WO2000049633A1 - Poudre de niobium, element fritte a base de niobium, condensateur renfermant cet element et procede de fabrication de ce condensateur - Google Patents

Poudre de niobium, element fritte a base de niobium, condensateur renfermant cet element et procede de fabrication de ce condensateur Download PDF

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Kazumi Naito
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Showa Denko K.K.
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Definitions

  • the present invention relates to a niobium powder, a niobium sintered body, a capacitor using the sintered body, and a capacitor using the sintered body, which are capable of producing a capacitor having a large capacity per unit amount and excellent in specific leakage current characteristics and high-temperature characteristics. And a method for producing the same.
  • a tantalum powder sintered body is generally used as the anode body of this tantalum capacitor.
  • the present inventor has studied diligently for a capacitor using a niobium-based sintered body. As a result, by using niobium powder with reduced content of impurity elements, It has been found that a capacitor having a small variation in leakage current value can be obtained. In addition, they have found that a capacitor having excellent high-temperature characteristics can be obtained when a niobium powder sintered body contains crystals of a specific niobium compound, and based on these findings, completed the present invention.
  • the present invention relates to the following niobium powder for a capacitor, a niobium sintered body, a capacitor using the sintered body, and a method for manufacturing the capacitor.
  • Niobium powder for a capacitor wherein each content of iron, nickel, cobalt, silicon, sodium, potassium and magnesium is 100 mass ppm or less.
  • Niobium powder for capacitors characterized in that the total content of iron, nickel, cobalt, silicon, sodium, potassium and magnesium is 350 mass ppm or less.
  • each of iron, nickel, cobalt, silicon, sodium, potassium, and magnesium is 100 mass ppm or less, and the sum of the contents of iron, nickel, cobalt, silicon, sodium, potassium, and magnesium. Is 350 mass ppm or less.
  • niobium powder for a capacitor which contains at least one of niobium nitride, niobium carbide, and niobium boride.
  • a niobium sintered body for a capacitor comprising at least one of niobium monoxide crystal and niobium mononitride crystal.
  • a capacitor comprising: the electrode made of the niobium sintered body according to any one of the above items 5 to 8; a facing electrode; and a dielectric material interposed between the electrodes.
  • the present inventor has determined that the content of the impurity elements iron, nickel, cobalt, silicon, sodium, potassium and magnesium in niobium powder is 100 mass ppm or less in each element unit, and the total amount of these elements is It was confirmed that a capacitor with a small variation in the specific leakage current value could be obtained if the condition of 350 ppm by mass or less was satisfied.
  • the niobium sintered body contains a crystal of a specific niobium compound, the high-temperature characteristics of the capacitor are improved at a high temperature. The reason is presumed as follows.
  • the stability of the dielectric oxide film of the niobium sintered body is inferior to that of the tantalum sintered body.
  • the composition of the dielectric oxide film and the composition of the niobium sintered body are different. It is considered that the thermal strain at high temperature accelerates the deterioration of the dielectric oxide film.
  • the thermal strain is relaxed and the characteristics of the capacitor at high temperatures are improved.
  • niobium halide with magnesium or sodium reduction of niobium halide with magnesium or sodium, reduction of sodium niobium fluoride with sodium, melting of niobium fluoride lithium on Nigel cathode (NaC1 + KC1) electrolysis, hydrogenation of metallic niobium ingot Niobium powder obtained by pulverizing after introduction or the like can be used.
  • the niobium powder obtained by these methods contains impurity elements originating from raw materials, reducing agents and equipment used. Typical impurity elements include iron, nickel, cobalt, silicon, sodium, potassium, and magnesium.
  • the specific leakage current value can be reduced.
  • the total content of these impurity elements contained in the niobium powder is 350 mass ppm or less, preferably 300 mass ppm or less, more preferably By setting the mass to 200 mass ppm or less, the variation in the specific leakage current value can be reduced.
  • a cleaning method is employed to reduce the content of the element contained in the niobium powder to a desired value or less.
  • an impurity and an element containing at least one of hydrofluoric acid, nitric acid, sulfuric acid, and hydrochloric acid, or the acid, alkali, and hydrogen peroxide solution are sequentially used or shared, and washing is repeated.
  • a method may be employed in which the niobium powder is agitated and extracted for a period of time until the content of impurities in the reagent becomes a predetermined amount or less.
  • the present inventor has found that the leakage current characteristics are improved when the niobium powder contains a compound partially bonded to at least one of nitrogen, carbon, and boron.
  • Such compounds include niobium nitride, niobium carbide, and niobium boride, which are combinations of nitrogen, carbon, and boron. Any of these may be contained, or a combination of two or three of these may be contained.
  • the content of such niobium nitride, niobium carbide, niobium boride, etc. varies depending on the shape of the niobium powder, but is 50 to 200,000 ppm, preferably 300 to 300 ppm for a powder having an average particle size of about 0.2 to 30 m. 20000 ppm. If it is less than 50 ppm, the leakage current characteristic will be deteriorated, and if it exceeds 200,000 ppm, the capacity characteristic will be deteriorated and it will not be suitable as a capacitor.
  • nitriding method for forming niobium nitride any of liquid nitriding, ionic nitriding, gas nitriding and the like may be used, but a gas nitriding method in a nitrogen gas atmosphere is simple and convenient. It is preferable because it is easy.
  • the gas nitriding method in a nitrogen gas atmosphere is achieved by leaving niobium powder in a nitrogen atmosphere.
  • the niobium powder having the desired nitrogen content can be obtained by setting the nitriding atmosphere temperature to not more than 2000 and the leaving time within several 10 hours. Generally, the higher the temperature, the shorter the time of nitriding. If the niobium powder is allowed to stand at room temperature in a nitrogen atmosphere for several 10 hours, a niobium powder having a nitrogen amount of about 10 mass ppm is obtained.
  • the carbonization method for forming niobium carbide may be any of gas carbonization, solid phase carbonization, and liquid carbonization.
  • the niobium powder may be left under a reduced pressure at 200,000 or below for several minutes to several 10 hours together with a carbon material or a carbon source such as an organic substance containing carbon such as methane.
  • the boride method for forming niobium boride may be any of gas boride and solid phase boride.
  • the niobium powder may be left under a reduced pressure at 200,000 for several minutes to several ten hours together with a boron source of boron halide such as boron pellets or trifluoroboron.
  • the niobium sintered body for a capacitor of the present invention is prepared by sintering the aforementioned niobium powder.
  • the production method of the sintered body is not particularly limited, as an example, after the pressure molding niobium powder into a predetermined shape, in 1 to 1 0- 6 T orr, several minutes to several hours, 5 0 There is a method of heating at 0 to 2000.
  • Such a sintered body containing niobium monoxide or niobium mononitride crystals is prepared by previously blending crystal fine powder (approximately 0.1 to 100 am in average particle size) with niobium powder before sintering. Can be prepared.
  • the niobium powder used in the present invention is a partially nitrided niobium powder
  • the rate of temperature rise, maximum temperature, and maximum temperature at the time of sintering a compact of the powder are described.
  • part or all of the nitrided niobium powder can be crystallized into niobium mononitride crystals.
  • the niobium powder used in the present invention is one of the valve metals similar to aluminum and tantalum, its surface is covered with oxide in air.
  • the amount of bound oxygen on the surface varies depending on the average particle size of the niobium powder, and is usually 50,000 to 300,000 mass ppm for niobium powder having an average particle size of 3 to 30 m.
  • the niobium powder containing these oxides is heated in the same manner as in the case of molding and sintering niobium powder obtained by partially nitriding as described above, the rate of temperature rise during sintering, the maximum temperature, the standing time at the maximum temperature, and the temperature drop. By controlling the conditions such as the rate, a part or all of the oxide can be crystallized to obtain a niobium monoxide crystal.
  • the relationship between the sintering conditions described above and the amount of each crystal obtained from nitride and / or oxide can be detected in preliminary experiments.
