DE3702203C2 - Verfahren zum Messen von Relativbewegungen - Google Patents
Verfahren zum Messen von RelativbewegungenInfo
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- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Description
Die Erfindung bezieht sich auf Verfahren zum Messen der
Relativbewegung bzw. des Abstandes zweier Objekte.
Es sind bereits zahlreiche Verfahren zur Messung der
Relativbewegung zweier Objekte bekannt. Insbesondere zeigt die
EP-01 46 244 A2 bereits ein Verfahren zur Messung der
Relativbewegung zweier Objekte. Bei diesem Verfahren trägt das
eine Objekt ein Beugungsgitter,
auf das zwei durch Strahlteilung eines Strahls
einer Lichtquelle entstandene Lichtstrahlen auftreffen.
Die
auftretenden Beugungsordnungen werden vereinigt, und aus dem
Interferenzsignal wird die gegenseitige Lage der Objekte
ermittelt. Ein vergleichbarer Stand der Technik ist auch in
der DE-33 16 144 A1 beschrieben. Ergänzend sei noch an
Hand von Fig. 1 ein herkömmliches
Verfahren zum Messen einer Relativverschiebung
von wenigstens zwei Gegenständen
zueinander durch Einsatz von Beugungsgittern beschrieben.
Dieses herkömmliche Verfahren ist aus
dem Aufsatz von Flanders et al. in Applied Physics
Letters 31,426 (1977) bekannt. Beugungsgitter G1 und G2
mit jeweils denselben Gitterabständen bzw. derselben
Gitterkonstante d sind auf zwei Objekten 1 bzw. 2 ausgebildet
und liegen parallel zueinander, jedoch beabstandet
voneinander. Wenn die Welle I senkrecht auf das
Beugungsgitter G1 auffällt, wird es um einen Winkel R
(d sin R = nλ, wobei n eine ganze Zahl ist, die die
Beugungsordnung angibt) gebeugt, wobei dieser Winkel R
von der Gitterkonstanten d und der Wellenlänge λ der
Welle I abhängt. Die Intensität der gebeugten Wellen
ändert sich in Abhängigkeit der relativen Lage zwischen
den Beugungsgittern G1 und G2, so daß die Relativverschiebung
zwischen den Objekten 1 und 2 oder zwischen
den Beugungsgittern G1 und G2 durch Messen der Intensität
der gebeugten Wellen ermittelt werden kann.
Da die Intensitäten der gebeugten Wellen D+ in der +R-
Richtung und D- in der -R-Richtung sich in entgegengesetzten
Richtungen in Abhängigkeit der Relativverschiebung
in der Richtung (X-Richtung) senkrecht
zum Gitter in der Oberfläche ändern, wird es im
Prinzip daher insbesondere möglich, die Relativverschiebung
in der X-Richtung durch Messen der Intensitätsdifferenz
zwischen zwei gebeugten Wellen I(d+)-I(D-) zu
ermitteln.
Das zuvor anhand von Fig. 1 beschriebene Verfahren weist
jedoch Nachteile auf, so daß es wegen der nachfolgend
beschriebenen Gründe in der Praxis nicht mit zufriedenstellendem
Erfolg angewendet werden kann. Zunächst einmal
bestehen die Wellen D+ und D- aus vielen gebeugten Wellen,
wie dies in Fig. 1 dargestellt ist. Die Welle, die
in der i-ten Ordnung vom Beugungsgitter G1, in der j-ten-
Ordnung vom Beugungsgitter G2 und danach in der k-ten-
Ordnung vom Beugungsgitter G1 gebeugt wird, wird mit
D(i,j,k) bezeichnet, und die Welle, die reflektiert und
in der i-ten Ordnung an der oberen Fläche des Beugungsgitters
G1 gebeugt wird, wird mit R(i) bezeichnet.
Für die Beugung in der ersten Ordnung ist D+ dann eine
gemischte Welle von gebeugten Wellen R(1) und D(i,j,k),
(wobei i+j+k = 1), beispielsweise D(0,0,1), D(0,1,0),
D(1,0,0), D(0,-1,2), D(-1,0,2) usw. Der Einfachheit
halber ist in Fig. 1 nur R(1), D(-1,1,1, D(0,0,1),
D(1,-1,1) und D(1,0,0) gezeigt. Die Abhängigkeit dieser
gebeugten Wellen der Relativverschiebung in der
X-Richtung der Gitter und von dem Abstand S zwischen den
Beugungsgittern G1 und G2 ändert sich in Abhängigkeit
von ihren Beugungsordnungen. Die Intensität von D+
und D- sind daher komplizierte Funktionen der Relativverschiebung
in der X-Richtung und dem Abstand S, so daß
die Messung der Relativverschiebung in der X-Richtung
durch Messen des Unterschieds zwischen I(D+) und I(D-)
auf einen äußerst beschränkten Bereich des Abstands S
begrenzt ist.
Wenn darüber hinaus Unterschiede in den
Eigenschaften zwischen den Instrumenten zur Messung der
Intensitäten von D+ und D- vorhanden sind, enthält die
gemessene Relativverschiebung Fehler. Um also die Meßgenauigkeit
zu verbessern, müssen die Kennlinien und
Eigenschaften der Instrumente zum Messen der Intensitäten
von D+ und D- in vollständige Übereinstimmung miteinander
gebracht werden. Messungen mit hoher Genauigkeit
werden daher schwierig.
Fig. 2 zeigt ein Meßverfahren, mit dem die Relativverschiebung
ohne Abhängigkeit vom Abstand S gemessen
werden kann. Dieses Verfahren wurde vom Erfinder der vorliegenden
Erfindung vorgeschlagen und ist in der japanischen
Patentanmeldung No. 60-1 65 231 beschrieben. Gemäß
diesem Verfahren werden zwei Beugungsgitter G1 und G1′
auf dem Objekt 1 ausgebildet. Diese beiden Beugungsgitter
G1 und G1′ sind voneinander um einen geeigneten Abstand
beabstandet, so daß nur die gebeugten Wellen in den
spezifischen Beugungsordnungen auf das Beugungsgitter G2
des Objekts 2 auffallen, so daß die starke Abhängigkeit
der Intensität der vom Beugungsgitter G2 gebeugten Welle
D vom Abstand S zwischen den Beugungsgittern G1 und G2
eliminiert ist. Die Relativverschiebung in der X-Richtung
kann daher durch Messen der Intensität der gebeugten
Welle bzw. des gebeugten Lichts D mit einem Detektor 3
ermittelt werden, ohne daß der Bereich des Abstands S
beschränkt ist.
Das zuvor beschriebene Verfahren weist jedoch auch Nachteile
auf, so daß es nicht mit zufriedenstellendem Erfolg
in der Praxis angewendet werden kann. Zunächst einmal
hängt die Intensität I(D) der gebeugten Welle D von
der Verschiebung x in der X-Richtung proportional von
cos2 (2πx/d) (wobei d die Gitterkonstante von G1 ist) ab.
Der Absolutwert von I(D) wird jedoch durch verschiedene
Faktoren beeinflußt, so daß es nicht möglich ist, diesen
Wert theoretisch abzuschätzen. Um x aus der Intensität
I(D) zu ermitteln, muß die Änderung von I(D) gemessen
werden, während X in der Praxis im Bereich von etwa d/4
geändert wird. Ein weiterer Nachteil des zuvor beschriebenen
Verfahrens besteht darin, daß das Meßergebnis sehr
oft durch Änderungen der Meßeigenschaften des Meßinstruments
nachteilig beeinflußt wird, da die Intensität der
gebeugten Welle als ein eine Verschiebung repräsentierendes
Signal (ein Verschiebungssignal) verwendet wird.
