 nm betragen. Im allgemeinen können die optimalen Dicken für die dielektrischen TiO3- und
SiO„-Filme um +^ 10 nm variieren.
Auf diese Weise wird die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich von 1400 bis 15000K bei einem Entladungsrohr
mit einem größeren als üblichen Durchmesser aufrecht erhalten.
Die Dicke des Halbleiteroxid-Films kann im Bereich von 80 bis 350 nm variieren, liegt jedoch vorzugsweise zwischen 130 und
200 nm für In3O3:Sn und zwischen 130 und 250 nm für SnO2:F.
Der Entladungsrohrdurchmesser liegt vorzugsweise im Bereich von 10 bis 14 mm, der bevorzugteste Bereich ist der zwischen 12 und
14 mm, doch kann dieser Innendurchmesser bis zu 25 mm betragen.
Der In2O :Sn-FiIm kann unter Verwendung eines Sprays an der Luft
mit anschließendem Glühen auf Glas aufgebracht werden. Die dielektrischen Filme können nach einer Reihe von Verfahren abgeschieden
werden. So kann amorphes SiO„ durch übliche Hydrolyse
von Siliziumverbindungen, wie Siliziumhalogeniden und organischen Silikatestern bei tiefer Temperatur abgeschieden werden. TiO2
kann man bei tiefer Temperatur durch Hydrolyse von TiCl. abscheiden.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe und die chemische
Stabilität Infrarot reflektierender Halbleiteroxid-Filme bei hoher Temperatur zu verbessern. Weiter soll die Wirksamkeit einer
solchen Lampe dadurch verbessert werden, daß man den Durchmesser des Entladungsrohres vergrößert und einen Infrarot reflektierenden
Verbundfilm aus einem Halbleiteroxid-Film und dielektrischen Filmen auf die innere Oberfläche der äußeren Umhüllung aufbringt,
um die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich zu halten. Schließlich wird durch die vorliegende Erfindung eine
hochwirksame Hochdruck-Natriumdampflampe geschaffen, die ein Entladungsrohr
aufweist mit einem Durchmesser, der größer ist als üblich, und einer äußeren Umhüllung, die einen Halbleiteroxid-Film
aus In2O-:Sn oder SnO-:F überzogen mit einem dielektrischen
Film aus TiO- und SiO2 aufweist, wobei der Halbleiterfilm auch
sandwichartig zwischen den beiden dielektrischen Materialien angeordnet sein kann, um so die Wandtemperatur des Entladungsrohres
im optimalen Bereich zu halten.
Im folgenden wird die Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung
näher erläutert. Im einzelnen zeigen:
Figur 1 - eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Hochdruck-Natriumdampflampe
mit einem Infrarot reflektierenden
— * mm
Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Umhüllung,
Figur 2 - die Wellenlängen der emittierten Linien der Hochdruck-Natriumdampflampe
und das spektrale Reflexionsvermögen und die Durchlässigkeit eines 150 nm dicken
In-O3ISn-FiImS, der auf Glas aufgebracht ist,
Figur 3 - das spektrale Reflexionsvermögen einer einzelnen
150 nm dicken Schicht aus In_O_:Sn auf einem Glassubstrat
und das spektrale Reflexionsvermögen des gleichen Filmes, der mit einem 120 nm dicken Film aus
SiO? überzogen ist,
Figur 4 - ähnlich der Figur 3 das spektrale Reflexionsvermögen
des In3O-:Sn-Filmes, der jedoch mit einem 120 nm dicken
Film aus TiO„ überzogen ist, und
Figur 5 - das spektrale Reflexionsvermögen eines Dreischicht-Verbundfilmes
aus TiO3-In2O-:Sn-SiO2, wobei die einzelnen
Schichten eine Dicke von 130-150-120 nm haben.
