DE888204C - Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches MaterialInfo
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- DE888204C DE888204C DEO940A DE888204DA DE888204C DE 888204 C DE888204 C DE 888204C DE O940 A DEO940 A DE O940A DE 888204D A DE888204D A DE 888204DA DE 888204 C DE888204 C DE 888204C
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- F21Y2103/00—Elongate light sources, e.g. fluorescent tubes
Description
(WiGBl. S. 175)
AUSGEGEBEN AM 31. AUGUST 1953
O g4<3 IVa j5jb
In dem Patent 854 890 ist ein Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit
Hilfe von Diazoverbindungen beschrieben, das darin besteht, daß man unter Verwendung von Diazoverbindungen,
die sich von 2-Diazo-naphthol-(i) oder i-Diazo-naphthol-(2) herleiten und durch Veresterung
bzw. Amidierung einer Sulfo- oder Carbonsäure dieser Diazonaphthole entstanden sind, auf einem Schichtträger
eine lichtempfindliche Schicht herstellt, diese hinter einer Vorlage belichtet und die belichtete
Schicht, gegebenenfalls nach erfolgter Alkalibehandlung, durch Erhitzen fixiert und mit Alkali behandelt.
In den Patenten 879 205, 865 108, 865 109, 879 203
wird die in dem Hauptpatent beschriebene Arbeitsweise modifiziert. Die Modifikationen erstrecken sich
zum Teil auf die Ausführung der vorzunehmenden Entwicklung, zum Teil auf die Zusammensetzung des
lichtempfindlichen Materials, besonders der lichtempfindlichen Schicht.
Bei weiterer Bearbeitung der Erfindung ist nun gefunden worden, daß sich mit Vorteil an Stelle der
in dem Hauptpatent und den obengenannten Zusatzpatenten anzuwendenden Diazoverbindungen oder in
Verbindung mit diesen auch solche Diazoverbindungen anwenden lassen, die sich von Sulfosäuren oder Carbon-
säuren von ortho - Diazophenolen der Benzolreüie
(im Schrifttum auch als ortho-Chinon-diazide bezeichnet, Beilstein, 4. Aufl., Bd. 16 [1933] S. 520
und 522, 523) herleiten und die Konstitution von Estern oder Amiden dieser Säuren haben.
Die Bildung der lichtempfindlichen Schichten aus den gemäß der vorliegenden Erfindung zu verwendenden,
von ortho-Chinon-diaziden der Benzolreihe abgeleiteten Diazoverbindungen erfolgt in der im
Hauptpatent beschriebenen Weise, indem Lösungen der Diazoverbindungen in organischen Lösungsmitteln,
gegebenenfalls in Mischungen solcher, hergestellt und auf den Schichtträger in bekannter Weise
aufgetragen werden, z. B. durch Auf schleudern oder Aufstreichen oder Antragen mit Walzen. Man bevorzugt
Lösungsmittel in dem Siedebereich von 70 bis 100° C. Sie sollen einerseits eine genügende Flüchtigkeit,
andererseits aber eine kristallisationsverzögernde Wirkung haben, so daß eine gleichmäßige
Schichtbildung auf dem Schichtträger, gegebenenfalls der Metalloberfläche, möglich ist. Bei guter Löslichkeit
der Diazoverbindung läßt sich unter der Vielzahl der Lösungsmittel eine geeignete Auswahl treffen. Es
empfiehlt sich im allgemeinen, die so hergestellten Schichten scharf nachzutrocknen, um das Lösungsmittel
restlos zu entfernen.
Zuweilen ist es zweckmäßig, den Lösungsmitteln Harze zuzusetzen, wodurch der Effekt einer kristallisationsverzögernden
Wirkung durch das Lösungsmittel erhöht und die Haftfestigkeit der Schichten auf der Unterlage verbessert wird.
Als Trägermaterial für die lichtempfindlichen Schichten eignen sich in erster Linie Metalle, z. B.
Aluminium und Zink. Es ist nicht erforderlich, die
im graphischen Gewerbe für die Herstellung von Flachdruckformen gebräuchlichen, oberflächlich oxydierten
Metallplatten zu verwenden. Gleich gute Ergebnisse werden auch erzielt mit Metallfolien, deren
Oberfläche durch einen einfachen technischen Prozeß mechanisch aufgerauht ist. Auch andere Schichtträger,
z. B. Glas- oder Steinplatten, sind nicht von der Verwendung ausgeschlossen.
Nach" dem Belichten der sensibilisierten Schichtträger
unter einer Vorlage werden die erhaltenen Kopien durch Bestreichen oder Uberwischen mit verdünnten,
zweckmäßig 1- bis 5prozentigen Lösungen von vorzugsweise schwachen Alkalien, wie Dinatriumphosphat,
Trinatriumphosphat, entwickelt und das Material durch Nachbehandeln mit verdünnter Säure
druckfertig gemacht. Die an den vom Licht nicht getroffenen Stellen verbliebene Diazoverbindung
nimmt fette Farbe an. Von einer positiven Vorlage erhält man ein positives Druckbild. Hiervon lassen
sich mit Hilfe der im Flachdruck gebräuchlichen Vervielfältigungsmaschinen Abdrucke mit der in der
Praxis geforderten Auflagehöhe herstellen. Bei starker mechanischer Beanspruchung der Druckplatte empfiehlt
es sich, das Druckbild durch kurzes Erhitzen der Platte im Trockenschrank auf ,etwa 2500 C einzubrennen.
Damit wird eine noch bessere Verankerung des Druckbildes in der metallischen Unterlage bewirkt.
Der Vorgang wirkt sich günstig für die mit der Druckplatte erzielbare Auflagehöhe aus.
Beispiele der gemäß der Erfindung zu verwendenden Diazoverbindungen sind in der nachfolgenden Tabelle
aufgeführt:
Verbindung
Formel-Nummer Aussehen
Schmelzpunkt
I. Ortho-Benzochinon-diazid-sulfonamide
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-(N, N-di-
phenyl)-sulfonamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-(N-äthyl)-N-
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-(N-äthyl)-N-
/3-naphthyl) -sulfonamid
N, N'-Di-[benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulfonylj-benzidin
N, N'-Di-[benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulfonylj-benzidin
N, N"-Di-[benzochinon-(i, 2)-diäzid-(2)-4-sulfonyl]"4,
4"-diaminobenzphenon
N, N'-Di-[benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulfonyl]-N,
N'-dimethyl-p-phenylendiamin
N, N'-Di-[benzochinon-(i, a)-diazid-(2)-4-sulfonyl]-N,
N'-dimethylbenzidin
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-5-methyl-4-(N, N-diphenyl) -sulfonamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-5-methyl-4-(N-methyl-N-p-toluyl)
-sulfonamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-6-methyl-
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-6-methyl-
4-(N, N'-diphenyl)-sulfonamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-6-methyl-4- (N-methyl-N-p-toluyl) -sulf onamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-6-methyl-4- (N-methyl-N-p-toluyl) -sulf onamid
ι
2
3
4
2
3
4
tiefgelbe Plättchen
gelbe feine Kristalle
gelbe feine Kristalle
9
10
10
gelbes kristallines Pulver
gelbe feine Kristalle
gelbe Kristalle
gelbe feine Kristalle
gelbe Kristalle
gelbe feine Kristalle
gelbe Kristalle
gelbe Kristalle
färbt sich bei 110° C dunkel,
F = 1900 C (Verkohlung)
färbt sich bei 115° C rot,
F = 1900 C (Verkohlung)
F = 1900 C (Verkohlung)
färbt sich oberhalb 2000 C
dunkel
dunkel
färbt sich bei 100° C rotbraun, bei höheren Temperaturen
schwarz unter Sinterung
färbt sich bei 1400 C im Röhrchen
rot, dann schwarz unter Verkohlung
färbt sich im Röhrchen bei 1500 C dunkel und verkohlt
langsam
färbt sich bei 1350 C rot
F = 175 bis i8o° C
(Schwarzfärbung)
F = 175 bis i8o° C
(Schwarzfärbung)
zersetzt sich zwischen 98 und 1040 C
färbt sich bei 1320 C rotbraun unter Zersetzung
zersetzt sich bei 1300 C
Verbindung
Formel-Nummer Aussehen
Schmelzpunkt
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-chlor-6-(N-b
phenyl)-sulfonamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-chlor-6-(N-
/3-naphthyl) -sulfonamid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-chlor-6-(N-
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-chlor-6-(N-
äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
10
10
N, N"-Di- [benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4"-sulfonyl]-4,
4"-diamino-2', 5', 2", 5"-tetra-
methyltriphenylmethan
Benzochinon- (1, 2)-diazid-(2) -4- (N-2 '-fluorenyl)-sulfonamid
Benzochinon- (1, 2)-diazid-(2) -4- (N-2 '-fluorenyl)-sulfonamid
N, N"-Di-[benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulfonyl]-4',
4"-diamino-diphenyl-(i, 1")-cyclohexan
II. Ortho-Benzochinon-diazid-sulfosäureester
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulfosäurephenylester
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulfosäure-/?-naphthylester
p, p'-Di-[benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-sulf onyl-oxy] -diphenyl
III. Ortho-Benzochinon-diazid-carbonsäureamide
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)~4-carbonsäure-
(N-2', 4'-dichlorphenyl)-amid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-carbonsäure-(N-/?-naphthyl)-amid
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(2)-4-carbonsäure-(N-/?-naphthyl)-amid
IV. Ortho-Benzochinon-diazid-carbonsäureester
Benzochinon-(1, 2)-diazid-(2)-4-carbonsäurephenylester
Benzochinon-(i, 2)-diazid-(i)~3-carbonsäure-/?-naphthylester
II 12 13
I6
l8 ig
20
21
22 23
Diese Diazoverbindungen sind in der Literatur nicht beschrieben. Man kann sie jedoch nach den bekannten
Methoden der präparativen organischen Chemie herstellen, wofür die folgenden Darstellungsangaben als
zu sicheren Ergebnissen führende Anhaltspunkte dienen sollen.
Verbindungen mit amidierter S O3 H-Gruppe werden
hergestellt, indem man von i-Oxy-2-amino-benzolsulfosäuren
oder 2-Oxy - i-amino - benzolsulfosäuren
ausgeht, die, nach Blockierung der Hydroxylgruppe und der Aminogruppe durch Überführung in die entsprechenden
Benzoxazolone und weiterhin durch Erhitzen der letzteren mit Phosphorpentachlorid in die
zugehörigen Sulfochloride übergeführt werden. Nach Austausch des Chloratoms gegen Basen werden die
Benzoxazolonsulfonamide mit verdünnter Natronlauge gelber Niederschlag
gelber Niederschlag
gelbe feine Körner
wasserunlöslicher
gelber Körper
gelber Körper
tiefgelber Körper
hellgelbe Kristalle
hellgelbe Kristalle
gelber Körper
intensiv gelbgefärbte
Plättchen
Plättchen
F = ~ 1400 C unter Zersetzung
F = 95° C unter Rotfärbung und Zersetzung
färbt sich bei 1200 C dunkel, F = ~ 2io° C unter
Schwarzfärbung
zersetzt sich allmählich ohne zu schmelzen
zersetzt sich bei etwa 2100 C
verkohlt über ioo° C ohne zu schmelzen
färbt sich bei iio° C rot,
F = 1250 C unter Zersetzung
schmilzt unscharf bei 1200 C unter Verkohlung
verkohlt langsam über 1500C
unter Zersetzung
färbt sich bei ioo° C dunkel, zersetzt sich bei i88° C
schmilzt bei 90 bis 950 C unter Braunfärbung und Zersetzung
färbt sich bei 900 C braun, schmilzt bei annähernd
120° C unter Zersetzung und Schwarzfärbung
zu den Aminophenolsulfonamiden verseift. Bei der Diazotierung der Basen empfiehlt es sich, falls sie
in verdünnter Salzsäure schwer löslich sind, mit Wasser mischbare Lösungsmittel, z. B. Dioxan, zuzusetzen.