  • the amount of niobium monoxide crystal and / or Z or niobium mononitride crystal previously mixed with the niobium powder is reduced, and further reduced to zero, and the sintered body contains the above-mentioned predetermined amount of niobium monoxide crystal and / or niobium mononitride crystal. Can be obtained.
  • the content of the niobium monoxide crystal is 0.1 to 20% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, and the content of the niobium mononitride crystal is 0.1 to 20% by mass, preferably 0% by mass. It is preferably from 1 to 10% by mass.
  • the initial capacitance value will be changed. Is undesirably low.
  • the sintered body is used as one electrode (first electrode), and a dielectric is interposed on the surface and a second electrode facing the dielectric is provided.
  • tantalum oxide for example, tantalum oxide, niobium oxide, a polymer substance, a ceramic compound, or the like can be used.
  • Invite tantalum oxide When used as an electrical conductor, tantalum oxide can also be prepared by attaching a tantalum-containing complex, such as an alkoxy complex or an acetyl acetonate complex, to an electrode, followed by hydrolysis and / or thermal decomposition. .
  • niobium oxide is formed by forming a niobium sintered body, which is one of the electrodes, in an electrolytic solution, or a niobium-containing complex, for example, an alkoxy complex or acetyl acetate. It can also be prepared by attaching a nato complex or the like to an electrode, followed by hydrolysis and / or thermal decomposition.
  • a niobium oxide dielectric on a niobium electrode by forming a niobium sintered body in an electrolytic solution or hydrolyzing and / or thermally decomposing a niobium-containing complex on a niobium electrode. It can.
  • the formation of a niobium electrode in an electrolytic solution is usually performed using a protonic acid aqueous solution, for example, a 0.1% phosphoric acid aqueous solution or a sulfuric acid aqueous solution.
  • the capacitor of the present invention becomes an electrolytic capacitor, and the niobium electrode side becomes an anode.
  • the electrode is theoretically not polar and can be used both as an anode and a cathode.
  • a monomer is introduced in a gaseous or liquid state into metal pores or voids.
  • a method of polymerizing, a method of dissolving a polymer substance in an appropriate solvent and introducing the same, and a method of melting and introducing a polymer substance are adopted.
  • the polymer substance include fluororesin, alkyd resin, acrylic resin, and polyethylene terephthalate.
  • polyester resin such as vinyl, vinyl resin, xylylene resin, phenol resin and the like are used.
  • a perovskite compound is formed on the surface of a metal having pores or voids.
  • a metal having pores or voids can be adopted.
  • Lopskite compound Specific examples of the object B aT i 0 3, S rT I_ ⁇ 3, B ASn_ ⁇ 3 etc. Ru mentioned.
  • the second electrode of the capacitor of the present invention is not particularly limited, and includes, for example, at least one compound selected from an electrolytic solution, an organic semiconductor, and an inorganic semiconductor known in the aluminum electrolytic capacitor industry.
  • the electrolyte examples include a mixed solution of dimethylformamide and ethylene glycol in which 5% by mass of isobutyltripropylammoniumporotetrafluoride electrolyte is dissolved, and a propylene solution in which 7% by mass of tetraethylammoniumporotetrafluoride is dissolved.
  • a mixed solution of carbonate and ethylene dalicol is exemplified.
  • organic semiconductor examples include an organic semiconductor composed of benzopyrroline tetramer and chloranil, an organic semiconductor composed mainly of tetrathiotetracene, an organic semiconductor composed mainly of tetracyanoquinodimethane, and the following general formula (1) or ( 2)
  • the inorganic semiconductor include an inorganic semiconductor containing lead dioxide or manganese dioxide as a main component, and an inorganic semiconductor containing triiron tetroxide. Such semiconductors may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the polymer represented by the formula (1) or (2) include polyaniline, polyoxyphenylene, poniphenylene sulfide, polythiophene, polyfuran, polypyrrole, polymethyl virol, and attraction of these polymers. Conductors and the like.
  • a conductor layer may be provided on the second electrode in order to improve the electrical contact with an external lead (for example, a lead frame).
  • the conductor layer can be formed by, for example, solidifying a conductive paste, plating, metal deposition, or forming a heat-resistant conductive resin film.
  • a conductive paste a silver paste, a copper paste, an aluminum paste, a carbon paste, a nickel paste and the like are preferable, and these may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used, they may be mixed or may be stacked as separate layers. After applying the conductive paste, leave it in the air or heat it to solidify it.
  • the plating includes nickel plating, copper plating, silver plating, aluminum plating, and the like. Examples of the metal to be deposited include aluminum, nickel, copper, and silver.
  • a carbon paste and a silver paste are sequentially laminated on the second electrode and sealed with a material such as an epoxy resin to form a capacitor.
  • a material such as an epoxy resin
  • the capacitor of the present invention may have niobium or tantalum leads which are sintered and molded integrally with the niobium sintered body or later welded.
  • the capacitor of the present invention having the above-described configuration can be made into a capacitor product for various uses by, for example, a resin mold, a resin case, a metal outer case, resin dive, and an outer case made of a laminate film.
  • the capacitor formed by the electrodes and the dielectric is housed in, for example, a can electrically connected to the second electrode to form a capacitor.
  • the electrode side of the niobium sintered body is designed so as to be led out to the outside through the above-mentioned niobium or tantalum lead, and to be insulated from the can by insulating rubber or the like.
  • the capacity per unit mass is large, the variation of the specific leakage current value is reduced, and the probability that the value exceeds 10 [nA / nF-V] is obtained. By keeping it low, a capacitor with good specific leakage current characteristics and high reliability can be obtained.
  • niobium monoxide crystal and / or niobium mononitride crystal in the niobium sintered body, a capacitor excellent in high-temperature characteristics can be obtained.
  • the mass of the impurity element contained in the niobium powder was determined by primitive absorption spectrometry.
  • the amount of niobium monoxide crystal and / or niobium mononitride crystal in the niobium sintered body is determined by the mass of each crystal mixed with the mixed powder before sintering and the mixed powder obtained before sintering. 2 ⁇ when X-ray diffraction measurement of the ground powder of the body It was calculated using the ratio of the diffraction intensity.
  • the specific leakage current value is the value obtained by dividing the leakage current value one minute after applying the rated voltage (6.3 V) at room temperature by the product of the capacity (measured at room temperature, 120 kHz) and the rated voltage. Those with a defined specific leakage current value of 10 [nAZ ⁇ F ⁇ V] or less were evaluated as non-defective products, and the number of non-defective products was evaluated for 50 test pieces.
  • the high temperature characteristics of the capacitor are the initial capacitance C at room temperature. (C—C 0 ) ZC, the difference between the capacitance (C—Co) and the capacitance when left at room temperature after being left for 2000 hours with a voltage applied in an atmosphere at 105. Were determined as non-defective if the value was within ⁇ 20%, and 50 samples were evaluated based on the ratio to the number of non-defectives. Test examples 1 to 6:
  • niobium pentachloride and magnesium which had been sufficiently dried in a vacuum at 80, were charged, and a reduction reaction was carried out at 800 in an argon atmosphere for 40 hours. After cooling, the reduced product was washed with water to remove magnesium chloride, washed with sulfuric acid, washed again with water, and vacuum-dried again. Further, 120 g of the dried product was placed in an alumina pot containing silica alumina balls, and ball milled to obtain niobium powder (average particle size: 5 m). 20 g of the niobium powder at this stage was designated as Test Example 1.
  • the remaining 100 g was immersed in a 1: 1 mixture of hydrofluoric acid and nitric acid and stirred. During stirring, 20 g of the niobium powder of Test Examples 2 to 6 was obtained by extracting 20 g every one hour, washing them thoroughly with water until the washing water reached pH 7, and vacuum drying.
  • niobium powder of each test example 50 compacts having a size of 3 mm ⁇ 4 mm ⁇ 1.8 mm were produced. Subsequently, the molded body was left under a vacuum of 5 ⁇ 10_5 Torr at a maximum temperature of 1200 for 30 minutes to obtain a sintered body. These sintered bodies were electrolytically formed (20 V) in a 0.1% phosphoric acid aqueous solution to form a dielectric oxide film on the surface. Next, after immersion in an aqueous solution of manganese nitrate, heating at 220 was repeated. By turning it over, a manganese dioxide layer was formed on the dielectric oxide film as the other opposing electrode layer.