Die in Figur 1 gezeigte Ausführungsform einer Hochdruck-Natriumdampflampe
10 umfaßt eine äußere Glasumhüllung 1 mit einem Infrarot reflektierenden Verbundfilm 2, der vorzugsweise auf der
inneren Oberfläche der Umhüllung 1 angeordnet ist. Ein Natrium einschließendes übliches ionisierbares Entladungsmedium ist
innerhalb eines Bogenentladungsrohres 4 angeordnet, das innerhalb der äußeren Umhüllung 1 mittels der Elektroden 5 und 6, die
elektrisch mit leitenden Endkappen 7 und 8 verbunden sind, montiert ist.Mechanische Abstützung für die Elektrode 6 wird durch
eine Vertiefung 11 in der äußeren Umhüllung 1 gewährt, um die die Elektrode 6 teilweise gewickelt ist. Das flexible Teil 12
verbindet die Elektrode 6 mechanisch und elektrisch mit der Endkappe 8 und sorgt für eine Kompensation der thermischen Ausdehnung
des Entladungsrohres. Der Innendurchmesser des Entladungsrohres kann im Bereich von 10 bis 25 mm liegen, ist jedoch vorzugsweise
im Bereich von 10 bis 14 mm und am bevorzugtesten zwischen 12 und
14 mm. Der Durchmesser des Entladungsrohres 4 hängt auch von der Leistung der Lampe ab. So hat eine konventionelle Hochdruck-Natriumdampflampe
von 400 Watt einen Entladungsrohrdurchmesser von etwa 6 bis 7 Millimetern. Die Lampe 10 kann auch mit einem
üblichen Edison-Schraubsockel 3 versehen sein. Der Raum 9 zwischen
dem Entladungsrohr 4 und der äußeren Umhüllung 1 kann mit einem Inertgas, wie Argon, gefüllt sein, doch ist er in der bevorzugten
Ausführungsform der erfindungsgemäßen Lampe evakuiert.
Der IR reflektierende Verbundfilm 2 kann stark mit Zinn dotiertes
In3O3 oder mit Fluor dotiertes SnO2 umfassen, wobei dieser Halbleiteroxid-Film
eine Dicke im Bereich von 80 bis 350 nm aufweist und er mit einem 120 nm dicken dielektrischen Film aus TiO2 oder
SiO2 überzogen ist. In einer anderen Ausführungsform besteht der
Infrarot reflektierende Film 2 aus einem Halbleiteroxid-Film, der auf einem TiO^-Film als Substrat angeordnet und mit einem
Film aus SiO2 überzogen ist. Bei dieser Ausführungsform betragen
die jeweiligen Dicken der Filme Ti02-Halbleiteroxid-Si02 130-15Ö-120
nm. Um optimale Ergebnisse zu erzielen, betragen die Dicken der dielektrischen TiO2- und SiO2~Filme 130 bzw. 120 nm, jeweils
+ 10 nm. Der bevorzugte Dickenbereich für den Halbleiteroxid-Film
aus In,
bis 250 nm.
bis 250 nm.
Film aus In2O.,:Sn oder SnO2:F reicht von 130 bis 200 nm bzw. 130
Die Halbleiteroxid-Filme aus In3O :Sn oder SnO3:F können mit
Hilfe der üblichen an der freien Luft ausgeführten Sprühtechnik auf die äußere oder innere Oberfläche der äußeren Lampenumhüllung
aufgebracht werden. Bei dieser Technik wird das Halbleitermaterial auf Glassubstrate aufgesprüht, die auf 4000C oder höher erhitzt
sind. Die SiO2~Filme können durch Tieftemperaturhydrolyse von
Siliziumverbindungen, wie Siliziumhalogeniden und organischen Silikatestern, erhalten werden. TiO2-Filme kann man durch Tieftemperaturhydrolyse
von z.B. TiCl. abscheiden.