Die Diazoverbindungen mit veresterter SO3H-Gruppe
werden hergestellt aus den o-Oxynitrobenzolsulfosäuren,
die durch Erhitzen mit Phosphorpentachlorid in die o-Oxynitrobenzosulfochloride übergeführt
werden. Beim Erwärmen der Chloride mit Oxyverbindungen in Gegenwart von Zinkstaub entstehen
die Sulfosäureester, die katalytisch reduziert werden. Die erhältlichen o-Oxyaminobenzol-sulfosäureester
werden in üblicher Weise in die Diazoverbindungen übergeführt. Oder man stellt aus den
Benzochinon-(i, 2)-diazid-sulfosäuren durch Behänd-
lung mit Chlorsulfosäure die Sulfosäurechloride her
und bringt diese im alkalischen Medium mit Oxyverbindungen zur Reaktion, wobei Sulfosäureester
gebildet werden.
Bei der Darstellung von Verbindungen mit amidierten Carboxylgruppen geht man von den Oxybenzolcarbonsäuren
aus, die in Gegenwart von Phosphorchloriden im indifferenten Lösungsmittel mit Basen zur Umsetzung gebracht werden. Die erhältliehen
Oxycarbonsäureamide werden durch Nitrierung in die o-Oxynitrobenzol-carbonsäureamide umgewandelt.
Die durch katalytische Reduktion erhältlichen Aminoverbindungen werden in salzsaurer Lösung
diazotiert.
Verbindungen mit veresterten Carboxylgruppen werden aus den o-Nitrooxybenzol-carbonsäuren gewonnen.
Letztere werden in Gegenwart von wasserabspaltenden Mitteln, z. B. Phosphorchloriden, mit
Oxyverbindungen zur Umsetzung gebracht. Die erhältlichen o-Oxynitrobenzol-carbonsäureester werden
durch katalytische Reduktion in die Aminoverbindungen und diese in üblicher Weise in die Diazoverbindungen
übergeführt.
Es ist vorteilhaft, die mit der Amidierung oder Veresterung eingeführten Reste so auszuwählen, daß die
Löslichkeit der gebildeten Diazoverbindungen in Wasser gering ist, oder daß sie in Wasser unlöslich
sind. Durch Einführung weiterer Substituenten in den Benzolkern, vorzugsweise Kohlenwasserstoffradikale,
können die drucktechnischen Eigenschaften dieser Gruppen von Chinondiaziden weiterhin verbessert
werden. Besonders günstig verhalten sich Derivate mit einem Substituenten in der 6-Stellung
des Benzolkerns.
. .
0,4 g der Diazoverbindung aus dem 2-Amino-i-oxybenzol"4-(N,
N-diphenyl)-sulfonamid von der Formel 1 und 0,2 g eines Formaldehydphenolharz-Novolaks,
der unter der als Warenzeichen geschützten Bezeichnung Alnovol seitens der Firma Chemische Werke
Albert in Wiesbaden-Biebrich in den Handel gebracht wird, werden in 20 ecm Glykolmonomethyläther
gelöst.
Die klare, tiefgelbe Lösung wird auf eine oberflächlich mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte
aufgeschleudert und die Schicht vermittels eines Föns getrocknet.
Die beschichtete Aluminiumplatte wird dann unter einer positiven Vorlage belichtet und das erhaltene Positivbild durch Behändem mit 3%iger Trinatriumphosphatlösung und anschließend mit 5%iger Phosphorsäure druckfertig gemacht.
Das eingeschwärzte Bild eignet sich hervorragend zum Drucken höherer Auflagen.
Die beschichtete Aluminiumplatte wird dann unter einer positiven Vorlage belichtet und das erhaltene Positivbild durch Behändem mit 3%iger Trinatriumphosphatlösung und anschließend mit 5%iger Phosphorsäure druckfertig gemacht.
Das eingeschwärzte Bild eignet sich hervorragend zum Drucken höherer Auflagen.
Die Darstellung der eingangs angeführten Diazoverbindung gestaltet sich wie folgt:
a) 76 g 2-Amino-i-oxy-benzol-4-sulfosäure werden in 240 ecm Wasser unter Zusatz von 48 g wasserfreier
Soda gelöst. In diese Lösung wird unter Rühren bei 10 bis 20° C so lange Phosgen eingeleitet, bis die
Reaktion kongosauer geworden und praktisch keine, durch Diazotierung feststellbare Aminosulf osäure mehr
vorhanden ist. Die auskristallisierte Benzoxazolon-5-sulfosäure (vgl. Patent 188 378, abgedruckt in
Friedländer, Fortschritte der Teerfarbenfabrikation,
Bd. VIII [1905/07], S. 1359) wirä aus nicht zu viel
siedendem Wasser umkristallisiert. Ausbeute 71 g. b) 54 g Benzoxazolon-5-sulfosäure (bei 120° C getrocknet)
werden mit 53 g Phosphorpentachlorid fein verrieben, und das Gemisch wird 3 bis 4 Stunden im
Ölbad am Steigrohr auf 1200 C erhitzt. Der Kolbeninhalt
wird mit Eiswasser digeriert, der Niederschlag abgesaugt und mehrmals mit Wasser nachgewaschen.
Nach gutem Trocknen wird das als Rohprodukt erhaltene Benzoxazolon-5-sulfochlorid der Formel
NH
SO2Cl «5
in viel Äther aufgenommen, von ungelösten Verunreinigungen abfiltriert und der Äther abgedampft. Ausbeute
36,8 g. Schmp. 212 bis 214° C unter Zersetzung.
c) 40 g Benzoxazolon-5-sulfochlorid werden mit 62 g go
Diphenylamin fein verrieben und im Ölbad auf 1500 C
erhitzt. Die entstehende Schmelze gibt unter Schäumen Chlorwasserstoffgas ab und erstarrt bald in der
Hitze. Das Umsetzungsprodukt wird in möglichst wenig siedendem Alkohol gelöst und die Lösung mit
Kohle heiß filtriert. Beim Abkühlen kristallisiert das Benzoxazolon-5-(N, N-diphenyl)-sulfonamid in fast
farblosen Nädelchen aus. Ausbeute 44 g. Schmp. 208 bis 2090 C.
d) Zur Verseifung des Oxazolons werden 44 g des umkristallisierten, fein pulverisierten Umsetzungsproduktes nach c) mit 560 ecm 2ovolumprozentiger
Natronlauge 3 Stunden unter Rückflußkühlung zum Sieden erhitzt. Das in der alkalischen Flüssigkeit befindliche
2-Amino-i-oxybenzol-4-(N, N-diphenyl)-sulfonamid wird durch Zugabe von etwa 360 ecm 32prozentiger
Salzsäure in das Chlorhydrat übergeführt.
e) Ohne Isolierung des nach d) erhaltenen Chlorhydrates stellt man durch Zugabe von 760 ecm Dioxan
und 40 ecm 32prozentiger Salzsäure eine klare Lösung her. Unter Eiskühlung werden zu der Lösung langsam
36 ecm 2 n-Natriumnitritlösung zugegeben. Die Diazoverbindung aus dem 2-Amino-i-oxy-benzol-4-(N,N-diphenyl)-sulfonamid
fällt in Form tief gelber Plättchen aus. Sie wird abgesaugt und mehrmals mit Wasser
ausgewaschen. Ausbeute 28 g. Im Röhrchen erhitzt, beginnt sie sich bei 110° C dunkel zu färben und
schmilzt gegen 190° C unter Verkohlung.
Analog Beispiel 1 wird eine Aluminiumplatte mit
einer 2%igen Lösung der Diazoverbindung aus dem 2 -Amino -1 - oxy-benzol-4-[N-äthyl- N- (ß) -naphthyl]-sulfonamid
der Formel 2 in einem Gemisch aus Monomethylglykol und Methyläthylketon (1:1) sensibilisiert.
Von den sehr gut lagerfähigen lichtempfindlich
gemachten Platten werden, wie in Beispiel ι angegeben,
Bilder und Druckformen hergestellt.
Die Darstellung der Diazoverbindung geht wie folgt vor sich:
a) 23 g Benzoxazolon-5-sulfochlorid, dessen Herstellung
in Beispiel 1 beschrieben ist, werden in 200 ecm Dioxan gelöst und unter Umschütteln mit einer Lösung
- von 17 g N-Äthyl-N-(/?)-näphthylamin in 50 ecm Pyridin
versetzt. Nach kurzem, etwa 10 Minuten dauerndem Erwärmen der Mischung am Dampfbad entsteht
eine ölige Ausfällung, die bei mehrstündigem Stehen kristallin erstarrt. Von dem Niederschlag (Pyridinhydrochlorid)
wird abgesaugt und die Dioxänlösung im Vakuum bis zur Sirupkonsistenz eingedampft.
Beim Digerieren des Abdampfrückstandes mit 100 ecm 8volumprozentiger Natronlauge unter kurzem, gelindem
Erwärmen auf etwa 350C entsteht ein feiner
Kristallbrei, der nach Zugabe von 300 ecm Wasser in der Wärme in Lösung geht. Die alkalische Lösung
wird vorsichtig mit konzentrierter Salzsäure bei etwa 30° C angesäuert (pa -~ 3), und man erhält das Benzoxazolon-5-[N-äthyl-N-(/?)-naphthyl]-sulfonamid
als kristalline Fällung. Zur Reinigung wird das Rohprodukt aus einem Gemisch von 4 Teilen Alkohol und
6 Teilen Wasser umkristallisiert. Ausbeute: 20 g. Schmp. 160 bis 1630 C.
b) Zur Verseifung des nach a) erhaltenen Oxazolons wird dieses Produkt (20 g) mit 200 ecm 20volumprozentiger
Natronlauge 1 Stunde am Dampfbad erhitzt. Das ölig ausgefallene Verseifungsprodukt geht beim
Verdünnen der alkalischen Flüssigkeit mit Wasser in Lösung. Nach dem Ansäuern mit i6%iger Salzsäure
fällt das Chlorhydrat des 2-Amino-i-oxybenzol-4-[N-äthyl-N-^-naphthylJ-sulfonamids
teilweise aus. c) Zur Herstellung der Diazoverbindung wird das nach b) erhaltene Chlorhydrat, ohne isoliert zu werden,
durch Verdünnen der sauren Flüssigkeit mit Wasser auf etwa 21 wieder gelöst, die Lösung heiß mit Aktivkohle
abgesaugt und nach dem Abkühlen auf 150 C und der Zugabe von 30 ecm 32°/0iger Salzsäure mit
30 ecm 2 n-Natriumnitritlösung, die unter Rühren langsam zugetropft werden, diazotiert. Die Diazoverbindung
aus dem 2-Amino-i-oxy-benzol-4- [N-äthyl-N-(/?)-naphthyl]-sulfonamid
fällt in Form eines feinkristallinen gelben Niederschlages aus. Sie wird nach
scharfem Absaugen mit Wasser gewaschen und auf Ton getrocknet. Ausbeute 13 g. ■ Beim Erhitzen der
Diazoverbindung im Röhrchen tritt bei etwa 1150C
Rotfärbung und gegen 1900 C Schmelzen unter Schwarzfärbung ein.
Beispiel 3 -
0,2 g der: Diazoverbindung aus dem N, N'-Di-(2-amino-i-oxy-benzol-4-sulfonyl)-benzidin
der Formel 3 und 0,1 g Alnovol (s. Beispiel 1) werden in einem
Gemisch von 15 ecm. Glykolmonomethyläther und ecm Dioxan unter Erwärmen auf 40° C gelöst. Mit
dieser Lösung wird eine Aluminiumfolie wie in den vorhergehenden Beispielen beschichtet. Nach Belichtung
wird die Kopie mehrmals mit einer io°/0igen
Lösung von Dinatriumphosphat und dann mit i°/oiger
Phosphorsäure überwischt und so druckfertig gemacht.