  • a capacitor was manufactured in the same manner as in Test Example 6, except that the other electrode (second electrode) was formed by the method shown in Table 1.
  • Table 2 shows the evaluation results.
  • Potassium and sodium niobium fluorides sufficiently vacuum-dried at 80 were charged into a nickel crucible, and a reduction reaction was performed at 100 in an argon atmosphere for 20 hours. After cooling, the reduced product was washed with water to remove potassium fluoride and sodium fluoride, washed with sulfuric acid, washed again with water, and dried under vacuum. Further, 120 g of the dried product was placed in an alumina pot containing silica-alumina balls, and subjected to pole milling to obtain niobium powder (average particle size: 4 m). 20 g of the niobium powder at this stage was designated as Test Example 10.
  • test examples 16 to 18 Thereafter, 50 capacitors were produced from the niobium powder of each test example in the same manner as in test example 1. Table 2 shows the evaluation results. Test examples 16 to 18:
  • niobium powder obtained in the same manner as in Test Example 10 was put into an alumina porcelain port, and the boat was charged into a SUS304 tube and left in a nitrogen atmosphere at 400 for 3 hours. Thus, a partially nitrided niobium powder having a nitrogen content of about 250 ppm by mass was obtained. This was used as niobium powder of Test Example 16. 20 g of the dip powder obtained in the same manner as in Test Example 10 was placed in a carbon lump and placed in a molybdenum furnace under reduced pressure (approximately 5 ⁇ 10 to 15 Torr). Left for 0 minutes.
  • Test Example 17 After further cooling to room temperature, the mixture was pulverized using a vortex mill to obtain partially carbonized niobium powder having a carbon content of about 1000 mass ppm. This was used as niobium powder of Test Example 17. 20 g of niobium powder obtained in the same manner as in Test Example 17 was further nitrided in the same manner as in Test Example 16, to obtain a carbon content of about 100 mass ppm and a nitriding quantity of about 200 A partially carbonized and partially nitrided niobium powder with a mass ppm was used. This was designated as Test Example 18. The niobium powders of Test Examples 16 to 18 obtained in this manner were washed in the same manner as in Test Example 15, and then capacitors were produced. Table 2 shows the evaluation results. Test Example 19:
  • Test Example 17 except that a platinum crucible containing 1 g of boron pellet was used in place of a carbon crucible containing 20 g of niobium powder, and that leaving at 150 was replaced by leaving it at 100. By performing the same operation as described above, a partially borated niobium powder having a boron content of about 850 mass ppm was obtained.
  • Test Example 20 The niobium powder treated in the same manner as in Example 20 was stirred in a mixture of hydrofluoric acid and nitric acid in a ratio of 1 to 1. 20 g was withdrawn every hour during stirring, and they were removed until the washing water reached pH 7. After thorough washing with water and vacuum drying, 20 g of each of the niobium powders of Test Examples 21 to 24 was obtained. Table 2 shows the evaluation results.
  • Test examples 1 and 2 and Test Examples 3 to 9 in Table 2 Comparison of Test Examples 10, 11 and 12 with Test Examples 11 to 18 and Comparison of Test Examples 20 and 21 with Test Examples 22 to 24 If the total content of impurity elements is 350 mass ppm or less, It can be seen that the current value can reduce the probability of defective products.
  • niobium ingot After hydrogenating the niobium ingot, pulverizing and dehydrogenating the resulting niobium powder with a particle size of 4 m (the surface is covered with about 1.5% by mass of native oxide) and niobium monoxide crystals (Average particle size: 2 m) was mixed at 2% by mass. 0.1 g of this mixed powder was taken and molded simultaneously with niobium lead to obtain a compact having a size of 3 mm ⁇ 4 mm ⁇ 1.8 mm.
  • the molded body was heated in a vacuum of 5 ⁇ 10—5 Torr at a heating rate of 10 for 10 minutes, left at a maximum temperature of 1100 for 30 minutes, and then cooled to an average temperature of 8 while introducing Ar gas.
  • Ot The temperature was lowered in minutes to obtain a sintered body. 200 pieces of this niobium sintered body were prepared, and all were electrolytically formed (20V) in a 0.1% phosphoric acid aqueous solution to form a dielectric oxide film on the surface.
  • the 50 electrodes were divided into four sets, and the other electrode (second electrode) layer shown in Table 3 was formed on the dielectric oxide film. After connecting to the frame, the whole was sealed with epoxy resin to produce a chip-type capacitor.
  • the amount of niobium monoxide crystals of this sintered body was 2.6% by mass. Table 4 shows the evaluation results.
  • Test Example 25 The same niobium powder as in Test Example 25 was left in a nitrogen atmosphere at 40 O: 3 hours to obtain a partially nitrided niobium powder having a nitrogen amount of about 2500 mass ppm. Further, 0.5% by mass of niobium mononitride crystal (average crystal grain size: 0.8 m) was mixed with this powder. A capacitor was manufactured using this mixture in the same manner as in Test Example 25. On the other hand, the amounts of the niobium monoxide crystal and the niobium monitride crystal in the sintered body were 0.5% by mass and 0.7% by mass, respectively. Table 4 shows the evaluation results. Test example 30:
  • niobium powder as in Test Example 25 was placed in a carbon crucible, left under reduced pressure at 150 Ot: for 30 minutes, returned to room temperature, taken out, and then pulverized with a Portec mill to obtain a carbon amount of about 100,000.
  • the powder was niobium powder which was partly carbonized by mass ppm. Further, 7% by mass of the niobium monoxide crystal used in Test Example 25 was mixed with this powder.
  • Test Example 31 The partially carbonized niobium powder of Example 1 was partially carbonized using the same nitriding method as in Test Example 29, with a carbon content of about 1000 ppm by mass and a nitrogen content of about 250 ppm by mass. And a partially nitrided niobium powder was obtained. Further, 0.1% by mass of niobium mononitride powder was mixed with the niobium powder. Using this mixture, a capacitor was manufactured in the same manner as in Test Example 31. On the other hand, the niobium monoxide crystal and the niobium mononitride crystal in this sintered body were 1.3% by mass and 0.35% by mass, respectively. Table 4 shows the evaluation results. Test Example 3 3:
  • a capacitor was manufactured in the same manner as in Test Example 25 except that the amount of the niobium monoxide crystal to be mixed was changed to 20% by mass.
  • the content of niobium monoxide crystal in the sintered body is It was 20.5% by mass. Table 4 shows the evaluation results. Test example 3 4:
  • a capacitor was formed in the same manner as in Test Example 30 except that the amount of the niobium mononitride crystal to be mixed was changed to 20% by mass. The content of niobium monoxide crystals in the sintered body was 21.3% by mass. Table 4 shows the evaluation results. Test Example 3 5:
  • a capacitor was manufactured in the same manner as in Test Example 30 except that the used niobium powder was not partially nitrided, nor was niobium mononitride crystals mixed, and raw materials were used as they were. Table 4 shows the evaluation results. Table 4
  • niobium powder according to the present invention By using the sintered body of niobium powder according to the present invention for a capacitor, a capacitor having a large capacity per unit mass and a good leakage current value can be manufactured. Further, the use of a niobium sintered body containing niobium monoxide crystal and / or niobium mononitride crystal improves the high-temperature characteristics of the condenser.

