WO1989002068A1 - Method and apparatus for detecting the wavelength of a laser beam - Google Patents

Method and apparatus for detecting the wavelength of a laser beam Download PDF

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WO1989002068A1
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wavelength
impedance
laser
plasma
laser beam
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PCT/JP1987/000646
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Koichi Kajiyama
Kaoru Saito
Yasuo Itakura
Osamu Wakabayashi
Masahiko Kowaka
Tadayoshi Yamaguchi
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J9/00Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
    • G01J9/02Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
    • G01J9/0246Measuring optical wavelength
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J2001/4295Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors using a physical effect not covered by other subgroups of G01J1/42
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    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/26Generating the spectrum; Monochromators using multiple reflection, e.g. Fabry-Perot interferometer, variable interference filters

Definitions

  • the present invention relates to a method and an apparatus for detecting the wavelength of laser light oscillated from a laser oscillator, and particularly to a laser input galvanic system (hereinafter referred to as a LOG system) as the detection system. ).
  • a LOG system laser input galvanic system
  • a laser beam emitted from a laser light source ⁇ is processed by a pre-processing system 2 such as a lens ⁇ filter, and The light is introduced into the entrance slit 3a of the spectroscope 3 as light suitable for the light, and is determined by the diffraction gratings 4b and 3c (or prism) in the spectrometer 3 and the rotating stage.
  • the light coming from the exit slit 3d is detected by the signal processing system 4, and the angle of the rotating stage (the angle between the angle of the rotating stage and the wavelength) is detected. Has been calibrated in advance) to detect the wavelength of the laser light.
  • the wavelength of the laser beam when controlling the wavelength of the laser beam so as to be a predetermined wavelength, when the laser beam of a desired wavelength enters in advance, the light exits from the exit slit 3d.
  • the angle of the rotation stage is adjusted beforehand, and the wavelength of the laser beam is adjusted so that the laser beam exits the exit slit 3d.
  • wavelength selection for example, an adjustable etalon
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and is capable of performing wavelength detection and wavelength control of laser light without using a spectroscope.
  • the purpose is to provide. Disclosure of the invention
  • the wavelength of the input laser light is detected by using the LOG system.
  • This LOG system utilizes the opto-galvanic effect, which changes the electrical properties of the plasma when irradiated with light that resonates with the optical transition of atoms and molecules in the plasma. Since the wavelength corresponds to the wavelength unique to the atoms and molecules in the plasma, it is used for qualitative analysis and molecular structure analysis.
  • Fig. 2 (a) laser light is applied to the plasma A between the electrode plates 10a and 10b of the discharge tube 10 used in the LOG system, which has been previously energized and turned off. Then, as shown in Fig. 2 (b), the ion increases, and the impedance of the plasma decreases, and this change is taken out as a lightning pressure (current) signal from the discharge tube 10. Can be done.
  • a discharge tube 10 an iron hollow source When a lamp is used, iron plasma exists between the electrodes, and a signal as shown in the graph of FIG. 2 can be obtained according to the wavelength of the irradiation laser beam.
  • a pattern corresponding to the wavelength of the specific laser beam emitted by the substance in the discharge tube is measured and determined in advance. By comparing the electric signal generated at that time with its pattern, it is possible to detect the wavelength of the laser light currently being generated.
  • a predetermined atom or molecule in the plasma is irradiated with a laser beam to be detected, the impedance of the plasma at this time is detected, and the impedance is measured in advance.
  • the wavelength of the laser light to be detected is detected by comparing with the impedance pattern set in advance.
  • a plasma generating means for generating a plasma containing predetermined atoms or molecules, and a laser beam to be detected is irradiated into the plasma generated by the plasma generating means.
  • a laser beam irradiating means for detecting the impedance of the plasma containing the predetermined atom or molecule, and an impedance detected by the impedance detecting means.