Darüber hinaus ändert sich die Intensität der gebeugten
Welle, die von den Beugungsgittern G1 und G1′ auf das
Beugungsgitter G2 auffällt, in Abhängigkeit einer Änderung
von S, so daß das zuvor beschriebene Meßverfahren
weiterhin den Nachteil aufweist, daß eine Änderung von
S während des Meßvorgangs nicht zugelassen werden kann,
wenn x mit hoher Genauigkeit gemessen werden soll.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
zum Messen von Relativbewegungen anzugeben, bei
dem
mit hoher Genauigkeit gemessen werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den im Anspruch 1 oder 2
oder 3 angegebenen Maßnahmen gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen angegeben.
Die vorliegende Erfindung beruht auf dem nachfolgend beschriebenen
Grundprinzip. Die Phase der Welle, die durch
das auf dem ersten Objekt ausgebildete Beugungsgitter gebeugt
wird und dann vom zweiten Objekt reflektiert oder
durch das auf dem zweiten Objekt ausgebildete Beugungsgitter
gebeugt wird, sowie die Phase der Welle, die vom
ersten Objekt reflektiert und dann vom auf dem zweiten
Objekt ausgebildeten Beugungsgitter gebeugt wird, ändern
sich in Abhängigkeit der Relativlage zwischen dem ersten
und zweiten Objekt. Daraus ergibt sich, daß die Relativverschiebung
zwischen den beiden Objekten durch Messen
der Phase der gebeugten Wellen erhalten werden kann.
Die herkömmlichen Meßverfahren messen die Relativverschiebung
zwischen zwei Objekten auf Grund der Tatsache, daß
sich die Intensität der gebeugten Welle in Abhängigkeit
zwischen der Relativverschiebung der beiden Objekte ändert.
Die Intensität der gebeugten Welle ist jedoch
sehr leicht nicht nur durch die zu messende Relativverschiebung
beeinflußbar, sondern auch durch andere verschiedene
Faktoren, beispielsweise die Art und der Zustand,
unter der bzw. unter dem die beiden Beugungsgitter
zueinander ausgerichtet oder zueinander angeordnet
sind, der Winkel zwischen den beiden Beugungsgittern,
der Winkel zwischen dem Detektor und dem Beugungsgitter,
der Intensität der einfallenden Welle usw. Dagegen ist
die Phase der gebeugten Welle eine Größe, die durch den
Abstand des Laufwegs der Welle grundsätzlich festgelegt
ist, so daß die Phase durch die zuvor beschriebenen Faktoren,
die die Intensität der gebeugten Welle beeinflussen,
kaum beeinflußbar ist. Gemäß der vorliegenden Erfindung
kann die Relativverschiebung daher in zuverlässiger,
stabiler Weise und hoher Genauigkeit gemessen
werden, ohne daß äußere Störungen die Messung beeinflussen
können. Aus denselben Gründen können die Bedingungen
und Voraussetzungen für die Messungen weniger strikt gehandhabt
werden und der Meßbereich kann vergrößert werden.
Wenn die Frequenz kleiner als 10 GHz oder unterhalb des
10er-GHz-Bereichs liegt, ist es darüber hinaus leicht,
die Phase der Welle mit einer Genauigkeit besser als 1°
zu messen, so daß die Phasenmessung mit einer höheren Genauigkeit
als die Intensitätsmessung durchgeführt werden
kann.
Wenn für die Messung jedoch Schwingungen mit Frequenzen
über 10 GHz bzw. über dem 10er-GHz-Bereich verwendet
werden, wird es schwierig, die Phase mit hoher Genauigkeit
zu messen. Um diese Schwierigkeit auszuräumen, ist eine
Welle vorgesehen, deren Frequenz etwas anders als die
für die Messung verwendete Welle ist, und die mit der
letztgenannten Meßwelle interferieren kann, und diese
beiden Wellen werden miteinander zur Interferenz gebracht,
so daß die Phase der sich ergebenden Schwebung gemessen
wird. Eine solche heterodyne bzw. Interferenzmessung,
bei der die Schwebung zwischen zwei unterschiedliche
Wellenlängen aufweisende Wellen verwendet wird,
ist insbesondere sehr vorteilhaft für die Messung von
Relativverschiebungen unter Verwendung von Beugungsgittern,
weil das Schwebungssignal, ohne daß zusätzliche
Komponententeile erforderlich sind, erhalten werden kann,
wenn das Verfahren, bei dem zwei Wellen auf das Beugungsgitter
auffallengelassen werden, geeignet gewählt
bzw. ausgebildet ist. Wenn das Meßinstrument in der
zuvor beschriebenen Weise ausgebildet und aufgebaut ist,
hängt die Phase des Schwebungssignals praktisch nicht
vom Abstand zwischen dem Beugungsgitter und dem Detektor
ab. Das Meßsystem kann daher sehr einfach eingestellt
oder justiert werden, und die Störanfälligkeit bezüglich
äußerer Störeinflüsse kann verringert werden.
Wenn zwei unterschiedliche Wellen für die Messung mit
unterschiedlichen Frequenzen elektromagnetische Wellen
sind, die in unterschiedlichen Richtungen polarisiert
sind, kann das Verfahren, gemäß dem die Wellen auffallen,
bzw. das Auffallverfahren durch Heranziehung der Tatsache
wesentlich vereinfacht werden, daß die durch das Beugungsgitter
erzielte Beugungswirkung und die Reflexion am Objekt
in unterschiedlicher Weise von der Polarisationsrichtung
der elektromagnetischen Welle abhängt. In diesem
Falle ist es nicht nötig, die beiden elektromagnetischen
Wellen voneinander zu trennen, sie können vielmehr
als ein einziger Strahl fokussiert werden, so daß das
für die Messung erforderliche Schwebungssignal erhalten
werden kann. Ein intensives, kräftiges Schwebungssignal
kann erzielt werden, wenn die Polarisation der auf den
Detektor auffallenden Welle durch einen geeigneten Polarisator
gesteuert wird. Bei diesem Verfahren laufen zwei
für die Interferenzmessung verwendete Wellen auf genau
demselben Strahlweg, so daß die Phase des Schwebungsignals
praktisch unabhängig vom Abstand zwischen der Wellenquelle
und dem Beugungsgitter sowie dem Abstand
zwischen dem Beugungsgitter und dem Detektor ist. Die
Einstellung und Justierung des Meßsystems kann daher
wesentlich vereinfacht und erleichtert werden, und die
Anfälligkeit gegen äußere Einflüsse kann wesentlich verringert
werden, so daß eine hohe Zuverlässigkeit bei der
Messung sichergestellt ist.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnungen beispielsweise
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 und 2 schematische Darstellungen zur Erläuterung
von zwei herkömmlichen Verfahren,
Fig. 3A und 3B schematische Darstellungen einer ersten
und einer zweiten Ausführungsform der Erfindung,
und
Fig. 4-11 schematische Darstellungen weiterer erfindungsgemäßer
Ausführungsformen.
Die Fig. 3A und 3B zeigen ein erstes bzw. zweites Ausführungsbeispiel,
bei dem das erfindungsgemäße Verfahren
auf das in Fig. 2 dargestellte Verfahren angewandt wird.
Bei dem in Fig. 3A gezeigten Verfahren überlappen sich
zwei Objekte 1 und 2 gegenseitig. Das Objekt 2 ist mit
einem Beugungsgitter G2 ausgebildet, auf das eine Lichtwelle
I senkrecht auffällt. Das Objekt 1 ist mit zwei
Beugungsgittern G1 und G1′ an den Stellen versehen, an
denen die vom Beugungsgitter G2 gebeugten Wellen auftreffen.