Die Diazoverbindung wird folgendermaßen hergestellt :
a) Die Lösung von 20 g Benzoxazolon-s-sulfochlorid
in 200 ecm Dioxan wird unter Umschütteln mit einer Lösung von 6 g Benzidin in 150 ecm Dioxan und 7 ecm
Pyridin versetzt. Unter schwacher Rotfärbung entsteht eine Emulsion, aus der sich bei kurzem Erhitzen
am Dampfbad eine halbfeste, schwachrot gefärbte Masse abscheidet. Nach mehrstündigem Stehen wird
die klare Dioxänlösung abgegossen, der Rückstand mit etwas Dioxan nachgewaschen und mit stark verdünnter
Salzsäure (kongosaure Reaktion) verrieben. Das in feinkristallinem Zustand erhaltene Rohprodukt
des N, N'-Di-(benzoxazolon-5-sulfonyl)-benzidin wird abgesaugt und mehrmals mit Wasser gewaschen. Ausbeute
18 g. Die Verbindung zersetzt sich bei etwa 3000 C unter Schwarzfärbung und ist in den üblichen
Lösungsmitteln nur sehr schwer löslich.
b) Das Chlorhydrat von N, N'-Di-(2-amino-i-oxybenzol-4-sulfonyl)
-benzidin wird analog zu den in Beispiel 2 unter b) gemachten Angaben durch Verseifung
des Oxazolons dargestellt und nach Beispiel 2 unter c) diazotiert. Die Diazoverbindung färbt sich
oberhalb 2000 C langsam dunkel, ohne zu schmelzen.
0,2 g der Diazoverbindung aus dem N, N"-Di-{2-amino-i-oxy-benzol-4-sulfonyl)-4,
4"-diamino-benzophenon der Formel 4 werden in einem Gemisch von 5 ecm Isopropylalkohol und 5 ecm Methyläthylketon
gelöst. Von einer mit dieser Lösung beschichteten Aluminiumfolie wird in der in den vorhergehenden Beispielen
beschriebenen Weise eine Kopie hergestellt. Nach Entwicklung mit einer io%igen Dinatriumphosphätlösung
und anschließender Behandlung mit i%iger Phosphorsäure erhält man von einer Positivvorlage
eine positive Druckplatte. - Die Darstellung der Diazoverbindung geht folgendermaßen
vor sich:
25 g Benzoxazolon-s-sulfochlorid (s. Beispiel 1) werden
in 220 ecm Dioxan gelöst und unter Umschütteln mit einer Lösung von 10,6 g 4,4'-Diaminobenzophenon
in 100 ecm Pyridin versetzt. Bei kurzem Erhitzen der
Mischung am Dampfbad scheidet sich ein rotbraunes Öl ab. Nach mehrstündigem Stehen wird die Dioxänlösung
abgegossen, die sirupöse Fällung nochmals mit 11Q
wenig Dioxan gewaschen und in der erforderlichen Menge Svolumprozentiger Natronlauge gelöst. Beim
vorsichtigen Ansäuern der alkalischen Flüssigkeit mit konzentrierter Salzsäure unter Eiskühlung fällt das
N,-N"-Di-(benzoxazolon-5-sulfonyl)-4, 4"-diamino- "5
benzophenon zunächst als zähe Masse aus, die jedoch schnell kristallin zerfällt. Der Niederschlag wird abgesaugt
und mit Wasser nochmals ausgewaschen. Ausbeute 22 g. Die Verbindung schmilzt unscharf zwischen
175 und 225 ° C. unter Zersetzung. .
Verseifung des Oxazolons und darauffolgende Diazotierung
von N, N"-Di-(2-ammo-i-oxy-benzol-4-sulfonyl)-4,
4"-diamino-benzophenon erfolgen analog wie im Beispiel 2 bzw. Beispiel 3. Die Diazoverbindung
färbt sich gegen ioo° C rotbraun und wird bei weiterem
Erhitzen unter Sinterung schwarz.
Aluminiumfolien werden mit einer Lösung von 0,2 g der Diazoverbindung aus dem N, N'-Di-(2-aminoi-oxy-benzol-4-sulfonyl)-N,N'-dimethyl-p-phenylendiamin
mit der Formel.5 und 0,1 g Alnovol (s. Beispiel 1) in 10 ecm eines Gemisches von 5 ecm Glykolmonomethyläther
und 5 ecm Methyläthylketon beschichtet. Von den gut lagerfähigen, sensibilisierten
Folien lassen sich auf die gleiche Weise wie in den vorhergehenden Beispielen positive Druckformen herstellen.
Die Diazoverbindung wird mit geringen Abänderungen nach der in Beispiel 2 angegebenen Methode
dargestellt. Das in erster Stufe entstehende N, N'-(Benzoxazolon-5-sulfonyl)-N, N'-dimethyl-p-phenylendiamin
bildet ein schwachrosa gefärbtes kristallines Pulver.
Die als gelbes kristallines Pulver erhältliche Diazoverbindung aus dem N, N'-Di-(2-amino-i-oxy-benzol-4-sulfonyl)-N,
N'-dimethyl-p-phenylendiamin färbt sich beim Erhitzen im Röhrchen in der Nähe von
1400 C rot, dann schwarz und verkohlt, ohne zu schmelzen.
0,2 g der Diazoverbindung aus dem N, N'-Di-(2-amino-i-oxy-benzol-4-sulfonyl)-N,
N'-dimethylbenzidin der Formel 6 und 0,1 g Alnovol (s. Beispiel 1) werden
in einem Gemisch von 10 ecm Glykolmonomethyläther und 15 ecm Methyläthylketon gelöst, und die
Lösung wird, wie üblich, auf eine einseitig anodisch oxydierte Aluminiumplatte aufgeschleudert. Nach
Belichtung unter einer transparenten Vorlage werden die Kopien durch kurzes Baden mit einer 3%igen
Lösung von Trinatriumphosphat und Nachbehandlung mit i%iger Phosphorsäure zur druckfertigen Vorlage
entwickelt.
Die Darstellung der Diazoverbindung geschieht in enger Anlehnung an die in Beispiel 2 gegebene Vorschrift.
N, N'-Dimethyl-benzidin wird mit Benzoxazolon-5-su]fochlorid in Dioxan zur Umsetzung gebracht,
wobei das N, N'-Di-(benzoxazolon-5-sulfonyl)-N, N'-dimethyl-benzidin entsteht. Die Verbindung
schmilzt etwa bei 3000 C unter Verkohlung.
Das N, N'-Di-(2-amino-i-oxy-benzol-4-sulfonyl)-N, N'-dimethylbenzidin ist aus dem Oxazolon durch Verseifung
gemäß Beispiel 2 erhältlich.
Bei der Diazotierung des Aminochlorhydrates empfiehlt
sich die Mitverwendung von Dioxan als Lösungsmittel. Die Diazoverbindung fällt als feinkristalliner
gelber Niederschlag an. Sie beginnt, im Schmelzpunktsröhrchen erhitzt, sich bei 1500 C dunkel zu färben
und verkohlt langsam.
0,2 g der Diazoverbindung aus dem 2-Amino-5-methyl-i-oxy-benzol-4-(N,
N-diphenyl)-sulfonamid der Formel 7 werden in einem Gemisch von 5 ecm Propylalkohol
und 5 ecm Dioxan gelöst. Mit dieser Lösung wird in üblicher Weise eine Aluminiumfolie präpariert.
Mit dem sensibilisierten Material können in bekanntem Verfahren Kopien und hiervon durch Behandeln mit
Dinatriumphosphat und Phosphorsäure positive Druckformen hergestellt werden.
Man erhält die Diazoverbindung aus 5-Methyl-2-Amino-i-oxybenzol-4-sulfosäure,
die analog der in Beispiel 1 beschriebenen HersteEungsweise in die Diazoverbindung
aus 2-Amino-5-methyl-i-oxy-benzol-4-(N, N-diphenyl)-sulfonamid übergeführt wird. Kristalliner,
gelber Niederschlag, Ausbeute 6 g. Die Diazoverbindung färbt sich gegen 1350 C rot und schmilzt
bei etwa 175 bis 185° C unter Schwarzfärbung,
Wie in Beispiel 7 werden mit der Diazoverbindung aus dem 2-Amino-5-methyl-i-oxy-benzol-4-(N-methyl-N-p-toluyl)-sulfonamid
der Formel 8 Aluminiumfolien lichtempfindlich gemacht. Aus diesem lichtempfindlichen
Material werden in analoger Weise Druckformen hergestellt.
Die Diazoverbindung wird wie folgt erhalten: a) 12,4 g 6-Methylbenzoxazolon-5-sulfochlorid werden
in 100 ecm Dioxan gelöst und die Lösung mit 13 ecm p-N-Methyl-amino-toluol versetzt. Nach mehrstündigem
Stehen wird die Mischung im Vakuum zur Sirupkonsistenz eingedampft. Beim Digerieren des
sirupösen Rückstandes mit wenig iovolumprozentiger Natronlauge erhält man die Natriumverbindung des
o-Methyl-benzoxazolon-S-(N-methyl-N-p-toluyl)-sulfonamids
mit der Formel
-CONa
in Form weißer, glänzender Kriställchen, die nach dem Absaugen durch Waschen mit Äther von anhaftendem
p-Methyl-aminotoluol gereinigt werden. Ausbeute
15 g. Schmp. 101 bis 1030 C.
b) Das Natriumsalz nach a) (15 g) wird mit 150 ecm
2ovolumprozentiger Natronlauge 1 Stunde am Dampfbad erhitzt. Das Verseifungsprodukt fällt ölig aus
und wird durch Verdünnen der alkalischen Flüssigkeit auf etwa 11 in Lösung gebracht. Die durch Zugabe
von konzentrierter Salzsäure angesäuerte Lösung wird siedend heiß mit Kohle abgesaugt. Beim Erkalten
kristallisiert ein kleiner Teil des Chlorhydrates von 2-Amino-5-methyl-i-oxy-benzol-4-(N-metiiyl-N-p-toluyl)-sulfonamid
in Form von Plättchen aus.
Der Zersetzungspunkt der Diazoverbindung liegt iwischen 98 und 1040 C.
x. · · 1 lao
0,2 g der Diazoverbindung aus dem 2-Arnino-6-methyl-1
- oxy-benzol-4- (N, N-diphenyl)-sulf onamid mit der Formel 9 werden in 10 ecm Glykolrnonomethyläther
gelöst, und mit dieser Lösung wird eine einseitig mit Ferrichlorid geätzte Aluminiumfolie auf der vor-
behandelten Seite sensibilisiert. Nach der Belichtung unter einer Vorlage werden die Kopien mehrfach,
zunächst mit einer 3%igen und dann mit einer 5°/„igen Lösung von Trinatriumphosphat, überwischt und mit
5°/oiger Phosphorsäure nachbehandelt. Man erhält so druckfertige positive Druckformen mit hervorragender
Aufnahmefähigkeit für fette Farbe.
Zur Darstellung der Diazoverbindung geht man von 2-Amino-6-methyl-i-oxy-benzol-4-sulfosäure aus, die
ίο über die entsprechenden Zwischenstufen: Benzoxazolon-sulfosäure,
-sulfochlorid, -sulfonamid und Aminomethyl-oxybenzol-(N, N-diphenyl)-sulfonamid in analoger
Anwendung der in Beispiel ι beschriebenen Herstellungsmethode in die Diazoverbindung mit der
Formel 9 übergeführt wird. Gelber, feinkristalliner Niederschlag, der zur Reinigung abgesaugt, mit Wasser
gewaschen und auf Ton getrocknet wird. Bei etwa 1320 C treten Rotbraunfärbung und Zersetzung ein.