Description

明細書 ニオブ粉、 ニオブ焼結体、 該焼結体を用いたコンデンサおよびそのコンデン ザの製造方法 関連出願との関係
この出願は、 米国法第 1 1 1条 (b ) の規定に従い 1 9 9 9年 2月 2 5日 に提出された米国仮出願第 6 0 / 1 2 1 , 6 9 2号及び 1 9 9 9年 3月 1 6 日に提出された米国仮出願第 6 0 / 1 2 4 , 6 6 5号の出願日の利益を米国 法第 1 1 9条 (e ) ( i ) により主張する米国法第 1 1 1条 (a ) の規定に 基づく出願である。 技術分野
本発明は、 単位賁量あたりの容量が大きく、 比漏れ電流特性、 高温特性の 良好なコンデンサを製造することが可能なニオブ粉、 ニオブ焼結体、 その焼 結体を用いたコンデンサおよびそのコンデンサの製造方法に関する。 背景技術
携帯電話やパーソナルコンピュータ一等の電子機器に使用されるコンデン サは、 小型大容量のものが望まれている。 このようなコンデンサの中でも夕 ンタルコンデンサは、 大きさの割には容量が大きく、 しかも性能が良好なた め、 好んで使用されている。 このタンタルコンデンサの陽極体としてタンタ ル粉の焼結体が一般的に使用されている。 タンタルコンデンサの容量を上げ るためには、 焼結体質量を増大させるか、 またはタンタル粉を微紛化して表 面積を増加させた焼結体を用いる必要がある。
前者の焼結体質量を増加させる方法では、 コンデンザの形状が必然的に増 大し小型化の要求を満たさない。 一方、 後者のタンタル粉を微紛化して表面 積を増加する方法では、 タンタル焼結体の細孔径が小さくなり、 また焼結段 階で閉鎖孔が多くなり、 後工程における陰極剤の含浸が困難になる。 これら の欠点を解決する研究の一つとして、 タンタルより誘電率の大きい材料を用 いた、 粉末焼結体のコンデンサが考えられている。 これらの誘電率の大きい 材料としてニオブやチタンなどがある。
しかしながら、 これらの材料の焼結体を用いた従来のコンデンサは、 比漏 れ電流特性のばらつきが大きく、 満足のいくものではなかった。 タンタル粉 を使用して焼結体を作製し、 それを電解酸化した後、 他方の電極を組み合わ せてコンデンサを製造した時、 実測値として比漏れ電流値が 1 0 [ n A/ /z F - V] 以下という基準を満足しないものは皆無である。 しかし、 従来のニオブ粉やチタン粉を使用したコンデンサでは、 比漏れ電流値のばら つきが大きく、 この値を超すものが多数存在する場合があった。
また、 これらの材料の焼結体を用いた従来のコンデンサは、 高温特性が不 十分なために実用に供されていない。 これは、 焼結体を電解酸化した後、 他 方の電極を組み合わせてコンデンサを製造した時、 夕ン夕ル粉末を使用した 焼結体では、 高温時の容量特性は通常は室温時の ± 2 0 %以内に収まるのに 対し、 従来のニオブ粉末を使用した焼結体では、 ± 2 0 %以内に入らないも のが出現するためである。
このように、 従来のニオブ粉やチタン粉の焼結体を用いたコンデンサは、 室温での信頼性を低く見積もらざるを得ず、 その結果、 耐用年数不良と判断 され実用化されていない。 発明の概要
本発明者は、 ニオブ系焼結体を用いるコンデンサについて鋭意検討した。 その結果、 不純物元素の含量を低減させたニオブ粉を使用することにより比 漏れ電流値のばらつきの小さいコンデンサが得られることを見出した。 また、 ニオブ粉の焼結体に特定のニオブ化合物の結晶が含まれると高温特性の良好 なコンデンサが得られることを見出し、 これらの知見に基づいて本発明を完 成した。
すなわち、 本発明は以下のコンデンサ用ニオブ粉、 ニオブ焼結体、 その焼 結体を用いたコンデンサおよびそのコンデンサの製造方法に関するものであ る。
1 ) 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマグ ネシゥムの各々の含有量が 1 0 0質量 p p m以下であることを特徴とするコ ンデンサ用ニオブ粉。
2 ) 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマグ ネシゥムの含有量の総和が 3 5 0質量 p p m以下であることを特徴とするコ ンデンサ用ニオブ粉。
3 ) 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマグ ネシゥムの各々の含有量が 1 0 0質量 p p m以下であり、 かつ鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマグネシウムの含有量の 総和が 3 5 0質量 p p m以下であることを特徴とするコンデンサ用ニオブ粉。
4 ) ニオブ窒化物、 ニオブ炭化物、 ニオブホウ化物の少なくとも 1つを含む 前記 1乃至 3のいずれかに記載のコンデンサ用ニオブ粉。
5 ) 前記 1乃至 4のいずれかに記載のニオブ粉を用いたコンデンサ用ニオブ 焼結体。
6 ) 一酸化ニオブ結晶および一窒化ニニオブ結晶の少なくとも 1種を含有す ることを特徴とするコンデンサ用ニオブ焼結体。
7 ) 一酸化ニオブ結晶を 0 . 1〜2 0質量%含有する前記 6記載のコンデン サ用ニオブ焼結体。
8 ) 一窒化ニニオブ結晶を 0 . 1〜2 0質量%含有する前記 6記載のコンデ ンサ用ニオブ焼結体。
9 ) 前記 5乃至 8のいずれかに記載のニオブ焼結体からなる電極および対向 する電極と、 両電極との間に介在する誘電体とから構成されるコンデンサ。
1 0 ) 誘電体が、 酸化タンタル、 酸化ニオブ、 高分子物質またはセラミック 化合物である前記 9に記載のコンデンサ。
1 1 ) 誘電体が、 ニオブ焼結体の化成により表面に形成された酸化ニオブで ある前記 1 0に記載のコンデンサ。
1 2 ) 前記 5乃至 8のいずれかに記載のニオブ焼結体 (第一の電極) の表面 に誘電体を形成した後、 前記誘電体上に対向する第二の電極を設けることを 特徴とするコンデンサの製造方法。
1 3 ) 誘電体が、 酸化タンタル、 酸化ニオブ、 高分子物質またはセラミック 化合物である前記 1 2に記載のコンデンサの製造方法。
1 4 ) 誘電体が、 ニオブ焼結体の化成により表面に形成された酸化ニオブで ある前記 1 3に記載のコンデンサの製造方法。 発明の詳細な説明
本発明者はニオブ粉中の不純物元素である鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリ コン、 ナトリウム、 カリウムおよびマグネシウムの含量が、 各元素単位で 1 0 0質量 p p m以下であること、 またこれら元素の総量が 3 5 0質量 p p m以下であることの条件を満たすと比漏れ電流値のばらつきの小さいコ ンデンサが得られることを確認した。
この様な結果が得られる理由の詳細は必ずしも明らかではないが、 ニオブ 粉中に存在する不純物元素である、 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナ トリゥム、 力リゥムおよびマグネシウムがある程度以上の量を含有すると、 そのようなニオブ粉を用いてコンデンサを作製した時に、 誘電体層内に入り 込み、 電圧を印加した際に電荷の異常集中の原因となり、 その結果、 コンデ ンサの比漏れ電流値がばらつく原因になるものと考えられる。
また、 ニオブ焼結体に特定のニオブ化合物の結晶が含まれると高温でコン デンサの高温特性が改良されるが、 その理由については、 以下のように推定 される。