Die Beugungsgitter G1 und G1′ weisen dieselbe Gitterkonstante
bzw. denselben Spaltabstand d wie das Beugungsgitter
G2 auf und sind zum Beugungsgitter G2 parallel
angeordnet. Phasendetektoren 4 und 5 messen durch Detektieren der Wellen D und D′ die
Phasendifferenz Φ zwischen der Welle D einerseits, die
durch das Beugungsgitter G2 und dann durch das Beugungsgitter
G1 gebeugt wird und in genau entgegengesetzter
Richtung zur senkrecht einfallenden Welle (zum senkrecht
einfallenden Licht) I läuft, und der Welle D′ einerseits,
die vom Beugungsgitter G2 und danach vom Beugungsgitter G1′
gebeugt wird und in entgegengesetzter Richtung zur Fortpflanzungsrichtung
der Welle I läuft. Die Phasendifferenz
ist vom Abstand S zwischen den Objekten 1 und 2 vollkommen
unabhängig, jedoch proportional abhängig von der
Relativverschiebung x zwischen den Objekten 1 und 2 in
der Richtung (X-Richtung), die parallel zu den Oberflächen
der Beugungsgitter G1, G1′ und G2 und senkrecht zur
Richtung S verläuft. Die Phasendifferenz ist also Φ = 4π
nx/d (Radian), wobei n die Beugungsordnung ist. Diese Beziehung
ist im Hinblick darauf sehr einfach, daß die
Intensitäten von D und D′ vom Abstand S und der Relativverschiebung
x abhängen.
Der Wert der Relativverschiebung x kann daher durch Messen
der Phasendifferenz Φ unabhängig vom Abstand S ermittelt
werden. Da der Proportionalkoeffizient n/d weiterhin auf
einfache Weise mit hoher Genauigkeit bestimmt werden
kann, ist es möglich, die Relativverschiebung x im stationären
Zustand zu messen, ohne daß eine Verschiebung der
Objekte in der X-Richtung hervorgerufen wird. Wenn die
Wellenfrequenz kleiner als 10 GHz bzw. unterhalb des
10er GHz-Bereichs liegt, kann die Phasendifferenz zwischen
den Wellen auf einfache Weise mit einer Auflösung
kleiner als 1° bestimmt werden. Daher ist es möglich,
daß die Relativverschiebung x mit einer Auflösung kleiner
als d/720 gemessen werden kann, so daß die Meßgenauigkeit
im Vergleich zu herkömmlichen Verfahren zur Messung
der Intensität der Welle wesentlich verbessert werden
kann.
Bei dem in Fig. 3B dargestellten zweiten Ausführungsbeispiel
ist im Gegensatz zu dem in Fig. 3A dargestellten
Ausführungsbeispiel das Beugungsgitter G2 auf dem Objekt
1 ausgebildet und die Beugungsgitter G1 und G1′ sind
auf dem Objekt 2 ausgebildet. Die Welle I wird auf das
Beugungsgitter G2 auffallen gelassen und die Wellen D
und D′ vom Beugungsgitter G1 bzw. G1′ gelangen zum Detektor
4 bzw. 5, so daß die Messung der Relativverschiebung
x in im wesentlichen derselben Weise wie dies zuvor beschrieben
wurde, durchgeführt werden kann.
Wenn die für die Messung verwendete Welle eine Frequenz
über 10 GHz aufweist bzw. über dem 10er-GHz-Bereich liegt,
wird die direkte Messung der Phasendifferenz, wie dies
zuvor anhand der Fig. 3A und 3B beschrieben wurde, schwierig.
Daher sind, wie dies in Fig. 4 dargestellt ist, bei
dieser Ausführungsform zwei Strahlungs- bzw. Wellenquellen
6 und 7 vorgesehen. Die Wellenquelle 7 erzeugt die Welle
I1 (mit einer Frequenz f1), die auf das Beugungsgitter auffallengelassen
wird, und die Wellenquelle 6 erzeugt die
Welle I2, die eine Frequenz f2 aufweist und mit der Welle
I1 interferieren kann. Die Wellen I2 werden gleichzeitig
mit den Wellen D und D′ auf die Detektoren 4 und 5 auffallengelassen,
so daß die Phasendifferenz zwischen der
durch die Überlagerung der Welle D und der Welle I2 erhaltene
Interferenz und der durch die Überlagerung der
Welle D′ und der Welle I2 erhaltene Interferenz detektiert
wird. In diesem Falle erhält man die Phasendifferenz
aus der Beziehung Φ = 4πn · x/d, wie auch bei
den zuvor anhand der Fig. 3A und 3B beschriebenen Ausführungsformen.
Wenn die Frequenz f2 geeignet gewählt
ist, kann die Frequenz |f1-f2| der Interferenz auf
einen geeigneten Wert gesenkt werden, so daß der Wert
der Relativverschiebung x mit hoher Genauigkeit gemessen
werden kann. Dieses Verfahren ist insbesondere für die
Messung einer extrem kleinen Verschiebung mit einer Genauigkeit
in der Größenordnung von Nanometern durch Verwendung
von Licht im sichtbaren Frequenzbereich besonders
vorteilhaft.
Zur Erzeugung der Welle I2 können die verschiedensten
herkömmlichen Verfahren verwendet werden. Um die Wellen
bis zu einer Frequenz in der 100er GHz-Größenordnung zu
erzeugen, kann ein elektrischer Mischer verwendet werden.
Wenn Licht benutzt wird, kann darüber hinaus das Licht,
welches mit der Welle I1 interferieren kann und eine andere
Frequenz aufweist, mittels elektrooptischer und/oder
akustooptischer Elemente, oszillierender Spiegel
und/oder Lambdaviertel-Plättchen (quaterwave plates)
erzeugt werden. Ein Zeeman-Laser, in dem ein Lasermedium
einem Magnetfeld ausgesetzt ist, erzeugt gleichzeitig
zwei Strahlkomponenten, die sich voneinander hinsichtlich
der Polarisation und Frequenz unterscheiden, jedoch miteinander
interferieren können, so daß ein solcher Zeeman-
Laser sehr vorteilhaft im Zusammenhang mit der in Fig. 4
dargestellten Methode eingesetzt werden kann.
Fig. 5 zeigt einen einfachen Aufbau des anhand von
Fig. 4 beschriebenen Ausführungsbeispiels, wenn Lichtstrahlen,
die miteinander interferieren können, unterschiedliche
Frequenz aufweisen und in zueinander senkrechten
Richtungen linearpolarisiert sind, in einem einzigen
Lichtstrom bzw. Lichtstrahl (wie dies bei einem
lateralen Zeeman-Laser der Fall ist) erhalten werden.
In Fig. 5 wird der Lichtstrahl I1 mit einer Frequenz f1
durch einen polarisierten Strahlenteiler 8 hindurchgelassen
und gelangt über eine Lamptaviertel-Platte 9 auf das
Beugungsgitter G2. Der Lichtstrahl I2 mit einer Frequenz
f2 wird dagegen vom polarisierten Strahlenteiler 8
reflektiert, durchläuft eine Lamptavierte-Platte 10 und
fällt auf einen flachen Spiegel 11 auf. Die vom Beugungsgitter
G2 gebeugten Wellen D und D′ werden vom polarisierten
Strahlenteiler 8 reflektiert und fallen zusammen mit
dem vom flachen Spiegel 11 zurückreflektierten Licht I2
auf die Detektoren 4 und 5 auf. Die Justierung des optischen
Systems gemäß dem in Fig. 5 dargestellten dritten
Ausführungsbeispiel ist einfacher als bei dem in Fig. 4
dargestellten zweiten Ausführungsbeispiel.
Bei dem in Fig. 6 dargestellten Ausführungsbeispiel ist
die Anordnung der Beugungsgitter G1, G1′ und G2 im wesentlichen
dieselbe wie bei dem in Fig. 2 dargestellten
Ausführungsbeispiel. Die Welle I1 mit einer Frequenz f1
wird auf das Beugungsgitter G2 und die Welle I2 mit einer
Frequenz f2 wird auf die Beugungsgitter G1 und G1′ auffallengelassen.
