EP1085554A1 - Plasma display panel with UV-light reflecting faceplate coating - Google Patents

Plasma display panel with UV-light reflecting faceplate coating Download PDF

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EP1085554A1
EP1085554A1 EP00203158A EP00203158A EP1085554A1 EP 1085554 A1 EP1085554 A1 EP 1085554A1 EP 00203158 A EP00203158 A EP 00203158A EP 00203158 A EP00203158 A EP 00203158A EP 1085554 A1 EP1085554 A1 EP 1085554A1
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EP
European Patent Office
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group
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layer
light reflecting
reflecting layer
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EP00203158A
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German (de)
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EP1085554B1 (en
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Helmut Dr. Bechtel
Wolfgang Dipl.-Ing. Busselt
Harald Dr. Gläser
Claus Dr. Feldmann
Joachim Dr. Opitz
Detlef Uwe Wiechert
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Philips Intellectual Property and Standards GmbH
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Corporate Intellectual Property GmbH
Koninklijke Philips Electronics NV
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Publication date
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    • H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
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    • H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
    • H01J2211/442—Light reflecting means; Anti-reflection means

Definitions

  • the invention relates to a plasma screen with a front plate, the glass plate, on which a dielectric layer and a protective layer are applied, one Back plate, a number of gas in between, separated by partitions contained plasma cells, and several electrodes on the front plate and the back plate for the generation of silent electrical charges.
  • Plasma screens enable high resolution color images and are more compact Construction.
  • a plasma screen has a hermetically sealed glass cell with a gas is filled with electrodes arranged in a grid. By creating one electrical voltage causes a gas discharge, the light in the ultraviolet Area created. This UV light is converted into visible light by phosphors and emitted through the front panel of the glass cell to the viewer.
  • the luminance of a plasma display screen largely depends on the efficiency of the UV light to excite the phosphors.
  • a plasma screen is described by T. Murata, Y. Okita, S. Kobayashi, T. Shinkai and K. Terai in IEEJ , 1998 , EP 98-61, the front plate of which is next to a glass plate, a dielectric layer and the like Discharge electrodes has a UV light reflecting layer.
  • a similar structure of a front panel has been described by the same authors in IDW , 1998 , 539-542.
  • the front panel additionally has a protective layer made of MgO and the UV light-reflecting layer is located between the dielectric layer and the protective layer. In both cases, this layer has the task of reflecting UV light, which is emitted in the direction of the front panel, in the direction of the phosphors.
  • the invention has for its object a plasma screen with improved To provide luminance.
  • the UV light reflecting layer is not between the dielectric layer and the protective layer. This has the advantage that the UV light does not pass through the protective layer, but is reflected directly on the lower surface of the front panel. This prevents absorption of the UV light in the protective layer.
  • the additional protective layer in the plasma display screen according to the invention in comparison to that in IEEJ , 1998 , EP 98-61 protects the layers behind it from the high ignition voltages and temperatures which are necessary for a plasma discharge or which arise during the plasma discharge.
  • the UV light reflecting layer contains oxides of the composition M 2 O such as Li 2 O or oxides of the composition MO, where M is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba or oxides of the composition M 2 O 3 , where M is selected from the group B, Al, Sc, Y and La or oxides of the composition MO 2 , where M is selected from the group Si, Ge, Sn, Ti, Zr and Hf or oxides of the composition M'M '' 2 O 4 , where M' is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba and M '' is selected from the group Al, Sc, Y and La or fluorides of the composition MF, where M is selected from the group Li , Na, K, Rb, Cs and Ag or fluorides of the composition MF 2 , where M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb or fluorides of the composition MF 3 , where M is selected from the group La, Pr, Sm
  • Particles of these compositions show in the wavelength range from 147 to 700 nm little or no absorption and withstand the high temperatures during the Production of a plasma screen.
  • these particles can have particle diameters produce between 10 nm and 500 nm.
  • the UV light reflecting layer has particles with a Contains particle diameters between 200 nm and 500 nm.
  • Particles of this diameter have a significantly larger light scattering in the UV wavelength range than in the visible wavelength range.
  • the UV light reflecting layer is a Has thickness of 0.5 microns to 5 microns.
  • the thickness of the layer of scattering particles also plays a role. So can the reflection of a layer of less scattering particles should be large if the Layer thickness is large.
  • particles with a particle diameter between 200 nm and 500 nm and a layer thickness of 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m UV light reflecting layer obtained in the wavelength range of plasma emission strongly reflected and transmitted in the area of visible emission of the phosphors.
  • the UV light-reflecting layer can consist of agglomerates Contains particles with a particle diameter between 10 nm and 200 nm.
  • Particles with a particle diameter between 10 nm and 200 nm do not scatter UV light and thus layers made of these particles also show no appreciable reflection. If suitable measures are taken to ensure that the particles form agglomerates, which are significantly larger than 100 nm, the layer behaves optically like a layer larger particles.
  • the interaction of light with the agglomerates is both by the size of the agglomerates as well as by the particle diameter of the agglomerates forming particles determined. Also has the density and refractive index variation in the agglomerates influence the wavelength dependence of the reflection.
  • the UV light reflecting layer is a Has thickness of 0.2 microns to 10 microns.
  • the UV light reflecting layer is the protective layer completely or only partially covered.
  • the protective layer which is mostly made of MgO. Because the layer made of MgO provides the voltage required to ignite the plasma lowered.
  • the front panel 1 shows a plasma cell of an AC plasma screen with a coplanar Arrangement of a front panel 1 and a rear panel 2.
  • the front panel 1 contains one Glass plate 3, on which a dielectric layer 4 and a protective layer 5 are applied are.
  • the protective layer 5 is preferably made of MgO and the dielectric layer 4 for example made of glass containing PbO. Parallel, strip-shaped are on the glass plate 3
  • Discharge electrodes 6, 7 are applied such that they are separated from the dielectric layer 4 are covered.
  • the discharge electrodes 6, 7 are made of metal or ITO, for example.
  • a UV light reflecting layer 8 is applied which radiation 12 reflected in the UV range and transmitted visible light 14.
  • the back plate 2 is made of glass and on the back plate 2 are parallel, strip-shaped, perpendicular to the Discharge electrodes 6, 7 extending address electrodes 11 made of Ag, for example. These are of phosphor layers 10 in one of the three primary colors red, green or covered in blue.
  • the individual phosphor layers 10 are preferably made of dielectric Material existing partitions 13, so-called barriers, separated.
  • a gas preferably a noble gas mixture from, for example, He, Ne, Xe or Kr.
  • a plasma forms in the plasma region 9 that depending on the composition of the gas radiation 12 in the UV range, in particular in the VUV area.
  • This UV radiation 12 excites the phosphor layers 10 to light up, which emit visible light 14 in the three primary colors, by the front panel 1 emerges and thus a luminous pixel on the screen represents.
  • the dielectric layer 4 over the transparent discharge electrodes 6,7 serves below other in AC plasma screens, a direct discharge between the conductive material existing discharge electrodes 6.7 and thus the training to prevent an arc from igniting the discharge.
  • the discharge electrodes 6, 7 are applied by means of vapor deposition. Then will a dielectric layer 4 and a protective layer 5 on the dielectric layer 4 upset.
  • oxides, fluorides, phosphates, metaphosphates or polyphosphates of various main group or sub group metals can be used as particles.
  • oxides for example, the oxides of the 1st main group such as Li 2 O or oxides of the 2nd main group such as MgO, CaO, SrO and BaO or oxides of the 3rd main group such as B 2 O 3 and Al 2 O 3 or oxides of 3rd subgroup such as Sc 2 O 3 , Y 2 O 3 and La 2 O 3 or oxides of the 4th main group such as SiO 2 , GeO 2 and SnO 2 or oxides of the 4th subgroup such as TiO 2 , ZrO 2 and HfO 2 or mixed oxides such as MgAl 2 O 4 , CaAl 2 O 4 or BaAl 2 O 4 can be used.
  • Fluorides of the 1st main group such as LiF, NaF, KF, RbF and CsF or fluorides of the 1st subgroup such as AgF or fluorides of the 2nd main group such as MgF 2 , CaF 2 , SrF 2 and BaF 2 or fluorides of the 4th Main group such as SnF 2 and PbF 2 or fluorides of the 1st subgroup such as CuF 2 or fluorides of the 2nd subgroup such as ZnF 2 or fluorides of the lanthanides such as LaF 3 , PrF 3 , SmF 3 , EuF 3 , GdF 3 , YbF 3 and LuF 3 or mixed fluorides such as LiMgF 3 and KMgF 3 are used.
  • Phosphates of the 1st main group such as Li 3 PO 4 , Na 3 PO 4 , K 3 PO 4 , Rb 3 PO 4 and Cs 3 PO 4 or phosphates of the 2nd main group such as Mg 3 (PO 4 ) 2 , Ca.
  • Metaphosphates with a chain length n between 3 and 9 can, for example, be metaphosphates of the 1st main group such as Li 3 (PO 3 ) 3 , Na 3 (PO 3 ) 3 , K 3 (PO 3 ) 3 , Rb 3 (PO 3 ) 3 and Cs 3 (PO 3 ) 3 or metaphosphates of the 2nd main group such as Mg (PO 3 ) 2 , Ca (PO 3 ) 2 , Sr (PO 3 ) 2 and Ba (PO 3 ) 2 or metaphosphates of the 3rd main group such as Al (PO 3 ) 3 or metaphosphates of the 3rd subgroup such as Sc (PO 3 ) 3 , Y (PO 3 ) 3 and La (PO 3 ) 3 or metaphosphates of the 4th subgroup such as Ti 3 (PO 3 ) 4 , Zr 3 ( PO 3 ) 4 and Hf 3 (PO 3 ) 4 or Zn (PO 3 ) 2 can be used.
  • the 1st main group
  • metal cations can also be partially replaced by protons.
  • hydrogen phosphates such as KH 2 PO 4 , NaH 2 PO 4 and NH 4 H 2 PO 4 or diamond can also be used in the UV light reflecting layer 8.
  • the suspensions can also contain precursors to the particles according to the invention, which are then converted into the desired particles by thermal treatment.
  • a suspension with Mg (OH) 2 can be thermally converted into a layer of MgO after application to the protective layer 5.
  • the suspensions are preferably prepared in aqueous solution. In some cases it may be necessary to work with organic solvent systems, for example if the powder used reacts chemically with water or dissolves in it.
  • the suspensions are produced depending on the material and particle diameter different ways.
  • One possibility is that the particles are from suitable precursors be synthesized.
  • the other option is that the particles are used directly become.
  • metal salts are first dissolved in water.
  • the metal salts have the composition MX n ⁇ yH 2 O, where M is, for example, one or more metals selected from the group Li, Na, K, Rb, Cs, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, La, Y , Sn, Ti, Zr, Hf, Ag, Pb, Cu, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb, Lu and Zn.
  • X is for example one or more of the anions NO 3 - , RO - , - O 2 C-CO 2 - while y is a number greater than or equal to zero and n is an integer between 1 and 4 depending on the oxidation state of the metal cation M n + .
  • propoxide and butoxide can be used as alkoxides RO - .
  • the particles according to the invention with a particle diameter between 200 nm and 500 nm are then either by thermal treatment such as heating under reflux, by acidic treatment such as addition of acetic acid, by alkaline treatment such as addition of sodium hydroxide solution or addition of ammonia and / or by addition of the desired counter ion.
  • the counterions are added as salts to the aqueous metal salt solution and can be, for example, ammonium salts such as NH 4 F or phosphates such as sodium metaphosphate or long-chain polyphosphate salts.
  • the suspensions obtained are with an associative thickener and / or Dispersant added.
  • particles such as Li 2 O, MgO, CaO, SrO, BaO, B 2 O 3 , Al 2 O 3 , Sc 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , SiO 2 , GeO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , HfO 2 or MgAl 2 O 4 with a particle diameter between 200 nm and 500 nm also suspended directly in aqueous solution and then mixed with an associative thickener and / or a dispersant.
  • particles such as Li 2 O, MgO, CaO, SrO, BaO, B 2 O 3 , Al 2 O 3 , Sc 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , SiO 2 , GeO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , HfO 2 or MgAl 2 O 4 with a particle diameter between 200 nm and 500 nm also suspended directly in aqueous solution and
  • the particles used have an average particle diameter of less than 200 nm they are deliberately agglomerated.
  • the powders of the corresponding particles in a liquid phase which is preferably an aqueous solution.
  • the liquid Phase also contains additives that increase the colloidal stability of the dispersed particles influence.
  • electrostatic or steric dispersants can be used as additives or electrolytes such as ammonium halides, ammonium nitrates, organic Ammonium salts or salts of organic acids such as acetates, citrates, oxalates and Serve tartrate.
  • the particles are dispersed by grinding with and without a ball mill Agitator, stirring with a dissolver, shear dispersing with an Ultraturrax device, an ultrasonic bath or an ultrasonic sonotrode. With the help of dispersing performance the powder agglomerates are broken up and defined agglomerate sizes are obtained.
  • the suspensions can still be mixed with additives that Modify the flow properties of the suspensions and give them thixotropic properties to lend.
  • Small additives of organic, soluble polymers can be used as such additives such as polyvinyl alcohol, polyacrylate derivatives, associative thickeners or completely dispersed colloids can be used.
  • very fine-particle colloids with a particle diameter can also be used of approximately 10 nm can be used, which in aqueous solution Have surface charge that is opposite to the surface charge of the used Particle is.
  • the suspensions obtained in these different ways can be made in a wide variety of ways Process can be applied to the protective layer 5 of the front panel 1.
  • a continuous Layer can be applied by spin coating, meniscus coating or blade coating. If structuring of the layer is desired, printing processes such as Screen printing or flexographic printing can be used.
  • the applied layers are treated with circulating air, heat, infrared radiation or combinations thereof.
  • To crack in the layer To prevent shrinking, drying will be slow enough carried out.
  • the Dispersants or the polymers become thermal again aftertreated.
  • the additives can be heated by heating the layers to 450 ° C be removed without residue. In some cases, temperatures of 600 ° C to achieve a complete pyrolysis of the polymers.
  • the applied suspension is a precursor to a particle according to the invention contains, the corresponding conversion takes place during the thermal treatment instead of.
  • the front panel 1 together with other components such as Example of a back plate 2 with address electrodes 11, which 10 in of phosphor layers one of the three primary colors are covered in red, green or blue, and an inert gas mixture used to manufacture an AC plasma display.
  • the UV light reflecting layer 8 is preferred in the case of AC plasma picture screens where the plasma cells are controlled by AC voltage and where the Discharge electrodes 6, 7 are covered by a dielectric layer 4.
  • a layer reflecting UV light can also be used with DC plasma screens are used in which the discharge electrodes 6,7 are not of a dielectric Layer 4 are covered.
  • FIG. 2 shows the reflection behavior of a layer of SiO 2 reflecting UV light according to the invention with particle diameters between 10 and 110 nm and a layer thickness of 3 ⁇ m.
  • the maximum reflectivity of the layer is in the range of 170 nm. This is particularly advantageous since a large part of the UV light is emitted at 172 nm when xenon is discharged. In the wavelength range of visible light, the reflectivity of the layer reflecting UV light is significantly weaker.
  • the pH of a solution of 4 g of Mg (NO 3 ) 2 .6H 2 O in 100 ml of H 2 O was adjusted to 11.0 by passing NH 3 over a period of 4 h.
  • Colloidal Mg (OH) 2 particles with an average particle diameter of 350 nm were formed.
  • 10 ml of a 10 percent pigment dispersant solution and 10 ml of a 10 percent associative thickener solution were added to the suspension while stirring.
  • a layer of Mg (OH) 2 particles was spin-coated onto the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4 made of PbO-containing glass, a protective layer 5 made of MgO and two discharge electrodes 6, 7 made of ITO , applied.
  • the entire front plate 1 was then dried, aftertreated for two hours at 450 ° C. and the Mg (OH) 2 was converted into MgO.
  • the layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of MgO was 1.5 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 was used to apply a layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7.
  • the dielectric layer 4 contained PbO-containing glass
  • the protective layer 5 contained MgO
  • the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO.
  • the entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours.
  • the layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of SiO 2 was 0.5 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a layer of Al 2 O 3 particles as a UV light-reflecting layer 8 onto the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4 made of PbO-containing glass, a protective layer 5 made of MgO and two discharge electrodes 6.7 from ITO, applied.
  • the entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours.
  • the layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of Al 2 O 3 was 0.8 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a solution of 4 g of Mg (NO 3 ) 2 .6H 2 O and 1.2 g of NH 4 F in 100 ml of H 2 O was adjusted to a pH of 7.5 by adding 2M sodium hydroxide solution.
  • the pH was increased to 11.0 by passing NH 3 over a period of 4 h.
  • the suspension obtained was mixed with 10 ml of a 10 percent pigment dispersant solution and 10 ml of a 10 percent associative thickener solution.
  • a layer of MgF 2 particles was applied as a UV light reflecting layer 8 to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7.
  • the dielectric layer 4 contained glass containing PbO
  • the protective layer 5 contained MgO
  • the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO.
  • the entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours.
  • the layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of MgF 2 was 1.0 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a layer of Ca 3 (PO 4 ) 2 particles as a UV light reflecting layer 8 onto the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7 , applied.
  • the dielectric layer 4 contained glass containing PbO
  • the protective layer 5 contained MgO
  • the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO.
  • the entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours.
  • the layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of Ca 3 (PO 4 ) 2 was 0.7 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a layer of Al 2 O 3 particles was applied as a UV light reflecting layer 8 to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7.
  • the dielectric layer 4 contained PbO
  • the protective layer 5 contained MgO
  • the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO.
  • the front plate 1 was first dried and then subjected to a thermal aftertreatment at 450 ° C. for 2 hours.
  • the layer thickness of the UV-reflecting layer 8 made of Al 2 O 3 was 2.0 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 was applied to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7, by means of spin coating.
  • the dielectric layer 4 contained glass containing PbO
  • the protective layer 5 contained MgO
  • the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO.
  • the front plate 1 was first dried and then subjected to a thermal aftertreatment at 450 ° C. for 2 hours.
  • the layer thickness of the UV-reflecting layer 8 made of SiO 2 was 3.0 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.
  • a cleaned quartz plate was coated with the suspension by spin coating. After drying in a drying cabinet and after-treatment of the coated quartz plate at 450 ° C. in air, a transparent SiO 2 layer with a layer thickness of 3.0 ⁇ m was obtained. 2 shows the reflection of this SiO 2 layer as a function of the wavelength in the range from 100 nm to 600 nm.
  • a 0.003 molar solution of 250 g of ammonium fluoride pa in distilled water was stirred with a stirrer at room temperature and 100 g of amorphous SiO 2 with a particle diameter of 20 nm were slowly added. After the addition had ended, the suspension obtained was treated with an Ultraturrax stirring rod for 10 min. With stirring, the suspension was mixed with 50 ml of a 10% aqueous suspension of a completely dispersed, pyrogenic silica with a particle size between 10 and 20 nm. In addition, an aqueous solution of 33 g of polyacrylamide was added to the suspension with stirring. The suspension obtained was then purified by filtration.
  • a layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 was applied to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7, by means of spin coating.
  • the dielectric layer 4 contained glass containing PbO
  • the protective layer 5 contained MgO
  • the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO.
  • the front plate 1 was first dried and then subjected to a thermal aftertreatment at 490 ° C. for 2 hours.
  • the layer thickness of the UV-reflecting layer 8 made of SiO 2 was 2.5 ⁇ m.
  • the front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Abstract