  • An identification means for comparing the measured impedance pattern with the known impedance pattern and identifying the wavelength of the laser light to be detected based on the comparison.
  • FIG. 2 (a) and 2 (b) are diagrams used for explaining a LOG system according to the present invention
  • Fig. 3 is FIG. 4 is a graph showing the output with respect to the incident wavelength of the discharge tube in FIG. 4
  • FIG. 4 is a block diagram showing another embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is another embodiment of the present invention.
  • Block diagrams, Fig. 6 (a), (b) and (c) are diagrams used to explain the monitor etalon system in Fig. 5, respectively.
  • Fig. 7 is a diagram showing a Michelson interferometer.
  • FIG. 8 is a block diagram showing a conventional device. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION FIG.
  • FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of an apparatus for controlling the wavelength of laser light using the above-mentioned discharge tube.
  • a narrow-band oscillation excimer laser # 1 of K "F" oscillates a laser beam having an ultraviolet wavelength around 248 and 35 nm. Etalon which is one of the wavelength selecting means is used.
  • the laser beam 2 passes only the laser beam of a specific wavelength out of the laser light incident on the beam 2.
  • the beam splitter 13 splits the incoming laser beam, one for the main use, and the other for the discharge. Lead to tube 10.
  • the discharge tube 10 outputs an electric signal corresponding to the wavelength of the irradiation laser beam as described above.
  • a signal as shown in FIG. 3 is formed by enclosing iron plasma in the discharge tube. Output.
  • the signal output from the discharge tube 10 is applied to a control system 5 via a signal processing system 14.
  • the control system 15 has a signal pattern shown in FIG.
  • the electric signal input from the discharge tube 10 is compared with the previously stored signal pattern, and the wavelength of the laser beam currently oscillating for main purpose measurement is determined as the target. It detects whether or not the wavelength matches (for example, 248.33.3 nm). If not, the gas processor 1 determines that the laser beam wavelength matches the target wavelength. 7 or Regulator ⁇ 7 Apply control to one or both. That is, the gas processor 17 is controlled to change the gas composition of the laser medium gas supplied to the excimer laser 11 by the gas processor 17. Thus, the wavelength of the laser light is shifted toward the target wavelength.
  • the adjusting device ⁇ 6 is used to reduce the angle of the wavelength selection element 12, the gap of the wavelength selection element 12, and the pressure or gas between the gaps of the wavelength selection element 12. Also, control is performed to change the two, and thereby the wavelength of the laser beam is moved toward the target wavelength.
  • the output signal from the discharge tube ⁇ 0 is a peak of the signal pattern stored in advance (for example, the output when a laser beam having a wavelength of 248, 33 nm is incident). By repeating the above adjustment until the values match, a laser beam having a wavelength of exactly 248.333 nm can be obtained.
  • the adjustable target wavelength is not limited to the wavelength corresponding to the maximum peak value, but corresponds to the other peak values. Any wavelength between the peak values can be set as the target wavelength by interpolating between these peaks.
  • the plasma to be enclosed is appropriately changed. By changing the signal pattern, a signal pattern having a peak at the target wavelength may be obtained.
  • Fig. 4 shows a practical example of an apparatus for controlling the wavelength of a dye laser. It should be noted that the same reference numerals are assigned to one place in Oka as in FIG. 6 and detailed description thereof is omitted.
  • a dye laser 21 performs optical pumping by an excitation laser 20 such as an excimer laser or a YAG laser, and oscillates laser light. Then, the adjusting device 22 drives the stage of the dye laser 21 based on a signal from the control system 15 so that the oscillation wavelength of the laser light becomes the target wavelength. Note that the oscillation wavelength may be controlled by adjusting the type or concentration of the solvent of the dye laser 21.
  • FIG. 5 shows another embodiment of the present invention. This apparatus is different from the apparatus shown in FIG. 1 surrounded by a dashed chain in that a beam splitter 30 and a monitor etalon system 3. And a signal processing system 32.