Es ist nicht erforderlich, daß die Beugungsgitter
G1, G1′ und G2 dieselbe Gitterkonstante aufweisen,
es reicht vielmehr aus, daß der vom Beugungsgitter
G2 (Gitterkonstante d2) gebeugte Lichtstrahl I1 Komponenten
enthält, deren Richtungen mit den Richtungen des
gebeugten Lichtstrahls I2 übereinstimmen, der von den
Beugungsgitter G1 und G1′ (Gitterkonstanten d1 bzw. d1′)
gebeugt werden. Das heißt, es reicht aus, den Beziehungen
d1/d2 = m/n und d′/d2 = l/n (wobei l, m und n ganze
Zahlen sind) zu genügen. Die Beugungen mit niedrigen Beugungsordnungen
haben jedoch eine höhere Beugungswirkung,
so daß es vorteilhaft ist, d1 = d2 = d1′ in der Praxis
zu setzen.
Wenn die gebeugten Lichtstrahlen D und D′ gebeugte Wellen
sind, in denen der gebeugte Lichtstrahl I1 und die vom
Beugungsgitter G1 bzw. G1′ gebeugten Lichtstrahlen I2
sich einander überlagern, erzeugen die Intensitäten der
gebeugten Lichtstrahlen D und D′ die Interferenz bzw.
Schwebung mit einer Frequenz |f1-f2|. Bei diesem Ausführungsbeispiel
werden die gebeugten Lichtstrahlen D
und D′ also durch den Detektor 4 bzw. 5 detektiert, so
daß die Phasendifferenz die zwischen den Interferenzen
bzw. Schwebungen der gebeugten Lichtstrahlen D und D′
detektiert wird. Die Phasendifferenz Φ und die Relativverschiebung
x in X-Richtung weist die folgende Beziehung
auf:
Φ = 4πnx/d2,
so daß die Relativverschiebung x mit einer hohen Genauigkeit
durch Messen der Phasendifferenz Φ unabhängig vom Abstand
S zwischen den Beugungsgittern G1 und G1′ und dem
Beugungsgitter G2 gemessen werden kann.
Die in Fig. 6 dargestellte Ausführungsform weist das Merkmal
auf, daß dann, wenn |f1-f2| wesentlich kleiner als
f1 oder f2 gewählt wird, die Phasendifferenz Φ völlig unabhängig
von Abstandsänderungen zwischen dem Beugungsgitter
G1 und dem Detektor 4 und zwischen dem Beugungsgitter
G1′ und dem Detektor 5 wird. Wenn die Differenz zwischen
dem Abstand zwischen dem Beugungsgitter G1 und dem Detektor 4
und dem Abstand zwischen dem Beugungsgitter G1′ und dem
Detektor 5 mit ΔL bezeichnet wird, wird die durch ΔL
hervorgerufene Phasendifferenz 2πΔL |1-f2|/c (wobei
c die Wellengeschwindigkeit ist), so daß es leicht ist,
den Wert vernachlässigbar klein zu machen, wenn |f1-f2|
geeignet gewählt ist. Die Einstellung oder Justierung
des Meßsystems bei diesem Verfahren kann daher im Vergleich
zu den Ausführungsbeispielen 1 bis 3 wesentlich
vereinfacht werden und darüber hinaus ist dieses Verfahren
praktisch immun gegen äußere Störungen.
Wenn der Lichtstrahl I2 über die gesamte Oberfläche in Fig. 6
hinweg einschließlich des Beugungsgitters G2 gleichförmig
auffällt, kann die Relativverschiebung x in der X-
Richtung in im wesentlichen derselben Weise gemessen werden,
wie dies zuvor beschrieben wurde. Die Phasendifferenz
Φ ist jedoch nur dann der Relativverschiebung x
proportional, wenn x wesentlich kleiner als d2 ist. Da
das Beleuchtungs- oder Projektionssystem jedoch einen
einfachen Aufbau aufweisen kann, ist das zuvor beschriebene
Verfahren jedoch zum Zwecke der Detektion x=0 vorteilhafter
als im Falle der Registration oder Ausrichtung
zwischen den Objekten 1 und 2. Um ein solches Beleuchtungs-
oder Lichtprojektionssystem aufzubauen,
wenn beispielsweise die linearpolarisierten Lichtstrahlen
I1 und I2 in unterschiedlicher Richtung polarisiert
sind, wird ein optisch anisotropes Material in ein Lichtstrahl-
Fokussierungssystem eingesetzt, so daß zwischen
den Lichtstrahlen I1 und I2 ein Unterschied in der optischen
Weglänge entsteht, so daß nur der Lichtstrahl I1
auf dem Beugungsgitter G2 fokussiert wird. Wenn die
Lichtstrahlen I1 und I2 wie im zuvor beschriebenen Falle
in unterschiedlichen Richtungen polarisierte elektromagnetische
Wellen sind, ergibt sich derselbe Effekt wie
bei der Ausführungsform, wenn nur die Beugungsgitter G1
und G1′ beleuchtet werden, auch dann, wenn der Lichtstrahl
I2 gleichförmig über die gesamte Fläche einschließlich
des Beugungsgitters G2 auffällt. Zu diesem Zwecke
werden eine Lamptaviertel-Platte und ein Polarisator vor
jedem Detektor 4 und 5 angeordnet, so daß die Lichtstrahlen
I2 eliminiert werden und nicht auf die Detektoren
4 und 5 auftreffen. Der Polarisationszustand der
gebeugten Welle ändert sich in Abhängigkeit vom Polarisationszustand
der einfallenden Welle und des Beugungswegs,
so daß nur eine bestimmte gebeugte Komponente in
der zuvor beschriebenen Weise eliminiert werden kann.
Bei dem in Fig. 7 dargestellten Ausführungsbeispiel sind
die dieselbe Gitterkonstante d1 aufweisenden Beugungsgitter
G1 und G1′ auf dem Objekt 1 vorgesehen, und die
Welle I1 mit einer Frequenz f1 fällt auf das Beugungsgitter
G1 auf, wogegen die Welle I1 mit der Frequenz f1
auf das Beugungsgitter G1′ auffällt. Das Beugungsgitter
G2 ist parallel zu dem Beugungsgitter G1 und G1′ an einer
Stelle angeordnet, an der die gebeugten Lichtstrahlen
I1 und I2 in derselben Beugungsordnung von den Beugungsgittern
G1 bzw. G2 auffallen. Die Gitterkonstante d2 des
Beugungsgitters G2 ist so gewählt, daß d2 = d1 oder
d2 = 1,5 d1 ist, wobei die Welle, die zuerst vom Beugungsgitter
G1 und dann vom Beugungsgitter G2 gebeugt
wird, sowie die Welle, die zuerst vom Beugungsgitter G1′
und dann vom Beugungsgitter G2 gebeugt wird, sich in derselben
Richtung fortpflanzen. Aus diesem Grunde ist es
vorteilhaft, d2/d1 = j/2i zu wählen, wobei i und j
positive ganze Zahlen sind. Wenn d2 = 1,5 d1 ist, werden
die Welle, die vom Beugungsgitter G1 in der ersten
Ordnung und dann vom Beugungsgitter G2 in der minus ersten
Ordnung gebeugt werden, sowie die Welle, die vom Beugungsgitter
G1′ in der minus ersten Ordnung und dann vom
Beugungsgitter G2 in der zweiten Ordnung gebeugt werden,
die Wellen, die sich in derselben Richtung fortpflanzen.
Wenn d2 jedoch ein ganzzahliges Vielfaches von d1 ist,
wird die vom Beugungsgitter G1 gebeugte Welle am Beugungsgitter
G2 gebeugt und dann wieder zum Beugungsgitter
G1 zurückgeworfen, so daß die gegenseitige Abhängigkeit
der relativen Verschiebung, die durch die Messung
erhalten wird, kompliziert wird. Daher ist es vorteilhaft,
daß d2 kein ganzzahliges Vielfaches von d1 ist.