Plasma picture screen comprises a front plate (1) with a glass plate (3) having a dielectric layer (4) and a protective layer (5), and a back plate (2). A number of plasma cells containing gas are also provided and several electrodes (6,7,11) are arranged on the front plate and the back plate to produce quiet electrical charges. A UV-light reflecting layer (8) is formed on the protective layer. Preferred Features: The UV-light reflecting layer is made of e.g. lithium oxide or an oxide of magnesium, calcium, strontium or barium, and has a thickness of 0.5-5 microns m.

Description

Die Erfindung betrifft einen Plasmabildschirm mit einer Frontplatte, die eine Glasplatte, auf der eine dielektrische Schicht und eine Schutzschicht aufgebracht sind, aufweist, einer Rückplatte, einer Anzahl von dazwischen angeordneten, durch Trennwände getrennte, Gas enthaltene Plasmazellen, und mehreren Elektroden auf der Frontplatte und der Rückplatte zur Erzeugung von stillen elektrischen Ladungen.The invention relates to a plasma screen with a front plate, the glass plate, on which a dielectric layer and a protective layer are applied, one Back plate, a number of gas in between, separated by partitions contained plasma cells, and several electrodes on the front plate and the back plate for the generation of silent electrical charges.

Plasmabildschirme ermöglichen Farbbilder mit hoher Auflösung und sind von kompakter Bauweise. Ein Plasmabildschirm weist eine hermetisch abgeschlossene Glaszelle, die mit einem Gas gefüllt ist, mit gitterförmig angeordneten Elektroden auf. Durch Anlegen einer elektrischen Spannung wird eine Gasentladung hervorgerufen, die Licht im ultravioletten Bereich erzeugt. Durch Leuchtstoffe wird dieses UV-Licht in sichtbares Licht umgewandelt und durch die Frontplatte der Glaszelle zum Betrachter emittiert.Plasma screens enable high resolution color images and are more compact Construction. A plasma screen has a hermetically sealed glass cell with a gas is filled with electrodes arranged in a grid. By creating one electrical voltage causes a gas discharge, the light in the ultraviolet Area created. This UV light is converted into visible light by phosphors and emitted through the front panel of the glass cell to the viewer.