すなわち、 ニオブ焼結体はタンタル焼結体に比較して誘電体酸化皮膜の安 定性に劣るが、 この理由の一つとして、 誘電体酸化皮膜の組成とニオブ焼結 体の組成が異なるために、 高温での熱ひずみにより誘電体酸化皮膜の劣化が 加速されると考えられる。 しかし、 ニオブ焼結体中に、 一酸化ニオブ結晶お よびノまたは一窒化ニニオブ結晶が含まれると熱ひずみが緩和されるために 高温におけるコンデンサの特性が改良されるものと推定される。
本発明においては、 ニオブ粉の原料として、 一般に入手できるものを用い ることができる。
例えば、 ハロゲン化ニオブのマグネシウムやナトリウムによる還元、 フッ 化ニオブ力リゥムのナトリゥム還元、 フッ化ニオブ力リゥムのニッゲル陰極 上への融解塩 (N a C 1 + K C 1 ) 電解、 金属ニオブィンゴットへの水素導 入等の後に粉砕することによって得られたニオブ粉を用いることができる。 これらの方法によって得られたニオブ粉には、 原料、 還元剤および使用機 器に起因する不純物元素が混入している。 代表的な不純物元素として、 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウム、 およびマグネシゥ ムがある。
本発明では、 ニオブ粉に含まれるこれらの不純物元素の総含有量を 1 0 0 質量 p p m以下、 好ましくは 7 0質量 p p m以下、 より好ましくは 3 0質量 p m以下にすることで、 比漏れ電流値のばらつきを小さくすることができ る。
また、 本発明では、 ニオブ粉に含まれるこれら不純物元素含有量の総和を 3 5 0質量 p p m以下、 好ましくは 3 0 0質量 p p m以下に、 より好ましく は 200質量 p pm以下にすることにより、 比漏れ電流値のばらつきを小さ くすることができる。
本発明において、 ニオブ粉中に含まれる前記元素含有量を所望の値以下に するためには洗浄方法が採用される。 例えば、 フッ酸、 硝酸、 硫酸、 塩酸の うち少なくとも一つを含んだ酸およびアルカリを、 または前記酸、 アルカリ および過酸化水素水を、 順次使用もしくは共用して洗浄を繰り返すことで不 純物元素の含有量を各々 100質量 p pm以下にすることができる。
また、 例えば硫酸で充分に洗浄した後、 この硫酸痕を除去するために、 ァ ルカリで中和させた後、 水洗を繰り返す。 また、 硝酸を使用する場合、 同時 に過酸化水素水を共用することにより、 粉の硝酸による酸化を防ぐことがで きるので好都合である。
洗浄方法としては、 前記した試薬中で、 不純物の含有量が所定量以下にな るまでの時間、 ニオブ粉を撹拌して抜き出す方法を採用してもよい。
本発明者は、 ニオブ粉中にその一部が窒素、 炭素、 ホウ素の少なくとも 1 つと結合している化合物が含まれていると漏れ電流特性が改善されることを
1 した。
このような化合物としては、 窒素、 炭素、 ホウ素の結合物であるニオブ窒 化物、 ニオブ炭化物、 ニオブホウ化物が挙げられる。 これらはいずれか 1種 を含有しても良く、 またこれらの 2種、 3種の組み合わせで含有してもよい。 そのようなニオブ窒化物、 ニオブ炭化物、 ニオブホウ化物などの含有量は、 ニオブ粉の形状によっても変わるが、 平均粒径 0. 2〜30^m程度の粉で 50〜200000 ppm、 好ましくは 300〜20000 p pmである。 50 p pm未満では、 漏れ電流特性が悪化し、 200000 p pmを越える と容量特性が悪化しコンデンサとして適さないものとなる。
ニオブ窒化物を形成する窒化方法としては、 液体窒化、 イオン窒化、 ガス 窒化等のいずれでもよいが、 窒素ガス雰囲気によるガス窒化法が、 簡便で容 易なため好ましい。
窒素ガス雰囲気によるガス窒化方法は、 ニオブ粉を窒素雰囲気中に放置す ることで達成される。 窒化する雰囲気温度は 2 0 0 0 以下、 放置時間は数 1 0時間以内で目的とする窒素量のニオブ粉が得られる。 一般に温度が高い 程短時間で窒化される。 また、 室温で窒素雰囲気中に数 1 0時間ニオブ粉を 放置しておくと、 数 1 0質量 p p m程度の窒素量のニオブ粉が得られる。 ニオブ炭化物を形成する炭化方法も、 ガス炭化、 固相炭化、 液体炭化いず れでもよい。 例えば、 ニオブ粉を炭素材やメタン等の炭素を含有する有機物 等の炭素源とともに減圧下に 2 0 0 0で以下で数分〜数 1 0時間放置してお けばよい。
ニオブホウ化物を形成するホウ化方法も、 ガスホウ化、 固相ホウ化いずれ であってもよい。 例えば、 ニオブ粉をホウ素ペレットやトリフルォロホウ素 等のハロゲン化ホウ素のホウ素源とともに減圧下に 2 0 0 0で以下で数分〜 数 1 0時間放置しておけばよい。
本発明のコンデンサ用ニオブ焼結体は、 前述したニオブ粉を焼結して調製 される。 焼結体の製造方法は特に限定されるものではないが、 一例として、 ニオブ粉を所定の形状に加圧成形した後、 1〜1 0— 6 T o r rで、 数分〜数 時間、 5 0 0〜2 0 0 0でで加熱する方法が挙げられる。
また、 本発明においては、 ニオブ焼結体に一酸化ニオブ (N b O) 結晶お よび または一窒化ニニオブ (N b 2 N) 結晶を含有させることによりコン デンサの高温特性が改良される。
このような一酸化ニオブあるいは一窒化ニニオブの結晶を含む焼結体は、 予め焼結前のニオブ粉末に結晶微粉末 (おおよそ、 平均粒径 0 . 1〜1 0 0 a m) を配合させておくことにより調製することができる。
また、 本発明に使用するニオブ粉末を、 一部窒化したニオブ粉末とする場 合には、 該粉末の成形体を焼結する時の昇温速度、 最高温度、 最高温度での 放置時間、 降温速度等の条件を適当に制御することによって窒化したニオブ 粉末の一部または全部を結晶化させて一窒化ニニオブ結晶とすることができ る。
本発明に使用されるニオブ粉末は、 アルミ、 タンタルと同様の弁作用金属 の 1種であるため、 空気中では、 表面が酸化物に覆われている。 表面の結合 酸素量は、 ニオブ粉末の平均粒径によって変化し、 通常、 平均粒径 3〜3 0 mのニオブ粉末では 5 0 0〜 3 0 0 0 0質量 p p mである。 これらの酸化 物を有するニオブ粉末は、 前述した一部を窒化したニオブ粉末を成形して焼 結する場合と同様に、 焼結時の昇温速度、 最高温度、 最高温度での放置時間、 降温速度等の条件を制御することにより、 一部または全部の酸化物を結晶化 させ、 一酸化ニオブ結晶とすることができる。
これらの焼結時の条件の調整による結晶化手法を用いる場合、 前述した焼 結時条件と窒化物およびノまたは酸化物から得られる各結晶量の関係を予備 実験で検知しておくことにより、 予めニオブ粉末に混合させる一酸化ニオブ 結晶および Zまたは一窒化ニニオブ結晶の量を減少、 さらには零として、 前 述した所定量の一酸化ニオブ結晶および または一窒化ニニオブ結晶の含有 された焼結体を得ることができる。
一酸化ニオブ結晶の含有量は 0 . 1ないし 2 0質量%、 好ましくは 0 . 1 ないし 1 0質量%であり、 一窒化ニニオブ結晶の含有量は 0 . 1ないし 2 0 質量%、 好ましくは 0 . 1ないし 1 0質量%であるのが好ましい。 各々、
2 0質量%を越えると、 かえって初期の容量値 C。が低くなり好ましくない。 前述した、 焼結体を一方の電極 (第一の電極) とし、 その表面に誘電体を 介在させて誘電体上に対向する第二の電極を設けたコンデンサを製造するこ とができる。
コンデンサの誘電体としては、 例えば、 酸化タンタル、 酸化ニオブ、 高分 子物質、 セラミック化合物などを使用することができる。 酸化タンタルを誘 電体として用いる場合、 酸化タンタルは、 タンタルを含有する錯体、 例えば、 アルコキシ錯体、 ァセチルァセトナート錯体等を電極に付着後、 加水分解お よび/または熱分解することによって作製することもできる。