Bei dieser in Fig. 7 dargestellten Ausführungsform erzeugen
wenigstens drei gebeugte Wellen D1, D2 und D3 eine
Interferenz bzw. Schwebung mit einer Frequenz |f1-f2|,
und die Phasendifferenz zwischen den Interferenzen bzw.
Schwebungen ist gegeben durch
wobei Φ(Di) die Phase der Interferenz bzw. Schwebung von
Di; n die Beugungsordnung an den Beugungsgitter G1 und
G1′ und x die Relativverschiebung in der X-Richtung ist.
Der Wert für die Relativverschiebung x kann daher durch
Messen von Φ(D₂)-Φ(D₁) und Φ(D₃)-Φ(D₁) durch die Detektoren 3 und 5 erhalten
werden. In diesem Falle detektieren die Detektoren 3, 4
und 5 die gebeugten Wellen D1, D2 bzw. D3.
Bei dem Ausführungsbeispiel 5 ist der Aufbau des Beleuchtungs-
oder Projektionssystems einfacher als der des
Ausführungsbeispiels 4. Es sei insbesondere darauf hingewiesen,
daß dann, wenn die Lichtstrahlen I1 und I2 in
unterschiedlichen Richtungen linear polarisierte Lichtstrahlen
sind, der für das in Fig. 7 dargestellte Ausführungsbeispiel 5
erforderliche doppelte Lichtstrom nur
dadurch erreicht werden kann, daß die Lichtstrahlen durch
eine geeignete doppelte Refraktionsplatte hindurchgeleitet
werden.
Wenn die beiden Wellen I1 und I2 (mit einer Frequenz f1 bzw.
f2), die bei der Messung benutzt werden, in unterschiedlichen
Richtungen polarisisierte elektromagnetische Wellen
sind, kann das Beleuchtungs- oder Lichtprojektionsmeßsystem,
das für die Messung der relativen Verschiebung
erforderlich ist, durch Ausnutzung der Tatsache
konstruktionsmäßig sehr einfach gehalten werden, daß
die Beugungswirkung eines Beugungsgitters vom Polarisationszustand
des Lichts abhängt. Ein Beispiel eines
solchen Systems ist in Fig. 8 dargestellt. Der Aufbau
und die Anordnung der Beugungsgitter G1, G1′ und G2
sind im wesentlichen denen, wie sie in Fig. 7 dargestellt
sind, gleich. Die Gitterkonstante d2 des Beugungsgitters
G2 ist kein ganzzahliges Vielfaches von
d1 und beispielsweise 1,5 d1. Wenn die elektromagnetischen
Wellen I1 und I2, die unterschiedliche Polarisation
und Frequenz aufweisen, kombiniert werden, und eine kombinierte
Welle I bilden, die dann auf das Meßsystem
auffällt, erhält man die kombinierte Welle Da durch
Kombination der Welle, die in der minus ersten Ordnung
durch das Beugungsgitter G1 und dann in der zweiten Ordnung
durch das Beugungsgitter G2 gebeugt wird, mit der
Welle, die in der ersten Ordnung durch das Beugungsgitter
G1′ und dann in der minus ersten Ordnung des Beugungsgitters
G2 gebeugt wird. Die kombinierte Welle Db
erhält man durch Beugung in den Ordnungen mit in Bezug
zur kombinierten Welle Da entgegengesetztem Vorzeichen.
Die auf diese Weise erhaltenen kombinierten Wellen Da
und Db durchlaufen vor Auftreffen auf die Detektoren 4
bzw. 5 Polarisatoren 21 bzw. 22, die die Richtstrahlen
in geeignete Richtungen polarisieren. Als nächste wird
die Phasendifferenz zwischen den Schwebungen in den kombinierten
Wellen Da und Db gemessen, so daß die Relativverschiebung
in der x-Richtung zwischen den Objekten 1
und 2 gemessen wird. Zwischen den Beugungsgitters G1 und
G1′ ist kein Beugungsgitter vorhanden, so daß die Hauptkomponenten
der vom Beugungsgitter G2 gebeugten Welle I
nicht auf die Beugungsgitter G1 und G1′ fällt. Das in
Fig. 8 dargestellte Ausführungsbeispiel kann so abgewandelt
werden, daß die Beugungsgitter G1 und G1′ auf
dem Objekt 2 und das Beugungsgitter G2 auf dem Objekt 1
ausgebildet ist, so daß der Lichtstrahl I zuerst auf
das Beugungsgitter G2 auffällt.
Nachfolgend soll der Grund, weshalb derWert x durch das
zuvor beschriebene Verfahren ermittelt werden kann, erläutert
werden. Wenn der komplexe Amplitudenbeugungsgrad
des Lichtstrahls I1 an G1′ → Da und der Beugungsgrad
an G1′ → Da des Lichtstrahls I1, die in der durch
den Polarisator 21 festgelegten Richtung gemessen werden,
mit γ1 bzw. γ1 a und die Amplitudenbeugungsgrade des
Lichtstrahls I2, der in derselben zuvor beschriebenen
Weise gemessen wird, mit γ2 bzw. γ2 β bezeichnet werden,
ist die Amplitude A(Da) von Da durch die Gleichung
A(Da) = γ1(e-i δ + αei δ)A1 + γ2(e-i δ + βei δ)A2
gegeben, wobei A1 und A2 die Amplituden von I1 bzw. I2
an den Beugungsgittern G1 und G1′ und δ = 2πx/d1 ist.
Allgemein ändert sich der Beugungsgrad in Abhängigkeit
von dem Polarisationszustand, so daß α β ist, mit Ausnahme
allerdings des Falles eines hohen Grads an Symmetrie,
beispielsweise wenn sowohl I1 als auch I2 zirkular
polarisiertes Licht ist. Die Amplitude von Db ist gleich
einem Wert, der erhalten wird, wenn δ → -δ in A(Da).
Daher ergibt sich, daß die Phasen der Schwebungen von Da
und Db sich in Abhängigkeit des Wertes δ ändern, und die
Phasendifferenz ist gegeben durch:
und der Wert x kann mit dieser Maßnahme bestimmt werden.
Im praktischen Falle ist es höchst vorteilhaft, wenn die
Polarisationsrichtungen von I1 und I2 aufeinander senkrecht
stehen. In diesem Falle liegt die Polarisationsrichtung
von I1 in der Richtung des Beugungsgitters,
während I1 in Richtung senkrecht zur Polarisationsrichtung
von I2 polarisiert ist. Dann wird die Phasendifferenz
Φ(Db)-Φ(Da) von den Richtungen der Polarisatoren 21
und 22, die vor den Detektoren 4 und 5 angeordnet sind,
unabhängig. Es ist weiterhin leicht, die Richtung auszuwühlen,
in der die höchste Meßgenauigkeit erreicht
wird, und zwar durch Drehen der Polarisationsrichtungen
von I1 und I2.
Der Wert x kann mit hoher Genauigkeit unabhängig vom
Abstand S zwischen den Objekten 1 und 2 mittels des in
Fig. 8 dargestellten Verfahrens ermittelt werden. Gemäß
diesem Verfahren ist das Beleuchtungs- oder Lichtprojektionssystem
einfach aufgebaut, so daß die Justierung und
Einstellung sehr vereinfacht werden kann. Infolgedessen
werden die Messungen nicht nachteilig durch äußere
Störungen beeinträchtigt, und es kann eine hohe Stabilität
sichergestellt werden. Darüber hinaus ist dieses Verfahren
dadurch vorteilhaft, daß die Justierungen und
Einstellungen, die für die Messung erforderlich sind,
durch die Messungen der Phasen der Schwebungen der
gebeugten Wellen D und D′ vorgenommen werden können.