Prinzipiell unterscheidet man zwei Typen von Plasmabildschirmen: eine Matrixanordnung und eine koplanare Anordnung. Bei der Matrixanordnung wird die Gasentladung am Kreuzungspunkt zweier Elektroden auf der Front- und der Rückplatte gezündet und unterhalten. Bei der koplanaren Anordnung wird die Gasentladung zwischen den Elektroden auf der Frontplatte unterhalten und am Kreuzungspunkt mit einer Elektrode, einer sogenannten Adresselektrode, auf der Rückplatte gezündet. Die Adresselektrode befindet sich in diesem Fall unter der Leuchtstoffschicht. Durch diese Anordnung gelangt die Hälfte des bei Gasentladung erzeugten UV-Lichtes auf die Frontplatte, wo es in den dortigen Schichten absorbiert wird. Für einen Teil des UV-Lichtes wird dieser Effekt noch verstärkt, da das UV-Licht im Gasraum reabsorbiert wird, indem Gasatome vom Grundzustand in einen energetisch höheren Zustand angeregt werden. Das Licht wird zwar anschließend wieder emittiert, wird aber aus seiner ursprünglichen Richtung abgelenkt, so dass auch Licht, das sich ursprünglich in Richtung der Leuchtstoffschichten ausgebreitet hat, auf die Frontplatte gelangen kann. There are two basic types of plasma screens: a matrix arrangement and a coplanar arrangement. With the matrix arrangement, the gas discharge on Cross point of two electrodes on the front and back plates ignited and to chat. In the coplanar arrangement, the gas discharge occurs between the electrodes entertained on the front panel and at the intersection with an electrode, one so-called address electrode, ignited on the back plate. The address electrode is located in this case under the phosphor layer. Through this arrangement, the Half of the UV light generated by gas discharge on the front panel, where it in the layers there is absorbed. For some of the UV light, this effect is still amplified, since the UV light is reabsorbed in the gas space by gas atoms from the ground state be excited into a higher energetic state. The light will subsequently emitted again, but is deflected from its original direction, see above that also light that originally spreads in the direction of the phosphor layers has access to the front panel.

Die Luminanz eines Plasmabildschirms hängt zu einem großen Teil von der Effizienz des UV-Lichtes ab, die Leuchtstoffe anzuregen. Um die Luminanz zu erhöhen ist von T. Murata, Y. Okita, S. Kobayashi, T. Shinkai und K. Terai in IEEJ, 1998, EP 98-61 ein Plasmabildschirm beschrieben, dessen Frontplatte neben einer Glasplatte, einer dielektrischen Schicht und den Entladungselektroden eine UV-Licht reflektierende Schicht aufweist. Ein ähnlicher Aufbau einer Frontplatte wurde von denselben Autoren in IDW, 1998, 539 ― 542 beschrieben. In diesem Fall weist die Frontplatte zusätzlich noch eine Schutzschicht aus MgO auf und die UV-Licht reflektierende Schicht befindet sich zwischen der dielektrischen Schicht und der Schutzschicht. In beiden Fällen hat diese Schicht die Aufgabe, UV-Licht, welches in Richtung der Frontplatte emittiert wird, in Richtung der Leuchtstoffe zu reflektieren.The luminance of a plasma display screen largely depends on the efficiency of the UV light to excite the phosphors. To increase the luminance, a plasma screen is described by T. Murata, Y. Okita, S. Kobayashi, T. Shinkai and K. Terai in IEEJ , 1998 , EP 98-61, the front plate of which is next to a glass plate, a dielectric layer and the like Discharge electrodes has a UV light reflecting layer. A similar structure of a front panel has been described by the same authors in IDW , 1998 , 539-542. In this case, the front panel additionally has a protective layer made of MgO and the UV light-reflecting layer is located between the dielectric layer and the protective layer. In both cases, this layer has the task of reflecting UV light, which is emitted in the direction of the front panel, in the direction of the phosphors.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Plasmabildschirm mit verbesserter Luminanz bereitzustellen.The invention has for its object a plasma screen with improved To provide luminance.

Diese Aufgabe wird gelöst, durch einen Plasmabildschirm mit einer Frontplatte, die eine Glasplatte, auf der eine dielektrische Schicht und eine Schutzschicht aufgebracht sind, aufweist, einer Rückplatte, einer Anzahl von dazwischen angeordneten, durch Trennwände getrennte, Gas enthaltene Plasmazellen, und mehreren Elektroden auf der Frontplatte und der Rückplatte zur Erzeugung von stillen elektrischen Ladungen, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Schutzschicht eine UV-Licht reflektierende Schicht aufgebracht ist.This task is solved by a plasma screen with a front panel, the one Glass plate on which a dielectric layer and a protective layer are applied, has, a back plate, a number of interposed, by partitions separate, gas-containing plasma cells, and several electrodes on the front panel and the backplate for generating silent electrical charges, characterized in that that a layer reflecting UV light is applied to the protective layer.

Im Gegensatz zu der in IDW, 1998, 539 ― 542 beschriebenen Frontplatte befindet sich die UV-Licht reflektierende Schicht nicht zwischen der dielektrischen Schicht und der Schutzschicht. Dies hat den Vorteil, dass das UV-Licht nicht die Schutzschicht durchläuft, sondern direkt an der unteren Oberfläche der Frontplatte reflektiert wird. Dadurch wird eine Absorption des UV-Lichtes in der Schutzschicht verhindert. Die zusätzliche Schutzschicht im erfindungsgemäßen Plasmabildschirm im Vergleich zu dem in IEEJ, 1998, EP 98-61 schützt die dahinter liegenden Schichten vor den hohen Zündspannungen und Temperaturen, die für eine Plasmaentladung nötig sind, beziehungsweise bei der Plasmaentladung entstehen. In contrast to the front panel described in IDW , 1998 , 539-542, the UV light reflecting layer is not between the dielectric layer and the protective layer. This has the advantage that the UV light does not pass through the protective layer, but is reflected directly on the lower surface of the front panel. This prevents absorption of the UV light in the protective layer. The additional protective layer in the plasma display screen according to the invention in comparison to that in IEEJ , 1998 , EP 98-61 protects the layers behind it from the high ignition voltages and temperatures which are necessary for a plasma discharge or which arise during the plasma discharge.

Es ist besonders bevorzugt, dass die UV-Licht reflektierende Schicht Oxide der Zusammensetzung M2O wie Li2O oder Oxide der Zusammensetzung MO, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba oder Oxide der Zusammensetzung M2O3, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe B, Al, Sc, Y und La oder Oxide der Zusammensetzung MO2, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Si, Ge, Sn, Ti, Zr und Hf oder Oxide der Zusammensetzung M'M''2O4, wobei M' ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba und M'' ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y und La oder Fluoride der Zusammensetzung MF, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb, Cs und Ag oder Fluoride der Zusammensetzung MF2, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn und Pb oder Fluoride der Zusammensetzung MF3, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu oder Fluoride der Zusammensetzung M'M''F3, wobei M' ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs und M'' ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba oder Phosphate der Zusammensetzung M3PO4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs oder Phosphate der Zusammensetzung M3(PO4)2, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba oder Phosphate der Zusammensetzung MPO4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu oder Phosphate der Zusammensetzung M3(PO4)4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Ti, Zr und Hf oder Metaphosphate mit einer Kettenlänge n zwischen 3 und 9 und der Zusammensetzung (MxPO3)n, wobei x = 1, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs, x = 1/2, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn und Pb, x = 1/3, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu und x = 1/4, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Ti, Hf und Zr oder Polyphosphate mit einer Kettenlänge n zwischen 101 und 106 und der Zusammensetzung (MxPO3)n, wobei x = 1, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs, x = 1/2, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn und Pb, x = 1/3, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu und x = 1/4, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Ti, Hf und Zr oder Hydxogenphosphate der MH2PO4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs oder NH4H2PO4 oder Diamant enthält. It is particularly preferred that the UV light reflecting layer contains oxides of the composition M 2 O such as Li 2 O or oxides of the composition MO, where M is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba or oxides of the composition M 2 O 3 , where M is selected from the group B, Al, Sc, Y and La or oxides of the composition MO 2 , where M is selected from the group Si, Ge, Sn, Ti, Zr and Hf or oxides of the composition M'M '' 2 O 4 , where M' is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba and M '' is selected from the group Al, Sc, Y and La or fluorides of the composition MF, where M is selected from the group Li , Na, K, Rb, Cs and Ag or fluorides of the composition MF 2 , where M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb or fluorides of the composition MF 3 , where M is selected from the group La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu or fluorides of the composition M'M''F 3 , where M 'is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs un d M '' is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba or phosphates of the composition M 3 PO 4 , where M is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs or phosphates of the composition M 3 (PO 4 ) 2 , where M is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba or phosphates of the composition MPO 4 , where M is selected from the group Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu or phosphates of the composition M 3 (PO 4 ) 4 , where M is selected from the group Ti, Zr and Hf or metaphosphates with a chain length n between 3 and 9 and the composition (M x PO 3 ) n , where x = 1, when M is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs, x = 1/2 when M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb, x = 1 / 3, when M is selected from the group Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu, and x = 1/4 when M is selected from the group Ti, Hf and Zr, or polyphosphates with a chain length n between 10 1 and 10 6 and the composition injection (M x PO 3) n wherein x = 1 if M is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs, x = 1/2 when M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb, x = 1/3 when M is selected from the group Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu, and x = 1/4 when M is selected from the group Ti, Hf and Zr or hydxogen phosphates of MH 2 PO 4 , M being selected from the group containing Li, Na, K, Rb and Cs or NH 4 H 2 PO 4 or diamond.

Teilchen dieser Zusammensetzungen zeigen im Wellenlängenbereich von 147 bis 700 nm keine oder nur geringe Absorption und widerstehen den hohen Temperaturen während der Herstellung eines Plasmabildschirms. Außerdem lassen sich diese Teilchen mit Teilchendurchmessern zwischen 10 nm und 500 nm herstellen.Particles of these compositions show in the wavelength range from 147 to 700 nm little or no absorption and withstand the high temperatures during the Production of a plasma screen. In addition, these particles can have particle diameters produce between 10 nm and 500 nm.

Es kann bevorzugt sein, dass die UV-Licht reflektierende Schicht Teilchen mit einem Teilchendurchmesser zwischen 200 nm und 500 nm enthält.It may be preferred that the UV light reflecting layer has particles with a Contains particle diameters between 200 nm and 500 nm.

Teilchen dieses Durchmessers weisen eine deutlich größere Lichtstreuung im UV-Wellenlängenbereich als im sichtbaren Wellenlängenbereich auf.Particles of this diameter have a significantly larger light scattering in the UV wavelength range than in the visible wavelength range.