  • the laser light adjusted to the target wavelength by the apparatus shown in FIG. 5 is split by the beam splitter 30 and guided to the monitor etalon system 31.
  • the monitor etalon system 31 is composed of a lens 31a, an etalon 31b and a line image sensor 31c as shown in Fig. 6 (a), and the lens 31a is an incident laser.
  • the light is expanded and made incident on the detection surface of the line image sensor 31c via the etalon 31b.
  • interference fringes are formed as shown in Fig. & (B), and the line image sensor 31c detects the position of the interference fringes. Send the information on the position and interval via the signal processing system 32 to the control unit ⁇ 5.
  • the control unit 5 first obtains the wavelength of the laser light from the input information. That is, etalon 31b is given by the following equation:
  • m is the order
  • S is the wavelength
  • d is the etalon 31b gap.
  • the interference fringes obtained are those of parallel lines such as (c).
  • (C) is the more fringe of the concentric interference fringes of (b) and the parallel fringe of (C).
  • the output of the monitor etalon system 31 is applied to the control system 15 via the signal processing system 32.
  • the control system 15 compares the wavelength determined as described above with the target wavelength, and controls the adjusting device 16 and the gas processor ⁇ 7 so that the oscillation wavelength matches the target wavelength. Output wholesale signal.
  • the control unit 15 does not necessarily need to calculate the wavelength based on the output of the monitor etalon system 31.
  • the position of the interference fringes when the Taetalon system 31 enters the laser beam of the target wavelength is stored, and a control signal is output so that the detected position of the interference fringes is formed at the stored position. Just like that.
  • a Michelson interferometer may be used instead of the monitor etalon system 32.
  • the Michelson interferometer 40 is composed of two lenses 4, 42, two total reflection mirrors 43, 44, and a beam splitter 45. Now, when the mirrors 4 3 and 4 4 are equidistant from the point 0, the laser beam split by the beam splitter 45 passes through the equal optical path, and then moves to the image plane 46. As it arrives, the image of the incident light appears on this image plane as it is. The size may change depending on the magnification of the lens.
  • the optical path length of this increase is expressed by the following formula for the wavelength
  • a line image sensor is installed on the image surface 46. If it is arranged, and if a bright ring is detected by this line image sensor, the change in wavelength is detected in a thunderstorm manner.
  • the controller 16 and the gas processor 17 are automatically controlled by the control system 15 so that the oscillation wavelength coincides with the target wavelength.
  • the operator may periodically adjust the adjusting device No. 6 and the gas processor 17 so that the oscillation wavelength matches the target wavelength.
  • the detection system is a simple electrical circuit, after light is incident on the LOG system, there is no optical alignment operation and handling is easy.
  • it since it is a simple electric circuit, it can be constructed as cheap as an order of magnitude for a large spectrometer in terms of price.
  • the exposure wavelength can be fixed to a predetermined wavelength with high accuracy, so that focus error does not occur. The retention is better.