Eine 2°jQige Lösung der Diazoverbindung aus dem
2-Amino-6-methyl-i-oxy-benzol-4-(N-methyl-N-p-toluyl)-sulfonamid
mit der Formel 10 in Monomethylglykoläther, die 1 % Alnovol (s. Beispiel 1) enthält,
wird auf eine Aluminiumfolie aufgeschleudert. Von der so sensibilisierten Folie wird, wie in den vorhergehenden
Beispielen, eine Druckform hergestellt.
Man erhält die Diazoverbindung nach folgendem Verfahren:
Man erhält die Diazoverbindung nach folgendem Verfahren:
Eine Lösung von 23 g 7-Methyl-benzoxazolon-5-sulfochlorid in 185 ecm Dioxan wird mit 24,4 ecm
p-N-Methyl-amino-toluol versetzt. Von dem beim
Stehen über Nacht aus der Lösung auskristallisierten Chlorhydrat des p-Metliyl-amino-toluols wird abgesaugt
und der Rückstand mit wenig Dioxan ausgewaschen. Die vereinigten Filtrate dampft man im
Vakuum zur Sirupkonsistenz ein und erhält beim Digerieren des Rückstandes mit konzentrierter Salzsäure
unter Eiskühlung das 7-Methyl-benzoxazolon-5-(N-methyl-N-p-toluyl)-sulfonamid in Form eines schwachbräunlich
gefärbten feinkristallinen Niederschlages. Zur Reinigung wird das Rohprodukt nach Absaugen
und Waschen mit Wasser aus Alkohol unter Zusatz von Kohle umkristallisiert. Ausbeute 25 g; Schmp.
206 bis 2070 C.
Das Oxazolon wird zu 2-Amino-6-methyl-i-oxybenzol-4-(N-methyl-N-p-toluyl)
-sulfonamid verseift, dieses in das Chlorhydrat der Aminoverbindung verwandelt und daraus analog der in Beispiel 1 angegebenen
Arbeitsweise die Diazoverbindung hergestellt. Die in Form gelber Kristalle erhaltene Diazoverbindung
zersetzt sich bei etwa 1300 C.
0,1 g der Diazoverbindung aus dem 4-Chlor-2-aminoi-oxy-benzol-6-(N-phenyl)-sulfonamid
mit der Formel 11 werden mit 0,05 g Schellack in 6 ecm Glykolmonomethyläther
gelöst, und mit der filtrierten Lösung wird eine Aluminiumfolie wie üblich sensibilisiert.
Eine durch Belichten unter einer positiven Vorlage erhaltene Kopie wird mit einer io°/0igen Lösung
von Dinatriumphosphat gut überrieben und nach kurzem Wässern mit 5°/oiger Phosphorsäure behandelt.
Beim Einfärben mit fetter Farbe erscheint ein positives Druckbild.
Man stellt die Diazoverbindung analog der in Beispiel ι beschriebenen Arbeitsweise her, indem aus
4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-7-sulfosäure durch Reaktion mit Phosgen s-Chlor-benzoxazolon^-sulfosäure,
aus dieser mit Phosphor-pentachlorid 5-Chlor-benzoxazolon-7-sulfochlorid
(Schmp. 1980 C unter Zersetzung), aus dem 5-Chlor-benzoxazolon-7-sulfochlorid
durch Reaktion mit frisch destilliertem Anilin 5-Chlorbenzoxazolon-7"(N-phenyl)-sulfonamid
(Schmp. 233 bis 234° C) hergestellt wird, das nach Verseifung zum 4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-6-(N-phenyl)-sulfonamid
in Form des Chlorhydrates der Diazotierung unterworfen wird. Man erhält die Diazoverbindung aus dem
4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-6-(N-phenyl)-sulfonamid in Form eines gelben Niederschlages, sie schmilzt bei
etwa 1400 C unter Zersetzung.
An Stelle der oben beschriebenen Diazoverbindung läßt sich in gleicher Weise die Diazoverbindung aus
dem 4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-6-[N-(/?)-naphthyl]
dem4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-6-[N-(JS)-naphthyl]-sulfonamid
mit der Formel 12 verwenden. Sie wird analog dargestellt. Das 5-Chlor-benzoxazolon-7-[N-(/S)-naphthyl]-sulfonamid
schmilzt bei 208 bis 2160 C. go Die in Wasser schwer lösliche Diazoverbindung zeigt
einen Schmelzpunkt von 95 ° C, wobei Rotfärbung und Zersetzung eintreten.
Ebensogut läßt sich die Diazoverbindung aus dem 4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-6-(N-äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
mit der Formel 13 verwenden.
Das bei der Umsetzung des 5-Chlor-benzoxazolon-7-sulfochlorid
mit N-Äthylanilin in Dioxan erhältliche 5-Chlor-benzoxazolon-7- (N-äthyl-N-phenyl) -sulfonamid
schmilzt bei 217 bis 220° C. Es wird in üblicher Weise verseift, wobei das Natriumsalz des 4-Chlor-2-amino-i-oxy-benzol-6-(N-äthyl-N-phenyl)-sulfonamid
in der Hitze zunächst ölig ausfällt und dann in der Kälte kristallin erstarrt.
Bei der Diazotierung verfährt man wie folgt: 12 g dieses Natriumsalzes werden in 500 ecm Wasser gelöst,
die Lösung wird heiß mit Kohle filtriert und mit 40 ecm 2 n-Natriumnitritlösung versetzt. Unter starkem Rühren
tropft man langsam in diese Lösung, anfänglich bei 250 C, später unter Eiskühlung, i6%ige Salzsäure
bis zur stark positiven Reaktion auf Kongopapier ein. Dabei fällt die Diazoverbindung als gelber Niederschlag
aus. Nach zweistündigem Nachrühren unter Eiskühlung wird sie wie üblich isoliert. Ausbeute: 11 g.
Beim Erhitzen beginnt bei 120° C Dunkelfärbung, bei etwa 2io° C schmilzt die Verbindung unter Schwarzfärbung.
0,38 g der Diazoverbindung aus 2-Amino-i-oxybenzol-4-(N-2',
4'-dichlorphenyl)-carbonsäureamid mit der Formel 20 und 0,2 g Alnovol (s. Beispiel 1) werden
in 20 ecm eines Gemisches von 15 ecm Monomethylglykol
und 5 ecm Dioxan gelöst. Die Lösung wird auf eine einseitig anodisch oxydierte Aluminiumplatte
aufgeschleudert und die Schicht wie üblich getrocknet.
Nach dem Belichten wird das Bild durch Behandeln mit einer 3°/0igen Trinatriumphosphatlösung und dann
mit i°/oiger Phosphorsäure druckfertig gemacht.
Die Darstellung der Diazoverbindung erfolgt folgendermaßen:
a) 27,6 g i-Oxy-benzol-4-carbonsäure werden in
250 ecm trockenem Dioxan gelöst und hierzu eine Auflösung von 32,4 g 2, 4-Dichloranilin in 250 ecm
. trockenem Toluol gegeben. Unter Umschütteln werden 27 ecm Phosphortrichlorid zugetropft. Das Gemisch
wird bis zum Verschwinden der Salzsäureentwicklung im siedenden Wasserbad unter Rühren erhitzt. Aus
der im Vakuum eingeengten Lösung kristallisiert das i-Oxy-benzol-4-carbonsäure-2V4'-dichloranilid aus,
das, aus Eisessig umkristallisiert, bei 180 bis 181° C
schmilzt.
b) Zu der Lösung von 14,1 g des nach a) erhaltenen
Produktes in 400 ecm Eisessig (etwa 8o° C) werden 6 ecm Salpetersäure (D = 1,4) gegeben. (Farbumschlag
von gelb nach rotbraun.) Aus der sofort abgekühlten Lösung wird das ■ 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-carbonsäure-2',
4'-dichloranilid durch Zugabe von Eiswasser ausgefällt. Die Verbindung schmilzt nach
dem Umkristallisieren aus Eisessig bei 1740 C.
c) 12 g der Nitro verbindung nach b) werden in
250 ecm Äthylalkohol in der Wärme gelöst und unter Zugabe von 25 g Raney-Nickel im Autoklav bei etwa
500 C reduziert. Nach dem Verdampfen des Alkohols bleibt das 2-Amino-i-oxybenzol-4-carbonsäure-2', 4'-dichloranilid
als kristalliner Rückstand zurück. Durch Verreiben mit etwa 10 ecm I5%iger Salzsäure wird die
freie Base in ihr Chlorhydrat übergeführt. Dieses schmilzt unscharf bei 2550 C.
d) Man löst 6,75 g des nach c) erhaltenen Chlorhydrates
unter schwachem Erwärmen mit 8 ecm 32%iger Salzsäure und 20 ecm Wasser, filtriert die
Lösung mit Kohle und setzt unter Eiskühlung tropfenweise 12 ecm einer 2 n-Natriumnitritlösung hinzu. Die
Diazoverbindung aus dem 2-Amino-i-oxy-benzol-4-carbonsäure-2',
4'-dichloranilid fällt in Form eines tiefgelb gefärbten Niederschlages aus, den man scharf
absaugt, mit Wasser wäscht und im Exsikkator trocknet. Die Diazoverbindung beginnt bei ioo° C
sich dunkel zu färben, bei i88° C tritt Zersetzung ein.
ι g der Diazoverbindung aus 2-Amino-i-oxybenzol-4-carbonsäure-(/?)-naphthylamid
mit der Formel 21 wird in 50 ecm Dioxan gelöst, und mit dieser Lösung
wird wie in Beispiel 12 eine Aluminiumfolie einseitig
sensibilisiert. Die nach der Belichtung unter einer Vorlage erhältlichen Kopien werden wie in den vorhergehenden
Beispielen zu Druckplatten weiterentwickelt.
Die Diazoverbindung erhält man wie folgt:
a) 13,8 g i-Oxy-benzol-4-carbonsäure werden in
150 ecm trockenem Dioxan gelöst und mit einer Lösung von 14,3 g ß-Naphthylamin in 150 ecm
trockenem Toluol versetzt. Nach Zugabe von 13,5 ecm Phosphortrichlorid erhitzt man die Mischung 8 bis
■ίο Stunden unter Rühren und Feuchtigkeitsausschluß
am Rückflußkühler im Ölbad auf 100 bis iio° C.
Beim Erkalten fällt das gebildete i-Oxy-benzol-4-carbonsäure-(/?)-naphthylamid
aus. Nach dem Absaugen wird der Rückstand nacheinander mit warmer, stark verdünnter Salzsäure, Wasser, stark verdünnter
Natriumbicarbonatlösung und wieder Wasser digeriert, abgesaugt und getrocknet. Ausbeute 24 g. Schmp.
230 bis 234° C unter langsamer Zersetzung.
b) 13,15 g i-Oxy-benzol-4-carbönsäure-(/?)-naphthylamid
werden in feinster Verteilung in 200 ecm Eisessig suspendiert und unter Rühren bei 40° C mit 4,38 ecm
Salpetersäure (D = 1,40) versetzt. Die Temperatur
wird durch Erwärmen am Wasserbad auf etwa 75° C gesteigert, wobei spontan eine Reaktion einsetzt. Es
entsteht eine klare Lösung, die nach weiterem kurzem Erhitzen (etwa 5 Minuten) bei 90° C rasch stark abgekühlt
wird. Das 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-carbonsäure-(/?)-naphthylamid
kristallisiert zum Teil aus. Die Fällung wird durch Zugabe von Wasser vervollständigt.