In dieser Ausführungsform ist es bevorzugt, dass die UV-Licht reflektierende Schicht eine Dicke von 0.5 µm bis 5 µm aufweist.In this embodiment, it is preferred that the UV light reflecting layer is a Has thickness of 0.5 microns to 5 microns.

Neben dem Streuverhalten der einzelnen (isolierten) Teilchen und seine Wellenlängenabhängigkeit, spielt auch die Dicke der Schicht aus streuenden Teilchen eine Rolle. So kann die Reflexion einer Schicht aus weniger stark streuenden Teilchen groß sein, wenn die Schichtdicke groß ist. Durch Verwendung von Teilchen mit einem Teilchendurchmesser zwischen 200 nm und 500 nm und einer Schichtdicke von 0.5 µm bis 5 µm wird eine UV-Licht reflektierende Schicht erhalten, die im Wellenlängenbereich der Plasmaemission stark reflektiert und im Bereich der sichtbaren Emission der Leuchtstoffe transmittiert.In addition to the scattering behavior of the individual (isolated) particles and their wavelength dependence, the thickness of the layer of scattering particles also plays a role. So can the reflection of a layer of less scattering particles should be large if the Layer thickness is large. By using particles with a particle diameter between 200 nm and 500 nm and a layer thickness of 0.5 µm to 5 µm UV light reflecting layer obtained in the wavelength range of plasma emission strongly reflected and transmitted in the area of visible emission of the phosphors.

Es kann auch bevorzugt sein, dass die UV-Licht reflektierende Schicht Agglomerate aus Teilchen mit einem Teilchendurchmesser zwischen 10 nm und 200 nm enthält.It can also be preferred for the UV light-reflecting layer to consist of agglomerates Contains particles with a particle diameter between 10 nm and 200 nm.

Teilchen mit einem Teilchendurchmesser zwischen 10 nm und 200 nm streuen kein UV-Licht und somit zeigen auch Schichten aus diesen Teilchen keine nennenswerte Reflexion. Wird durch geeignete Maßnahmen dafür gesorgt, dass die Teilchen Agglomerate bilden, die wesentlich größer als 100 nm sind, verhält sich die Schicht optisch wie eine Schicht aus größeren Teilchen. Die Wechselwirkung des Lichtes mit den Agglomeraten wird sowohl durch die Größe der Agglomerate als auch durch den Teilchendurchmesser der die Agglomerate bildenden Teilchen bestimmt. Ebenfalls hat auch die Dichte- und Brechungsindexvariation in den Agglomeraten Einfluss auf die Wellenlängenabhängigkeit der Reflexion. Particles with a particle diameter between 10 nm and 200 nm do not scatter UV light and thus layers made of these particles also show no appreciable reflection. If suitable measures are taken to ensure that the particles form agglomerates, which are significantly larger than 100 nm, the layer behaves optically like a layer larger particles. The interaction of light with the agglomerates is both by the size of the agglomerates as well as by the particle diameter of the agglomerates forming particles determined. Also has the density and refractive index variation in the agglomerates influence the wavelength dependence of the reflection.

In dieser Ausführungsform ist es bevorzugt, dass die UV-Licht reflektierende Schicht eine Dicke von 0.2 µm bis 10 µm aufweist.In this embodiment, it is preferred that the UV light reflecting layer is a Has thickness of 0.2 microns to 10 microns.

Es ist außerdem bevorzugt, dass die UV-Licht reflektierende Schicht die Schutzschicht komplett oder nur zum Teil bedeckt.It is also preferred that the UV light reflecting layer is the protective layer completely or only partially covered.

Eine teilweise Bedeckung der Schutzschicht mit der UV-Licht reflektierenden Schicht führt schon zu erheblicher Verbesserung der Luminanz. Für die Plasmaentladung kann es von Vorteil sein, die Schutzschicht, die meistens aus MgO ist, nur teilweise zu bedecken. Denn durch die Schicht aus MgO wird die für die Zündung des Plasmas nötige Spannung gesenkt.A partial covering of the protective layer with the UV light reflecting layer already leads to a significant improvement in luminance. For plasma discharge it can be advantageous to only partially cover the protective layer, which is mostly made of MgO. Because the layer made of MgO provides the voltage required to ignite the plasma lowered.

Im folgenden soll anhand von zwei Figuren und acht Ausführungsbeispielen die Erfindung näher erläutert werden. Dabei zeigt

Fig. 1
den Aufbau und das Funktionsprinzip einer einzelnen Plasmazelle in einem AC-Plasmabildschirm und
Fig. 2
das Reflexionsverhalten einer erfindungsgemäßen UV-Licht reflektierenden Schicht.
The invention will be explained in more detail below with reference to two figures and eight exemplary embodiments. It shows
Fig. 1
the structure and principle of operation of a single plasma cell in an AC plasma screen and
Fig. 2
the reflection behavior of a layer reflecting UV light according to the invention.

Gemäß Fig. 1 weist eine Plasmazelle eines AC-Plasmabildschirms mit einer koplanaren Anordnung eine Frontplatte 1 und eine Rückplatte 2 auf. Die Frontplatte 1 enthält eine Glasplatte 3, auf der eine dielektrische Schicht 4 und darauf eine Schutzschicht 5 aufgebracht sind. Die Schutzschicht 5 ist bevorzugt aus MgO und die dielektrische Schicht 4 ist beispielsweise aus PbO-haltigem Glas. Auf die Glasplatte 3 sind parallele, streifenförmige Entladungselektroden 6,7 derart aufgebracht, dass sie von der dielektrischen Schicht 4 bedeckt sind. Die Entladungselektroden 6,7 sind zum Beispiel aus Metall oder ITO. Auf der Schutzschicht 5 ist eine UV-Licht reflektierende Schicht 8 aufgebracht welche Strahlung 12 im UV-Bereich reflektiert und sichtbares Licht 14 transmittiert. Die Rückplatte 2 ist aus Glas und auf der Rückplatte 2 sind parallele, streifenförmige, senkrecht zu den Entladungselektroden 6,7 verlaufende Adresselektroden 11 aus beispielsweise Ag aufgebracht. Diese sind von Phosphorschichten 10 in einer der drei Grundfarben rot, grün oder blau bedeckt. Die einzelnen Phosphorschichten 10 sind durch vorzugsweise aus dielektrischem Material bestehende Trennwände 13, sogenannte Barrieren, getrennt.1 shows a plasma cell of an AC plasma screen with a coplanar Arrangement of a front panel 1 and a rear panel 2. The front panel 1 contains one Glass plate 3, on which a dielectric layer 4 and a protective layer 5 are applied are. The protective layer 5 is preferably made of MgO and the dielectric layer 4 for example made of glass containing PbO. Parallel, strip-shaped are on the glass plate 3 Discharge electrodes 6, 7 are applied such that they are separated from the dielectric layer 4 are covered. The discharge electrodes 6, 7 are made of metal or ITO, for example. On the protective layer 5, a UV light reflecting layer 8 is applied which radiation 12 reflected in the UV range and transmitted visible light 14. The back plate 2 is made of glass and on the back plate 2 are parallel, strip-shaped, perpendicular to the Discharge electrodes 6, 7 extending address electrodes 11 made of Ag, for example. These are of phosphor layers 10 in one of the three primary colors red, green or covered in blue. The individual phosphor layers 10 are preferably made of dielectric Material existing partitions 13, so-called barriers, separated.

In der Entladungskavitat, als auch zwischen den Entladungselektroden 6,7, von denen jeweils eine als Kathode bzw. Anode wirkt, befindet sich ein Gas, vorzugsweise ein Edelgasgemisch aus beispielsweise He, Ne, Xe oder Kr. Nach Zündung der Oberflächenentladung, wodurch Ladungen auf einem zwischen den Entladungselektroden 6,7 im Plasmabereich 9 liegenden Entladungsweg fließen können, bildet sich im Plasmabereich 9 ein Plasma, durch das je nach der Zusammensetzung des Gases Strahlung 12 im UV-Bereich, insbesondere im VUV-Bereich, erzeugt wird. Diese UV-Strahlung 12 regt die Phosphorschichten 10 zum Leuchten an, die sichtbares Licht 14 in den drei Grundfarben emittieren, das durch die Frontplatte 1 nach außen tritt und somit einen leuchtenden Bildpunkt auf dem Bildschirm darstellt.In the discharge cavity, as well as between the discharge electrodes 6,7, of which One each acts as a cathode or anode, there is a gas, preferably a noble gas mixture from, for example, He, Ne, Xe or Kr. After ignition of the surface discharge, whereby charges on a between the discharge electrodes 6, 7 in the plasma region 9 discharge path can flow, a plasma forms in the plasma region 9 that depending on the composition of the gas radiation 12 in the UV range, in particular in the VUV area. This UV radiation 12 excites the phosphor layers 10 to light up, which emit visible light 14 in the three primary colors, by the front panel 1 emerges and thus a luminous pixel on the screen represents.

Die dielektrische Schicht 4 über den transparenten Entladungselektroden 6,7 dient unter anderem bei AC-Plasmabildschirmen dazu, eine direkte Entladung zwischen den aus leitfähigem Material bestehenden Entladungselektroden 6,7 und damit die Ausbildung eines Lichtbogens bei Zündung der Entladung zu unterbinden.The dielectric layer 4 over the transparent discharge electrodes 6,7 serves below other in AC plasma screens, a direct discharge between the conductive material existing discharge electrodes 6.7 and thus the training to prevent an arc from igniting the discharge.

Zur Herstellung einer Frontplatte 1 mit einer UV-Licht reflektierenden Schicht 8 werden zunächst auf einer Glasplatte 3, deren Größe der gewünschten Bildschirmgröße entspricht, mittels Aufdampfverfahren die Entladungselektroden 6,7 aufgebracht. Anschließend wird eine dielektrische Schicht 4 und auf der dielektrischen Schicht 4 eine Schutzschicht 5 aufgebracht.To produce a front panel 1 with a layer 8 reflecting UV light first on a glass plate 3, the size of which corresponds to the desired screen size, the discharge electrodes 6, 7 are applied by means of vapor deposition. Then will a dielectric layer 4 and a protective layer 5 on the dielectric layer 4 upset.