Description

明 細 軎 レーザ光の波長検出方法お よび装置 技 術 分 野
本発明は レーザ発振器か ら発振される レーザ光の波 長を検出する レーザ光の波長検出方法および装置に関 . し 、 特にその検出系と して レーザ才プ 卜 ガルパニ ッ ク 系 ( 以下 L O G系 という ) を用いた方法および装置に 関する。 背 景 技 術
従来、 レーザ光の波長を知るために は 、 第 8 図に示 すよ う に レーザ光源 Ί か ら出射 し た レーザ光を レンズ ♦ フ ィ ルタ 等の前処理系 2 で加工 し 、 分光器 3 に適 し た光 と して分光器 3 の入射 ス リ ッ ト 3 a に導入 し 、 分 光器 3 中の回折格子 4 b 、 3 c ( あるいはプ リ ズム 〉 と回転ステージに よ り決め られた方向へ光を導き 、 出 射ス リ ツ 卜 3 d か ら出てきた光を信号処理系 4 で検知 し 、 この ときの回転ステージの角度 ( 回転ステ ージの 角度と波長 との蘭係は予め検定されて いる ) か ら レー ザ光の波長を検知する。
したが っ て 、 レーザ光の波長を所定の波長 となるよ う に制御する場合には、 予め所望の波長の レーザ光が 入射する とき 、 出射ス リ ッ ト 3 d か ら光が出るよ う に 回転ステー ジの角度を調整 しておき 、 レ ーザ光が前記 出射ス リ ツ 卜 3 d か ら出るよ う にその レーザ光の波長 を波長選択手段 (例えば調整可能なエタ ロ ン) などに よ っ て同定する。
しか し、 分光器を用いて波長を同定する場台、 必ず 煩雜なァライ メ ン 卜作業が伴い、 また良い分析桔果を 得るためには大型の分光器が必要とな り、 装置が大が かりかつ高衝になる。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、 分光器 を用いずに レーザ光の波長検出および波長制御を行な う こ とができる レーザ光の波長検出装匿およびレーザ 光の波長制卸方法を提供するこ とを目的とする。 発 明 の 開 示
本発明は L O G系を用いて入力 レーザ光の波長の検 出を行なう 。
この L O G系は、 プラズマ中の原子 ♦ 分子の光学遷 移に共鳴する光を照射する とプラズマの電気的性質が 変化するォプ ト ガルバノ効果を利用 したもので、 この 反応を発生させる共鳴先の波長はプラズマ中にある原 子 ♦ 分子に固有の波長に対応するため、 定性分析、 分 子構造の解析等に用い られるものである。
いま 、 第 2図 ( a ) に示すよう に予め通鼋 し故電 させておいた L O G系で使用する放電管 1 0の極板 1 0 a , 1 0 b間のプラズマ Aに レーザ光を照射する と、 第 2図 ( b ) に示すよう にイ オンが増加するため、 プラズマのイ ンピーダンスが低下 し、 この変化を放電 管 1 0からの雷圧 (電流 ) 信号と して取り 出すこ とが できる。 例えば、 放電管 1 0 と して鉄のホロ 力ソ ー ド ラ ンプを使用 した場合 、 極板問に は鉄のプラズマが存 在 し 、 照射 レーザ光の波長 に応 じて第 2 図のグラ フ に 示すよ う な信号を得るこ と ができる 。
したが っ て 、 こ の L O G系の特性を利用 し 、 予め放 電管内の物質に よる特有の照射 レーザ光の波長に対応 するパタ ー ンを測定 して決定 して き 、 レーザ光の照 射時に発生する電気信号 とそのパタ ー ン とを比較する こ と に よ り 、 現在発生 している レーザ光の波長を検知 するこ とがでぎる。
すなわち 、 本発明に よれば検出対象 レーザ光をブラ ズマ中の所定の原子又は分子に照射 し 、 こ の と きの前 記プラズマのイ ン ピーダンスを検出 し 、 こ のイ ン ピー ダンスを予め測定 しておいたイ ン ピーダンスパタ ー ン と比較するこ と に よ り 前記検出対象 レーザ光の波長を 検出する 。