誘電体として、 酸化ニオブを用いる場合、 酸化ニオブは、 一方の電極であ るニオブ焼結体を電解液中で化成するか、 またはニオブを含有する錯体、 例 えば、 アルコキシ錯体、 ァセチルァセトナート錯体等を電極に付着後、 加水 分解および/または熱分解することによって作製することもできる。 このよ うにニオブ焼結体を電解液中で化成するか、 またはニオブ含有錯体を、 ニォ ブ電極上で加水分解および または熱分解することによって、 ニオブ電極上 に酸化ニオブ誘電体を形成することができる。 ニオブ電極を電解液中で化成 するには、 通常プロトン酸水溶液、 例えば 0 . 1 %りん酸水溶液または硫酸 水溶液を用いて行なわれる。
ニオブ電極を電解液中で化成して酸化ニオブ誘電体を得る場合、 本発明の コンデンサは、 電解コンデンサとなり、 ニオブ電極側が陽極となる。 錯体を 分解して得る場合、 該電極は、 理論的に極性はなく、 陽極としても、 陰極と しても使用可能である。
高分子物質を誘電体とするには、 例えば特公平 7— 6 3 0 4 5号公報に記 載されるように、 金属の細孔または空隙部にモノマ一をガス状または液状で 導入して重合する方法、 高分子物質を適当な溶媒に溶解して導入する方法、 高分子物質を融解して導入する方法が採られる。 高分子物質としては、 例え ば、 フッ素樹脂、 アルキッド樹脂、 アクリル樹脂、 ポリエチレンテレフタレ
—卜などのポリエステル樹脂、 ビニル系樹脂、 キシリレン樹脂、 フエノール 樹脂等が用いられる。
セラミック化合物を誘電体とするには、 例えば特公平 7— 8 5 4 6 1号公 報に記載されるように、 細孔または空隙部を有する金属の表面にぺロプス力 ィト型化合物を生成させる方法を採ることができる。 ぺロプスカイト型化合 物の具体例としては B aT i 03、 S rT i〇3、 B aSn〇3等が挙げられ る。
一方、 本発明のコンデンサの第二の電極は格別限定されるものではなく、 例えば、 アルミ電解コンデンサ業界で公知である電解液、 有機半導体および 無機半導体から選ばれた少なくとも一種の化合物が挙げられる。
電解液の具体例としてはィソブチルトリプロピルアンモニゥムポロテトラ フルオラィド電解質を 5質量%溶解したジメチルホルムアミドとエチレング リコールの混合溶液、 テトラエチルアンモニゥムポロテトラフルォライドを 7質量%溶解したプロピレンカーボネートとエチレンダリコールの混合溶液 等が挙げられる。
有機半導体の具体例としては、 ベンゾピロリン四量体とクロラニルからな る有機半導体、 テトラチォテトラセンを主成分とする有機半導体、 テトラシ ァノキノジメタンを主成分とする有機半導体、 下記一般式 (1) または (2)
Figure imgf000012_0001
(式中、 尺1〜!^4は水素、 炭素数 1〜6のアルキル基または炭素数 1〜6の アルコキシ基を表わし、 これらは互いに同一であっても相違してもよく、 X は酸素、 ィォゥまたは窒素原子を表わし、 R5は Xが窒素原子のときのみ存 在して水素または炭素数 1〜6のアルキル基を表わし、 1^と1^2ぉょび1^3 と R4は互いに結合して環状になっていてもよい。 )
で示される繰り返し単位を 2以上含む重合体にド一パントをドープした電導 性高分子を主成分とした有機半導体が挙げられる。
無機半導体の具体例としては、 二酸化鉛または二酸化マンガンを主成分と する無機半導体、 四三酸化鉄からなる無機半導体などが挙げられる。 このよ うな半導体は単独でも、 または二種以上組み合わせて使用してもよい。
式 (1 ) または (2 ) で示される高分子としては、 例えば、 ポリア二リン、 ポリオキシフエ二レン、 ポニフエ二レンサルファイド、 ポリチォフェン、 ポ リフラン、 ポリピロール、 ポリメチルビロール、 およびこれらの高分子の誘 導体などが挙げられる。
上記有機半導体および無機半導体として、 電導度 1 0 _ 2 S · c m―1〜 1 0 3 S · c m— 1の範囲のものを使用すると、 作製したコンデンサのインピ —ダンス値がより小さくなり、 高周波での容量をさらに一層大きくすること ができる。
さらに、 第二の電極が固体の場合には、 その上に外部外出しリード (例え ば、 リードフレーム) との電気的接触をよくするために、 導電体層を設けて もよい。
導電体層としては、 例えば、 導電べ一ストの固化、 メツキ、 金属蒸着、 耐 熱性の導電樹脂フィルムの形成等により形成することができる。 導電ペース トとしては、 銀ぺ一スト、 銅ペースト、 アルミペースト、 カーボンペースト、 ニッケルペースト等が好ましいが、 これらは 1種を用いても 2種以上を用い てもよい。 2種以上を用いる場合、 混合してもよく、 または別々の層として 重ねてもよい。 導電ペーストを適用した後、 空気中に放置するか、 または加 熱して固化せしめる。 メツキとしては、 ニッケルメツキ、 銅メツキ、 銀メッ キ、 アルミメツキ等が挙げられる。 また蒸着金属としては、 アルミニウム、 ニッケル、 銅、 銀等が挙げられる。
具体的には、 例えば第二の電極上に力一ボンペースト、 銀ペーストを順次 積層し、 エポキシ樹脂のような材料で封止してコンデンサが構成される。 こ のコンデンサは、 ニオブ焼結体と一体に焼結成型された、 または後で溶接さ れたニオブまたはタンタルリードを有していてもよい。
以上のような構成の本発明のコンデンサは、 例えば、 樹脂モールド、 樹脂 ケース、 金属製の外装ケース、 樹脂のデイツビング、 ラミネートフィルムに よる外装などの外装により各種用途のコンデンサ製品とすることができる。 また、 第二の電極が液体の場合には、 前記両極と誘電体から構成されたコ ンデンサを、 例えば、 第二の電極と電気的に接続した缶に収納してコンデン ザが形成される。 この場合、 ニオブ焼結体の電極側は、 前記したニオブまた はタンタルリ一ドを介して外部に導出すると同時に、 絶縁性ゴム等により、 缶との絶縁がはかられるように設計される。
以上に説明したようにコンデンサを作製することにより、 単位質量あたり の容量が大きく、 比漏れ電流値のばらつきを小さくして、 その値が 1 0 [ n A/ n F - V] を越える確率を低く押さえることにより、 比漏れ電 流特性が良好で信頼性の高いコンデンサを得ることができる。
さらに、 ニオブ焼結体に一酸化ニオブ結晶および または一窒化ニニオブ 結晶を含有させることにより、 高温特性にも優れたコンデンサを得ることが できる。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明を下記の具体例に基づいて詳細に説明するが、 下記の例より 本発明は何ら制限されるものではない。
なお、 下記の試験例において、 ニオブ粉中に含有される不純物元素の質量 は、 原始吸光分析により求めた。
また、 ニオブ焼結体中の一酸化ニオブ結晶および または一窒化ニニオブ 結晶の結晶量は、 焼結前の混合粉末に混合された各結晶の質量および焼結前 の混合粉末と得られた焼結体の粉碎粉をそれぞれ X線回折測定した時の 2 Θ 回折強度の比を用いて算出した。
比漏れ電流値は、 室温にて定格電圧 (6. 3 V) を印加した 1分後の漏れ 電流値を、 容量 (室温、 120 kHzで測定) と定格電圧の積で割った値と して定義される比漏れ電流値が 10 [nAZ^F · V] 以下のものを良品と して、 50個の試験数について良品の個数比で評価した。