Nach Absaugen und Waschen mit Wasser bis zur neutralen Reaktion wird das Rohprodukt aus
Eisessig umkristallisiert. Ausbeute: 6,25 g. Schmp. 214 bis 216° C.
c) Die Nitroverbindung wird wie im Beispiel 12 unter c) zu 2-Amino-i-oxy-benzol-4-carbonsäure-(|ö)-naphthylamid
reduziert. Das Amin hinterbleibt als Kristallkuchen und wird durch Lösen in heißem
Aceton, Absaugen über Kohle und: Fällen mit Wasser gereinigt. Die Verbindung schmilzt bei langsamem go
Erhitzen im Röhrchen bei 215 bis 220° C unter Zersetzung und Schwarzfärbung.
d) 2,78 g 2-Amino-i-oxy-benzol-4-carbonsäure-(/?)-naphthylamid
(0,01 Mol) werden in möglichst wenig Dioxan gelöst. Die Lösung wird heiß über Kohle abgesaugt,
dann werden 4 ecm 32°/0ige Salzsäure zugegeben
und bei etwa 5° C 5 ecm 2 n-Natriumnitritlösung zugetropft. Aus der klaren Lösung wird die
Diazoverbindung durch tropfenweise Zugabe von Wasser unter gutem Rühren ausgefällt; nur bei vorsichtigem,
langsamen Eintropfen ist eine kristalline Fällung zu erzielen. Nach dem Absaugen wäscht man
den hellgelben Niederschlag mit Wasser säurefrei und trocknet ihn wie üblich.
Die Lösung von 1 g der- Diazoverbindung aus 3-Amino-4-oxy-i-benzoesäurephenylester mit der Formel
22 und 0,5 g Alnovdl (s. Beispiel 1) in 50 ecm
Glykolmonomethyläther wird wie üblich auf eine ein- no
seitig anodisch oxydierte Aluminiumplatte aufgeschleudert. Nach der Belichtung unter einer Vorlage
wird die Kopie mit einer 3°/0igen Lösung von Trinatriumphosphat
und dann mit i°/oiger Phosphorsäure
zu einer positiven Druckform entwickelt.
Die Darstellung der Diazoverbindung wird folgendermaßen durchgeführt:
a) 27 S 3-Nitro-4-oxy-i-benzoesäure werden mit
13,5 g Phenol fein verrieben und nach Zugabe von 6,3 ecm Phosphoroxychlorid im Ölbad unter Feuchtigkeitsausschluß
am Steigrohr erhitzt. Bei 1500 C
Ölbadtemperatur entsteht eine stark schäumende, chlorwasserstoff abspaltende Schmelze, die man 3 Stunden
auf 130° C erhitzt. Der ölige Kolbeninhalt wird in Eiswasser gegossen, wo er bald kristallin wird. Die
Kristalle werden zerkleinert, abgesaugt und mit
Wasser gewaschen. Zur Reinigung wird der. erhaltene 3-Nitro-4-oxy-i-benzoesäurephenylester aus Alkohol
unter Zusatz von Kohle umkristallisiert. Ausbeute 24,5 g. Schmp. 114 bis ii8° C.
b) 23 g 3-Nitro-4-oxy-i-benzoesäure-phenylester werden in 1500 ecm Alkohol gelöst und nach Zusatz
von 35 g mit Alkohol gewaschenem Raney-Nickel bei Zimmertemperatur im Autoklav katalytisch reduziert.
Die alkoholische Lösung des entstandenen 3-Amino-4-oxy-i-benzoesäurephenylesters
wird durch Filtration vom Raney-Nickel abgesaugt und im Vakuum zur Trockne eingedampft. Der kristalline Rückstand wird
nach Zugabe von Salzwasser und i6°/0iger Salzsäure
bis zur kongosauren Reaktion fein verrieben und das gebildete Chlorhydrat abgesaugt. Ausbeute an Rohprodukt
23 g.
c) Das Chlorhydrat nach b) (23 g) wird in etwa 180 ecm Wasser und 20 ecm 32%iger Salzsäure gelöst
und die Lösung heiß mit Kohle nitriert. In die auf etwa io° C gekühlte Lösung tropft man unter Rühren
langsam 50 ecm 2 n-Natriumnitritlösung ein. Die Diazoverbindung aus dem 3-Amino-4-oxy-i-benzoesäure-phenylester
fällt in Form eines gelben Niederschlages aus. Ausbeute 11 g. Schmp. 90 bis 950 C
unter Braunfärbung und Zersetzung.
0,2 g der Diazoverbindung aus dem 3-Amino-2-oxyi-benzoesäure-j3-naphthylester
mit der Formel 23 werden mit 0,05 g Alnovol (s. Beispiel 1) in 10 ecm
Dioxan gelöst. Mit der Lösung wird eine Aluminiumfolie in üblicher Weise präpariert. Nach mehrtägigem
Verhängen der Folien in einem auf 40° C geheizten Thermostaten mit einer relativen Feuchtigkeit von
80 Prozent wird durch Belichtung unter einer positiven Vorlage eine Kopie hergestellt. Die Entwicklung des
Bildes zur positiven Druckform geschieht durch kurze Behandlung der Platten mit i°/oiger Natronlauge.
Nach dem Wässern werden sie mit i°/oiger Phosphorsäure
nachbehandelt.
Man erhält die Diazoverbindung wie folgt:
a) 36 g yS-Naphthol werden mit 45 g 3-Nitro-2-oxyi-benzoesäure
fein verrieben. Das Gemisch wird mit 11 ecm Phosphoroxychlorid versetzt und unter Feuch-
tigkeitsausschluß im Ölbad zunächst 20 Minuten bei 135° C und dann 1 Stunde auf 6o° C erhitzt. Die
braune, beim Abkühlen glasig erstarrende Schmelze zerfällt bei gelindem Erwärmen mit etwa 300 ecm
Alkohol kristallin. Der 3-Nitro-2-oxy-i-benzoesäure-(/?)-naphthylester
wird nach intensivem Verreiben mit Alkohol abgesaugt und aus Eisessig umkristallisiert.
Ausbeute 21,5 g. Schmp. 150 bis 151° C.
DieReduktion derNitroverbindung zu dem3-Amino-2-oxy-i-benzoesäure-/?-naphthylester
wird wie in Beispiel 14 unter b) vorgenommen und die Aminoverbindung
in der dort beschriebenen Weise in ihr Chlorhydrat übergeführt.
b) ng Chlorhydrat des 3-Amino-2-oxy-i-benzoesäure-/?-naphthylester
werden in 1000 ecm Wasser und und 400 ecm Dioxan unter Zusatz von 10 ecm 32%iger
Salzsäure gelöst, die Lösung wird heiß mit Kohle filtriert und bei etwa 150C unter Rühren durch vorsichtiges
Eintropfen von etwa 30 bis 35 ecm 2 n-Natriumnitritlösung diazotiert. Die Diazoverbindung
aus dem 3-Amino-2-oxy-I-benzoesäure-/S-naphthyl- 6g
ester fällt in Form intensiv gelbgefärbter Plättehen aus. Sie färbt sich bei etwa go° C braun und schmilzt
gegen 1200 C unter Zersetzung und Schwarzfärbung.
Eine oberflächlich mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie wird einseitig mit einer 2°/oigen Lösung
der Diazoverbindung aus dem 2-Amino-i-oxy-benzol-4-sulfosäurephenylester
mit der Formel 17 in Monomethylglykol bestrichen. Von der nach dem Belichten
unter einer positiven Vorlage erhaltenen Kopie wird durch mehrmaliges Überwischen der Metallplatte mit
einer 2°/oigen Lösung von Trinatriumphosphat, Waschen mit Wasser und Nachbehandeln mit i%iger
Phosphorsäure eine positive Druckform hergestellt. Nach Entfernung überschüssiger Säure durch Tamponieren
wird die Folie für etwa 1J2 Minute in einen
auf 2500 C geheizten Trockenschrank verbracht, wobei die grüngelbe Farbe der Druckbilder in braungelb
übergeht.
Die Diazoverbindung wird folgendermaßen hergestellt:
a) 22 g 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-sulfosäure werden mit 21 g Phosphorpentachlorid schnell verrieben und
bei Feuchtigkeitsausschluß 2 Stunden im Ölbad auf 120° C erhitzt. Der erkaltete Kolbeninhalt wird mit
Eiswasser digeriert, und das ölige 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-sulfochlorid
wird in Äther gelöst. Die Ätherlösung, die mehrmals mit Wasser ausgeschüttelt und dann
mit wasserfreiem Natriumsulfat getrocknet wird, wird im Vakuum eingedampft; das zurückbleibende Sulfochlorid
bildet einen dickflüssigen, schwachgelb gefärbten Sirup. Ausbeute 13 g.
b) 15 g 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-sulfochlorid (Rohprodukt)
werden mit einem Gemisch von 6,2 g Phenol und 2,4 g Zinkstaub im Ölbad erhitzt. Die Temperatur
wird langsam auf etwa 1300 C gesteigert, wobei die
Reaktion plötzlich sehr heftig einsetzt. Die dunkelbraune Schmelze wird nach dem Erkalten mit Wasser
und Äther digeriert und filtriert. Die den 2-Nitro-ioxy-benzol-4-sulfosäurephenylester
enthaltende Ätherschicht wird von der wäßrigen Schicht getrennt, noch mehrere Male mit Wasser gewaschen und über wasserfreiem
Natriumsulfat getrocknet. Der Äther wird dann im Vakuum abdestilliert. Der bräunlich gefärbte rohe no
Sulfosäurephenylester bildet nach dem Umkristallisieren aus sehr wenig Methanol (Zusatz von Kohle)
schwachbräunlich schillernde Nädelchen. Ausbeute 2,1 g. Schmp. ιοί0 C.
c) 6 g 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-sulfosäurephenylester werden in 500 ecm Alkohol gelöst und unter Zusatz
von etwa 15 g Raney-Nickel im Autoklav bei 50 bis 6o° C katalytisch reduziert. Die alkoholische Lösung
wird vom Nickelkontakt abfiltriert und bis zur Trockne eingedampft. Durch Zugabe von wenig Salzwasser
und i6°/oiger Salzsäure bis zur Reaktion auf Kongopapier
läßt sich das Chlorhydrat des 2-Amino-i-oxybenzol-4-sulfosäure-phenylesters
als weißer kristalliner Niederschlag abscheiden. Ausbeute 3 g.
d) 3 g Chlorhydrat des 2-Amino-i-oxy-benzol-4-sulfosäurephenylester
werden in 70 ecm Wasser
unter Zusatz von 5 ecm 32°/oiger Salzsäure gelöst und
zur Reinigung heiß mit Kohle nitriert. Die abgekühlte
Lösung wird bei io° C tropfenweise mit 10 ecm 2 n-Natriumnitritlösung versetzt. Die Diazoverbindung
aus dem 2-Amino-i-oxy-benzol-4-sulfosäurephenylester
fällt als ein in Wasser unlöslicher, gelber Niederschlag aus. Ausbeute 1,7 g. Sie zeigt
beim Erhitzen auf no0 C Rotfärbung, bei 1250 C
schmilzt sie unter Zersetzung und Schwarzfärbung.
Gleich gute Ergebnisse werden erzielt - mit der Diazoverbindung aus dem 2-Amino-i-oxy-benzol-4-sulfosäure-(/?)-naphthylester
mit der Formel 18.
Der 2-Nitro-i-oxy-benzol-4-sulfosäure-(/?)-naphthylester,
der analog dem Phenylester dargestellt wird, schmilzt bei 179 bis 1820 C. Die hieraus durch katalytische
Reduktion erhältliche Aminoverbindung wird in Form des kristallisierten Chlorhydrates isoliert. Die
Diazoverbindung schmilzt unscharf bei 1200 C unter
Verkohlung.
An Stelle der Diazoverbindung mit der Formel 17 kann mit demselben Ergebnis auch die Diazoverbindung
mit der Formel 19 verwendet werden.