ま た 、 本発明に よ れば所定の原子又は分子を含むプ ラズマを発生するプラズマ発生手段 と 、 こ のプラズマ 発生手段に よ っ て発生されたプラズマ中に検出対象 レ 一ザ光を照射する レーザ光照射手段 と 、 前記所定の原 子又は分子を含むプラズマのイ ン ピーダンスを検出す るイ ン ピーダンス検出手段 と こ のイ ン ピーダンス検出 手段に よ っ て検出さ れたイ ン ピーダンス と予め測定 し た既知のイ ン ビーダンスパタ ー ン と を比校 し 、 こ の比 較にも とづき前記検出対象 レーザ光の波長を同定する 同定手段 とを具えて構成される 。 図面の簡単な説明 第 Ί 図は、, 本発明の一実施例を示すプロ ッ ク図、 第 2図 ( a ) および ( b ) はそれぞれ本発明に係る L O G系を説明するために用いた図、 第 3図は第 Ί 図にお ける放電管の入射波長に対する出力を示すグラフ 、 第 4図は本発明の他の実施例を示すプロ ッ ク図、 第 5図 は本発明の更に他の実施伊」を示すプロ ッ ク図、 第 6図 ( a ) ( b ) および ( c ) はそれぞれ第 5図のモニタ エタ ロ ン系を説明するために用いた図、 第 7図はマイ ケルソ ン干渉計を示す図、 第 8図は従来裝置を示すプ ロ ッ ク図である。 発明を実施するための最良の形態 第 1 図は上記放電管を用いて レーザ光の波長制御を 行なう装置の一実施例を示すプロ ッ ク図である。 同図 において、 K 「 Fの狭帯域発振エキシマ レーザ Ί 1 は、 2 4 8 , 3 5 n m付近の紫外域の波長を有する レーザ 光を発振する。 波長選択手段の Ί つであるエタ ロ ン Ί 2は、 入射する上記 レーザ光のうち 、 特定の波長の レ 一ザ光のみを通通させる。 ピームスプ リ ッ タ 1 3は入 射する レーザ光を分割 し、 一方は主用途へ、 他方は放 電管 1 0に導く 。
放電管 1 0は前述したよう に照射レーザ光の波長に 応じた電気信号を出力するもので、 例えば鉄のプラズ マを放電管内に封入するこ とによ り第 3図のような信 号を出力する。 放電管 1 0から出力された信号は信号 処理系 1 4を介 して制御系 Ί 5に加え られる。
制御系 1 5は、 予め上記第 3図に示す信号パタ ーン を記億 してお り 、 放電管 1 0 か ら入力する電気信号 と 上記予め記億 した信号パタ ー ン と を比較 し 、 現在主用 途測に発振 して いる レーザ光の波長が目 標波長 ( 例え ば 2 4 8 . 3 3 n m ) に一致 しているか否かを検知 し 、 一致 していない場合は レーザ光の波長が目 標波長に一 致するよ う,にガスプロ セ ッ サ 1 7 ま た は調整装置 Ί 7 若 し く はその両方に対 して制御をかける。 すなわち 、 ガスプ ロ セ ッ サ 1 7 に は、 こ のガスプ ロ セ ッ サ 1 7 が エキシマ レーザ 1 1 に供給する レーザ媒質ガスに対 し てそのガス粗成を変更するよ う に制御をかけ 、 こ れに よ っ て レーザ光の波長を目 標波長に向 っ て移動させ る 。 ま た 、 調整装置 Ί 6 は、 波長選択素子 1 2 の角度 、 波 長選択素子 1 2 のギ ャ ップ、 波長選択素子 1 2 のギ ヤ ップ間の圧力やガスのう ちの少な く と も二つを変更す る よ う に制御をかけ 、 こ れに よ つ て レーザ光の波長を 目 標波長に向 っ て移動させる 。