コンデンサの高温特性は、 室温時の初期の容量 C。と、 105で雰囲気中 で電圧印加した状態で 2000時間放置した後室温に戻した時の容量じとの 差 (C— Co) との比 (C— C0) ZC。を求め、 その値が ±20%以内に収 まるものを良品と判定して、 50個の試料について良品数との比で評価した。 試験例 1〜 6 :
ニッケルるつぼ中に、 80でで充分に真空乾燥させた 5塩化ニオブとマグ ネシゥムを投入し、 アルゴン雰囲気中 800でで 40時間還元反応を行なつ た。 冷却後、 塩化マグネシウムを取り除くために還元物を水洗した後、 硫酸 で洗浄後、 再度、 水洗真空乾燥した。 さらに、 乾燥物 120 gをシリカアル ミナボールが入ったアルミナポットに入れ、 ボールミル粉碎し、 ニオブ粉と した (平均粒径 5 m) 。 この段階のニオブ粉の 20 gを試験例 1とした。 残り 100 gをフッ酸と硝酸の 1 : 1混合液中に浸潰し撹拌した。 撹拌中に 1時間おきに 20 gずつ抜き出し、 それらを洗浄水が pH 7になるまで十分 に水洗した後、 真空乾燥することにより試験例 2〜6のニオブ粉各 20 gを 得た。
各試験例のニオブ粉から、 大きさ 3mmX 4mmX 1. 8 mmの成形体を 50個作製した。 引き続き、 その成形体を、 5 X 10_5To r rの真空下に て、 最高温度 1200 で 30分放置して、 焼結体とした。 これらの焼結体 を 0. 1 %りん酸水溶液中で電解化成 ( 20 V) して表面に誘電体酸化皮膜 を形成した。 次に、 硝酸マンガン水溶液に浸漬後、 220ででの加熱を繰り 返すことにより、 誘電体酸化皮膜上に、 他方の対向する電極層として二酸化 マンガン層を形成した。 引き続き、 その上に、 カーボン層及び銀ペースト層 を順次に積層し、 次に、 リードフレームに載せた後、 全体をエポキシ樹脂で 封止して、 チップ型コンデンサを 5 0個作製した。 評価結果を表 2に示した。 試験例 7〜9 :
他方の電極 (第二の電極) を表 1に示した方法で形成した以外は、 試験例 6と同様に、 コンデンサを製造した。 評価結果を表 2に示した。 表 1
Figure imgf000016_0001
試験例 1 0〜: 1 5 :
ニッケルるつぼ中に、 8 0でで充分に真空乾燥したフッ化ニオブカリウム とナトリウムを投入し、 アルゴン雰囲気中 1 0 0 0 で 2 0時間還元反応を 行なった。 冷却後、 フッ化カリウムおよびフッ化ナトリウムを取り除くため に還元物を水洗した後、 硫酸で洗浄後、 再度水洗し、 真空乾燥した。 さらに、 乾燥物 1 2 0 gをシリカアルミナボールが入ったアルミナポットに入れ、 ポ —ルミル粉碎し、 ニオブ粉とした (平均粒径 4 m) 。 この段階のニオブ粉 の 2 0 gを試験例 1 0とした。 残り 1 0 0 gを硝酸と過酸化水素水の 3 : 2 混合液中に浸潰し撹拌した。 撹拌中に 1時間おきに 2 0 gづっ抜き出し、 そ れらを洗浄水の P Hが 7になるまで十分に水洗した後、 真空乾燥することに より試験例 1 1〜1 5のニオブ粉各 2 0 gを得た。
その後、 各試験例のニオブ粉から、 試験例 1と同様にしてコンデンサを 5 0個作製した。 評価結果を表 2に示した。 試験例 1 6〜 1 8 :
試験例 1 0と同様な方法で得たニオブ粉 2 0 gをアルミナ磁製ポートに入 れ、 そのボートを S U S 3 0 4管中に仕込んで、 窒素雰囲気中に 4 0 0で 3 時間放置して、 窒素量約 2 5 0 0質量 p p mの一部窒化されたニオブ粉とし た。 これを試験例 1 6のニオブ粉とした。 試験例 1 0と同様な方法で得た二 ォブ粉 2 0 gを炭素るっぽに入れ、 モリブデン炉中で減圧下 (約 5 X 1 0一5 T o r r ) に 1 5 0 0 * 3 0分放置した。 さらに室温に冷却後、 ボルテック ミルを用いて粉砕し、 炭素量約 1 0 0 0質量 p p mの一部炭化されたニオブ 粉とした。 これを、 試験例 1 7のニオブ粉とした。 試験例 1 7と同様の方法 で得たニオブ粉 2 0 gを、 さらに、 試験例 1 6と同様な方法で窒化させて、 炭素量約 1 0 0 0質量 p p m、 窒化量約 2 0 0 0質量 p p mの一部炭化およ び一部窒化されたニオブ粉とした。 これを試験例 1 8とした。 このようにし て得た試験例 1 6〜 1 8のニオブ粉を、 試験例 1 5と同様に洗浄後、 それぞ れコンデンサを作製した。 評価結果を表 2に示した。 試験例 1 9 :
ニオブ粉 2 0 gを入れた炭素るつぼの代わりにホウ素ペレツト 1 gを入れ た白金るつぼを使用し、 さらに 1 5 0 0 での放置を 1 0 0 0 での放置に した以外は試験例 1 7と同様の操作を行い、 ホウ素量約 8 5 0質量 p p mの 一部ホウ化されたニオブ粉を得た。 試験例 2 0〜 2 4 :
S U S 3 0 4製の反応器に 6 Ο ππη φのニオブインゴットを投入し、 一度 真空 (約 6 X 1 0— 4 T o r r ) にして脱気した後 8 0 0 に温度上昇させた。 続いて水素を導入した後、 3 5 0でに昇温し 5 0時間水素を導入し続けた。 冷却後、 水素化されたニオブ塊を鉄製ボールを入れた S U S 3 0 4製のポッ 卜に入れ粉砕した。 更にこの粉碎物を前述した S U S 3 0 4製の反応器に入 れ、 再度、 前述した条件で水素化した。 次に、 鉄製の湿式粉砕機 (商品名 「アトライ夕」 , 三井鉱山株式会社製) に、 この水素化物と水とジルコニァ ポールとを入れ、 湿式粉砕した。 その後、 硫酸洗浄と水洗浄を行なった後、 真空乾燥してニオブ粉 (平均粒径 約 1 0 0 gを得た。 この段階の二 ォブ粉を試験例 2 0とした。 さらに、 試験例 2 0と同様に処理したニオブ粉 をフッ酸と硝酸の 1 : 1の混合液中で撹拌した。 撹拌中に 1時間おきに 2 0 gずつ抜き出し、 それらを洗浄水が p H 7になるまで十分に水洗した後、 真 空乾燥することにより試験例 2 1〜 2 4のニオブ粉各 2 0 gを得た。 その後、 各試験例のニオブ粉から、 試験例 1と同様にしてコンデンサを 5 0個作製し た。 評価結果を表 2に示した。
表 2
Figure imgf000019_0001
表 2の試験例 1、 2、 3と試験例 4〜9の比較、 試験例 10、 11と試験 例 12〜 18の比較、 および試験例 20、 21と試験例 22〜 24の比較に より、 不純物元素の各々の含有量が 100質量 ppm以下とすると、 比漏れ 電流値が不良品の確率を低くすることができることが分かる。
表 2の試験例 1、 2と試験例 3〜9の比較、 試験例 10、 1 1、 12と試 験例 1 1〜 18の比較、 および試験例 20、 21と試験例 22〜 24の比較 により、 不純物元素の含有量の総和が 350質量 ppm以下とすると、 比漏 れ電流値が不良品の確率を低くすることができることが分かる。 試験例 25〜 28 :
ニオブインゴットを水素化した後、 粉砕し、 脱水素して得られた粒径 4 mのニオブ粉末 (表面は約 1. 5質量%の自然酸化物で覆われている) に、 一酸化ニオブ結晶 (平均粒径 2 m) を 2質量%混合した。 この混合粉末を 0. l gとり、 ニオブリードと同時に成形して、 大きさ 3mmX4mmX 1. 8 mmの成形体を得た。 引き続きこの成形体を 5 X 10—5 To r rの真 空下で、 昇温速度 10で 分で昇温し、 最高温度 1100でで 30分放置後、 A rガスを投入しながら降温速度平均 8 Ot:,分で降温させ焼結体とした。 このニオブ焼結体を 200本用意し、 全数を 0. 1%りん酸水溶液中で電解 化成 (20V) して表面に誘電体酸化皮膜を形成した。 次に 50本ずつ 4組 に分け、 誘電体酸化皮膜上に、 表 3に示す他方の電極 (第二の電極) 層を形 成後、 力一ボンペースト、 銀ペーストをこの順に積層し、 リードフレームに 接続後、 全体をエポキシ樹脂で封止して、 チップ型コンデンサを製造した。 一方この焼結体の一酸化ニオブ結晶の量は、 2. 6質量%であった。 評価結 果を表 4に示した。
表 3
Figure imgf000021_0001
試験例 29 :
試験例 25と同様のニオブ粉末を、 窒素雰囲気中に 40 O : 3時間放置し、 窒素量約 2500質量 p pmからなる一部窒化されたニオブ粉末にした。 さ らに、 この粉末に一窒化ニニオブ結晶 (平均結晶粒径 0. 8 m) を 0. 5 質量%混合した。 この混合物を用いて、 試験例 25と同様に、 コンデンサを 製造した。 一方、 この焼結体中の一酸化ニオブ結晶および一窒化ニニオブ結 晶の量は各 0. 5質量%、 0. 7質量%であった。 評価結果を表 4に示した。 試験例 30 :
ニオブインゴットを水素化した後、 粉砕し、 脱水素して得られた平均粒径 5. 5 /mのニオブ粉末 (表面は約 0. 8質量%の自然酸化物で覆われてい る) を、 窒素雰囲気中に 800で 3時間放置し、 窒素量約 15000質量 p pmからなる一部窒化されたニオブ粉末にした。 さらに、 この粉末にー窒化 二ニオブ結晶 (平均結晶粒径 0. 2 m) を 5質量%混合した。 この混合物 を用いて、 試験例 25と同様に、 コンデンサを製造した。 一方、 この焼結体 中の一窒化ニニオブ結晶の量は 6. 3質量%であった。 評価結果を表 4に示 した。 試験例 3 1 :
試験例 2 5と同様のニオブ粉末を、 炭素るつぼに入れ減圧下 1 5 0 O t:で 3 0分放置し、 室温に戻して取り出した後、 ポルテックミルで粉砕し、 炭素 量約 1 0 0 0質量 p p mの一部炭化されたニオブ粉末とした。 さらにこの粉 末に、 試験例 2 5で使用した一酸化ニオブ結晶を 7質量%混合した。 この混 合物を試験例 2 5と同様に成形した後、 この成形体を 6 X 1 0 _ 5 T o r rの 真空下で、 昇温速度 4 ノ分で昇温し、 最高温度 1 2 0 0でで 1時間放置後、 ガスを入れ替えることなく室温まで 1 0時間かけて戻すことによりニオブ焼 結体とした。 このニオブ焼結体を、 試験例 2 5と同様にして、 コンデンサを 製造した。 一方、 この焼結体中の一酸化ニオブ結晶の量は 8 . 3質量%であ つた。 評価結果を表 4に示す。 試験例 3 2 :
試験例 3 1の一部炭化されたニオブ粉末を、 試験例 2 9と同様な窒化方法 を用いて、 炭素量約 1 0 0 0質量 p p m、 窒素量約 2 5 0 0質量 p p mの一 部炭化および一部窒化されたニオブ粉末を得た。 さらに、 このニオブ粉末に、 一窒化ニニオブ粉末 0 . 1質量%を混合した。 この混合物を用いて、 試験例 3 1と同様にして、 コンデンサを製造した。 一方、 この焼結体中の一酸化二 ォブ結晶および一窒化ニニオブ結晶は各々 1 . 3質量%、 0 . 3 5質量%で あった。 評価結果を表 4に示す。 試験例 3 3 :
混合する一酸化ニオブ結晶を 2 0質量%にした以外は、 試験例 2 5と同様 にして、 コンデンサを製造した。 焼結体中の一酸化ニオブ結晶の含有量は、 2 0 . 5質量%であった。 評価結果を表 4に示す。 試験例 3 4 :
混合する一窒化ニニオブ結晶を 2 0質量%にした以外は、 試験例 3 0と同 様にして、 コンデンサを形成した。 焼結体中の一酸化ニオブ結晶の含有量は、 2 1 . 3質量%であった。 評価結果を表 4に示した。 試験例 3 5 :
使用したニオブ粉末を、 一部窒化せず、 また一窒化ニニオブ結晶も混合せ ず、 原料そのままのものを用いた以外は、 試験例 3 0と同様にして、 コンデ ンサを製造した。 評価結果を表 4に示す。 表 4
Figure imgf000023_0001
表 4の試験例 2 5〜 3 4と試験例 3 5の結果を比べることにより焼結体中 に 0 . 1質量%以上の該結晶が存在することにより、 高温特性がより良好に なることがわかる。
また、 試験例 2 5と試験例 3 3、 および試験例 3 0と試験例 3 4との結果 を各々比べることにより該結晶量が 2 0質量%を越えると初期容量が小さく なることがわかる。 産業上の利用可能性
本発明によるニオブ粉の焼結体をコンデンサに利用することにより、 単位 質量あたりの容量が大きく、 漏れ電流値の良好なコンデンサを製造すること ができる。 また、 一酸化ニオブ結晶および または一窒化ニニオブ結晶を含 有するニオブ焼結体を使用することにより、 コンデンザの高温特性が改善さ れる。

Claims

請求の範囲
1 . 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマ グネシゥムの各々の含有量が 1 0 0質量 p p m以下であることを特徴とする コンデンサ用ニオブ粉。
2 . 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマ グネシゥムの含有量の総和が 3 5 0質量 p p m以下であることを特徴とする コンデンサ用ニオブ粉。
3 . 鉄、 ニッケル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマ グネシゥムの各々の含有量が 1 0 0質量 p p m以下であり、 かつ鉄、 ニッケ ル、 コバルト、 シリコン、 ナトリウム、 カリウムおよびマグネシウムの含有 量の総和が 3 5 0質量 p p m以下であることを特徴とするコンデンサ用ニォ ブ粉。
4. ニオブ窒化物、 ニオブ炭化物、 ニオブホウ化物の少なくとも 1つを含 む請求の範囲 1乃至 3のいずれかに記載のコンデンサ用ニオブ粉。
5 . 請求の範囲 1乃至 4のいずれかに記載のニオブ粉を用いたコンデンサ 用ニオブ焼結体。
6 . 一酸化ニオブ結晶および一窒化ニニオブ結晶の少なくとも 1種を含有 することを特徴とするコンデンサ用ニオブ焼結体。
7 . 一酸化ニオブ結晶を 0 . 1〜2 0質量%含有する請求の範囲 6記載の コンデンサ用ニオブ焼結体。
8 . —窒化ニニオブ結晶を 0 . 1〜2 0質量%含有する請求の範囲 6記載 のコンデンサ用ニオブ焼結体。
9 . 請求の範囲 5乃至 8のいずれかに記載のニオブ焼結体からなる電極お よび対向する電極と、 両電極との間に介在する誘電体とから構成されるコン デンサ。
1 0 . 誘電体が、 酸化タンタル、 酸化ニオブ、 高分子物質またはセラミツ ク化合物である請求の範囲 9に記載のコンデンサ。
1 1 . 誘電体が、 ニオブ焼結体の化成により表面に形成された酸化ニオブ である請求の範囲 1 0に記載のコンデンサ。
1 2 . 請求の範囲 5乃至 8のいずれかに記載のニオブ焼結体 (第一の電 極) の表面に誘電体を形成した後、 前記誘電体上に対向する第二の電極を設 けることを特徴とするコンデンサの製造方法。
1 3 . 誘電体が、 酸化タンタル、 酸化ニオブ、 高分子物質またはセラミツ ク化合物である請求の範囲 1 2に記載のコンデンザの製造方法。
1 4. 誘電体が、 ニオブ焼結体の化成により表面に形成された酸化ニオブ である請求の範囲 1 3に記載のコンデンサの製造方法。
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