Für die UV-Licht reflektierende Schicht 8 werden zunächst Suspensionen der Teilchen mit dem gewünschten Teilchendurchmesser hergestellt. Als Teilchen können beispielsweise Oxide, Fluoride, Phosphate, Metaphosphate oder Polyphosphate von verschiedenen Hauptgruppen- oder Nebengruppenmetallen verwendet werden. Als Oxide können zum Beispiel die Oxide der 1. Hauptgruppe wie Li2O oder Oxide der 2. Hauptgruppe wie MgO, CaO, SrO sowie BaO oder Oxide der 3. Hauptgruppe wie zum Beispiel B2O3 und Al2O3 oder Oxide der 3. Nebengruppe wie Sc2O3, Y2O3 und La2O3 oder Oxide der 4. Hauptgruppe wie beispielsweise SiO2, GeO2 und SnO2 oder Oxide der 4. Nebengruppe wie TiO2, ZrO2 und HfO2 oder gemischte Oxide wie MgAl2O4, CaAl2O4 oder BaAl2O4 eingesetzt werden. Als Fluoride können zum Beispiel Fluoride der 1. Hauptgruppe wie LiF, NaF, KF, RbF und CsF oder Fluoride der 1. Nebengruppe wie AgF oder Fluoride der 2. Hauptgruppe wie MgF2, CaF2, SrF2 und BaF2 oder Fluoride der 4. Hauptgruppe wie SnF2 und PbF2 oder Fluoride der 1. Nebengruppe wie CuF2 oder Fluoride der 2. Nebengruppe wie ZnF2 oder Fluoride der Lanthaniden wie LaF3, PrF3, SmF3, EuF3, GdF3, YbF3 und LuF3 oder gemischte Fluoride wie LiMgF3 und KMgF3 zum Einsatz kommen. Als Phosphate können beispielsweise Phosphate der 1. Hauptgruppe wie Li3PO4, Na3PO4, K3PO4, Rb3PO4 und Cs3PO4 oder Phosphate der 2. Hauptgruppe wie Mg3(PO4)2, Ca3(PO4)2, Sr3(PO4)2 oder Ba3(PO4)2 oder Phosphate der 3. Hauptgruppe wie AlPO4 oder Phosphate der 3. Nebengruppe wie ScPO4, YPO4 und LaPO4 oder Phosphate der Lanthaniden wie LaPO4, PrPO4, SmPO4, EuPO4, GdPO4, YbPO4 und LuPO4 oder Phosphate der 4. Nebengruppe wie Ti3(PO4)4, Zr3(PO4)4 und Hf3(PO4)4 verwendet werden. Als Metaphosphate mit einer Kettenlänge n zwischen 3 und 9 können zum Beispiel Metaphosphate der 1. Hauptgruppe wie Li3(PO3)3, Na3(PO3)3, K3(PO3)3, Rb3(PO3)3 und Cs3(PO3)3 oder Metaphosphate der 2. Hauptgruppe wie Mg(PO3)2, Ca(PO3)2, Sr(PO3)2 und Ba(PO3)2 oder Metaphosphate der 3. Hauptgruppe wie Al(PO3)3 oder Metaphosphate der 3. Nebengruppe wie Sc(PO3)3, Y(PO3)3 und La(PO3)3 oder Metaphosphate der 4. Nebengruppe wie Ti3(PO3)4, Zr3(PO3)4 und Hf3(PO3)4 oder Zn(PO3)2 eingesetzt werden. Als Polyphosphate können beispielsweise Polyphosphate (MxPO3)n der Metalle Li, Na, K, Rb, Cs, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, Y, La, Ti, Zr, Hf, Zn Pr, Sm, Eu, Gd, Yb oder Lu mit einer Kettenlange n zwischen 101 und 106 und mit einem Wert für x, der je nach Oxidationsstufe des verwendeten Metalles zwischen 0.25 und 1 liegt, Verwendung finden. Bei all diesen Polyphosphaten können Metall-Kationen partiell auch durch Protonen ersetzt sein. Es können aber auch Hydrogenphosphate wie beispielsweise KH2PO4, NaH2PO4 und NH4H2PO4 oder Diamant in der UV-Licht reflektierenden Schicht 8 verwendet werden. For the UV light reflecting layer 8, suspensions of the particles with the desired particle diameter are first produced. For example, oxides, fluorides, phosphates, metaphosphates or polyphosphates of various main group or sub group metals can be used as particles. As oxides, for example, the oxides of the 1st main group such as Li 2 O or oxides of the 2nd main group such as MgO, CaO, SrO and BaO or oxides of the 3rd main group such as B 2 O 3 and Al 2 O 3 or oxides of 3rd subgroup such as Sc 2 O 3 , Y 2 O 3 and La 2 O 3 or oxides of the 4th main group such as SiO 2 , GeO 2 and SnO 2 or oxides of the 4th subgroup such as TiO 2 , ZrO 2 and HfO 2 or mixed oxides such as MgAl 2 O 4 , CaAl 2 O 4 or BaAl 2 O 4 can be used. Fluorides of the 1st main group such as LiF, NaF, KF, RbF and CsF or fluorides of the 1st subgroup such as AgF or fluorides of the 2nd main group such as MgF 2 , CaF 2 , SrF 2 and BaF 2 or fluorides of the 4th Main group such as SnF 2 and PbF 2 or fluorides of the 1st subgroup such as CuF 2 or fluorides of the 2nd subgroup such as ZnF 2 or fluorides of the lanthanides such as LaF 3 , PrF 3 , SmF 3 , EuF 3 , GdF 3 , YbF 3 and LuF 3 or mixed fluorides such as LiMgF 3 and KMgF 3 are used. Phosphates of the 1st main group such as Li 3 PO 4 , Na 3 PO 4 , K 3 PO 4 , Rb 3 PO 4 and Cs 3 PO 4 or phosphates of the 2nd main group such as Mg 3 (PO 4 ) 2 , Ca. 3 (PO 4 ) 2 , Sr 3 (PO 4 ) 2 or Ba 3 (PO 4 ) 2 or phosphates of the 3rd main group such as AlPO 4 or phosphates of the 3rd subgroup such as ScPO 4 , YPO 4 and LaPO 4 or phosphates of the lanthanides such as LaPO 4 , PrPO 4 , SmPO 4 , EuPO 4 , GdPO 4 , YbPO 4 and LuPO 4 or phosphates of the 4th subgroup such as Ti 3 (PO 4 ) 4 , Zr 3 (PO 4 ) 4 and Hf 3 (PO 4 ) 4 can be used. Metaphosphates with a chain length n between 3 and 9 can, for example, be metaphosphates of the 1st main group such as Li 3 (PO 3 ) 3 , Na 3 (PO 3 ) 3 , K 3 (PO 3 ) 3 , Rb 3 (PO 3 ) 3 and Cs 3 (PO 3 ) 3 or metaphosphates of the 2nd main group such as Mg (PO 3 ) 2 , Ca (PO 3 ) 2 , Sr (PO 3 ) 2 and Ba (PO 3 ) 2 or metaphosphates of the 3rd main group such as Al (PO 3 ) 3 or metaphosphates of the 3rd subgroup such as Sc (PO 3 ) 3 , Y (PO 3 ) 3 and La (PO 3 ) 3 or metaphosphates of the 4th subgroup such as Ti 3 (PO 3 ) 4 , Zr 3 ( PO 3 ) 4 and Hf 3 (PO 3 ) 4 or Zn (PO 3 ) 2 can be used. Polyphosphates (M x PO 3 ) n of the metals Li, Na, K, Rb, Cs, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, Y, La, Ti, Zr, Hf, Zn Pr, Sm , Eu, Gd, Yb or Lu with a chain length n between 10 1 and 10 6 and with a value for x which, depending on the oxidation state of the metal used, is between 0.25 and 1. In all of these polyphosphates, metal cations can also be partially replaced by protons. However, hydrogen phosphates such as KH 2 PO 4 , NaH 2 PO 4 and NH 4 H 2 PO 4 or diamond can also be used in the UV light reflecting layer 8.

Alternativ können die Suspensionen auch Vorstufen zu den erfindungsgemäßen Teilchen enthalten, die dann durch thermische Behandlung in die gewünschten Teilchen überführt werden. So kann beispielsweise eine Suspension mit Mg(OH)2 nach Aufbringen auf die Schutzschicht 5 thermisch in eine Schicht aus MgO überführt werden.Alternatively, the suspensions can also contain precursors to the particles according to the invention, which are then converted into the desired particles by thermal treatment. For example, a suspension with Mg (OH) 2 can be thermally converted into a layer of MgO after application to the protective layer 5.

Die Herstellung der Suspensionen erfolgt bevorzugt in wässriger Lösung. In manchen Fällen kann es notwendig sein, mit organischen Lösungsmittelsystemen zu arbeiten, beispielsweise wenn das verwendete Pulver mit Wasser chemisch reagiert oder sich darin löst.The suspensions are preferably prepared in aqueous solution. In some In some cases it may be necessary to work with organic solvent systems, for example if the powder used reacts chemically with water or dissolves in it.

Die Herstellung der Suspensionen erfolgt je nach Material und Teilchendurchmesser auf unterschiedlichen Wegen. Eine Möglichkeit ist, dass die Teilchen aus geeigneten Vorstufen synthetisiert werden. Die andere Möglichkeit ist, dass die Teilchen direkt eingesetzt werden.The suspensions are produced depending on the material and particle diameter different ways. One possibility is that the particles are from suitable precursors be synthesized. The other option is that the particles are used directly become.

Im Fall, dass bei Herstellung der Suspensionen Teilchen aus Vorstufen hergestellt werden, werden zunächst Metallsalze in Wasser gelöst. Die Metallsalze haben die Zusammensetzung MXn·yH2O, wobei M zum Beispiel ein Metall oder mehrere Metalle ausgewählt aus der Gruppe Li, Na, K, Rb, Cs, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, La, Y, Sn, Ti, Zr, Hf, Ag, Pb, Cu, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb, Lu und Zn ist. X ist beispielsweise eines oder mehrere der Anionen NO3 -, RO-, -O2C-CO2 - während y eine Zahl größer oder gleich Null und n eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 je nach Oxidationsstufe des Metallkations Mn+ ist. Als Alkoxide RO- können beispielsweise Propoxid und Butoxid verwendet werden.In the event that particles are produced from precursors when the suspensions are produced, metal salts are first dissolved in water. The metal salts have the composition MX n · yH 2 O, where M is, for example, one or more metals selected from the group Li, Na, K, Rb, Cs, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, La, Y , Sn, Ti, Zr, Hf, Ag, Pb, Cu, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb, Lu and Zn. X is for example one or more of the anions NO 3 - , RO - , - O 2 C-CO 2 - while y is a number greater than or equal to zero and n is an integer between 1 and 4 depending on the oxidation state of the metal cation M n + . For example, propoxide and butoxide can be used as alkoxides RO - .

Die erfindungsgemäßen Teilchen mit einem Teilchendurchmesser zwischen 200 nm und 500 nm werden dann entweder durch thermische Behandlung wie zum Beispiel Erhitzen unter Rückfluss, durch saure Behandlung wie beispielsweise Zugabe von Essigsäure, durch alkalische Behandlung wie Zugabe von Natronlauge oder Aufleiten von Ammoniak und/oder durch Zugabe des gewünschten Gegenions erhalten. Die Gegenionen werden als Salze zu der wässrigen Metallsalzlösung gegeben und können beispielsweise Ammoniumsalze wie NH4F oder Phosphate wie Natriummetaphosphat oder langkettige Polyphosphatsalze sein. The particles according to the invention with a particle diameter between 200 nm and 500 nm are then either by thermal treatment such as heating under reflux, by acidic treatment such as addition of acetic acid, by alkaline treatment such as addition of sodium hydroxide solution or addition of ammonia and / or by addition of the desired counter ion. The counterions are added as salts to the aqueous metal salt solution and can be, for example, ammonium salts such as NH 4 F or phosphates such as sodium metaphosphate or long-chain polyphosphate salts.