そ して 、 放電管 Ί 0 か ら の出力信号が予め記憶 した 信号パタ ー ンの ピー ク艟 ( た とえば 2 4 8 , 3 3 n m の波長の レーザ光を入射 した と きの出力 》 と一致する ま で上記調整を探 り返すこ と に よ り 、 正確に 2 4 8 . 3 3 n mの波長の レーザ光が得られる。
なお、 第 3 図に示すよ う な入力波長に対する信号パ タ ー ンにおいて 、 調整可能な目 標波長は、 最大の ピー ク値に対応する波長に隈 らず 、 他の ピー ク値に対応す る波長でもよ く 、 ま たこれ らの ピー ク值間の補間を と るこ と に よ り ピー ク値間の任意の波長を目 標波長 とす る こ と もできる。 さ ら に 、 封入するプラズマ を適宜変 更するこ とによ り 目標波長に ピークを有する信号バタ ーンを得るよう に しておよい。
第 4 図は色素レーザの波長制御を行なう装置の実旌 例を示す。 なお、 第 Ί 図と岡一箇所には同じ番号を付 し、 その詳細な説明は省略する。
同図において、 色素レーザ 2 1 はエキシマ レーザ、 Y A G レーザ等の励起レーザ 2 0 によ っ て光ポン ピン グを行ない レーザ光を発振する 。 そ して 、 調整装置 2 2 は、 制御系 1 5 からの信号によ りその レーザ光の 発振波長が目標波長となるよう に色素 レーザ 2 1 のス テージを鞑動する。 なお、 色素 レーザ 2 1 の溶媒の種 類あるいは濃度を調整して発振波長を制御するよう に してもよい。
第 5図は本発明の他の実施例を示すもので、 この装 置は一点鎖綜で囲んだ第 1 図の装置に対 して更に ピー ムスプリ ッ タ 3 0 、 モニタ エタ ロ ン系 3 Ί および信号 処理系 3 2 を付加 して構成されている。
第 Ί 図の装置によっ て目標波長に調整された レーザ 光は、 ビームスプ リ ッ タ 3 0 によっ て分割され、 モニ タ エタ ロ ン系 3 1 に導かれる。
モニタエタ ロ ン系 3 1 は第 6図 ( a ) に示すよう に レンズ 3 1 a 、 エタ ロ ン 3 1 bおよびライ ンイ メ ージ センサ 3 1 cから構成され、 レンズ 3 1 a は入射 した レーザ光を拡大し、 エタ ロ ン 3 1 bを介 してライ ンィ メ ージセンサ 3 1 c の検出面上に入射させる。 この検 出面上には、 第 &図 ( b ) に示すよう に干渉縞が形成 され、 ライ ンイ メ ージセンサ 3 1 c はこの干渉縞の位 置 · 間隔の情報を信号処理系 3 2を介 して制卸部 Ί 5 送る 。
制御部 Ί 5 は 、 ま ず上記入力情報か ら レ ーザ光の波 長を求める 。 すなわち 、 エタ ロ ン 3 1 bは 、 次式 、
m λ = 2 d cos θ … M 〉
に適合する レーザ光を透過させる。 こ こで、 mは次数、 ス は 波長 、 d はエ タ ロ ン 3 1 bのギ ャ ッ プである 。
第 6図 ( a ) よ り 、 0は t a n ^ i r j / x ) で得 ら れるので、 r : の值 ( 干渉縞の位置 ) を知る こ とが できれば、. 上記第 ( 1 ) 式に基づいて波長 ;! を知る こ と ができる。 今 、 「 1 = 0 . 5 8 7 ΛΚ , 「 2 = 1 . 8 2 7覼 , 「 3 = 2 . 5 1 6 m , R 4 = 3 . 0 5 4 mm , 「 5 = 3 . 5 1 0 Amが得 ら れた と する と 、 レーザ光の 波長は上式よ り ス = 2 4 8 . 3 5 n mが得 ら れる 。
なお 、 第 6図中の 3 1 aに球面 レ ンズの代 り に シ リ ン ド リ カ ルレ ンズを使用 して も良い 。 こ の場合得 ら れ る干渉縞は ( c 〉 の よ う な平行線のものである 。 ( b ) の同心円の干渉縞 と ( C ) の平行線の干渉縞では ( C ) の方が縞に曲率のない分だけ高い精度で位置検出が可 能である。 モニタ エ タ ロ ン系 3 1 の出力 は信号処理系 3 2を介 して制御系 1 5に加え られる。