Figur 2 veranschaulicht die spektrale Durchlässigkeit T und das spektrale Reflexionsvermögen R eines einzelnen 150 nm dicken
In3O3:Sn-Films, der eine freie Trägerkonzentration von 1,3 χ 10
cm aufweist. Die emittierten Linien eines Hochdrucknatrium-
bogens (bei dem die Höhen der relativen Stärke entsprechen), sind entlang der horizontalen Achse aufgetragen. Der Anteil des
durchgelassenen oder reflektierten Lichtes läßt sich auf der vertikalen Achse ablesen. Aus Figur 2 ergibt sich, daß der
In2O3:Sn-FiIm im Bereich von 1000 bis 3000 nm stark reflektierend
ist und ein geringes Absorptionsvermögen im sichtbaren Spektralbereich aufweist, der die Hauptemissionslinie des Natriums
im Bereich von 600 nm (NaD) einschließt. Das durchschnittliche Absorptionsvermögen für sichtbares Licht des Verbundstoffes aus
In3O3:Sn-FiIm und Glassubstrat beträgt ungefähr 0,03. Der sichtbare
Abschnitt des Spektrums, der in Figur 2 veranschaulicht ist, erstreckt sich bis etwa 700 nm, während der dem sichtbaren Bereich
nahe Infrarot-Bereich von 700 bis etwa 1000 nm reicht. Die diskreten infraroten Natriumemissionen, die von erregten atomaren
Zuständen herrühren, erscheinen bei 1100, 1850 und 2100 nm. Diese Emissionen werden partiell zum Entladungsrohr und in das
Plasma zurückreflektiert, wo sie teilweise reabsorbiert werden, und so die Verminderung der Eingangsleistung bewirken. Der reflektierende
Film reflektiert auch kontinuierliche Infrarot-Emissionen zu dem Entladungsrohr zurück, die hauptsächlich von
der Rekombination ionisierter Na„-Moleküle resultieren und zu einem
gewissen Maße auch Strahlung von molekularen Natrium-Quecksilber-Komplexen, was die Lampenwirksamkeit weiter verbessert.
Die Verwendung eines einzelnen 150 nm dicken reflektierenden
In-O.,:Sn-Filmes in Kombination mit einem Entladungsrohr, dessen
Durchmesser größer ist als üblich, führt zu einer beträchtlichen Verbesserung der Wirksamkeit der Hochdruck-Natriumdampflampe. Ein
Teil der Wirksamkeitszunahme ist das Ergebnis des vergrößerten Entladungsrohr-Durchmessers. Eine weitere Zunahme ergibt sich
aus der partiellen Reflexion und Absorption der IR Emission des Plasmas aufgrund der Infrarot reflektierenden Wirkung des
In?0_:Sn. Der Einsatz des Infrarot reflektierenden Filmes ergibt
einen merklichen Beitrag zur Verbesserung der Lampenwirksamkeit, insbesondere wenn man in Betracht zieht, daß in einer üblichen
Hochdruck-Natriumdampflampe ungefähr 35% der Eingangsenergie als langwellige IR-Strahlung des erhitzten Aluminiumoxid-Entladungsrohres
zerstreut werden.
AO
Das spektrale Reflexionsvermögen eines 150 nm dicken In3O3:Sn-Filmes,
der mit einem 120 nm dicken Film aus SiO2 überzogen
ist, ist in Figur 3 dargestellt, wo zum erleichterten Vergleich auch das spektrale Reflexionsvermögen eines einzelnen 150 nm
dicken In3O3:Sn-Filmes gezeigt ist. Es ist zu erkennen, daß für
den überzogenen In-O :Sn-FiIm das Reflexionsvermögen im sicht-
^ 3
baren Bereich leicht reduziert ist, verbunden mit der durch den Druck verbreiterten NaD-Linie und daß das Reflexionsvermögen im Bereich der Natriumemissionslinie bei 819 nm (nahes Infrarot) erhöht ist. Diese beiden Wirkungen führen zu einer Erhöhung der Wirksamkeit des Verbundfilmes gegenüber der, die durch einen einzelnen In O3:Sn-FiIm erhalten wird.
baren Bereich leicht reduziert ist, verbunden mit der durch den Druck verbreiterten NaD-Linie und daß das Reflexionsvermögen im Bereich der Natriumemissionslinie bei 819 nm (nahes Infrarot) erhöht ist. Diese beiden Wirkungen führen zu einer Erhöhung der Wirksamkeit des Verbundfilmes gegenüber der, die durch einen einzelnen In O3:Sn-FiIm erhalten wird.
Figur 4 zeigt das spektrale Reflexionsvermögen eines In3O3:Sn-Filmes
ähnlich dem in Figur 3, der jedoch in Abweichung von Figur 3 mit einem 120 nm dicken Film aus TiO3 überzogen ist. Bei
dieser Ausführungsform erhält man gegenüber einem einzelnen
In9O-:Sn-FiIm keine Zunahme der Wirksamkeit, da der Gewinn hinsichtlich
der Reflexion der 819 nm-Linie aufgrund einer Abnahme
in der Durchlässigkeit für die NaD-Linie wieder verloren geht. Der TiO_-Decküberzug verbessert jedoch die chemische Stabilität
des In3O3:Sn-Filmes bei hoher Temperatur.