Die erhaltenen Suspensionen werden mit einem Assoziativverdicker und/oder einem Dispergiermittel versetzt.The suspensions obtained are with an associative thickener and / or Dispersant added.

Alternativ können Teilchen wie beispielsweise Li2O, MgO, CaO, SrO, BaO, B2O3, Al2O3, Sc2O3, Y2O3, La2O3, SiO2, GeO2, SnO2, TiO2, ZrO2, HfO2 oder MgAl2O4 mit einem Teilchendurchmesser zwischen 200 nm und 500 nm auch direkt in wässriger Lösung suspendiert und anschließend mit einem Assoziativverdicker und/oder einem Dispergiermittel versetzt werden.Alternatively, particles such as Li 2 O, MgO, CaO, SrO, BaO, B 2 O 3 , Al 2 O 3 , Sc 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , SiO 2 , GeO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , HfO 2 or MgAl 2 O 4 with a particle diameter between 200 nm and 500 nm also suspended directly in aqueous solution and then mixed with an associative thickener and / or a dispersant.

Besitzen die verwendeten Teilchen einen mittleren Teilchendurchmesser kleiner 200 nm werden diese gezielt agglomeriert. Dazu werden die Pulver der entsprechenden Teilchen in einer flüssigen Phase, welche bevorzugt eine wässrige Lösung ist, dispergiert. Die flüssige Phase enthält außerdem Zusätze, die die kolloidale Stabilität der dispergierten Teilchen beeinflussen. Als Zusätze können beispielsweise elektrostatische oder sterische Dispergiermittel oder Elektrolyte wie Ammoniumhalogenide, Ammoniumnitrate, organische Ammoniumsalze oder Salze von organischen Sauren wie Acetate, Citrate, Oxalate und Tartrate dienen.The particles used have an average particle diameter of less than 200 nm they are deliberately agglomerated. For this purpose, the powders of the corresponding particles in a liquid phase, which is preferably an aqueous solution. The liquid Phase also contains additives that increase the colloidal stability of the dispersed particles influence. For example, electrostatic or steric dispersants can be used as additives or electrolytes such as ammonium halides, ammonium nitrates, organic Ammonium salts or salts of organic acids such as acetates, citrates, oxalates and Serve tartrate.

Die Dispergierung der Teilchen erfolgt durch Mahlen mit einer Kugelmühle mit und ohne Rührwerk, Rühren mit einem Dissolver, Scherdispergieren mit einem Ultraturrax-Gerät, ein Ultraschallbad oder eine Ultraschallsonotrode. Mit Hilfe der Dispergierleistung werden die Pulveragglomerate aufgebrochen und definierte Agglomeratgrößen erhalten.The particles are dispersed by grinding with and without a ball mill Agitator, stirring with a dissolver, shear dispersing with an Ultraturrax device, an ultrasonic bath or an ultrasonic sonotrode. With the help of dispersing performance the powder agglomerates are broken up and defined agglomerate sizes are obtained.

Die Suspensionen können weiterhin noch mit Additiven versetzt werden, die die Fließeigenschaften der Suspensionen modifizieren und ihnen thixotrope Eigenschaften verleihen. Als solche Additive können kleine Zusätze von organischen, löslichen Polymeren wie Polyvinylalkohol, Polyacrylatderivate, assoziativ wirkenden Verdickern oder vollständig dispergierte Kolloide verwendet werden.The suspensions can still be mixed with additives that Modify the flow properties of the suspensions and give them thixotropic properties to lend. Small additives of organic, soluble polymers can be used as such additives such as polyvinyl alcohol, polyacrylate derivatives, associative thickeners or completely dispersed colloids can be used.

Zur gezielten Agglomeratbildung können auch sehr feinteilige Kolloide mit einem Teilchendurchmesser von ungefähr 10 nm verwendet werden, die in wässriger Lösung eine Oberflächenladung aufweisen, die entgegengesetzt zur Oberflächenladung der eingesetzten Teilchen ist. For the targeted formation of agglomerates, very fine-particle colloids with a particle diameter can also be used of approximately 10 nm can be used, which in aqueous solution Have surface charge that is opposite to the surface charge of the used Particle is.

Die auf diese verschiedenen Arten erhaltenen Suspensionen können durch verschiedenste Verfahren auf die Schutzschicht 5 der Frontplatte 1 aufgebracht werden. Eine durchgehende Schicht kann durch Spincoating, Meniscuscoating oder Bladecoating aufgebracht werden. Wenn eine Strukturierung der Schicht gewünscht ist, können Druckverfahren wie Siebdruck oder Flexodruck angewandt werden.The suspensions obtained in these different ways can be made in a wide variety of ways Process can be applied to the protective layer 5 of the front panel 1. A continuous Layer can be applied by spin coating, meniscus coating or blade coating. If structuring of the layer is desired, printing processes such as Screen printing or flexographic printing can be used.

Zur Trocknung der aufgebrachten Schichten werden diese mit Umluft, Wärme, Infrarotstrahlung oder Kombinationen davon behandelt. Um eine Rissbildung in der Schicht durch Schrumpfung zu verhindern, wird die Trocknung ausreichend langsam durchgeführt. Zur Entfernung der zugesetzten Stoffe wie der Elektrolyte, der Dispergiermittel oder der Polymere werden die Schichten nochmals thermisch nachbehandelt. Durch Erhitzen der Schichten auf 450 °C können die Zusätze rückstandsfrei entfernt werden. In einigen Fällen kann es nötig sein, Temperaturen von 600 °C anzuwenden, um eine vollständige Pyrolyse der Polymere zu erreichen. Im Fall, dass die aufgebrachte Suspension eine Vorstufe zu einem erfindungsgemäßen Teilchen enthält, findet bei der thermischen Behandlung auch die entsprechende Umwandlung statt.To dry the applied layers, they are treated with circulating air, heat, infrared radiation or combinations thereof. To crack in the layer To prevent shrinking, drying will be slow enough carried out. To remove the added substances such as the electrolyte, the Dispersants or the polymers become thermal again aftertreated. The additives can be heated by heating the layers to 450 ° C be removed without residue. In some cases, temperatures of 600 ° C to achieve a complete pyrolysis of the polymers. In the case, that the applied suspension is a precursor to a particle according to the invention contains, the corresponding conversion takes place during the thermal treatment instead of.

Anschließend wird die Frontplatte 1 zusammen mit weiteren Komponenten wie zum Beispiel einer Rückplatte 2 mit Adresselektroden 11, die von Phosphorschichten 10 in einer der drei Grundfarben rot, grün oder blau bedeckt sind, und einem Edelgasgemisch zur Herstellung eines AC-Plasmabildschirms verwendet.Then the front panel 1 together with other components such as Example of a back plate 2 with address electrodes 11, which 10 in of phosphor layers one of the three primary colors are covered in red, green or blue, and an inert gas mixture used to manufacture an AC plasma display.

Bevorzugt wird die UV-Licht reflektierende Schicht 8 bei AC-Plasmabildschirmen, bei denen die Ansteuerung der Plasmazellen durch Wechselspannung erfolgt und bei denen die Entladungselektroden 6,7 von einer dielektrischen Schicht 4 bedeckt sind, verwendet. Grundsätzlich kann eine UV-Licht reflektierende Schicht auch bei DC-Plasmabildschirmen eingesetzt werden, bei denen die Entladungselektroden 6,7 nicht von einer dielektrischen Schicht 4 bedeckt sind. The UV light reflecting layer 8 is preferred in the case of AC plasma picture screens where the plasma cells are controlled by AC voltage and where the Discharge electrodes 6, 7 are covered by a dielectric layer 4. In principle, a layer reflecting UV light can also be used with DC plasma screens are used in which the discharge electrodes 6,7 are not of a dielectric Layer 4 are covered.

In Fig. 2 ist das Reflexionsverhalten einer erfindungsgemäßen UV-Licht reflektierenden Schicht aus SiO2 mit Teilchendurchmessern zwischen 10 und 110 nm und einer Schichtdicke von 3 µm gezeigt. Das Maximum des Reflexionsvermögens der Schicht liegt im Bereich von 170 nm. Dies ist besonders vorteilhaft, da ein Großteil des UV-Lichtes bei einer Xenon-Entladung bei 172 nm emittiert wird. Im Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichtes ist das Reflexionsvermögen der UV-Licht reflektierenden Schicht deutlich schwächer.FIG. 2 shows the reflection behavior of a layer of SiO 2 reflecting UV light according to the invention with particle diameters between 10 and 110 nm and a layer thickness of 3 μm. The maximum reflectivity of the layer is in the range of 170 nm. This is particularly advantageous since a large part of the UV light is emitted at 172 nm when xenon is discharged. In the wavelength range of visible light, the reflectivity of the layer reflecting UV light is significantly weaker.

Im folgenden werden Ausführungsformen der Erfindung erläutert, die beispielhafte Realisierungsmöglichkeiten darstellen.In the following, embodiments of the invention are explained, the exemplary implementation options represent.