制御系 1 5は上記のよ う に して求めた波長 と 目標波 長 とを比較 し 、 発振波長が目標波長 と一致する よ う に 調整裝匿 1 6およびガスプ ロ セ ッ サ Ί 7 に制卸信号を 出力する。
なお 、 制卸部 1 5 はモニ タ エ タ ロ ン系 3 1 の出力 に も とづき必ず しも波長を求める必要はな く 、 予めモニ タエタ ロ ン系 3 1 が目標波長の レーザ光を入射 した と きの干渉縞の位置を記憶 しておき、 検出 した干渉縞の 位置が上記記憶 した位置に形成されるよう に制御信号 を出力するよう に してちょい。
また、 モニタエタ ロ ン系 3 2 の代わり に、 マイ ケル ソン干渉計を用いてもよい。 第 7 ¾に示すよう にマイ ケルソン干渉計 4 0 は、 2枚の レンズ 4 Ί , 4 2 、 2 枚の全反射ミラー 4 3 , 4 4 およびビームスプリ ッ タ 4 5 から構成されている。 今、 ミラー 4 3 , 4 4 が点 0から等距離にある場台は、 ピームスプ リ ッ タ 4 5 に よっ て等分された レーザ光が等 しい光路を通過した後、 結像面 4 6 に到着するため、 この結像面には入射光の 像がそのま ま現れる。 なお、 レンズの倍率によ りサイ ズは変化するこ とがある。
ここで、 一方のミラー 4 4 を Δ h だけ後方に移動さ せる と、 ミラー 4 4で反射された光は、 2 Δ h c o s θ 分だけ長い光路を通過した後、 結像面 4 6 に到着する ため、 この増加分の光路長が波長; ϊ に対 して次式、.
Figure imgf000010_0001
を篛足すれぱ、. この 0 の位置では光は強め台い、. 桔徨 面 4 6ではこの 0 に関連する半径 f 2 t a n (9 の明るい 円環を作る。
上記第 ( 2 ) 式からも明らかなよう に逆に△ hを特 ' 定の籠 ( 1 «πとか 0 . 1 m ) に固定 した場合、 波長ス の変化により 6 、 つま り円環の半径が変化するこ とに なる。
したがっ て、 桔像面 4 6 にライ ンイ メ ージセンサを 配置 し 、 こ のライ ンイ メ ージセ ンサに よ り 明るい円環 を検出するよ う にすれば、 波長の変化を雷気的に検出 した こ と になる。
なお 、 本実旃例では 、 制御系 1 5 に よ っ て調整装置 1 6やガスプ ロ セ ッ サ 1 7 を自動的に制御 し 、 発振波 長を目 標波長に一致させるよ う に して いるが 、 才ペ レ ー タ が定期的に調整装置 Ί 6 やガスプ ロ セ ッ サ 1 7 を 手動で調整 して発振波長を目 標波長に一致させるよ う に してあよい。 産業上の利用可能性
以上説明 した よ う に本発明に よれば、 分光器を使用 する必要がな く なるため装置が簡略になる。 検出系は 単耗な電気回路であるため L O G系に光 入射させた 後は光学的な ァライ メ ン 卜 操作がな く 取扱いが容易に なる。 ま た 、 単純な電気回路であるため 、 大型の分光 器に対 し て価格の面でも 1 桁 ぐ ら い安価に構成できる 。 さ ら に 、 縮小投影露光用光源 と して本発明に係る レー ザ光を用いる と 、 露光波長を所定の波長に精度よ く 固 定できるため 、 フ ォ ー カ スエラ ーがな く な り歩留 り が よ く なる。

Claims

求 の範 囲
1 . 検出対象レーザ光をプラズマ中の所定の原子又は 分子に照射 し、 この ときの前記プラズマのイ ンピーダ ンスを検出 し、 このイ ンピーダンスを予め測定 してお いたイ ンピーダンスパタ ーンと比較するこ とによ り前 記検出対象レーザ光の波長を検出する レーザ光の波長 -検出 ¾法。