Das Reflexionsvermögen — — ■
einer bevorzugten Ausführungsform eines aus drei Schichten bestehenden
Verbundfilmes aus einem 150 nm dicken In3O3:Sn-FiIm,
der auf einem 130 nm dicken TiO3-Filmsubstrat angeordnet und
dann mit einem 120 nm dicken SiO3-FiIm überzogen ist, kann der
Figur 5 entnommen werden. Der Vergleich mit dem Reflexionsvermögen
eines einzelnen 150 nm dicken In3O3:Sn-Filmes zeigt das erhöhte
Reflexionsvermögen bei der im nahen Infrarot bei 819 nm
liegenden Natriumlinie und ein vermindertes Reflexionsvermögen bei der sichtbaren NaD-Linie. Es wurde abgeschätzt, daß der
Dreischicht-Verbundfilm eine Wirksamkeitszunähme von etwa 4%
gegenüber einem einzelnen In3O3CSn-FiIm ergibt. Aufgrund des verstärkten
Reflexionsvermögens im 819 nm-Bereich der Natriumemission ergibt der Dreischicht-Verbundfilm auch eine größere Wirksamkeit
als ein Verbundfilm, der nur eine einzelne SiO^-Deckschicht aufweist.
4b
Bei jedem der vorbeschriebenen Infrarot reflektierenden Verbundfilme
sollte die äußere Umhüllung ausreichend groß gemacht werden, um eine Beschädigung des Filmes aufgrund von überhitzung
zu vermeiden.
Die vorliegende Erfindung schafft eine merkliche Verbesserung hinsichtlich der Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe
und hinsichtlich der chemischen Stabilität des Infrarot reflektierenden Halbleiteroxid-Filmes bei hoher Temperatur. Halbleiteroxid-Filme
in Kombination mit dieelektrischen Filmen aus und SiO„ gestatten eine wirtschaftliche und wirksame Wiedergewinnung
von Infrarotstrahlung, die dann vorteilhaft zu einem Entladungsrohr mit vergrößertem Durchmesser zurückreflektiert
wird und dadurch die Wandtemperatur des Entladungsrohres im optimalen Bereich hält. Die Wirksamkeit einer Hochdruck-Natriumdampflampe
mit einem Entladungsrohr mit vergrößertem Durchmesser, sowie den oben beschriebenen, verbesserten reflektierenden Verbundfilmen,
ist größer als die einer ähnlichen Lampe, die nur einen einzelnen In„0_:Sn- oder SnO_:F-FiIm aufweist.
Claims (22)
- Patentan Sprücheρ.)Hochdruck-Natriumdampflampe miteinem langgestreckten, sichtbares Licht durchlassenden, druckbeständigen Entladungsrohr mit Elektroden in den gegenüberliegenden Enden,wobei das Entladungsrohr einen Innendurchmesser im Bereich von 10 bis 25 mm aufweist,einem atomaren Natrium im Entladungsrohr, wobei das Natrium auf Anregung Energie im sichtbaren und Infrarot-Bereich des elektromagnetischen Spektrums emittiert und einer evakuierbaren äußeren Umhüllung, die das Entladungsrohr umgibt,wobei auf der äußeren Umhüllung ein zusammengesetzter Infrarot reflektierender Film vorhanden ist, der einen In2O^rSn-FiIm einschließt, der mit einem Dielektrikum überzogen, das ausgewählt ist aus TiO2 und SiO2 und der Verbundfilm einen beträchtlichen Anteil des sichtbaren Lichtes durchläßt und einen beträchtlichen Anteil des Infrarotlichtes zudem Entladungsrohr reflektiert, so daß eine ausreichende Menge des reflektierten Infrarotlichtes durch das Entladungsrohr absorbiert wird, um die Temperatur der Wandung des Entladungsrohres in einem optimalen Temperaturbereich zu halten.
- 2. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der In3O3: S]
Bereich von 80 bis 350 nm aufweist.zeichnet , daß der In„0_:Sn-FiIm eine Dicke im - 3. Lampe nach Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, daß der In7O^:Sn-FiIm eine Dicke im Bereich von 130 bis 200 nm aufweist.
