DE50014238D1 - Ein verfahren zur herstellung eines miniaturisierten kondensators - Google Patents

Ein verfahren zur herstellung eines miniaturisierten kondensators

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Till Schloesser
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L28/00Passive two-terminal components without a potential-jump or surface barrier for integrated circuits; Details thereof; Multistep manufacturing processes therefor
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100587046B1 (ko) * 2000-05-31 2006-06-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 전하저장 전극 제조 방법
US7164165B2 (en) * 2002-05-16 2007-01-16 Micron Technology, Inc. MIS capacitor
US6934143B2 (en) 2003-10-03 2005-08-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Metal-insulator-metal capacitor structure
JP2008244306A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Nec Electronics Corp 半導体装置およびその製造方法
US11211447B2 (en) 2018-07-23 2021-12-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0553791A1 (de) * 1992-01-31 1993-08-04 Nec Corporation Kondensatorelektrode für DRAM und Verfahren zu ihrer Herstellung
JP2839076B2 (ja) 1995-05-11 1998-12-16 日本電気株式会社 半導体装置およびその製造方法
US5877063A (en) * 1995-07-17 1999-03-02 Micron Technology, Inc. Method of forming rough polysilicon surfaces
US5760434A (en) * 1996-05-07 1998-06-02 Micron Technology, Inc. Increased interior volume for integrated memory cell
TW383459B (en) * 1997-12-19 2000-03-01 United Microelectronics Corp Manufacturing method for bit line
US6344389B1 (en) * 1999-04-19 2002-02-05 International Business Machines Corporation Self-aligned damascene interconnect

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