Die Phasen der Schwebungen von D und D′ sind vom Wert x
unabhängig, ändert sich jedoch in Abhängigkeit davon,
ob und wie weit die Beugungsgitter G1 und G1′ einerseits
und das Beugungsgitter G2 andererseits parallel sind,
sowie in Abhängigkeit davon, ob und wie weit I senkrecht
auf die Oberfläche des Beugungsgitters fällt. Daraus ergibt
sich also, daß dann, wenn die Beugungsgitter G1 und
G1′ einerseits und das Beugungsgitter G2 andererseits
parallel zueinander und die Einfallsrichtung von I so eingestellt
werden, daß die Phasendifferenz minimiert wird, die für die Messung von x erforderlichen
Justierungen auf diese Weise vorgenommen werden können.
Diese Justierungen sind höchst wirksam, um die Meßgenauigkeit
zu verbessern.
Die Tatsache, daß die Messung in der Praxis mit hoher
Genauigkeit durchgeführt werden kann, wird anhand des
folgenden Beispiels deutlich. Dünne Au-Schichten oder
Filme werden auf einem Gitter auf dem aus SiO2 bestehenden
Objekt 1 gebildet, so daß die Beugungsgitter G1 und
G1′ entstehen und es werden Nuten mit einer Breite von
0,4 µm durch die Oberfläche des aus Si bestehenden Objekts
2 geschnitten, so daß sich auf diese Weise das Beugungsgitter
G2 ergibt. Die Gitterkonstante der Beugungsgitter
G1 und G1′ ist 0,8 µm und die Beugungsgitter G1
und G1′ sind voneinander um 75 µm beabstandet. Die Gitterkonstante
des Beugungsgitters G2 ist 1,2 µm. Der Laserstrahl
mit einer Wellenlänge von 632,8 nm wird von einem
He-Ne-Transversal-Zeeman-Laser in der Weise emittiert, daß
der Laserstrahl senkrecht auf die Beugungsgitter auffällt.
Die Schwebungsfrequenz ist etwa 300 KHz. Die Polarisationsrichtung
eines der beiden linearpolarisierten Lichtstrahlen
ist so gewählt, daß sie mit der Richtung des
Beugungsgitters übereinstimmt, und der Polarisator wird
vor dem Detektor in einer Richtung von 45° bezüglich der
Richtung des Beugungsgitters angeordnet. Auf diese Weise
werden die Werte α und β etwa gleich 0,5 bzw. 0,6, so
daß die Phasendifferenz zwischen den Schwebungen von Da
und Db mit einer Genauigkeit gemessen werden kann, die
höher als 1° ist. Das bedeutet, daß der Wert x in der
Größenordnung von 0,01 µm genau ermittelt werden kann.
Diese Eigenschaft oder Wirkung kann unabhängig von
Änderungen im Abstand zwischen den Objekten 1 und 2 in
einem Bereich von 20 µm bis 70 µm erreicht werden.
Fig. 9 zeigt die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens
auf das in Fig. 1 dargestellte herkömmliche System. Wenn
angenommen wird, daß D+ und D- vom Beugungsgitter G2 nur
in der ersten Ordnung gebeugt werden, und wenn die Amplitude
der auffallenden Welle mit A0 bezeichnet wird, so sind
die Amplituden A+ und A- von D+ und D- gegeben durch
A+ = γ(1+αe-i δ+βei δ)A0
und
A- = γ(1+αei δ+βei δ)A0,
wobei γ, α und β die komplexen Amplitudenbeugungsgrade
eines Doppelbeugungsgitter sind, und ihre Phasen sind
komplizierte Funktionen des Abstands S zwischen den Beugungsgittern
G1 und G2. Darüber hinaus gilt δ = (2πx)/d,
wobei d die Gitterkonstante ist. Auf diese Weise ergibt
sich die Differenz der Intensität zwischen zwei gebeugten
Wellen zu:
I(D+) - I(D-) = 4 |γ|2Im{(α-β)sin δ
+ αβsin 2δ} |A0|2,
wobei Im einen Imaginärwert darstellt. Daraus folgt, daß
die Abhängigkeit von I(D+)-I(D-) von δ oder x durch den
Wert der Imaginärteile α und β bestimmt wird. Die Imaginärteile
von α und β ändern sich jedoch stark in Abhängigkeit
des Abstands D zwischen den Objekten 1 und 2, so
daß das herkömmliche, in Fig. 1 dargestellte Verfahren
stark von Änderungen des Abstands S beeinflußt wird.
Wenn dagegen das erfindungsgemäße Verfahren bei dem in
Fig. 9 dargestellten System angewandt wird, können die
Eigenschaften wegen der zuvor beschriebenen Gründe wesentlich
verbessert werden. Wenn die auffallende Welle I
die Summe zweier elektromagnetischer Wellen I1 und I2
ist, deren Frequenz und Polarisationszustand unterschiedlich
sind, ergeben die Intensitäten von D+ und D- Schwebungen.
Wenn dabei Polarisatoren 21 und 22 vor die Detektoren
4 bzw. 5 angeordnet werden, können die höheren
Schwebungsintensitäten erhalten werden.
Wenn die komplexen Amplituden Beugungsgrade von I1 und I2
mit γ1, α1 und β1 bzw. γ2, α2 und β2 bezeichnet werden,
wird die Phasendifferenz zwischen den Schwebungen in D+
und D- fast proportional zu α1 - α2* + β1 - β2*, wenn δ
ausreichend kleiner als 1 ist. Im Vergleich zu den Imaginärteilen
von α und β ist die Abhängigkeit dieses Wertes
von Abstand S recht klein. Daraus ergibt sich, daß die
Messung von x über einen weiten Bereich des Abstands S
durch Messung der Phasendifferenz zwischen den Schwebungskomponenten
von D+ und D- durchgeführt werden kann.
Im Vergleich zur Intensitätsmessung ist die Phasenmessung
darüber hinaus weniger durch Änderungen externer
Faktoren beeinflußbar, so daß eine höhe Meßgenauigkeit
sichergestellt werden kann.
Im praktischen Falle ergeben sich mit dem erfindungsgemäßen
Verfahren die nachfolgenden bemerkenswerten Eigenschaftsverbesserungen.
Eine dünne Au-Schicht bzw.
ein dünner Au-Film wird in Form eines Gitters auf dem aus
SiO2 bestehenden Objekt 1 ausgebildet, so daß sich das
Beugungsgitter G1 ergibt, während Nuten in einer Breite
von 0,4 µm in die Oberfläche des aus Si bestehenden Objekts
2 geschnitten wird, so daß dadurch das Beugungsgitter
G2 entsteht. Die Gitterkonstanten beider Beugungsgitter
G1 und G2 ist 1 µm. Wie beim Ausführungsbeispiel
6 ist die auffallende Welle I der von einem He-Ne-Transversal-
Zeeman-Laser abgegebene Laserstrahl, und die Richtstrahlkomponenten
werden in die Richtung des Beugungsgitters
und senkrecht zu dieser Richtung polarisiert. Um
die relative Verschiebung in der X-Richtung mit der herkömmlichen,
in Fig. 1 dargestellten Methode zu messen,
muß der Abstand S zwischen den Beugungsgittern G1 und G2
auf einen bestimmten Wert (beispielsweise 22,23 µm) festgelegt
bzw. bestimmt werden, der seinerseits durch die
Wellenlänge des auffallenden Lichts I und die Gitterkonstante
der Beugungsgitter G1 und G2 festgelegt ist, wobei
eine Fehlertoleranz von weniger als 10 nm eingehalten werden
muß. Daher hat es sich als praktisch unmöglich herausgestellt,
dieses herkömmliche Verfahren einzusetzen.