- 4. Lampe nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet , daß der Verbundfilm auf der inneren Oberfläche der äußeren Umhüllung vorhanden ist.
- 5. Lampe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß der Verbundfilm im wesentlichen durchlässig ist für elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge im 600 nm-Bereich des elektromagnetischen
Spektrums, daß er jedoch die Energie mit einer Wellenlänge von mehr als 1000 nm im wesentlichen reflektiert. - 6. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der optimale Temperaturbereich
von 1 400 bis 1 5000K reicht. - 7. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum einen TiO2-FiIm mit einer Dicke von 110 bis 130 nm umfaßt.
- 8. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikumeiner Dicke von 110 bis 130 nm umfaßt.zeichnet , daß das Dielektrikum einen SiO2-FiIm mit
- 9. Lampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Infrarot reflektierende Verbundfilm TiOr, In-O :Sn-und SiO2-Filme in einer Reihenfolge auf der äußeren Glasumhüllung umfaßt.
- 10. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der TiO2- und der SiO3-FiIm je eine Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm haben und daß der In„0_:Sn-FiIm eine Dicke im Bereich von 130 bis 200 nm hat.
- 11. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der TiOp-FiIm eine Dicke von 130 nm, der In2O^rSn-FiIm eine Dicke von 150 nm und der SiO2-FiIm eine Dicke von 120 nm aufweist.
- 12. Hochdruck-Natriumdampflampe miteinem langgestreckten, für sichtbares Licht durchlässigen, druckbeständigen Entladungsrohr mit Elektroden in den gegenüberliegenden Enden,wobei das Entladungsrohr einen Innendurchmesser von 10 bis 25 mm aufweist,einem atomaren Natriummetall innerhalb des Entladungsrohrs, wobei dieses Natriummetall bei Erregung Energie im sichtbaren und infraroten Bereich des elektromagnetischen Spektrums emittiert undeiner evakuierbaren äußeren Umhüllung, die das Entladungsrohr umgibt,wobei die äußere Umhüllung einen Infrarot reflektierenden Verbundfilm trägt, der einen SnO3:F-FiIm einschließt, der mit einem Dielektrikum überdeckt ist, das ausgewählt ist aus TiO- und SiO„ und der Verbundfilm einen beträchtlichen Anteil der Energie sichtbarer Wellenlänge durchläßt und einen beträchtlichen Anteil der Energie infraroter Wellenlänge zu dem Entladungsrohr reflektiert, so daß eine ausreichende Menge der reflektierten infraroten Energie durch das Entladungsrohr absorbiert wird, um die Temperatur derWandung des Entladungsrohrs in einem optimalen Temperaturbereich zu halten.
- 13. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß der
reich von 80 bis 350 nm hat.zeichnet , daß der SnO-rF-Film eine Dicke im Be- - 14. Lampe nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der SnO-:F-FiIm eine Dicke im Bereich von 130 bis 250 nm hat.
- 15. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß sich der SnO2:F-Film auf der inneren Oberfläche der äußeren Umhüllung befindet.
- 16. Lampe nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Verbundfilm für elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge im 600 nm-Bereich des elektromagnetischen Spektrums im wesentlichen transparent ist, daß er jedoch für elektromagnetische Energie mit einer Wellenlänge mit mehr als 1000 nm im wesentlichen reflektierend wirkt.
- 17. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß der optimale Temperaturbereich sich von 1 400 bis 1 500°K erstreckt.
- 18. Verbundfilm nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum einen TiO2 -FiIm mit einer Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm umfaßt.
- 19. Lampe nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet , daß das Dielektrikum einen SiO2-FiIm mit einer Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm umfaßt.
- 20. Lampe nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Infrarot reflektierende Verbundfilm ΤχΟ_-, SnO_:F- und SiO2-Filme aufeinanderfolgend auf der äußeren Glasumhüllung umfaßt.
- 21. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der TiO2- und der SiO-FiIm je eine Dicke im Bereich von 110 bis 130 nm haben, und der SnO2:F-Film eine Dicke im Bereich von 130 bis 250 nm aufweist.
- 22. Infrarot reflektierender Verbundfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der TiO--Film eine Dicke von 130 nm, der SnO2:F-Film eine Dicke von 150 nm und der SiO3-FiIm eine Dicke von 120 nm aufweist.
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