Die Diazoverbindung wird dargestellt, indem Benzochinon-(i,
2)-diazid-(2)-4-sulfosäure bei 6o° C mit etwa der öfachen Gewichtsmenge Chlorsulfonsäure umgesetzt
und dadurch in ihr Sulfochlorid (Schmp. 1120 C)
übergeführt wird. Das Sulfochlorid wird in alkalischer Lösung mit 4, 4'-Dioxydiphenyl zur Umsetzung gebracht.
Die erhaltene Diazoverbindung beginnt beim Erhitzen im Röhrchen über 1500 C langsam zu verkohlen
unter gleichzeitiger langsamer Zersetzung.
Eine von der Firma S. D. Warren Company, Cumberland Mills, Maine, USA., nach der amerikanischen
Patentschrift 2 534 588 hergestellte und in den Handel gebrachte Papierfolie, die einseitig mit einer aus Kasein
und Ton bestehenden, mit Formaldehyd gehärteten Schicht versehen ist, wird auf der Schichtseite mit
einer 2%igen Lösung der Diazoverbindung mit der Formel 3 in Glykolmonomethyläther auf der Schleuder
beschichtet und die Schicht mit warmer Luft gut angetrocknet. Die sensibilisierte Folie wird unter einer
positiven Vorlage belichtet. Man erhält auf rotbraunem Untergrund ein gelbbraunes Bild, das etwa
ι Minute lang mit einer 5°/„igen Dinatriumphosphatlösung
tamponiert und anschließend mit i°/oiger
Phosphorsäure überwischt wird. Beim Einfärben mit fetter Farbe erhält man ein Positivbild. Die Folie
kann nun in den üblichen Vervielfältigungsapparaten als Druckform verwendet werden.
0,2 g der Diazoverbindung mit der Formel 14 werden in einem Gemisch von 5 ecm Glykolmonomethyläther
und 5 ecm Dioxan gelöst, und mit dieser Lösung wird ein einseitig mit einer gehärteten Gelatineschicht versehenes,
gut geleimtes Papier auf der gelatinierten Seite bestrichen. Die Schichtseite wird gut getrocknet,
und dann wird das sensibilisierte Papier unter einer Vorlage belichtet, die Bildfläche mit fetter Farbe eingefärbt
und anschließend mit 5°/oiger Dinatriumphosphatlösung tamponiert. Dabei erscheint ein positives,
fette Farbe enthaltendes Bild auf reinweißem Grund, das durch kurze Behandlung mit verdünnter Phosphorsäure
fixiert wird.
Zur Darstellung der Diazoverbindung mit der Formel 14 werden 3 Mol Benzoxazolon-5-sulfochlorid in
Dioxan, dem Pyridin zugesetzt ist, mit 1 Mol 4, 4'-Diamino-2, 5, 2', 5'-tetramethyl-triphenylmethan umgesetzt.
Die Oxazolonringe des erhaltenen N', N"-Di-(benzoxazolon-5-sulfonyl)"4',
4"-diamino-2', 5', 2", 5"-tetramethyl-triphenylmethan werden durch Erwärmen mit etwa 20%iger Natronlauge bei Wasserbadtemperatur
' aufgespalten. Beim Ansäuern der alkalischen Flüssigkeit mit Salzsäure fällt das Chlorhydrat
desN',N"-Di-(2-amino-i-oxybenzoI-4-sulfonyl-4',
4"-diamino-2' 5', 2", 5"-tetramethyltriphenylmethan aus und wird in salzsaurer Suspension
mit Natriumnitrit diazotiert. Die gelbgefärbte, sehr feinkörnige Bis-Diazoverbindung zersetzt sich allmählich
beim Erhitzen im Röhrchen über ioo° C, ohne zu schmelzen.
Eine i,5°/oige Lösung der Diazoverbindung mit der
Formel 15 in Glykolmonomethyläther wird auf eine Papierfolie, wie sie in Beispiel 17 beschrieben ist, aufgebracht,
und die Schichtseite wird gut getrocknet. Nach Belichtung hinter einer positiven Vorlage wird
die belichtete Seite etwa 2 Minuten lang mit einer io%igen Dinatriumphosphatlösung behandelt, mit
Wasser abgespült und mit i°/oiger Phosphorsäure überwischt.
Das erhaltene positive Bild kann nun mit fetter Farbe eingefärbt und als Druckform verwendet
werden.
Man stellt die Diazoverbindung her, indem 1, 2 Mol Benzoxazolon-s-sulfochlorid mit 1 Mol 2-Aminofluoren
in pyridinhaltigem Dioxan zur Umsetzung gebracht werden. Das Benzoxazolon-5-(N-2'-fluorenyl)-sulfonamid
schmilzt nach dem Umkristallisieren aus Eisessig bei 282° C unter Zersetzung. Der Oxazolonring
wird durch Erhitzen mit 20°/Oiger Natronlauge aufgespalten, und das nach dem Ansäuern mit Salzsäure
erhaltene Chlorhydrat des 2-Amino-i-oxybenzol-4-(N-2'-fhiorenyl)-sulfonamid
wird in Suspension mit Natriumnitrit diazotiert. Die Diazoverbindung hat einen Zersetzungspunkt von etwa 2100 C.
Auf pergamentiertes Papier wird eine Auflösung von 0,2 g der Diazoverbindung mit der Formel 16
in 10 ecm Dioxan aufgestrichen, und nach gutem
Trocknen der Schichtseite wird das sensibilisierte Papier hinter einer positiven transparenten Vorlage
belichtet. Man entwickelt die belichtete Schicht mit einer io°/0igen Dinatriumphosphatlösung und behandelt
die Bildseite kurz mit verdünnter Phosphorsäure. Danach kann das erhaltene Positivbild mit fetter Farbe
eingefärbt werden.
Zur Herstellung der Diazoverbindung mit der Formel 16 werden 2,2 Mol Benzoxazolon-5-sulfochlorid
mit ι Mol 4', 4"-Diamino-diphenyl-i, i"-cyclohexan
analog der in Beispiel 18 beschriebenen Methode kondensiert. Bei der Überführung des erhaltenen
Kondensationsproduktes in das N', N"-Di-(2-aminoi - oxybenzol - 4 - sulfonyl) - 4', 4"- diamino - diphenyl-1,
ΐ''-cyclohexan sowie bei derDiazotierung der Base verfährt
man ebenfalls, wie in Beispiel 18 angegeben. Beim Erhitzen im Röhrchen verkohlt die Diazoverbindung
langsam über ioo° C, ohne zu schmelzen.
0,2 g der Diazoverbindung aus i-Oxy-2-amino-6-methylbenzol-4-sulfon-(N-diphenyl)-amid
mit der Formel 9 werden in 10 ecm Glykolmonomethyläther
gelöst, und mit dieser Lösung wird eine Papierfolie der in Beispiel 17 beschriebenen Art einseitig beschichtet.
Mit der sensibilisierten Folie wird durch Belichtung an einer Bogenlampe unter einer Vorlage eine
Kopie hergestellt. Nach ihrer Entwicklung mit einer 5%igen Dinatriumphosphatlösung und kurzer Nachbehandlung
mit verdünnter Phosphorsäure entsteht ein positives Bild, das mit fetter Farbe eingefärbt
werden kann.
Claims (5)
- PATENTANSPRÜCHE:i. Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen nach Patent 854 890 und den Patenten 879 205 und 865 108, dadurch gekennzeichnet, daß hier Diazoverbindungen zur Erzeugung der lichtempfindlichen Schicht verwendet werden, die sich von Sulfosäuren oderCarbonsäuren von o-Diazophenolen der Benzolreihe herleiten und die Konstitution von Estern oder Amiden dieser Säuren haben.
- 2. Lichtempfindliches Material zur Anfertigung von Kopien, besonders Druckformen gemäß dem Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich auf einem Schichtträger eine lichtempfindliche Schicht befindet, die Diazoverbindungen enthält, die sich von Sulfosäuren oder Carbonsäuren von ortho-Diazophenolen der Benzolreihe herleiten und die Konstitution von Estern oder Amiden dieser Säuren haben.
- 3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Anwesenheit von alkalilöslichen Harzen in der lichtempfindlichen Schicht.
- 4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Hilfsschicht aus alkalilöslichen Harzen zwischen Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht.
- 5. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Anwesenheit von alkalilöslichen Harzen sowohl in der lichtempfindlichen Schicht als auch als besondere Hilfsschicht zwischen Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht.Hierzu 2 Blatt Zeichnungen© 5361 8.53
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE945673C (de) * | 1954-04-03 | 1956-07-12 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten |
DE949383C (de) * | 1954-08-26 | 1956-09-20 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliche Metallfolie fuer die Druckplattenherstellung, welche mit Diazosulfonaten lichtempfindlich gemacht ist |
DE950618C (de) * | 1954-04-03 | 1956-10-11 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht |
DE1007773B (de) * | 1954-08-20 | 1957-05-09 | Gen Aniline & Film Corp | Verfahren zur Herstellung von N-abietylsubstituierten o-Chinondiaziden von Naphthalin- und Benzolsulfonsaeureamiden |
US3046119A (en) * | 1950-08-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
US3046122A (en) * | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process of making printing plates and light sensitive material suitable for use therein |
Families Citing this family (206)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3046124A (en) * | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suitablefor use therein |
NL170716B (nl) * | 1951-06-30 | Agfa Gevaert Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van polymeerfoelie door extrusie. | |
US2767092A (en) * | 1951-12-06 | 1956-10-16 | Azoplate Corp | Light sensitive material for lithographic printing |
BE516716A (de) * | 1952-01-05 | 1900-01-01 | ||
NL89894C (de) * | 1952-08-16 | |||
GB742557A (en) * | 1952-10-01 | 1955-12-30 | Kalle & Co Ag | Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images |
DE938233C (de) * | 1953-03-11 | 1956-01-26 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen |
US2907655A (en) * | 1953-09-30 | 1959-10-06 | Schmidt Maximilian Paul | Light-sensitive material for the photo-mechanical reproduction and process for the production of images |
NL96545C (de) * | 1954-03-12 | 1900-01-01 | ||
BE540225A (de) * | 1954-08-20 | |||
NL204620A (de) * | 1955-02-25 | |||
US3029146A (en) * | 1955-02-25 | 1962-04-10 | Azoplate Corp | Reproduction material |
US3046114A (en) * | 1955-03-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom |
BE560264A (de) * | 1956-09-25 | |||
US3019105A (en) * | 1957-02-28 | 1962-01-30 | Harris Intertype Corp | Treatment of diazo-sensitized lithographic plates |
BE569884A (de) * | 1957-08-03 | |||
US2975053A (en) * | 1958-10-06 | 1961-03-14 | Azoplate Corp | Reproduction material |
NL129161C (de) * | 1959-01-14 | |||
NL247405A (de) * | 1959-01-15 | |||
NL129162C (de) * | 1959-01-17 | |||
NL130248C (de) * | 1959-01-21 | |||
NL125781C (de) * | 1959-02-04 | |||
DE1114705C2 (de) * | 1959-04-16 | 1962-04-12 | Kalle Ag | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen |
BE593836A (de) * | 1959-08-05 | |||
NL255348A (de) * | 1959-08-29 | |||
NL255517A (de) * | 1959-09-04 | |||
US3086861A (en) * | 1960-07-01 | 1963-04-23 | Gen Aniline & Film Corp | Printing plates comprising ink receptive azo dye surfaces |
BE606642A (de) * | 1960-07-29 | |||
NL132291C (de) * | 1961-01-25 | |||
NL283850A (de) * | 1961-10-13 | |||
US3260599A (en) * | 1962-11-19 | 1966-07-12 | Minnesota Mining & Mfg | Vesicular diazo copy-sheet containing photoreducible dye |
US3210531A (en) * | 1963-03-18 | 1965-10-05 | Samuel M Neely | Outdoor floodlighting assembly |
CA774047A (en) * | 1963-12-09 | 1967-12-19 | Shipley Company | Light-sensitive material and process for the development thereof |
US3331944A (en) * | 1965-03-02 | 1967-07-18 | Electro Therm | Plug-in heating element assembly |
US3387975A (en) * | 1965-03-10 | 1968-06-11 | Sony Corp | Method of making color screen of a cathode ray tube |
GB1116737A (en) * | 1966-02-28 | 1968-06-12 | Agfa Gevaert Nv | Bis-(o-quinone diazide) modified bisphenols |
NL136645C (de) * | 1966-12-12 | |||
US3635709A (en) * | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
US3984250A (en) * | 1970-02-12 | 1976-10-05 | Eastman Kodak Company | Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic elements |
GB1347759A (en) * | 1971-06-17 | 1974-02-27 | Howson Algraphy Ltd | Light sensitive materials |
JPS5539825B2 (de) * | 1972-05-12 | 1980-10-14 | ||
JPS5024641B2 (de) * | 1972-10-17 | 1975-08-18 | ||
US3950173A (en) * | 1973-02-12 | 1976-04-13 | Rca Corporation | Electron beam recording article with o-quinone diazide compound |
US3852771A (en) * | 1973-02-12 | 1974-12-03 | Rca Corp | Electron beam recording process |
US4024122A (en) * | 1973-02-12 | 1977-05-17 | Rca Corporation | Method of purifying 2,4-bis(6-diazo-5,6-dihydro-5-oxo-1-naphthalenesulfonyloxy benzophenone) |
DE2331377C2 (de) * | 1973-06-20 | 1982-10-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Kopiermaterial |
US4327022A (en) * | 1973-08-16 | 1982-04-27 | Sterling Drug Inc. | Heterocyclic alkyl naphthols |