Mit dem erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel 7 wird
die Begrenzung des Abstands S im wesentlichen ausgeschaltet
und es wird möglich, die relative Verschiebung
in der X-Richtung mit einer Genauigkeit zu messen, die
über einen weiten Bereich des Abstands S zwischen 10 bis
100 µm mit Ausnahme einiger bestimmter Werte höher als
0,05 µm ist. Die Ausnahme besteht lediglich in einer
Genauigkeit von ±0,1 µm in der Nähe eines Wertes
S (Φ = 39° ist ein Beugungswinkel), bei der S (cos R -1)
ein ganzzahliges Vielfaches einer halben Wellenlänge ist.
Fig. 10 zeigt die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens
bei der Messung der relativen Verschiebung in
einer Richtung senkrecht zur Oberfläche des Beugungsgitters.
Wie in Fig. 10 dargestellt ist, ist ein Objekt 1
von zwei parallel zueinander angeordneten Objekten mit
dem Beugungsgitter G ausgerüstet und die elektromagnetische
Welle I fällt senkrecht auf die Oberfläche des
Beugungsgitters G ein. Hierbei ist die gebeugte Welle D
die Kombination der an der oberen Oberfläche des Beugungsgitters
G beugungsreflektierten Welle, der von Beugungsgitter
G gebeugten und dann am Objekt 2 reflektierten
Welle, sowie der am Objekt 2 reflektierten und dann
am Beugungsgitter G gebeugten Welle.
Bei den herkömmlichen Verfahren wird die Intensität D
gemessen und dadurch der Abstand S zwischen dem Objekt 1
und dem Objekt 2 ermittelt, so daß es zur Spezifizierung
des Abstands S auf einen vorgegebenen Wert erforderlich
ist, S und damit auch die Intensität D zu ändern. Darüber
hinaus kann die Messung leicht durch Änderungen der Intensität
der einfallenden Welle beeinflußt werden, so daß die
Meßgenauigkeit auf λ/20 begrenzt ist, wobei λ die Wellenlänge
von I ist.
Die Meßgenauigkeit kann auf einfache Weise durch Anwendung
des erfindungsgemäßen Verfahrens auf das in Fig. 10
dargestellte Ausführungsbeispiel verbessert werden.
Dabei ist die einfallende Welle I eine elektromagnetische
Welle mit zwei Komponenten I1 und I2, die unterschiedliche
Frequenz und Polarisationszustände aufweisen.
Das heißt, I = I1+I2. Die gebeugte Welle D wird
vom Detektor 4 detektiert, so daß die Phase der Schwebungskomponenten
gemessen werden kann. Wenn der Polarisator
21 vor dem Detektor 4 angeordnet und in irgendeiner
geeigneten Richtung ausgerichtet ist, ist es möglich,
eine hohe, starke Schwebung zu erreichen.
Der Grund, weshalb der Abstand S in der zuvor beschriebenen
Weise gemessen wird, wird nachfolgend erläutert.
D ist eine kombinierte gebeugte Welle, bestehend aus
D(0,1), D(1,0), D(-1,2) usw., wobei jeweils unterschiedliche
optische Wege vorhanden sind. Die Beugungskomponenten
sind jeweils unterschiedlich abhängig von den Amplitudenbeugungsgraden
bezüglich des Polarisationszustands.
Die elektromagnetische Welle, die am Objekt 2 reflektiert,
und dann im Gitter G gebeugt wird, weist eine Phasenverzögerung
auf, die vom Abstand S abhängt, und jede
gebeugte Komponente hat eine andere Phasenverzögerung
bzw. -nacheilung. Infolgedessen ist die Phasenverzögerung
oder -nacheilung vom Abstand S jeder der I1- und
I2-Komponenten, die die gebeugte Welle D bilden, unterschiedlich,
so daß sich die Schwebungsphase in Abhängigkeit
des Abstands S ändert.
Wenn die Schwebungsphase mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens
mit einer Genauigkeit in der Größenordnung von 1°
gemessen wird, kann der Abstand S leicht mit einer Genauigkeit
besser als λ/100 gemessen werden.
Bei dem zuvor beschriebenen Ausführungsbeispiel 6 kann
zwischen die beiden Objekte ein optisches System, beispielsweise
in Form von Linsen vorgesehen sein. Wie in
Fig. 11 dargestellt ist, wird das Bild des Beugungsgitters
G1 (mit einer Gitterkonstante d1) auf dem Objekt 1
mittels des Linsensystems L1 und L2 auf das Beugungsgitter
G2 (mit einer Gitterkonstante d2) auf dem Objekt 2
fokussiert. Beispielsweise ist die Gitterkonstante d1′
des auf das Objekt 2 fokussierten Bilds des Beugungsgitters
G1 so gewählt, daß d2/d1′ = 1,5 ist. Die kombinierte
Welle I, die auf den unterschiedliche Frequenz und
Polarisationszustände aufweisenden Lichtstrahlen I1 und
I2 besteht, fällt senkrecht auf die Oberfläche des Beugungsgitters
G1 auf. Ein geeigneter Raumfilter
30 ist in der Brennebene des
Linsensystems L1 angeordnet, so daß die Wellen, die in
geeigneten Brechungsordnungen (beispielsweise der ±ersten
Brechungsordnung) gebrochen werden, nur durch das Filter 30
gelangen können und auf das Objekt 2 fokussiert werden.
Bei diesem System, das auf demselben Prinzip beruht, wie
es im Zusammenhang mit dem Ausführungsbeispiel 6 beschrieben
wurde, wird die Phasendifferenz zwischen den
Schwebungen in den vom Beugungsgitter G2 gebeugten Wellen
Da und Db in den Detektoren 4 und 5 gemessen, so
daß die Relativverschiebung in Richtung der Oberflächen
der Beugungsgitter auf den Objekten 1 und 2 ( in der in
Fig. 11 eingezeichneten X-Richtung) gemessen werden kann.
Die Messung der Relativbewegung in der zuvor beschriebenen
Weise kann ohne nachteilige Beeinflussung der Meßgenauigkeit
sogar auch dann durchgeführt werden, wenn das
Bild des Beugungsgitters G1 nicht scharf auf das Beugungsgitter
G2 fokussiert ist, d. h. vor oder hinter dem Beugungsgitter
G2 fokussiert ist. Auch wenn ein optisches
Projektionssystem, beispielsweise ein konkaver Spiegel
anstelle der Linsen verwendet wird, kann die Relativverschiebung
in einer im wesentlichen gleichen Weise, wie
dies zuvor beschrieben wurde, gemessen werden.
Das bereits beschriebene Ausführungsbeispiel 9 ist sehr
vorteilhaft und wirkungsvoll mit hoher Genauigkeit eine
Ausrichtung oder Anpassung zwischen einer Strichplatte
oder Zielmarke und einem Halbleiterwafer in
den Verkleinerungsprojektions-Belichtungsgeräten zu erreichen,
die in großem Maße bei der Produktion von
VLSI's (very large scale integration) benutzt wird. Auch
wenn die Beugungsgitter G1 und G2 zueinander nicht parallel
sind, kann das erfindungsgemäße Verfahren auf einfache
Weise durch Verwendung geeigneter optischer Systeme
eingesetzt werden. Wenn optische Fasern zur Festhaltung
der Polarisationsrichtung in einem optischen Projektionssystem
verwendet werden, wird es weiterhin möglich, die
Beugungsgitter G1 und G2 in irgendeinem geeigneten Abstand
voneinander beabstandet anzuordnen. Wie bereits
erwähnt, kann man mit dem zuvor beschriebenen Ausführungsbeispiel
die Relativverschiebung mit hoher Genauigkeit
auch dann messen, wenn die Objekte in verschiedenster
Weise angeordnet sind.