Ausführungsbeispiel 1Embodiment 1

Der pH-Wert einer Lösung von 4 g Mg(NO3)2·6H2O in 100 ml H2O wurde durch Aufleiten von NH3 über einen Zeitraum von 4 h auf 11.0 eingestellt. Dabei bildeten sich kolloidale Mg(OH)2-Partikel mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 350 nm. Die Suspension wurde unter Rühren mit 10 ml einer 10-prozentigen Pigmentdispergiermittel-Lösung und 10 ml einer 10-prozentigen Assoziativverdicker-Lösung versetzt. Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von Mg(OH)2-Partikeln auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4 aus PbO-haltigem Glas, eine Schutzschicht 5 aus MgO und zwei Entladungselektroden 6,7 aus ITO aufweist, aufgebracht. Anschließend wurde die gesamte Frontplatte 1 getrocknet, zwei Stunden bei 450 °C nachbehandelt und das Mg(OH)2 in MgO überführt. Die Schichtdicke der UV-Licht reflektierenden Schicht 8 aus MgO betrug 1.5 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.The pH of a solution of 4 g of Mg (NO 3 ) 2 .6H 2 O in 100 ml of H 2 O was adjusted to 11.0 by passing NH 3 over a period of 4 h. Colloidal Mg (OH) 2 particles with an average particle diameter of 350 nm were formed. 10 ml of a 10 percent pigment dispersant solution and 10 ml of a 10 percent associative thickener solution were added to the suspension while stirring. A layer of Mg (OH) 2 particles was spin-coated onto the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4 made of PbO-containing glass, a protective layer 5 made of MgO and two discharge electrodes 6, 7 made of ITO , applied. The entire front plate 1 was then dried, aftertreated for two hours at 450 ° C. and the Mg (OH) 2 was converted into MgO. The layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of MgO was 1.5 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Ausführungsbeispiel 2Embodiment 2

100 ml einer 10-prozentigen kolloidalen Suspension von SiO2-Partikeln mit einem Teilchendurchmesser von 200 nm wurden mit 10 ml einer 10-prozentigen Pigmentdispergiermittel-Lösung und 20 ml einer 10-prozentigen Assoziativverdicker-Lösung versetzt. Das gesamte Gemisch wurde sorgfältig gemischt. Mittels Spincoaten wurde Schicht von SiO2-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4, eine Schutzschicht 5 und zwei Entladungselektroden 6,7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO-haltigem Glas, die Schutzschicht 5 enthielt MgO und die beiden Entladungselektroden 6,7 waren aus ITO. Die gesamte Frontplatte 1 wurde getrocknet und zwei Stunden bei 450 °C nachbehandelt. Die Schichtdicke der UV-Licht reflektierenden Schicht 8 aus SiO2 betrug 0.5 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.100 ml of a 10 percent colloidal suspension of SiO 2 particles with a particle diameter of 200 nm were mixed with 10 ml of a 10 percent pigment dispersant solution and 20 ml of a 10 percent associative thickener solution. The entire mixture was mixed thoroughly. Spin coating was used to apply a layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7. The dielectric layer 4 contained PbO-containing glass, the protective layer 5 contained MgO and the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO. The entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours. The layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of SiO 2 was 0.5 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Ausführungsbeispiel 3Embodiment 3

10 g Aluminium-isopropylat wurden in 150 ml H2O, welches zuvor auf 70 °C erwärmt wurde, gegeben. Das Gemisch wurde 2 h unter Rückfluss erhitzt und dann mit 0.5 ml Eisessig versetzt. Anschließend wurde das gesamte Gemisch nochmals 10 h unter Rückfluss erhitzt. Es wurde eine Suspension erhalten, die Al2O3-Partikel mit einem mittleren Partikeldurchmesser von 300 nm aufwies. Nach Zugabe von 10 ml einer 10-prozentigen Assoziativverdicker-Lösung wurde die erhaltene Suspension sorgfältig durchmischt. Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von Al2O3-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4 aus PbO-haltigem Glas, eine Schutzschicht 5 aus MgO und zwei Entladungselektroden 6,7 aus ITO aufweist, aufgebracht. Die gesamte Frontplatte 1 wurde getrocknet und zwei Stunden bei 450 °C nachbehandelt. Die Schichtdicke der UV-Licht reflektierenden Schicht 8 aus Al2O3 betrug 0.8 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.10 g of aluminum isopropylate were placed in 150 ml of H 2 O, which had previously been heated to 70 ° C. The mixture was heated under reflux for 2 h and then 0.5 ml of glacial acetic acid was added. The entire mixture was then heated under reflux for a further 10 h. A suspension was obtained which had Al 2 O 3 particles with an average particle diameter of 300 nm. After the addition of 10 ml of a 10 percent associative thickener solution, the suspension obtained was mixed thoroughly. Spin coating was used to coat a layer of Al 2 O 3 particles as a UV light-reflecting layer 8 onto the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4 made of PbO-containing glass, a protective layer 5 made of MgO and two discharge electrodes 6.7 from ITO, applied. The entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours. The layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of Al 2 O 3 was 0.8 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Ausführungsbeispiel 4Embodiment 4

Eine Lösung von 4 g Mg(NO3)2·6H2O und 1.2 g NH4F in 100 ml H2O wurde durch Zugabe von 2M Natronlauge auf einen pH-Wert von 7.5 eingestellt. Durch Aufleiten von NH3 über einen Zeitraum von 4 h wurde der pH-Wert auf 11.0 erhöht. Dabei bildeten sich MgF2-Partikel mit einem Partikeldurchmesser von durchschnittlich 400 nm. Die erhaltene Suspension wurde mit 10 ml einer 10-prozentigen Pigmentdispergiermittel-Lösung und 10 ml einer 10-prozentigen Assoziativverdicker-Lösung versetzt. Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von MgF2-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4, eine Schutzschicht 5 und zwei Entladungselektroden 6,7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO-haltiges Glas, die Schutzschicht 5 enthielt MgO und die beiden Entladungselektroden 6,7 waren aus ITO. Die gesamte Frontplatte 1 wurde getrocknet und zwei Stunden bei 450 °C nachbehandelt. Die Schichtdicke der UV-Licht reflektierenden Schicht 8 aus MgF2 betrug 1.0 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.A solution of 4 g of Mg (NO 3 ) 2 .6H 2 O and 1.2 g of NH 4 F in 100 ml of H 2 O was adjusted to a pH of 7.5 by adding 2M sodium hydroxide solution. The pH was increased to 11.0 by passing NH 3 over a period of 4 h. This formed MgF 2 particles with a particle diameter of 400 nm on average. The suspension obtained was mixed with 10 ml of a 10 percent pigment dispersant solution and 10 ml of a 10 percent associative thickener solution. By means of spin coating, a layer of MgF 2 particles was applied as a UV light reflecting layer 8 to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7. The dielectric layer 4 contained glass containing PbO, the protective layer 5 contained MgO and the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO. The entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours. The layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of MgF 2 was 1.0 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Ausführungsbeispiel 5Embodiment 5

Der pH-Wert einer Lösung von 2.0 g Ca(NO3)2·4H2O in 50 ml H2O wurde durch Zugabe von 2M Natronlauge auf einen pH-Wert von 7.5 eingestellt. Diese Lösung wurde langsam zu einer Lösung von 1.7 g Natriummetaphosphat (Grahamsches Salz) in 50 ml H2O getropft. Nach 1 h Rühren wurde eine Suspension in der sich Calciumphosphat-Partikel mit einem Partikeldurchmesser von 270 nm bis 290 nm befanden erhalten. Die Suspension wurde unter Rühren mit 10 ml einer 10-prozentigen Pigmentdispergiermittel-Lösung versetzt. Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von Ca3(PO4)2-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4, eine Schutzschicht 5 und zwei Entladungselektroden 6,7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO-haltiges Glas, die Schutzschicht 5 enthielt MgO und die beiden Entladungselektroden 6,7 waren aus ITO. Die gesamte Frontplatte 1 wurde getrocknet und zwei Stunden bei 450 °C nachbehandelt. Die Schichtdicke der UV-Licht reflektierenden Schicht 8 aus Ca3(PO4)2 betrug 0.7 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.The pH of a solution of 2.0 g of Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O in 50 ml of H 2 O was adjusted to a pH of 7.5 by adding 2M sodium hydroxide solution. This solution was slowly added dropwise to a solution of 1.7 g of sodium metaphosphate (Graham's salt) in 50 ml of H 2 O. After stirring for 1 h, a suspension was obtained in which calcium phosphate particles with a particle diameter of 270 nm to 290 nm were obtained. The suspension was mixed with 10 ml of a 10 percent pigment dispersant solution while stirring. Spin coating was used to coat a layer of Ca 3 (PO 4 ) 2 particles as a UV light reflecting layer 8 onto the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7 , applied. The dielectric layer 4 contained glass containing PbO, the protective layer 5 contained MgO and the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO. The entire front plate 1 was dried and after-treated at 450 ° C. for two hours. The layer thickness of the UV light reflecting layer 8 made of Ca 3 (PO 4 ) 2 was 0.7 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Ausführungsbeispiel 6Embodiment 6

150 g Al2O3, welches durch Flammenpyrolyse hergestellt wurde und einen Teilchendurchmesser bis zu 200 nm aufweist, wurde langsam in eine 0.005 molare Lösung von Ammoniumacetat in 500 ml destilliertem Wasser mit einem Rührer eingerührt. Nach beendeter Zugabe wurde die erhaltene Suspension 15 min mit einer Ultraschallsonotrode behandelt. Unter Rühren wurde die Suspension mit 25.0 ml einer 4.7%igen wässrigen Polyvinylalkohol-Lösung versetzt. Anschließend wurde die Suspension durch Filtration gereinigt.150 g of Al 2 O 3 , which was prepared by flame pyrolysis and has a particle diameter of up to 200 nm, was slowly stirred into a 0.005 molar solution of ammonium acetate in 500 ml of distilled water using a stirrer. After the addition had ended, the suspension obtained was treated with an ultrasound sonotrode for 15 min. With stirring, 25.0 ml of a 4.7% aqueous polyvinyl alcohol solution were added. The suspension was then purified by filtration.

Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von Al2O3-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4, eine Schutzschicht 5 und zwei Entladungselektroden 6,7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO, die Schutzschicht 5 enthielt MgO und die beiden Entladungselektroden 6,7 waren aus ITO. Die Frontplatte 1 wurde zunächst getrocknet und dann 2 h einer thermischen Nachbehandlung bei 450 °C unterzogen. Die Schichtdicke der UV-reflektierenden Schicht 8 aus Al2O3 betrug 2.0 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.By means of spin coating, a layer of Al 2 O 3 particles was applied as a UV light reflecting layer 8 to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7. The dielectric layer 4 contained PbO, the protective layer 5 contained MgO and the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO. The front plate 1 was first dried and then subjected to a thermal aftertreatment at 450 ° C. for 2 hours. The layer thickness of the UV-reflecting layer 8 made of Al 2 O 3 was 2.0 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Ausführungsbeispiel 7Embodiment 7

Eine Lösung von 21.4 mg Ammoniumchlorid p.a. in 400 g destilliertem Wasser wurde mit einem Rührer bei Raumtemperatur gerührt und langsam mit 200 g pyrogener Kieselsäure mit einem Teilchendurchmesser zwischen 10 und 110 nm versetzt. Nach beendeter Zugabe wurde die erhaltene Suspension 60 min in ein Ultraschallbad gestellt, wobei die Suspension weiterhin gerührt wurde. Unter Rühren wurde die Suspension mit 5.0 ml einer 1%igen wässrigen Polymer-Lösung eines Assoziativverdickers, welche mittels Ammoniak auf einen pH-Wert von 9.5 eingestellt worden war, versetzt. Anschließend wurde die erhaltene Suspension durch Filtration gereinigt.A solution of 21.4 mg ammonium chloride p.a. in 400 g of distilled water stirred at room temperature and slowly with 200 g of pyrogenic silica with a particle diameter between 10 and 110 nm. After finished In addition, the suspension obtained was placed in an ultrasound bath for 60 min, the Suspension was still stirred. The suspension was stirred with 5.0 ml of a 1% aqueous polymer solution of an associative thickener, which by means of ammonia had been adjusted to a pH of 9.5. Then the suspension obtained purified by filtration.

Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von SiO2-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4, eine Schutzschicht 5 und zwei Entladungselektroden 6,7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO-haltiges Glas, die Schutzschicht 5 enthielt MgO und die beiden Entladungselektroden 6,7 waren aus ITO. Die Frontplatte 1 wurde zunächst getrocknet und dann 2 h einer thermischen Nachbehandlung bei 450 °C unterzogen. Die Schichtdicke der UV-reflektierenden Schicht 8 aus SiO2 betrug 3.0 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.A layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 was applied to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7, by means of spin coating. The dielectric layer 4 contained glass containing PbO, the protective layer 5 contained MgO and the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO. The front plate 1 was first dried and then subjected to a thermal aftertreatment at 450 ° C. for 2 hours. The layer thickness of the UV-reflecting layer 8 made of SiO 2 was 3.0 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Weiterhin wurde eine gereinigte Quarzplatte mit der Suspension durch Spincoaten beschichtet. Nach Trocknen im Trockenschrank und Nachbehandlung der beschichteten Quarzplatte bei 450 °C an Luft wurde eine transparente SiO2-Schicht mit einer Schichtdicke von 3.0 µm erhalten. In Fig. 2 ist die Reflexion dieser SiO2-Schicht als Funktion der Wellenlänge im Bereich von 100 nm bis 600 nm dargestellt.Furthermore, a cleaned quartz plate was coated with the suspension by spin coating. After drying in a drying cabinet and after-treatment of the coated quartz plate at 450 ° C. in air, a transparent SiO 2 layer with a layer thickness of 3.0 μm was obtained. 2 shows the reflection of this SiO 2 layer as a function of the wavelength in the range from 100 nm to 600 nm.

Ausführungsbeispiel 8Embodiment 8

Eine 0.003 molare Lösung von 250 g Ammoniumfluorid p.a. in destilliertem Wasser wurde mit einem Rührer bei Raumtemperatur gerührt und langsam mit 100 g amorphem SiO2 mit einem Teilchendurchmesser von 20 nm versetzt. Nach beendeter Zugabe wurde die erhaltene Suspension 10 min mit einem Ultraturrax-Rührstab behandelt. Unter Rühren wurde die Suspension mit 50 ml einer 10%igen wässrigen Suspension einer vollständig dispergierten, pyrogenen Kieselsäure mit einer Teilchengröße zwischen 10 und 20 nm versetzt. Außerdem wurde eine wässrige Lösung von 33 g Polyacrylamid unter Rühren zu der Suspension gegeben. Anschließend wurde die erhaltene Suspension durch Filtration gereinigt.A 0.003 molar solution of 250 g of ammonium fluoride pa in distilled water was stirred with a stirrer at room temperature and 100 g of amorphous SiO 2 with a particle diameter of 20 nm were slowly added. After the addition had ended, the suspension obtained was treated with an Ultraturrax stirring rod for 10 min. With stirring, the suspension was mixed with 50 ml of a 10% aqueous suspension of a completely dispersed, pyrogenic silica with a particle size between 10 and 20 nm. In addition, an aqueous solution of 33 g of polyacrylamide was added to the suspension with stirring. The suspension obtained was then purified by filtration.

Mittels Spincoaten wurde eine Schicht von SiO2-Partikeln als UV-Licht reflektierende Schicht 8 auf die Schutzschicht 5 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4, eine Schutzschicht 5 und zwei Entladungselektroden 6,7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO-haltiges Glas, die Schutzschicht 5 enthielt MgO und die beiden Entladungselektroden 6,7 waren aus ITO. Die Frontplatte 1 wurde zunächst getrocknet und dann 2 h einer thermischen Nachbehandlung bei 490 °C unterzogen. Die Schichtdicke der UV-reflektierenden Schicht 8 aus SiO2 betrug 2.5 µm. Anschließend wurde die Frontplatte 1 zum Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.A layer of SiO 2 particles as a UV light reflecting layer 8 was applied to the protective layer 5 of a front plate 1, which has a glass plate 3, a dielectric layer 4, a protective layer 5 and two discharge electrodes 6, 7, by means of spin coating. The dielectric layer 4 contained glass containing PbO, the protective layer 5 contained MgO and the two discharge electrodes 6, 7 were made of ITO. The front plate 1 was first dried and then subjected to a thermal aftertreatment at 490 ° C. for 2 hours. The layer thickness of the UV-reflecting layer 8 made of SiO 2 was 2.5 μm. The front panel 1 was then used to build a plasma screen that had increased luminance.

Claims (7)

Plasmabildschirm mit einer Frontplatte (1), die eine Glasplatte (3), auf der eine dielektrische Schicht (4) und eine Schutzschicht (5) aufgebracht sind, aufweist, einer Rückplatte (2), einer Anzahl von dazwischen angeordneten, durch Trennwände getrennte, Gas enthaltene Plasmazellen, und mehreren Elektroden (6,7,11) auf der Frontplatte (1) und der Rückplatte (2) zur Erzeugung von stillen elektrischen Ladungen,
dadurch gekennzeichnet,
dass auf der Schutzschicht (5) eine UV-Licht reflektierende Schicht (8) aufgebracht ist.Plasma screen with a front plate (1), which has a glass plate (3) on which a dielectric layer (4) and a protective layer (5) are applied, a back plate (2), a number of interposed, separated by partition walls, Gas-containing plasma cells, and several electrodes (6, 7, 11) on the front plate (1) and the back plate (2) for generating silent electrical charges,
characterized,
that a UV light reflecting layer (8) is applied to the protective layer (5). Plasmabildschirm nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die UV-Licht reflektierende Schicht (8) Oxide der Zusammensetzung M2O wie Li2O oder Oxide der Zusammensetzung MO, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba oder Oxide der Zusammensetzung M2O3, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe B, Al, Sc, Y und La oder Oxide der Zusammensetzung MO2, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Si, Ge, Sn, Ti, Zr und Hf oder Oxide der Zusammensetzung M'M''2O4, wobei M' ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba und M'' ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y und La oder Fluoride der Zusammensetzung MF, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb, Cs und Ag oder Fluoride der Zusammensetzung MF2, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn und Pb oder Fluoride der Zusammensetzung MF3, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu oder Fluoride der Zusammensetzung M'M''F3, wobei M' ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs und M'' ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba oder Phosphate der Zusammensetzung M3PO4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs oder Phosphate der Zusammensetzung M3(PO4)2, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr und Ba oder Phosphate der Zusammensetzung MPO4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu oder Phosphate der Zusammensetzung M3(PO4)4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Ti, Zr und Hf oder Metaphosphate mit einer Kettenlänge n zwischen 3 und 9 und der Zusammensetzung (MxPO3)n, wobei x = 1, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs, x = 1/2, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn und Pb, x = 1/3, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu und x = 1/4, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Ti, Hf und Zr oder Polyphosphate mit einer Kettenlänge n zwischen 101 und 106 und der Zusammensetzung (MxPO3)n, wobei x = 1, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs, x = 1/2, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn und Pb, x = 1/3, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb und Lu und x = 1/4, wenn M ausgewählt ist aus der Gruppe Ti, Hf und Zr oder Hydrogenphosphate der MH2PO4, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe Li, Na, K, Rb und Cs oder NH4H2PO4 oder Diamant enthält.Plasma display according to claim 1,
characterized,
that the UV light reflecting layer (8) oxides of the composition M 2 O such as Li 2 O or oxides of the composition MO, where M is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba or oxides of the composition M 2 O 3 , wherein M is selected from the group B, Al, Sc, Y and La or oxides of the composition MO 2 , where M is selected from the group Si, Ge, Sn, Ti, Zr and Hf or oxides of the composition M'M '' 2 O 4 , where M 'is selected from the group Mg, Ca, Sr and Ba and M''is selected from the group Al, Sc, Y and La or fluorides of the composition MF, where M is selected from the group Li, Na , K, Rb, Cs and Ag or fluorides of the composition MF 2 , where M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb or fluorides of the composition MF 3 , where M is selected from the Group La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu or fluorides of the composition M'M''F 3 , where M 'is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs and M''is also selected s of the group Mg, Ca, Sr and Ba or phosphates of the composition M 3 PO 4 , where M is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs or phosphates of the composition M 3 (PO 4 ) 2 , where M is selected is from the group Mg, Ca, Sr and Ba or phosphates of the composition MPO 4 , where M is selected from the group Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu or phosphates of the composition M 3 (PO 4 ) 4 , where M is selected from the group Ti, Zr and Hf or metaphosphates with a chain length n between 3 and 9 and the composition (M x PO 3 ) n , where x = 1 if M is selected from the Li, Na, K, Rb and Cs, x = 1/2 when M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb, x = 1/3 when M is selected from the group Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu, and x = 1/4 when M is selected from the group Ti, Hf and Zr, or polyphosphates with a chain length n between 10 1 and 10 6 and the composition (M x PO 3 ) n , wob ei x = 1 when M is selected from the group Li, Na, K, Rb and Cs, x = 1/2 when M is selected from the group Mg, Ca, Sr, Ba, Sn, Cu, Zn and Pb , x = 1/3 when M is selected from the group Al, Sc, Y, La, Pr, Sm, Eu, Gd, Yb and Lu, and x = 1/4 when M is selected from the group Ti, Hf and Zr or hydrogen phosphates of MH 2 PO 4 , where M is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs or NH 4 H 2 PO 4 or diamond. Plasmabildschirm nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die UV-Licht reflektierende Schicht (8) Teilchen mit einem Teilchendurchmesser zwischen 200 nm und 500 nm enthält.Plasma display according to claim 1,
characterized,
that the UV light reflecting layer (8) contains particles with a particle diameter between 200 nm and 500 nm. Plasmabildschirm nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass die UV-Licht reflektierende Schicht (8) eine Dicke von 0.5 µm bis 5 µm aufweist.Plasma display according to claim 3,
characterized,
that the UV light reflecting layer (8) has a thickness of 0.5 µm to 5 µm. Plasmabildschirm nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die UV-Licht reflektierende Schicht (8) Agglomerate aus Teilchen mit einem Teilchengröße zwischen 10 nm und 200 nm enthält. Plasma display according to claim 1,
characterized,
that the UV light reflecting layer (8) contains agglomerates of particles with a particle size between 10 nm and 200 nm. Plasmabildschirm nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
dass die UV-Licht reflektierende Schicht (8) eine Dicke von 0.2 µm bis 10 µm aufweist.Plasma screen according to claim 5,
characterized,
that the UV light reflecting layer (8) has a thickness of 0.2 µm to 10 µm. Plasmabildschirm nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die UV-Licht reflektierende Schicht (8) die Schutzschicht (5) komplett oder nur zum Teil bedeckt.Plasma display according to claim 1,
characterized,
that the UV light reflecting layer (8) completely or only partially covers the protective layer (5).
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