2 . プラズマ中の所定の原子又は分子は検出対象レー ザ光の波長の近辺の波長に対 して特徴あ ¾光学遷移を 行なう請求の範囲第 1 項記載の レーザ光の波長検出方
3 , 所定の原子又は分子を含むプラズマを発生するプ ラズマ発生手段と、
このプラズマ発生手段によ っ て発生されたプラズマ 中に検出対象 レーザ光を照射する レーザ光照射手段と、 前記所定の原子又は分子を含むプラズマのィンピ一 ダンスを検出するイ ンビーダンス検出手段と、
このイ ンピーダンス検出手段によ っ て検出されたィ ンピーダンスと予め測定 した既知のイ ンピーダンスパ タ ーンとを比較し、 この比較にもとづき前記検出対象 レーザ光の波長を同定する同定手段と
を具えた レーザの波長検出装置。
4 . プラズマ発生手段は接地された第 1 の電極と高電 圧が印加された第 2 の電極との間に所定の原子又は分 子からなるガスを封入したちのである請求の範囲第 3 項記軟の レーザ波長検出装置。
5 . 所定の原子又は分子か らなるガス は希ガスである 請求の範囲第 4 項記載の レーザ波長検出装置。
6 . プラズマ発生手段は ホ ロ 力 ソ ー ドラ ンプか ら なる 請求の範囲第 3 項記戦の レーザ光の波長検出装置。
7 . 走査手段は検出対象 レーザ光を発振する レーザ発 振器内の波,長選択手段を制御する請求の範囲第 3 項記 載の レーザ光の波長検出装置。
8 . イ ン ピーダンス検出手段は第 1 の電極 と第 2 の電 極 との間を流れる電流の変化を検出する請求の範囲第 4 項記載の レーザ光の波長検出装置。
9 . 所定の原子又は分子を含むプラズマ を発生するプ ラズマ発生手段 と 、
このプラズマ発生手段に よ っ て発生されたプラズマ 中に レーザ発振器か ら出力された レーザ光の一部を照 射する レーザ光照射手段 と 、
前記所定の原子又は分子を含むプラスマのィ ン ピー. ダンスを検出するイ ン ピーダンス検出手段 と 、
このイ ン ピーダンス検出手段に よ っ て検出されたィ ン ピーダンス と予め測定 した既知のイ ン ピーダンスパ タ ー ン とを比較 し 、 この比較に も とづき前記 レーザ発 振器から出力された レーザ光の波長を同定する同定手 段 と 、
この同定手段に よ っ て同定された波長にも とづき前 記 レーザ発振器か ら出力される レーザ光の波長を制御 する制御手段 と
を具えた レーザ光の波長検出裝置 c
1 0 , 所定の原子又 は分子を含むプラズマを発生する プラズマ発生手段と、
このプラズマ発生手段によ っ て発生されたプラズマ 中に レーザ発振器から出力された レーザ光の一部を照 射する レーザ光照射手段と、
前記所定の原子又は分子を含むプラズマのイ ンピー ダンスを検出するィ ンピーダンス検出手段と、
このイ ンピーダンス検出手段によ っ て検出されたィ ンピーダンス と予め測定 した既知のイ ンピーダンスパ タ ーンとを比較し、 この比較にちとづき前記レーザ発 振器から出力される レーザ光の波長を同定する同定手 段と
この同定手段によっ て同定された波長にも とづき前 記レーザ発振器か ら出力される レーザ光の波長を制卸 する第 1 の制卸手段と、
前記 レーザ発振器から出力される レーザ光の波長を 検出する波長検出手段と、
この波長検出手段の出力にも とづき前記 レーザ発振 器から出力される レーザ光の波長を更に制御する第 2 の制酆手段と
を具えた レーザ光の披長検出装置。
1 1 . 波長検出手段はモニタエタ ロンを用いたもので ある請求の範囲第 1 0項記載の レーザ光の波長検出裝
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