Wie zuvor im einzelnen beschrieben wurde, kann die vorliegende
Erfindung bei verschiedensten Verfahren zur Messung
von Relativversetzungen unter Ausnützung
der Beugungseffekte von Wellen an Beugungsgittern
eingesetzt werden und die Eigenschaften der Meßverfahren
wesentlich verbessern. Die vorliegende Erfindung
wurde bei den hier erläuterten Ausführungsbeispielen
im Zusammenhang mit der Relativverschiebung oder -versetzung
von zwei Objekten oder Gegenständen zueinander
erläutert. Die erfindungsgemäßen Verfahren können jedoch
in geeigneter Weise auch so eingesetzt werden, daß die
Relativverschiebungen von drei oder mehr Gegenständen
relativ zueinander leicht gemessen werden kann.
Die vorliegende
Erfindung hat daher weite industrielle Anwendungsmöglichkeiten
auf Gebieten, bei denen die Messung
von Relativversetzungen mit hoher
Genauigkeit erforderlich ist. Insbesondere ist die vorliegende
Erfindung sehr vorteilhaft für Messungen von
Relativversetzungen zwischen einer
Belichtungsmaske und einem Halbleiterwafer in lithographischen
Verfahren anwendbar, die breite Verwendung bei
der Herstellung elektronischer Elemente Anwendung finden.
Claims (14)
1. Verfahren zur Messung der Relativbewegung zweier Objekte,
wobei folgendes vorgesehen ist:
jedes der Objekte trägt mindestens ein Beugungsgitter,
zwei Lichtwellen der Wellenlänge λ₁ bzw. λ₂, die miteinander interferenzfähig sind,
jede der Lichtwellen wird an mindestens einem Beugungsgitter eines Objektes gebeugt,
mindestens eine gebeugte Lichtwelle der Wellenlänge λ₁ wird mit mindestens einer gebeugten Lichtwelle der Wellenlänge λ₂ zur Interferenz gebracht, und
die relative Bewegung basierend auf der Phasendifferenz der Schwebungen wird gemessen,
wobei die Messung der Schwebungen in unterschiedlichen Beugungsordnungen erfolgt.
jedes der Objekte trägt mindestens ein Beugungsgitter,
zwei Lichtwellen der Wellenlänge λ₁ bzw. λ₂, die miteinander interferenzfähig sind,
jede der Lichtwellen wird an mindestens einem Beugungsgitter eines Objektes gebeugt,
mindestens eine gebeugte Lichtwelle der Wellenlänge λ₁ wird mit mindestens einer gebeugten Lichtwelle der Wellenlänge λ₂ zur Interferenz gebracht, und
die relative Bewegung basierend auf der Phasendifferenz der Schwebungen wird gemessen,
wobei die Messung der Schwebungen in unterschiedlichen Beugungsordnungen erfolgt.
2. Verfahren zur Messung der Relativbewegung zweier Objekte,
wobei folgendes vorgesehen ist:
mindestens eines der Objekte trägt ein Beugungsgitter, auf das eine Lichtwelle der Wellenlänge λ₁ fällt, die an dem Beugungsgitter gebeugt wird, so daß mindestens zwei gebeugte Wellen entstehen,
eine zweite Lichtwelle der Wellenlänge λ₂, die mit den mindestens zwei gebeugten Wellen interferenzfähig ist, wird mit diesem zur Interferenz gebracht, und
die relative Bewegung basierend auf der Phasendifferenz der Schwebungen wird gemessen, wobei die Messung der Schwebungen in unterschiedlichen Beugungsanordnungen erfolgt.
mindestens eines der Objekte trägt ein Beugungsgitter, auf das eine Lichtwelle der Wellenlänge λ₁ fällt, die an dem Beugungsgitter gebeugt wird, so daß mindestens zwei gebeugte Wellen entstehen,
eine zweite Lichtwelle der Wellenlänge λ₂, die mit den mindestens zwei gebeugten Wellen interferenzfähig ist, wird mit diesem zur Interferenz gebracht, und
die relative Bewegung basierend auf der Phasendifferenz der Schwebungen wird gemessen, wobei die Messung der Schwebungen in unterschiedlichen Beugungsanordnungen erfolgt.
3. Verfahren zur Messung des Abstands zweier Objekte, wobei
folgendes vorgesehen ist:
das eine der Objekte trägt ein transparentes Beugungsgitter,
das andere der Objekte ist an der dem Beugungsgitter zugewandten Seite reflektierend,
zwei Lichtquellen der Wellenlänge λ₁ bzw. λ₂ sind miteinander interferenzfähig und haben unterschiedliche Polarisationsebenen,
die beiden Lichtwellen werden an dem Beugungsgitter des einen Objekts gebeugt, und mindestens ein Beugungsanteil der beiden Lichtwellen wird an der reflektierenden Seite des anderen Objekts reflektiert,
wobei die so entstandene Lichtwelle zur Interferenz gebracht wird mit der einmal am Beugungsgitter gebeugten Lichtwelle, und
der Abstand basierend auf der Phase der durch die Interferenz entstehenden Schwebungen gemessen wird.
das eine der Objekte trägt ein transparentes Beugungsgitter,
das andere der Objekte ist an der dem Beugungsgitter zugewandten Seite reflektierend,
zwei Lichtquellen der Wellenlänge λ₁ bzw. λ₂ sind miteinander interferenzfähig und haben unterschiedliche Polarisationsebenen,
die beiden Lichtwellen werden an dem Beugungsgitter des einen Objekts gebeugt, und mindestens ein Beugungsanteil der beiden Lichtwellen wird an der reflektierenden Seite des anderen Objekts reflektiert,
wobei die so entstandene Lichtwelle zur Interferenz gebracht wird mit der einmal am Beugungsgitter gebeugten Lichtwelle, und
der Abstand basierend auf der Phase der durch die Interferenz entstehenden Schwebungen gemessen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Wellen sich in den Polarisationszuständen unterscheiden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Wellen jeweils in unterschiedlichen Richtungen linearpolarisiert
sind.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zwei von drei Beugungsgittern auf einem Gegenstand und eins
von drei Beugungsgittern auf dem anderen Gegenstand ausgebildet
sind.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichent, daß die
drei Beugungsgitter symmetrisch angeordnet sind.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2 oder 4 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Gitterkonstante des auf einem
Gegenstand ausgebildeten Beugungsgitters den j/2i-fachen Wert
des ausgebildeten Beugungsgitters aufweist, wobei i und j positive ganze
Zahlen sind.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2 oder 4 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gitterkonstante des auf einem
Gegenstand ausgebildeten Beugungsgitters das 1,5-fache der
Gitterkonstante des auf dem anderen Gegenstand ausgebildeten
Beugungsgitters ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 oder 4 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Wellen in der Weise durch einen polarisierten
Strahlenteiler laufen, daß sie nach Durchgang durch
eine Lambdaviertel-Platte auf das Beugungsgitter auffallen,
daß ein reflektierter Lichtstrahl durch eine Lambdaviertel-
Platte und einen Reflektionsspiegel wieder zu dem polarisierenden
Strahlteiler läuft, und daß der am Beugungsgitter gebeugte
Lichtstrahl und der zum polarisierenden Strahlteiler
zurückreflektierte Lichtstrahl kombiniert und vom polarisierten
Strahlteiler abgegeben werden, wobei die Phasendifferenz
detektiert wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die erhaltene gebeugte Welle durch einen
Polarisator läuft, wobei die Phasen der Schwebungen des vom
Polarisator abgegebenen Lichtstrahls gemessen werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß zwischen wenigstens zwei benachbarten
Gegenständen ein optisches System angeordnet ist.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
das optische System eine erste Linse, eine zweite Linse und
einen in der Brennebene der ersten Linse angeordneten Raumfilter
umfaßt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gegenstände zueinander parallel angeordnet
sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61015368A JPS62172203A (ja) | 1986-01-27 | 1986-01-27 | 相対変位測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE3702203A1 DE3702203A1 (de) | 1987-07-30 |
DE3702203C2 true DE3702203C2 (de) | 1994-04-07 |
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