WO2002055612A1

WO2002055612A1 - Composition de revêtement, film de revêtement en cette composition, revêtement antireflet, film antireflet, afficheur d'image, et produit intermédiaire

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Publication number: WO2002055612A1
Application number: PCT/JP2002/000179
Authority: WO
Inventors: Toshio Yoshihara; Seiji Shinohara; Satoshi Shioda; Hiroko Suzuki
Original assignee: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date: 2001-01-15
Filing date: 2002-01-15
Publication date: 2002-07-18
Also published as: KR100867338B1; TWI225511B; US6949284B2; US20030096102A1; KR20020084180A

Description

明細書発明の名称

コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置、及び、中間製品技術分野

本発明は、分散性、分散安定性、塗工適性に優れるコーティング組成物、及び、当該コーティング組成物を用いて形成した光学薄膜に関する。より具体的には、屈折率を調節された光学薄膜であり、代表的には L C Dや C R T等の表示面を被覆する反射防止膜を構成する層、特に、中〜高屈折率層の支持層としての機能と高屈折率層としての機能を併せ持つ高屈折率ハードコート層、及び、蒸着層などの隣接層との密着性が良好な中〜高屈折率層を形成するのに適したコーティング組成物に関する。

また、本発明は、当該コーティング組成物を用いて形成した塗膜の層を有する反射防止膜、及び、そのような反射防止膜を適用した反射防止フィルム及び画像表示装置にも関する。背景技術

液晶ディスプレー（L C D ) や陰極管表示装置（C R T ) 等の画像表示装置の表示面は、その視認性を高めるために、蛍光燈などの外部光源から照射された光線の反射が少ないことが求められる。

透明な物体の表面を屈折率の小さい透明皮膜で被覆することにより反射率が小さくなる現象が従来から知られており、' このような現象を利用した反射防止膜を画像表示装置の表示面に設けて視認性を向上させることが可能である。反射防止膜は、十分な硬度を確保する目的で基材上にハードコート層を設け、その上に最表面の屈折率を小さくするためにハードコート層よりも屈折率の小さい低屈折率層を設けた層構成、または、反射防止効果を更に良好にするために前記ハードコート層の上に中〜高屈折率層を 1乃至複数層設け、中〜高屈折率層の上に最表面の屈折率を小さくするための低屈折率層を設けた層構成を有する。

このような反射防止膜の高屈折率層又は中屈折率層には、反射防止膜にした時に充分な効果を発揮できる屈折率や透明性等の光学特性、及び、隣接する他の層（ハードコート層や低屈折率層）との密着性ゃ耐擦傷性等の物理特性が要求される。

反射防止膜の高屈折率層または中屈折率層を形成する方法は、一般に気相法と塗布法に大別され、気相法には真空蒸着法、スパッタリング法等の物理的方法と、 C V D法等の化学的方法とがあり、塗布法にはロールコート法、グラビアコト法、スライドコート法、スプレー法、浸漬法、及び、スクリーン印刷法等がある。

気相法による場合には、高機能且つ高品質な薄膜の高屈折率層及び中屈折率層を形成することが可能だが、高真空系での精密な雰囲気の制御が必要であり、また、特殊な加熱装置又はイオン'発生加速装置が必要であり、そのために製造装置が複雑で大型化するために必然的に製造コストが高くなるという問題がある。また、高屈折率層及び中屈折率層の薄膜を大面積化したり或いは複雑な形状を持つフィルム等の表面に薄膜を均一な膜厚に形成することが困難である。 —方、塗布法のうちスプレー法による場合には、塗工液の利用効率が悪く、成膜条件の制御が困難である等の問題がある。ロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法、浸漬法及びスクリーン印刷法等による場合には、成膜原料の利用効率が良く、大量生産や設備コスト面での有利さがあるが、一般的に、塗布法により得られる高屈折率層及び中屈折率層は、気相法により得られるものと比較して機能及び品質が劣るという問題点がある。近年、優れた品質を有する高屈折率層及び中屈折率層の薄膜を形成し得る塗布法として、有機物から.なるバインダーの溶液中に酸化チタンや酸化スズ等の高屈折率微粒子を分散させた塗工液を基板上に塗布し、塗膜を形成する方法が提案されている。

中〜高屈折率層を形成する塗膜は可視光領域において透明であることが必須であるため、高屈折率微粒子としては一次粒子径が可視光線の波長以下である所謂超微粒子を使用すると共に、当該高屈折率微粒子を塗工液中及び塗膜中に均一に分散する必要がある。しかしながら一般に、微粒子の粒子径を小さくしていくと、微粒子の表面積が大きくなり、粒子間の凝集力が増大する。そして、塗工液の固形成分が凝集すると、得られる塗膜のヘイズが悪化する。従って、高屈折率層及び中屈折率層の薄膜を形成する塗工液には、ヘイズの小さい均一な塗膜を形成するために十分な分散性を有することが求められる。また、塗工液には、長期間に渡って容易に保存できるように十分な分散安定性を有することが求められる。 '

超微粒子の凝集という問題は、当該超微粒子に対して良好な分散性を示す分散剤を使用することにより解決することができる。分散剤は、凝集する微粒子間に浸透しながら微粒子表面に吸着し、分散処理の過程で凝集状態をほぐしながら溶剤中への均一分散化を可能とする。しかしながら、超微粒子は表面積が増大しているので、これを塗工液中に均一に分散させ、長期保存に耐え得るほどに安定化させるためには大量の分散剤が必要になる。塗工液に大量の分散剤を配合すると、当該塗工液を用いて形成した塗膜にも分散剤が多量に存在することとなり、分散剤がバインダー成分の硬化を妨げ、塗膜の強度を極端に低下させる。

さらに、塗工液には、大量生産の観点から大面積薄膜を容易に形成できるように、塗工時に均一に薄く塗布することができ、且つ、乾燥むらが生じないように塗工適性が求められる。また、中〜高屈折率層には、当該中〜高屈折率層に隣接しているハードコート層ゃ低屈折率層に対して十分な密着性を有することが求められる。いわゆるