WO2001091034A1 - Method for marking a material and method for reading said marking - Google Patents

Method for marking a material and method for reading said marking Download PDF

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WO2001091034A1
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Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs)
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Definitions

  • This object is achieved by a process for reading structures or information written in a material, in which the surface of the material is scanned, without modifying the structures or the information, with an electromagnetic reading source, characterized in that the material is subjected to two different beams for reading: a first excitation beam, for heating the material and a second detection beam for detecting the variation in the thermal properties of the material.
  • an image of the photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast of the surface thus scanned is collected.
  • the writing is adapted to be read by collecting an image of optical contrast, of a surface scanned with an electromagnetic reading source.
  • the methods in accordance with the invention find applications in the fields in which discrete (optically invisible, for example) and reliable markings may be required (heating above 300 ° C. is tolerable without deterioration for most metallic materials and time alone does not cause any degradation in the medium term, which allows markings / recordings in the very long term).
  • discrete (optically invisible, for example) and reliable markings may be required (heating above 300 ° C. is tolerable without deterioration for most metallic materials and time alone does not cause any degradation in the medium term, which allows markings / recordings in the very long term).
  • the first excitation source 2 is a power laser, for example an argon laser.
  • the intensity modulator 4 is an acousto-optical modulator which diffracts the light coming from the first excitation source 2, according to the level of electric power which is applied to it.
  • the intensity modulator 4 is controlled by control electronics (not shown) and the low frequency generator 6.
  • the reading method an excitation operation and a detection operation are carried out.
  • the writing marking is read by an optical, thermal or thermo-elastic method using the device described above in relation to FIG. 1, sensitive to the changes in properties induced by phase transformation.
  • the reading which is carried out at a lower temperature than the marking, does not modify the marking carried out.
  • the second excitation source 12 emits a beam which is reflected perpendicular to the surface of the sample. Part of this beam is used to provide optical and thermal images respectively linked to the static and dynamic reflection coefficients, while the other part allows the detection of displacements. normal to the surface of the sample, ie thermoelastic deformations, by interferometry.

Abstract

The invention concerns a method for reading structures or data written in a material, which consists in scanning the surface of the material, without modifying the structures or data, with an electromagnetic reading source. The invention is characterised in that it consists in collecting an image of the photothermal or photo-thermoelastic contrast of the scanned surface. The invention also concerns a method for writing in a material, which consists in exposing said material to a electromagnetic writing source to bring about a phase transition in a volume located in said material. The invention is characterised in that it consists in modifying, during said phase transition, the thermal, and optionally the mechanical, properties of the material, so as to modify the photothermal or photothermoplastic contrast of the material and in marking it for subsequent reading of the photothermal or photo-thermoelastic contrast of the marked surface.

Description

PROCEDE DE MARQUAGE D'UN MATERIAU ET PROCEDE DE LECTURE DE CE MARQUAGEMETHOD OF MARKING A MATERIAL AND METHOD OF READING THIS MARKING
L'invention concerne le domaine de la lecture et de l'écriture d'un marquage sur des produits. Plus précisément, selon un aspect, l'invention concerne un procédé de lecture d'un marquage inscrit sur un matériau, avec une source électromagnétique de lecture. Selon un autre aspect l'invention concerne un procédé de marquage, dans lequel on expose un matériau à une source électromagnétique pour provoquer une transition de phase dans un volume localisé de ce matériau. L'invention concerne également les produits marqués par ce procédé de marquage.The invention relates to the field of reading and writing markings on products. More specifically, according to one aspect, the invention relates to a method of reading a marking inscribed on a material, with an electromagnetic reading source. According to another aspect the invention relates to a marking method, in which a material is exposed to an electromagnetic source to cause a phase transition in a localized volume of this material. The invention also relates to the products marked by this marking process.
On connaît déjà des procédés de lecture optique, dans lesquels on mesure le coefficient de réflexion d'une source électromagnétique sur un matériau. Ce type de procédé de lecture optique est par exemple couramment utilisé pour lire des disques compacts. Dans ce cas, la source électromagnétique est un laser.Optical reading methods are already known, in which the reflection coefficient of an electromagnetic source on a material is measured. This type of optical reading process is for example commonly used to read compact discs. In this case, the electromagnetic source is a laser.
Un but de l'invention est de fournir un procédé de lecture d'un type nouveau d'un marquage d'un matériau.An object of the invention is to provide a method for reading a new type of marking of a material.
Ce but est atteint grâce à un procédé de lecture de structures ou d'informations inscrites dans un matériau, dans lequel on balaye la surface du matériau, sans modifier les structures ou les informations, avec une source électromagnétique de lecture, caractérisé par le fait que l'on soumet le matériau à deux faisceaux différents pour la lecture : un premier faisceau d'excitation, pour réchauffement du matériau et un second faisceau de détection pour la détection de la variation des propriétés thermiques du matériau. Selon une caractéristique avantageuse, l'on recueille une image du contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique de la surface ainsi balayée.This object is achieved by a process for reading structures or information written in a material, in which the surface of the material is scanned, without modifying the structures or the information, with an electromagnetic reading source, characterized in that the material is subjected to two different beams for reading: a first excitation beam, for heating the material and a second detection beam for detecting the variation in the thermal properties of the material. According to an advantageous characteristic, an image of the photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast of the surface thus scanned is collected.
Dans le cas de l'invention, la lecture est réalisée par un relevé spatial des propriétés photo-thermiques et/ou photo-thermo-élastiques d'un matériau. On utilise pour réaliser ce type de relevé, une source de rayonnement électromagnétique. Avantageusement celle-ci est modulée en intensité. Typiquement il s'agit d'une source laser. Elle permet de moduler la température du matériau. L'interaction entre l'onde électromagnétique et le matériau produit, par conversion photo-thermique, une élévation de température localisée. Le chauffage résultant engendre de nombreux phénomènes physiques dans le matériau et son environnement. Le procédé de lecture conforme à l'invention est basé sur la détection des propriétés thermiques et/ou thermo-élastiques des matériaux.In the case of the invention, the reading is carried out by a spatial reading of the photo-thermal and / or photo-thermo-elastic properties of a material. To make this type of survey, a source of electromagnetic radiation is used. Advantageously, this is modulated in intensity. Typically it is a laser source. It modulates the temperature of the material. The interaction between the electromagnetic wave and the material produces, by photo-thermal conversion, a localized temperature rise. The resulting heating generates many physical phenomena in the material and its environment. The reading process according to the invention is based on the detection of the thermal and / or thermo-elastic properties of the materials.
L'analyse des propriétés thermiques des matériaux est effectuée par exemple, par des mesures de la réflectivité. En effet, la réflectivité d'un matériau dépend de sa température. L'analyse des propriétés thermo-élastiques des matériaux est réalisée par exemple par une méthode interférométrique, en mesurant les déformations locales des matériaux engendrées par conversion thermo-élastique.The analysis of the thermal properties of the materials is carried out for example, by measurements of the reflectivity. Indeed, the reflectivity of a material depends on its temperature. The analysis of the thermo-elastic properties of the materials is carried out for example by an interferometric method, by measuring the local deformations of the materials generated by thermo-elastic conversion.
Le procédé de lecture selon l'invention comporte avantageusement les caractéristiques suivantes, prises indépendamment ou en combinaison : - l'amplitude et la phase du signal correspondant à la réflectivité dynamique thermique du matériau ou à ses déformations thermo-élastiques sont séparées par détection synchrone ou une méthode équivalente, par exemple par corrélation ;The reading method according to the invention advantageously comprises the following characteristics, taken independently or in combination: - the amplitude and the phase of the signal corresponding to the dynamic thermal reflectivity of the material or to its thermoelastic deformations are separated by synchronous detection or an equivalent method, for example by correlation;
- l'image du contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique est recueillie sans contact avec la surface du matériau ;- the photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast image is collected without contact with the surface of the material;
- les paramètres de la source électromagnétique de lecture sont choisis de manière à détecter une structure d'écriture sous-jacente à la surface ; et- the parameters of the electromagnetic reading source are chosen so as to detect a writing structure underlying the surface; and
- les paramètres de la source électromagnétique de lecture sont choisis de manière à détecter un contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique dû à une différence de phase du matériau.the parameters of the electromagnetic reading source are chosen so as to detect a photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast due to a phase difference of the material.
Avantageusement, selon le procédé de lecture selon l'invention on recueille une image du contraste photothermique, en mesurant l'émission infrarouge. Cette technique permet de n'utiliser qu'un récepteur et de s'affranchir de la nécessité d'avoir une source d'excitation pour l'opération de détection.Advantageously, according to the reading method according to the invention, an image of the photothermal contrast is collected, by measuring the infrared emission. This technique makes it possible to use only one receiver and to get rid of the need to have a source of excitation for the detection operation.
Selon un autre aspect l'invention est un procédé d'écriture d'un matériau dans lequel on expose ce matériau à une source électromagnétique d'écriture pour provoquer une transition de phase dans un volume localisé de ce matériau, caractérisé par le fait que l'on modifie, au cours de cette transition de phase, les propriétés thermiques, et éventuellement mécaniques, du matériau, de manière à changer le contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique du matériau et à le marquer pour une lecture ultérieure du contraste photothermique ou photo-thermo-élastique.According to another aspect the invention is a method of writing a material in which this material is exposed to an electromagnetic writing source to cause a phase transition in a localized volume of this material, characterized in that one modifies, during this phase transition, the thermal, and possibly mechanical, properties of the material, so as to change the photo contrast -thermal or photo-thermo-elastic of the material and to mark it for a later reading of the photothermal or photo-thermo-elastic contrast.
Le procédé d'écriture selon l'invention présente avantageusement les caractéristiques suivantes prises indépendamment ou en combinaison :The writing method according to the invention advantageously has the following characteristics taken independently or in combination:
- la source électromagnétique d'écriture est une source laser ; - l'écriture est adaptée pour être lue en recueillant une image du contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique, d'une surface balayée avec une source électromagnétique de lecture ; dans ce cas, la lecture est avantageusement effectuée en utilisant une puissance de la source électromagnétique d'écriture supérieure à la puissance de la source électromagnétique de lecture, au minimum d'un facteur 1 ,5, et préférentiellement d'un facteur compris entre 2 et 5 ; et- the electromagnetic writing source is a laser source; - the writing is adapted to be read by collecting an image of photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast, of a surface scanned with an electromagnetic reading source; in this case, the reading is advantageously carried out using a power of the electromagnetic writing source greater than the power of the electromagnetic reading source, at least by a factor of 1.5, and preferably by a factor of between 2 and 5; and
- l'écriture est adaptée pour être lue en recueillant une image du contraste optique, d'une surface balayée avec une source électromagnétique de lecture. Les procédés conformes à l'invention trouvent des applications dans les domaines dans lesquels on peut avoir besoin de marquages discrets (invisibles optiquement, par exemple) et fiables (un échauffement supérieur à 300°C est supportable sans altération pour la plupart des matériaux métalliques et le temps seul n'entraîne aucune dégradation à moyen terme, ce qui permet des marquages / enregistrements à très long terme). Parmi les applications envisageables, on peut citer :- the writing is adapted to be read by collecting an image of optical contrast, of a surface scanned with an electromagnetic reading source. The methods in accordance with the invention find applications in the fields in which discrete (optically invisible, for example) and reliable markings may be required (heating above 300 ° C. is tolerable without deterioration for most metallic materials and time alone does not cause any degradation in the medium term, which allows markings / recordings in the very long term). Among the possible applications, we can cite:
- le marquage discret de billets ou autres titres monétaires (pièces,...), de cartes bancaires, le marquage de documents confidentiels ou de documents de sécurité ; - la traçabilité d'objets de valeur et en particulier de bijoux (marquage permettant de contrôler l'origine et l'appartenance) ; - le marquage antivol sur différents types de véhicules (la discrétion du marquage est ici un gage de sécurité ; de plus le procédé de lecture selon l'invention effectue une détection dans le volume de l'objet marqué - souvent métallique ; l'objet marqué peut donc subir toutes les conditions climatiques usuelles pendant des dizaines d'années sans que la lecture soit altérée ;- discreet marking of banknotes or other monetary securities (coins, ...), bank cards, marking of confidential documents or security documents; - the traceability of valuables and in particular jewelry (marking to control the origin and belonging); - the anti-theft marking on different types of vehicles (the discretion of the marking is here a guarantee of security; moreover, the reading process according to the invention detects in the volume of the marked object - often metallic; the marked object can therefore undergo all the usual climatic conditions for decades without the reading being altered;
- le stockage d'informations sous forme analogique ou numérique, inaltérable dans le temps ; la densité d'information peut être équivalente à celle d'un disque compact actuel (CD audio., CD - R, DVD-RAM par exemple) ;- the storage of information in analog or digital form, unalterable over time; the density of information can be equivalent to that of a current compact disc (audio CD, CD - R, DVD-RAM for example);
- etc. L'invention selon un autre aspect est un produit marqué par le procédé d'écriture selon l'invention.- etc. The invention according to another aspect is a product marked by the writing method according to the invention.
D'autres buts, aspects et avantages de l'invention seront mieux compris à l'aide de la description détaillée qui suit. L'invention sera également mieux comprise à l'aide des dessins sur lesquels : - la figure 1 représente un schéma d'un mode de réalisation d'un dispositif par la mise en oeuvre des procédés d'écriture et de lecture conformes à la présente invention ;Other objects, aspects and advantages of the invention will be better understood with the aid of the detailed description which follows. The invention will also be better understood with the aid of the drawings in which: FIG. 1 represents a diagram of an embodiment of a device by the implementation of the writing and reading methods in accordance with the present invention;
- les figures 2a à 2e représentent un ensemble d'images de lecture obtenues dans le cadre d'un premier exemple de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention, sur le dispositif représenté à la figure 1 ;- Figures 2a to 2e represent a set of reading images obtained in the context of a first example of implementation of the reading method according to the invention, on the device shown in Figure 1;
- les figures 3a à 3e représentent un ensemble d'images de lecture obtenues dans le cadre d'un deuxième exemple de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention, sur le dispositif représenté à la figure 1 ,FIGS. 3a to 3e represent a set of reading images obtained in the context of a second example of implementation of the reading method according to the invention, on the device represented in FIG. 1,
- la figure 4 représente schématiquement une structure de marquage apte à être lue dans le cadre d'un troisième exemple de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention, sur le dispositif illustré par la figure 1 ;- Figure 4 schematically shows a marking structure capable of being read in the context of a third example of implementation of the reading method according to the invention, on the device illustrated in Figure 1;
- la figure 5 illustre schématiquement, en coupe, un échantillon de test pour la mise en œuvre d'un procédé de lecture selon l'invention ; et- Figure 5 schematically illustrates, in section, a test sample for the implementation of a reading method according to the invention; and
- la figure 6 représente l'évolution des signaux optiques (trait plein) et thermique (trait en pointillés) en fonction de la zone de l'échantillon comportant la structure de marquage représentée à la figure 4. L'invention est décrite de manière détaillée ci-dessous dans le cadre de sa mise en œuvre avec un exemple particulier, mais non limitatif, de dispositif d'écriture et de lecture.FIG. 6 represents the evolution of the optical (solid line) and thermal (dotted line) signals as a function of the area of the sample comprising the marking structure shown in FIG. 4. The invention is described in detail below in the context of its implementation with a particular, but not limiting, example of a writing and reading device.
Selon cet exemple, représenté sur la figure 1 , le dispositif d'écriture et de lecture pour la mise en œuvre des procédés selon l'invention, comporte une première source d'excitation 2, un modulateur d'intensité 4, un générateur basses fréquences 6, un miroir 8, un objectif 10, une deuxième source d'excitation 12, un photo détecteur 14, un démodulateur 16, des premier 18 et deuxième 20 détecteurs synchrones, un micro ordinateur 22, un porte- échantillon 24, et un dispositif de déplacement 26 du porte-échantillon 24.According to this example, represented in FIG. 1, the writing and reading device for implementing the methods according to the invention, comprises a first excitation source 2, an intensity modulator 4, a low frequency generator 6, a mirror 8, a lens 10, a second excitation source 12, a photo detector 14, a demodulator 16, first 18 and second 20 synchronous detectors, a microcomputer 22, a sample holder 24, and a device movement 26 of the sample holder 24.
La première source d'excitation 2 est un laser de puissance, par exemple un laser argon. Le modulateur d'intensité 4 est un modulateur acousto-optique qui diffracte la lumière issue de la première source d'excitation 2, selon le niveau de puissance électrique qui lui est appliqué. Le modulateur d'intensité 4 est commandé par une électronique de commande (non représentée) et le générateur basses fréquences 6.The first excitation source 2 is a power laser, for example an argon laser. The intensity modulator 4 is an acousto-optical modulator which diffracts the light coming from the first excitation source 2, according to the level of electric power which is applied to it. The intensity modulator 4 is controlled by control electronics (not shown) and the low frequency generator 6.
Le miroir 8 est un miroir dichroïque. Le miroir 8 dichroïque protège le photo-détecteur 14, du faisceau « parasite » délivré par la première source d'excitation 2. L'objectif 10 est un objectif de microscope qui focalise le faisceau issu du modulateur d'intensité 4, sur l'échantillon disposé sur le porte-échantillon 24. La deuxième source d'excitation 12 est un laser hélium-néon. Le fonctionnement de ce dispositif est le suivant. Le procédé d'écriture consiste à transformer la surface et dans une certaine mesure le volume du matériau de l'échantillon par échauffement, de façon irréversible dans des conditions normales de conservation de ce dernier (il est à noter qu'en général, un effacement de l'écriture est possible par la même méthode). Par exemple, on transformera un matériau amorphe par recristallisation. Dans le cas des métaux, un polissage grossier de la surface permet de désorganiser la surface du matériau. Au cours de l'opération d'écriture, le matériau tendra à retrouver localement la structure organisée du métal. Pour la mise en œuvre du procédé d'écriture, seule la partie excitation du dispositif est utilisée. Cette partie excitation est essentiellement composée de la première source d'excitation 2, du modulateur d'intensité 4 et son électronique de commande, ainsi que du générateur basses fréquences 6. Le faisceau issu de la première source d'excitation 2, est modulé en intensité par le modulateur d'intensité 4. Ce faisceau est tout d'abord réfléchi par le miroir 8 dichroïque puis focalisé à l'aide de l'objectif 10 de microscope. Le modulateur d'intensité 4 et le dispositif de déplacement 26 sont pilotés par le micro-ordinateur 22 de telle sorte que l'écriture soit effectuée avec la puissance requise et aux endroits appropriés.The mirror 8 is a dichroic mirror. The dichroic mirror 8 protects the photo-detector 14 from the “parasitic” beam delivered by the first excitation source 2. The objective 10 is a microscope objective which focuses the beam coming from the intensity modulator 4, on the sample placed on the sample holder 24. The second excitation source 12 is a helium-neon laser. The operation of this device is as follows. The writing process consists in transforming the surface and to a certain extent the volume of the material of the sample by heating, irreversibly in normal conditions of conservation of the latter (it should be noted that in general, an erasure writing is possible by the same method). For example, an amorphous material will be transformed by recrystallization. In the case of metals, rough polishing of the surface makes it possible to disorganize the surface of the material. During the writing operation, the material will tend to regain the organized structure of the metal locally. For the implementation of the writing process, only the excitation part of the device is used. This excitation part is essentially composed of the first excitation source 2, of the intensity modulator 4 and its control electronics, as well as of the low frequency generator 6. The beam coming from the first excitation source 2, is modulated in intensity by the intensity modulator 4. This beam is firstly reflected by the dichroic mirror 8 then focused using the microscope objective 10. The intensity modulator 4 and the displacement device 26 are controlled by the microcomputer 22 so that the writing is carried out with the required power and in the appropriate places.
Pour la mise en œuvre du procédé de lecture, on réalise une opération d'excitation et une opération de détection. La lecture du marquage d'écriture s'effectue par une méthode optique, thermique ou thermo-élastique grâce au dispositif décrit plus haut en relation avec la figure 1 , sensible aux modifications de propriétés induites par transformation de phase. La lecture, qui s'effectue à plus basse température que le marquage, ne modifie pas le marquage effectué.For the implementation of the reading method, an excitation operation and a detection operation are carried out. The writing marking is read by an optical, thermal or thermo-elastic method using the device described above in relation to FIG. 1, sensitive to the changes in properties induced by phase transformation. The reading, which is carried out at a lower temperature than the marking, does not modify the marking carried out.
Pour l'opération d'excitation, on utilise à nouveau la partie d'excitation décrite ci-dessus, mais la puissance moyenne de la première source d'excitation 2 est réduite pour rester en régime réversible, c'est à dire pour une lecture non destructive. A la sortie de l'objectif 10, l'énergie optique contenue dans le faisceau focalisé est transformée en ondes thermiques par conversion photo-thermique générant ainsi un chauffage local de l'échantillon. Puis par conversion thermo-élastique l'élévation de température engendre des dilatations locales de l'échantillon. Ces déformations thermo-élastiques dynamiques évoluent à la fréquence de modulation du générateur basses fréquences 6 et sont détectées à la surface de l'échantillon par la partie détection.For the excitation operation, the excitation part described above is again used, but the average power of the first excitation source 2 is reduced to remain in reversible regime, that is to say for a reading. non-destructive. At the output of the objective 10, the optical energy contained in the focused beam is transformed into thermal waves by photo-thermal conversion thus generating local heating of the sample. Then by thermo-elastic conversion the rise in temperature generates local dilations of the sample. These dynamic thermoelastic deformations evolve at the modulation frequency of the low frequency generator 6 and are detected at the surface of the sample by the detection part.
Pour l'opération de détection, la deuxième source d'excitation 12, émet un faisceau qui est réfléchi perpendiculairement à la surface de l'échantillon. Une partie de ce faisceau est utilisée pour fournir des images optiques et thermiques liées respectivement aux coefficients de réflexion statique et dynamique, alors que l'autre partie permet la détection des déplacements normaux à la surface de l'échantillon, c'est à dire des déformations thermoélastiques, par interférométrie.For the detection operation, the second excitation source 12 emits a beam which is reflected perpendicular to the surface of the sample. Part of this beam is used to provide optical and thermal images respectively linked to the static and dynamic reflection coefficients, while the other part allows the detection of displacements. normal to the surface of the sample, ie thermoelastic deformations, by interferometry.
Une lame séparatrice non représentée, à coté du miroir 8 dichroïque, réfléchit, sur le photodétecteur 14, approximativement 10% du faisceau issu de la deuxième source d'excitation 12 et réfléchi par l'échantillon. L'électronique associée au photodétecteur 14 délivre deux signaux. Le premier signal est filtré par un dispositif passe-bas et correspond à la composante statique de la réflectivité c'est à dire au signal optique. Le second signal est filtré dans un filtre passe-haut et correspond par conséquent à la composante dynamique de la réflectivité c'est à dire au signal thermique qui est envoyé, via le démodulateur 16, sur le premier détecteur synchrone 18.A separating plate, not shown, next to the dichroic mirror 8, reflects, on the photodetector 14, approximately 10% of the beam coming from the second excitation source 12 and reflected by the sample. The electronics associated with the photodetector 14 delivers two signals. The first signal is filtered by a low-pass device and corresponds to the static component of the reflectivity, ie the optical signal. The second signal is filtered in a high-pass filter and consequently corresponds to the dynamic component of the reflectivity, that is to say to the thermal signal which is sent, via the demodulator 16, to the first synchronous detector 18.
Par ailleurs, l'élévation de température engendre des dilatations locales du matériau. Ces déformations thermo-élastiques, qui évoluent au rythme de la fréquence de modulation, sont détectées à la surface de l'échantillon par le faisceau d'une sonde interférométrique 13 hétérodyne à haute résolution (typiquement 10"2 pmΛ/Hz). Les différences de chemin optiques sont converties par cette sonde interférométrique 13, sous la forme d'un signal électrique par un photodétecteur large bande (sonde laser) et sont démodulées par une électronique spécifique de démodulation de phase. Le signal ainsi obtenu est envoyé sur le deuxième détecteur synchrone 20 afin d'extraire l'amplitude (partie énergétique) et la phase (partie « propagative ») du signal thermoélastique.In addition, the rise in temperature generates local expansions of the material. These thermoelastic deformations, which evolve at the rate of the modulation frequency, are detected on the surface of the sample by the beam of a high resolution heterodyne interferometric probe 13 (typically 10 "2 pmΛ / Hz). optical pathways are converted by this interferometric probe 13, in the form of an electrical signal by a broadband photodetector (laser probe) and are demodulated by specific phase demodulation electronics. The signal thus obtained is sent to the second detector synchronous 20 in order to extract the amplitude (energetic part) and the phase (“propagative” part) of the thermoelastic signal.
Les informations obtenues point par point sont envoyées au microordinateur 22 qui gère l'affichage des résultats ainsi que le balayage assuré par le dispositif de déplacement 26. Ce dernier comporte deux unités de translations croisées XY de grande précision. Un convertisseur analogique- numérique, non représenté sur la figure 1 , permet d'acquérir « en temps réel » les différents signaux issus des premier 18 et deuxième 20 détecteurs synchrones ainsi que le signal optique. Ce microscope fonctionne entièrement sans contact avec une fréquence de travail ajustable entre quelques centaines de Hertz et quelques centaines de kiloHertz. Ce microscope est un microscope multi-acquisition, il permet, comme indiqué ci-dessus, d'obtenir plusieurs types d'images :The information obtained point by point is sent to the microcomputer 22 which manages the display of the results as well as the scanning provided by the displacement device 26. The latter comprises two XY cross translation units of high precision. An analog-digital converter, not shown in FIG. 1, makes it possible to acquire “in real time” the different signals from the first 18 and second 20 synchronous detectors as well as the optical signal. This microscope operates entirely without contact with an adjustable working frequency between a few hundred Hertz and a few hundred kiloHertz. This microscope is a microscope multi-acquisition, it allows, as indicated above, to obtain several types of images:
• une image optique de la surface, par un fonctionnement analogue à un microscope optique à balayage, • deux images de photoréflectivité (amplitude et phase) : ce sont les images photo-thermiques,• an optical image of the surface, by an operation analogous to a scanning optical microscope, • two photoreflectivity images (amplitude and phase): these are photo-thermal images,
• deux images photo-thermo-élastiques (amplitude et phase).• two photo-thermo-elastic images (amplitude and phase).
Le dispositif décrit ci-dessus est tout à fait adapté à un usage industriel pour des matériaux présentant un coefficient de réflexion optique élevé et une faible rugosité. Ce dernier point est important si l'on souhaite éviter la diffraction du faisceau sonde par la surface de l'échantillon (en pratique, l'effet de diffraction est limité par l'objectif de microscope).The device described above is entirely suitable for industrial use for materials having a high optical reflection coefficient and a low roughness. This last point is important if one wishes to avoid diffraction of the probe beam by the surface of the sample (in practice, the diffraction effect is limited by the microscope objective).
Il est à noter que la détection optique peut être utile pour un positionnement "visuel", c'est à dire par rapport aux éléments de l'échantillon visibles optiquement.It should be noted that optical detection can be useful for "visual" positioning, that is to say in relation to the optically visible elements of the sample.
Trois exemples, de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention sont décrits ci-dessous.Three examples of the implementation of the reading method according to the invention are described below.
Selon le premier exemple de mise en oeuvre, à titre illustratif les lettres « LPMO » ont été marquées sur un échantillon de nickel polycristallin (cet échantillon ayant été préalablement poli mécaniquement de façon grossière). Chaque lettre a une hauteur de 5 micromètres. La focalisation a été optimisée en utilisant un objectif 10 de type x100 qui permet une résolution optique d'environ 0,5 μm. Néanmoins, un autre objectif 10 peut être utilisé en fonction de la taille du motif marqué et de la profondeur du marquage. Le marquage thermique représenté à la figure 2 a été réalisé avec une puissance de laser de 180 mW et avec l'objectif 10 x100, en attendant 100 ms à chaque pas minimal (100 nm) du dispositif de déplacement 26.According to the first example of implementation, by way of illustration, the letters “LPMO” were marked on a sample of polycrystalline nickel (this sample having been roughly mechanically polished beforehand). Each letter has a height of 5 micrometers. Focusing has been optimized using a 10x type x100 lens which provides an optical resolution of around 0.5 μm. However, another objective 10 can be used depending on the size of the marked pattern and the depth of the marking. The thermal marking represented in FIG. 2 was carried out with a laser power of 180 mW and with the 10 × 100 objective, waiting for 100 ms at each minimum step (100 nm) of the displacement device 26.
Les figures 2a à 2e correspondent à la lecture des lettres « LPMO » par le microscope photothermoélastique multi-acquisition décrit ci-dessus. La taille des images présentées est de 28x13 microns. La lecture s'effectue comme indiqué précédemment. La fréquence de modulation est de 8kHz (valeur non critique), la puissance d'excitation est de 36mW pour la lecture (5 fois moins importante que celle utilisée pour le marquage). Les images optique 2a de l'amplitude photothermique 2b, de l'amplitude thermoélastique 2d et de la phase thermoélastique 2e, ne présentent pas le contraste du marquage des lettres « LPMO », par transformation de phase, par recristallisation du nickel. Seule l'image de la phase photothermique 2f permet de lire le marquage de lettres « LPMO ».FIGS. 2a to 2e correspond to the reading of the letters “LPMO” by the multi-acquisition photothermoelastic microscope described above. The size of the images presented is 28x13 microns. The reading is carried out as indicated previously. The modulation frequency is 8 kHz (non-critical value), the excitation power is 36 mW for reading (5 times less important than that used for marking). The optical images 2a of the photothermal amplitude 2b, of the thermoelastic amplitude 2d and of the thermoelastic phase 2e, do not exhibit the contrast of the marking of the letters "LPMO", by phase transformation, by recrystallization of nickel. Only the image of the photothermal phase 2f makes it possible to read the marking of letters "LPMO".
Selon le deuxième exemple de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention, le matériau est marqué optiquement, par exemple, par marquage thermique, c'est à dire sans enlèvement de matière. Lorsque l'on dépasse un certain seuil de puissance dépendant du matériau de l'échantillon choisi et de l'état de surface, la zone est endommagée (fusion du matériau en surface) laissant apparaître optiquement les informations. De nombreux matériaux peuvent être ainsi marqués (Silicium, acier, cuivre, nickel, NiB, etc. Deux exemples illustrés par les figures 3a et 3e et 4a à 4e correspondent à des applications de la gravure optique respectivement sur du Silicium et sur de l'acier et ses répercussions sur les images thermiques et thermoélastiques. La taille des lettres ainsi marquées peut être inférieure à 10 micromètres, alors que l'œil humain perçoit des objets d'une taille supérieure à 50 micromètres. Selon le troisième exemple de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention, on détecte des informations qui sont masquées optiquement par un film métallique en surface. Il suffit pour cela que les effets topographiques soient suffisamment faibles pour ne pas permettre une détection visuelle. Les résultats présentés ci-dessous montrent clairement que ce processus peut s'appliquer à la lecture d'informations écrites sous la surface de l'objet.According to the second example of implementation of the reading method according to the invention, the material is optically marked, for example, by thermal marking, that is to say without removal of material. When a certain power threshold is exceeded depending on the material of the sample chosen and the surface condition, the area is damaged (melting of the material on the surface) leaving the information to appear optically. Many materials can be so marked (Silicon, steel, copper, nickel, NiB, etc. Two examples illustrated by Figures 3a and 3e and 4a to 4e correspond to applications of optical etching respectively on Silicon and on steel and its repercussions on thermal and thermoelastic images. The size of the letters thus marked can be less than 10 micrometers, while the human eye perceives objects of a size greater than 50 micrometers. According to the third example of implementation of the reading method according to the invention, information is detected which is optically masked by a metallic film on the surface. It suffices for this that the topographic effects are sufficiently weak not to allow visual detection. The results presented below show clearly that this process can be applied to reading information written beneath the surface of the object.
La figure 5 illustre schématiquement, en coupe, un échantillon de test pour ce troisième exemple de mise en œuvre du procédé de lecture selon l'invention. Cet échantillon est constitué d'un substrat 30 de quartz sur lequel est déposé un motif 32 d'aluminium, de 500Â d'épaisseur, destiné à être lu, le tout étant recouvert d'une couche 34 de titane, également de 500A d'épaisseur. Le motif 32 d'aluminium et la couche 34 de titane sont optiquement opaques.FIG. 5 schematically illustrates, in section, a test sample for this third example of implementation of the reading method according to the invention. This sample consists of a quartz substrate 30 on which is deposited a pattern 32 of aluminum, 500 Å thick, intended to be read, the whole being covered with a layer 34 of titanium, also 500A thick. The pattern 32 of aluminum and the layer 34 of titanium are optically opaque.
Les conditions expérimentales associées à ce troisième exemple de mise œuvre du procédé de lecture selon l'invention sont : objectif de focalisation x20, et fréquence de modulation de 8kHz.The experimental conditions associated with this third example of implementation of the reading method according to the invention are: x20 focusing objective, and modulation frequency of 8 kHz.
Plusieurs tests on été effectués afin de voir si le motif 32 subsurface est détectable. Il est à noter que le faisceau de détection (faisceau sonde HeNe) est confondu avec le faisceau d'excitation (faisceau Argon). Les résultats sont présentés dans les deux tableaux ci-dessous.Several tests have been carried out in order to see if the pattern 32 subsurface is detectable. It should be noted that the detection beam (HeNe probe beam) is coincident with the excitation beam (Argon beam). The results are presented in the two tables below.
Le tableau 1 représente l'amplitude |Uz| et la phase Pha(Uz) du coefficient thermo-élastique Uz selon la direction normale à la surface de l'échantillon, sur la zone de l'échantillon avec le motif subsurface 32 (avant) et sur la zone de l'échantillon sans le motif subsurface 32 (après).Table 1 represents the amplitude | Uz | and the phase Pha (Uz) of the thermo-elastic coefficient Uz in the direction normal to the surface of the sample, on the area of the sample with the subsurface pattern 32 (front) and on the area of the sample without the subsurface motif 32 (after).
Les tableaux 1 et 2 présentent également les variations de cette valeur ainsi que la réflectivité dynamique quand on passe d'une zone avec le motif subsurface 32 à une zone sans celui-ci.Tables 1 and 2 also show the variations of this value as well as the dynamic reflectivity when passing from an area with the subsurface pattern 32 to an area without it.
Les tableaux 1 et 2 regroupent ces différentes valeurs, pour différentes valeurs du grossissement de l'objectif 10 et de la fréquence de modulation.Tables 1 and 2 group these different values, for different values of the magnification of objective 10 and the modulation frequency.
TABLEAU 1TABLE 1
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0001
Le tableau 2 présente l'amplitude |T| et la phase Pha(T) de la réflectivité dynamique thermique, sur la zone de l'échantillon avec le motif subsurface 32 (avant) et en zone de l'échantillon sans motif subsurface 32 (après).Table 2 presents the amplitude | T | and the phase Pha (T) of the dynamic thermal reflectivity, on the area of the sample with the subsurface pattern 32 (before) and in the area of the sample without the subsurface pattern 32 (after).
TABLEAU 2TABLE 2
Objectif et |T| avant JT| après δ|T| relatif Pha(T) Pha(T) δPha(T) fréquence de (μ ) (μV) avant (deg) après (deg) (deg) modulation
Figure imgf000013_0001
Objective and | T | before JT | after δ | T | relative Pha (T) Pha (T) δPha (T) frequency of (μ) (μV) before (deg) after (deg) (deg) modulation
Figure imgf000013_0001
Les résultats regroupés dans les tableaux précédents montrent que pour obtenir les meilleurs résultats, c'est à dire les meilleurs contrastes, il est préférable de travailler au maximum de focalisation (*100) et avec la plus haute fréquence de modulation possible (ici 100 kHz) pour la détection du signal photothermique qui présente une variation de 64 % en amplitude.The results grouped in the previous tables show that to obtain the best results, that is to say the best contrasts, it is preferable to work at maximum focus (* 100) and with the highest possible modulation frequency (here 100 kHz ) for the detection of the photothermal signal which has a variation of 64% in amplitude.
Plus on augmente la fréquence de modulation plus on sonde des paramètres proches de la surface.The more the modulation frequency is increased the more parameters close to the surface are probed.
La figure 6 présente l'évolution des signaux optique (trait plein) et thermique (trait en pointillés), en fonction de la distance parcourue X, lors d'un balayage passant d'une zone sans le motif 32 à une zone avec le motif 32. Les variations de ces signaux sont traduites par des variations du niveau de gris des images. La partie droite des deux courbes correspondant à la zone sans le motif 32 et la partie de gauche des deux courbes correspondant à la zone avec le motif 32. Pour l'acquisition de ces courbes, la constante de temps τ est de 300 ms et le temps d'attente est de 3 τ.FIG. 6 shows the evolution of the optical (solid line) and thermal (dotted line) signals, as a function of the distance traveled X, during a scan passing from an area without the pattern 32 to an area with the pattern 32. The variations in these signals are reflected by variations in the gray level of the images. The right part of the two curves corresponding to the area without the pattern 32 and the left part of the two curves corresponding to the area with the pattern 32. For the acquisition of these curves, the time constant τ is 300 ms and the waiting time is 3 τ.
Le laser Argon peut fournir une puissance réglable du milliWatt à environ deux watt. Néanmoins la mise œuvre du procédé de d'écriture nécessite, selon l'invention, peu de puissance du fait de la focalisation du faisceau par l'objectif 10 de microscope. Une puissance de 180 mW par exemple peut être utilisée. Par contre, la puissance disponible peut s'avérer très utile dans le cas d'un faisceau d'excitation non focalisé pour de l'imagerie parallèle avec une caméra CDD par exemple. La densité de puissance dans le cas non focalisé peut ainsi atteindre 7,35.105 W/m2, et dans le cas focalisé 1.65.1012 W/m2 ( avec un objectif x100 et sachant que le diamètre minimum du faisceau est de 1 ,5 μr ).The Argon laser can provide adjustable power from one milliWatt to about two watts. However, the implementation of the writing method requires, according to the invention, little power due to the focusing of the beam by the microscope objective 10. A power of 180 mW for example can be used. On the other hand, the available power can prove to be very useful in the case of an unfocused excitation beam for parallel imaging with a CDD camera for example. The power density in the non-focused case can thus reach 7.35.10 5 W / m 2 , and in the focused case 1.65.10 12 W / m 2 (with an x100 objective and knowing that the minimum diameter of the beam is 1 , 5 μr).
En ce qui concerne la modulation d'intensité du faisceau, le modulateur acousto-optique est classiquement positionné en incidence de Bragg permettant ainsi la division du faisceau en deux parties (l'ordre 0 et l'ordre +1 ou -1) dont les intensités sont liées à l'amplitude de la tension appliquée. L'électronique de commande du modulateur acousto-optique 4 délivre un signal en fréquence de 40MHz qui génère, par conversion piézoélectrique, un réseau de diffraction dans le modulateur. Ce signal à 40MHz est modulé en amplitude par le générateur basses fréquences conduisant ainsi à la modulation d'intensité du faisceau. Aussi, est-il préférable que le générateur basses fréquences, qui est la source du système, ait une grande stabilité en phase car il délivre une tension destinée à moduler l'intensité du faisceau du laser de puissance, et conditionne par conséquent la qualité de l'excitation. Il est cependant à noter que le modulateur acousto-optique n'est pas utile si le laser 2 est modulable directement. As far as beam intensity modulation is concerned, the acousto-optical modulator is conventionally positioned in Bragg incidence, thus allowing the beam to be divided into two parts (order 0 and order +1 or -1) whose intensities are related to the amplitude of the applied voltage. The acousto-optic modulator 4 control electronics deliver a 40 MHz frequency signal which generates, by piezoelectric conversion, a diffraction grating in the modulator. This signal at 40MHz is amplitude modulated by the low frequency generator thus leading to beam intensity modulation. Also, it is preferable that the low frequency generator, which is the source of the system, has a great stability in phase because it delivers a voltage intended to modulate the intensity of the beam of the laser of power, and consequently conditions the quality of excitation. It should however be noted that the acousto-optical modulator is not useful if the laser 2 can be directly modulated.

Claims

REVENDICATIONS
1. Procédé de lecture de structures ou d'informations inscrites dans un matériau, dans lequel on balaye la surface du matériau, sans modifier les structures ou les informations, avec une source électromagnétique de lecture (2), caractérisé par le fait que l'on soumet le matériau à deux faisceaux différents pour la lecture : un premier faisceau d'excitation, pour réchauffement du matériau et un second faisceau de détection pour la détection de la variation des propriétés thermiques du matériau.1. Method for reading structures or information inscribed in a material, in which the surface of the material is scanned, without modifying the structures or the information, with an electromagnetic reading source (2), characterized in that the the material is subjected to two different beams for reading: a first excitation beam, for heating the material and a second detection beam for detecting the variation in the thermal properties of the material.
2. Procédé selon la revendication 1 , caractérisé en ce que l'on recueille une image du contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique de la surface ainsi balayée.2. Method according to claim 1, characterized in that an image of the photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast of the surface thus scanned is collected.
3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé par le fait que l'on recueille une image du contraste photo-thermique, en mesurant la réflectivité dynamique thermique du matériau ou l'émission infrarouge. 3. Method according to claim 1 or 2, characterized in that an image of the photo-thermal contrast is collected, by measuring the dynamic thermal reflectivity of the material or the infrared emission.
4. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé par le fait que l'on recueille une image du contraste photo-thermo-élastique, en détectant les déformations thermo-élastiques par interférométrie.4. Method according to claim 1 or 2, characterized in that an image of the photo-thermo-elastic contrast is collected, by detecting the thermo-elastic deformations by interferometry.
5. Procédé selon l'une des revendications 3 et 4, caractérisé par le fait que l'on sépare l'amplitude et la phase du signal correspondant à la réflectivité dynamique thermique du matériau ou à ses déformations thermoélastiques, par détection synchrone ou corrélation.5. Method according to one of claims 3 and 4, characterized in that one separates the amplitude and the phase of the signal corresponding to the dynamic thermal reflectivity of the material or to its thermoelastic deformations, by synchronous detection or correlation.
6. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que l'on recueille l'image du contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique sans contact avec la surface du matériau. 6. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the image of the photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast is collected without contact with the surface of the material.
7. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que les sources électromagnétiques de lecture utilisées pour l'excitation et pour la détection, sont des sources laser (2).7. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the electromagnetic reading sources used for excitation and for detection, are laser sources (2).
8. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que l'on choisit les paramètres de la source électromagnétique de lecture (2), de manière à détecter une structure d'écriture (32) sous-jacente à la surface.8. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the parameters of the electromagnetic reading source (2) are chosen, so as to detect a writing structure (32) underlying the surface .
9. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que l'on choisit les paramètres de la source électromagnétique de lecture (2), de manière à détecter un contraste photothermique ou photo-thermo-élastique dû à une différence de phase du matériau. 9. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the parameters of the electromagnetic reading source (2) are chosen, so as to detect a photothermal or photo-thermo-elastic contrast due to a phase difference of the material.
10. Procédé d'écriture d'un matériau, dans lequel on expose ce matériau à une source électromagnétique d'écriture (2) pour provoquer une transition de phase dans un volume localisé de ce matériau, caractérisé par le fait que l'on modifie, au cours de cette transition de phase, les propriétés thermiques, et éventuellement mécaniques, du matériau, de manière à changer le contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique du matériau et à le marquer pour une lecture ultérieure du contraste photo-thermique ou photo- thermo-élastique de la surface marquée.10. A method of writing a material, in which this material is exposed to an electromagnetic writing source (2) to cause a phase transition in a localized volume of this material, characterized in that one modifies , during this phase transition, the thermal, and possibly mechanical, properties of the material, so as to change the photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast of the material and to mark it for a later reading of the photo-thermal contrast or photo-thermo-elastic of the marked surface.
11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé par le fait que la source électromagnétique d'écriture (2) est une source laser. 11. Method according to claim 10, characterized in that the electromagnetic writing source (2) is a laser source.
12. Procédé selon l'une des revendications 10 et 11 , caractérisé par le fait que l'écriture ainsi réalisée est adaptée pour être lue en recueillant une image du contraste photo-thermique ou photo-thermo-élastique, d'une surface balayée avec une source électromagnétique de lecture (2).12. Method according to one of claims 10 and 11, characterized in that the writing thus produced is adapted to be read by collecting an image of photo-thermal or photo-thermo-elastic contrast, of a surface scanned with an electromagnetic reading source (2).
13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé par le fait que l'écriture est effectuée en utilisant une puissance de la source électromagnétique d'écriture (2) supérieure à la puissance de la source électromagnétique de lecture (2), au minimum d'un facteur 1 ,5 et préférentiellement d'un facteur compris entre deux et cinq.13. Method according to claim 12, characterized in that the writing is carried out using a power of the electromagnetic writing source (2) greater than the power of the electromagnetic reading source (2), at least a factor of 1.5, and preferably a factor of between two and five.
14. Procédé selon l'une des revendications 10 et 11 , caractérisé par le fait que l'écriture ainsi réalisée est adaptée pour être lue en recueillant une image du contraste optique, d'une surface balayée avec une source électromagnétique de lecture (2).14. Method according to one of claims 10 and 11, characterized in that the writing thus produced is adapted to be read by collecting an image of optical contrast, of a surface scanned with an electromagnetic reading source (2) .
15. Produit marqué par un procédé selon l'une des revendications 15. Product marked by a process according to one of claims
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