US4169108A (en) * | 1973-08-16 | 1979-09-25 | Sterling Drug Inc. | 5(OR 6)-[(Substituted-amino)alkyl]-2,3-naphthalenediols |
US4139384A (en) * | 1974-02-21 | 1979-02-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive polymeric o-quinone diazide containing lithographic printing plate and process of using the plate |
JPS5645127B2 (de) * | 1974-02-25 | 1981-10-24 | ||
US4007047A (en) * | 1974-06-06 | 1977-02-08 | International Business Machines Corporation | Modified processing of positive photoresists |
GB1513368A (en) * | 1974-07-08 | 1978-06-07 | Vickers Ltd | Processing of radiation-sensitive members |
DE2530502C2 (de) * | 1974-07-22 | 1985-07-18 | American Hoechst Corp., Bridgewater, N.J. | Verfahren zum gleichzeitigen Entwickeln und Konservieren von Druckplatten sowie dafür geeignete Behandlungslösung |
DE2447225C2 (de) * | 1974-10-03 | 1983-12-22 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Ablösen von positiven Photolack |
US4005437A (en) * | 1975-04-18 | 1977-01-25 | Rca Corporation | Method of recording information in which the electron beam sensitive material contains 4,4'-bis(3-diazo-3-4-oxo-1-naphthalene sulfonyloxy)benzil |
CA1085212A (en) * | 1975-05-27 | 1980-09-09 | Ronald H. Engebrecht | Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides |
DE2529054C2 (de) * | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
US4148654A (en) * | 1976-07-22 | 1979-04-10 | Oddi Michael J | Positive acting photoresist comprising diazide ester, novolak resin and rosin |
DE2641099A1 (de) * | 1976-09-13 | 1978-03-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopierschicht |
DE2641100A1 (de) * | 1976-09-13 | 1978-03-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopierschicht |
US4059449A (en) * | 1976-09-30 | 1977-11-22 | Rca Corporation | Photoresist containing a thiodipropionate compound |
GB1604652A (en) * | 1977-04-12 | 1981-12-16 | Vickers Ltd | Radiation sensitive materials |
US4263387A (en) * | 1978-03-16 | 1981-04-21 | Coulter Systems Corporation | Lithographic printing plate and process for making same |
DE2828037A1 (de) * | 1978-06-26 | 1980-01-10 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch |
US4207107A (en) * | 1978-08-23 | 1980-06-10 | Rca Corporation | Novel ortho-quinone diazide photoresist sensitizers |
DE2948324C2 (de) * | 1978-12-01 | 1993-01-14 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Lichtempfindliches Gemisch, enthaltend eine Bisazidverbindung, und Verfahren zur Bildung von Mustern |
JPS561933A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-10 | Ibm | Resist composition |
US4284706A (en) * | 1979-12-03 | 1981-08-18 | International Business Machines Corporation | Lithographic resist composition for a lift-off process |
DE3040157A1 (de) * | 1980-10-24 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtemopfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3100077A1 (de) * | 1981-01-03 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters |
US4431724A (en) * | 1981-01-07 | 1984-02-14 | Ovchinnikov Jury M | Offset printing plate and process for making same |
DE3100856A1 (de) * | 1981-01-14 | 1982-08-12 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS57163234A (en) * | 1981-04-01 | 1982-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
DE3124936A1 (de) * | 1981-06-25 | 1983-01-20 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3127754A1 (de) * | 1981-07-14 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS59165053A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
US4499171A (en) * | 1982-04-20 | 1985-02-12 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Positive type photosensitive resin composition with at least two o-quinone diazides |
DE3220816A1 (de) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Lichtempfindliche komponenten fuer positiv arbeitende fotoresistmaterialien |
GB2127175A (en) * | 1982-09-07 | 1984-04-04 | Letraset International Ltd | Manufacture of signs |
US4474864A (en) * | 1983-07-08 | 1984-10-02 | International Business Machines Corporation | Method for dose calculation of photolithography projection printers through bleaching of photo-active compound in a photoresist |
US4626491A (en) * | 1983-10-07 | 1986-12-02 | J. T. Baker Chemical Company | Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using |
JPS6088942A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
IT1169682B (it) * | 1983-11-08 | 1987-06-03 | I M G Ind Materiali Grafici Sp | Composizione per fotoriproduzioni |
US4535393A (en) * | 1983-11-10 | 1985-08-13 | Jahabow Industries, Inc. | Fluorescent lamp housing |
EP0147596A3 (de) * | 1983-12-30 | 1987-03-04 | International Business Machines Corporation | Positive lichtempfindliche lithographische Lackzusammensetzung |
US4596763A (en) * | 1984-10-01 | 1986-06-24 | American Hoechst Corporation | Positive photoresist processing with mid U-V range exposure |
JPS61141441A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
GB8505402D0 (en) * | 1985-03-02 | 1985-04-03 | Ciba Geigy Ag | Modified phenolic resins |
JPS6149895A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-03-11 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 印刷板の形成方法 |
US5256522A (en) * | 1985-08-12 | 1993-10-26 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working O-naphthoquinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing |
US5217840A (en) * | 1985-08-12 | 1993-06-08 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working o-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment and element produced therefrom |
US4929536A (en) * | 1985-08-12 | 1990-05-29 | Hoechst Celanese Corporation | Image reversal negative working O-napthoquinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing |
US4684597A (en) * | 1985-10-25 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Non-precipitating quinone diazide polymer containing photoresist composition with o-quinone diazide trisester as dissolution inhibitor |
DE3686032T2 (de) * | 1985-12-27 | 1993-02-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Strahlungsempfindliche positiv arbeitende kunststoffzusammensetzung. |
DE3603578A1 (de) * | 1986-02-06 | 1987-08-13 | Hoechst Ag | Neue bis-1,2-naphthochinon-2-diazid-sulfonsaeure- amide, ihre verwendung in einem strahlungsempfindlichen gemisch und strahlungsempfindliches kopiermaterial |
US4737437A (en) * | 1986-03-27 | 1988-04-12 | East Shore Chemical Co. | Light sensitive diazo compound, composition and method of making the composition |
US4902785A (en) * | 1986-05-02 | 1990-02-20 | Hoechst Celanese Corporation | Phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acidic halide substituents |
US4732836A (en) * | 1986-05-02 | 1988-03-22 | Hoechst Celanese Corporation | Novel mixed ester O-quinone photosensitizers |
US5162510A (en) * | 1986-05-02 | 1992-11-10 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the preparation of photosensitive compositions containing a mixed ester o-quinone photosensitizer |
DE3784549D1 (de) * | 1986-05-02 | 1993-04-15 | Hoechst Celanese Corp | Positiv-arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial. |
US4732837A (en) * | 1986-05-02 | 1988-03-22 | Hoechst Celanese Corporation | Novel mixed ester O-quinone photosensitizers |
US5035976A (en) * | 1986-05-02 | 1991-07-30 | Hoechst Celanese Corporation | Photosensitive article having phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acid halide substituents |
US4871644A (en) * | 1986-10-01 | 1989-10-03 | Ciba-Geigy Corporation | Photoresist compositions with a bis-benzotriazole |
US4835085A (en) * | 1986-10-17 | 1989-05-30 | Ciba-Geigy Corporation | 1,2-Naphthoquinone diazide sulfonyl ester compound with linking benzotriazole groups and light-sensitive composition with compound |
DE3635303A1 (de) | 1986-10-17 | 1988-04-28 | Hoechst Ag | Verfahren zur abtragenden modifizierung von mehrstufig aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium oder dessen legierungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten |
JP2568827B2 (ja) * | 1986-10-29 | 1997-01-08 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
JPS63178228A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-07-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
US5182183A (en) * | 1987-03-12 | 1993-01-26 | Mitsubishi Kasei Corporation | Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone |
US4818658A (en) * | 1987-04-17 | 1989-04-04 | Shipley Company Inc. | Photoactive esterification product of a diazooxide compound and a curcumin dye and photoresist materials with product |
US4962171A (en) * | 1987-05-22 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
US5081001A (en) * | 1987-05-22 | 1992-01-14 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
US4810613A (en) * | 1987-05-22 | 1989-03-07 | Hoechst Celanese Corporation | Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists |
DE3718416A1 (de) * | 1987-06-02 | 1988-12-15 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung |
DE3729034A1 (de) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPH07119374B2 (ja) * | 1987-11-06 | 1995-12-20 | 関西ペイント株式会社 | ポジ型感光性カチオン電着塗料組成物 |
US5024921A (en) * | 1987-11-23 | 1991-06-18 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Thermally stable light-sensitive compositions with o-quinone diazide and phenolic resin used in a method of forming a positive photoresist image |
US4837121A (en) * | 1987-11-23 | 1989-06-06 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Thermally stable light-sensitive compositions with o-quinone diazide and phenolic resin |
US4970287A (en) * | 1987-11-23 | 1990-11-13 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Thermally stable phenolic resin compositions with ortho, ortho methylene linkage |
US5250669A (en) * | 1987-12-04 | 1993-10-05 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive compound |
US4914000A (en) * | 1988-02-03 | 1990-04-03 | Hoechst Celanese Corporation | Three dimensional reproduction material diazonium condensates and use in light sensitive |
EP0346808B1 (de) * | 1988-06-13 | 1996-09-11 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photolackzusammensetzung |
DE3822522A1 (de) * | 1988-07-04 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | 1,2-naphthochinon-2-diazid-sulfonsaeureamide und lichtempfindliche gemische, die diese enthalten |
US5248582A (en) * | 1988-09-07 | 1993-09-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive-type photoresist composition |
DE3837499A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von substituierten 1,2-naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsaeureestern und deren verwendung in einem strahlungsempfindlichen gemisch |
DE3837500A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-23 | Hoechst Ag | Neue, strahlungsempfindliche verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches gemisch und aufzeichnungsmaterial |
EP0410606B1 (de) | 1989-07-12 | 1996-11-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
US5019478A (en) * | 1989-10-30 | 1991-05-28 | Olin Hunt Specialty Products, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures |
US5196517A (en) * | 1989-10-30 | 1993-03-23 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use as photoactive compounds |
US5219714A (en) * | 1989-10-30 | 1993-06-15 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures |
US5075194A (en) * | 1990-01-09 | 1991-12-24 | Industrial Technology Research Institute | Positive photoresist composition containing 4,4-diester, 4,5-diester, or 5,5-diester of spiroglycol and 1-oxo-2-diazonaphthalene-5-sulfonic acid chloride |
US5238775A (en) * | 1990-02-20 | 1993-08-24 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition |
JP2865147B2 (ja) * | 1990-06-20 | 1999-03-08 | 関西ペイント株式会社 | ポジ型感光性電着塗料組成物 |
US5283155A (en) * | 1991-01-11 | 1994-02-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Positive resist composition comprising an alkali-soluble resin and a quinone diazide sulfonic acid ester of a hydroxy flavan derivative |
JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
US5384228A (en) * | 1992-04-14 | 1995-01-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Alkali-developable positive-working photosensitive resin composition |
US5401605A (en) * | 1992-08-12 | 1995-03-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive working photosensitive resin composition containing 1,2-naphthoquinone diazide esterification product of triphenylmethane compound |
US5245518A (en) * | 1992-09-04 | 1993-09-14 | Jahabow Industries, Inc. | Lighting system |
JPH06342214A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-12-13 | Mitsubishi Electric Corp | 微細レジストパターンの形成方法 |
GB9326150D0 (en) * | 1993-12-22 | 1994-02-23 | Alcan Int Ltd | Electrochemical roughening method |
JPH0876380A (ja) | 1994-09-06 | 1996-03-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型印刷版組成物 |
JP3290316B2 (ja) | 1994-11-18 | 2002-06-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US5467260A (en) * | 1995-03-20 | 1995-11-14 | Jahabow Industries, Inc. | Lens retainer system for a showcase light |
US5618932A (en) * | 1995-05-24 | 1997-04-08 | Shipley Company, L.L.C. | Photoactive compounds and compositions |
GB9517669D0 (en) * | 1995-08-30 | 1995-11-01 | Cromax Uk Ltd | A printing apparatus and method |
JP3522923B2 (ja) | 1995-10-23 | 2004-04-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料 |
US5645970A (en) * | 1995-10-25 | 1997-07-08 | Industrial Technology Research Institute | Weak base developable positive photoresist composition containing quinonediazide compound |
CA2191055A1 (en) | 1995-12-04 | 1997-06-05 | Major S. Dhillon | Aqueous developable negative acting photosensitive composition having improved image contrast |
EP0887182B1 (de) | 1996-04-23 | 2002-07-24 | Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. | Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers |
US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
GB9622657D0 (en) | 1996-10-31 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Direct positive lithographic plate |
US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
EP0996869A1 (de) | 1997-07-05 | 2000-05-03 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Bilderzeugungsverfahren und strahlungsempfindliche materialen |
US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
US6040107A (en) * | 1998-02-06 | 2000-03-21 | Olin Microelectronic Chemicals, Inc. | Photosensitive diazonaphthoquinone esters based on selected cyclic alkyl ether-containing phenolics and their use in radiation sensitive mixtures |
US6045963A (en) * | 1998-03-17 | 2000-04-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Negative-working dry planographic printing plate |
US6454789B1 (en) * | 1999-01-15 | 2002-09-24 | Light Science Corporation | Patient portable device for photodynamic therapy |
US6602274B1 (en) * | 1999-01-15 | 2003-08-05 | Light Sciences Corporation | Targeted transcutaneous cancer therapy |
US6296982B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging articles |
ATE305302T1 (de) | 1999-12-28 | 2005-10-15 | Eisai Co Ltd | Heterozyklische verbindungen mit sulfonamid- gruppen |
US20050037293A1 (en) * | 2000-05-08 | 2005-02-17 | Deutsch Albert S. | Ink jet imaging of a lithographic printing plate |
US6511790B2 (en) | 2000-08-25 | 2003-01-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
EP1332000B1 (de) | 2000-10-30 | 2012-06-20 | Sequenom, Inc. | Verfahren zur aufbringung von submikroliter fluid-volumina auf ein substrat |
US6841330B2 (en) | 2000-11-30 | 2005-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor |
US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
US7090958B2 (en) * | 2003-04-11 | 2006-08-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Positive photoresist compositions having enhanced processing time |
DE10345362A1 (de) * | 2003-09-25 | 2005-04-28 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Verfahren zur Verhinderung von Beschichtungsdefekten |
JP4404734B2 (ja) | 2004-09-27 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4404792B2 (ja) | 2005-03-22 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
DE602008003423D1 (de) * | 2007-03-23 | 2010-12-23 | Council Scient Ind Res | Neues diazo-naphthochinon-schwefelsäure-bisphenolderivat für fotolithografische submikronstrukturierung und herstellungsverfahren dafür |
US9130402B2 (en) | 2007-08-28 | 2015-09-08 | Causam Energy, Inc. | System and method for generating and providing dispatchable operating reserve energy capacity through use of active load management |
US20090180931A1 (en) | 2007-09-17 | 2009-07-16 | Sequenom, Inc. | Integrated robotic sample transfer device |
JP2009085984A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP4890403B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2009083106A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法 |
JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
JP4790682B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JPWO2009063824A1 (ja) | 2007-11-14 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法 |
JP2009236355A (ja) | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 乾燥方法及び装置 |
JP5164640B2 (ja) | 2008-04-02 | 2013-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5183380B2 (ja) | 2008-09-09 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版 |
JP2010237435A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
EP2417123A2 (de) | 2009-04-06 | 2012-02-15 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutische zusammensetzungen und damit in zusammenhang stehende anwendungsverfahren |
DK2427441T3 (en) * | 2009-05-04 | 2017-03-20 | Agios Pharmaceuticals Inc | PKM2 Activators for use in the treatment of cancer |
EP2448582B1 (de) | 2009-06-29 | 2017-04-19 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Chinolin-8-sulfonamid-derivate mit einer aktivität gegen krebs |
ES2618630T3 (es) | 2009-06-29 | 2017-06-21 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Composiciones terapéuticas y métodos de uso relacionados |
EP2481603A4 (de) | 2009-09-24 | 2015-11-18 | Fujifilm Corp | Lithografische originaldruckplatte |
KR20130036171A (ko) * | 2009-10-29 | 2013-04-11 | 브리스톨-마이어스 스큅 컴퍼니 | 트리시클릭 헤테로시클릭 화합물 |
CA2797694A1 (en) | 2010-04-29 | 2011-11-03 | The United States Of America, As Represented By The Secretary, Departmen T Of Health And Human Services | Activators of human pyruvate kinase |
MX2013006900A (es) | 2010-12-17 | 2013-10-17 | Agios Pharmaceuticals Inc | Nuevos derivados n-(4-(azetidina-1-carbonil)fenil)-(hetero-)arilsu lfonamida como moduladores piruvato quinasa m2 (pmk2). |
CA2822432C (en) | 2010-12-21 | 2019-09-24 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Bicyclic pkm2 activators |
TWI549947B (zh) | 2010-12-29 | 2016-09-21 | 阿吉歐斯製藥公司 | 治療化合物及組成物 |
US20140048741A1 (en) | 2011-03-10 | 2014-02-20 | 3M Innovative Properties Company | Filtration media |
WO2012151440A1 (en) | 2011-05-03 | 2012-11-08 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Pyruvate kinase activators for use for increasing lifetime of the red blood cells and treating anemia |
HUE039269T2 (hu) | 2011-05-03 | 2018-12-28 | Agios Pharmaceuticals Inc | Piruvát-kináz aktivátorok terápiában történõ alkalmazásra |
US8703385B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Photoresist composition |
JP5490168B2 (ja) | 2012-03-23 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5512730B2 (ja) | 2012-03-30 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
JP6469006B2 (ja) | 2012-08-09 | 2019-02-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光硬化性組成物 |
US8883402B2 (en) | 2012-08-09 | 2014-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
WO2014139144A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
US11234976B2 (en) | 2015-06-11 | 2022-02-01 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Methods of using pyruvate kinase activators |
US11053836B1 (en) | 2019-12-30 | 2021-07-06 | Brunswick Corporation | Marine drives having integrated exhaust and steering fluid cooling apparatus |
CN116789562A (zh) * | 2023-06-27 | 2023-09-22 | 安徽觅拓材料科技有限公司 | 一种重氮萘醌磺酸酯化合物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1761528A (en) * | 1928-08-10 | 1930-06-03 | Nils J A Fyrberg | Reflector for light projectors |
US2291494A (en) * | 1940-11-05 | 1942-07-28 | Miller Co | System of lighting and lighting unit for use therein |
BE455215A (de) * | 1943-01-14 | |||
US2556690A (en) * | 1945-09-12 | 1951-06-12 | Edwin F Guth | Lighting fixture for elongated tubular lamps having means to shield the lamps |
US2564373A (en) * | 1946-02-15 | 1951-08-14 | Edwd F Caldwell & Co Inc | Recessed fluorescent lighting fixture having means to direct the light rays close tothe fixture supporting wall |
US2591661A (en) * | 1947-03-07 | 1952-04-01 | Century Lighting Inc | Reflector for controlling at a predetermined angle direct and reflected rays from a light source |
BE510563A (de) * | 1949-07-23 | |||
US2540784A (en) * | 1950-01-21 | 1951-02-06 | Hubbard & Co | Detachable bracket construction for lighting arms |
US2702243A (en) * | 1950-06-17 | 1955-02-15 | Azoplate Corp | Light-sensitive photographic element and process of producing printing plates |
DE871668C (de) * | 1950-06-17 | 1953-03-26 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und Material zur Durchfuehrung des Verfahrens |
BE504899A (de) * | 1950-08-01 | |||
US2728849A (en) * | 1950-08-17 | 1955-12-27 | Samuel L Beber | Lighting fixture |
US2750142A (en) * | 1950-11-08 | 1956-06-12 | Elreco Corp | Fitting or coupling for bracket arm |
DE872154C (de) * | 1950-12-23 | 1953-03-30 | Kalle & Co Ag | Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Bildern und Druckformen mit Hilfe von Diazoverbindungen |
BE508016A (de) * | 1950-12-23 | |||
US2694775A (en) * | 1951-02-02 | 1954-11-16 | Lightolier Inc | Lighting fixture |
US2740885A (en) * | 1951-06-25 | 1956-04-03 | A L Smith Iron Company | Adjustable fluorescent light fixture |
DE930608C (de) * | 1951-09-28 | 1955-07-21 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
US2762243A (en) * | 1953-08-14 | 1956-09-11 | Fosdick Machine Tool Co | Machine tool clamping mechanism |
US2886699A (en) * | 1957-09-23 | 1959-05-12 | Mc Graw Edison Co | Fluorescent luminaire |
-
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3046122A (en) * | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process of making printing plates and light sensitive material suitable for use therein |
US3046119A (en) * | 1950-08-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
DE945673C (de) * | 1954-04-03 | 1956-07-12 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur photomechanischen Herstellung von Druckplatten |
DE950618C (de) * | 1954-04-03 | 1956-10-11 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Druckformen aus lichtempfindlichem Material, welches aus einem metallischen Traeger und einer darauf haftenden kolloidfreien lichtempfindlichen Schicht besteht |
DE1007773B (de) * | 1954-08-20 | 1957-05-09 | Gen Aniline & Film Corp | Verfahren zur Herstellung von N-abietylsubstituierten o-Chinondiaziden von Naphthalin- und Benzolsulfonsaeureamiden |
DE949383C (de) * | 1954-08-26 | 1956-09-20 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliche Metallfolie fuer die Druckplattenherstellung, welche mit Diazosulfonaten lichtempfindlich gemacht ist |
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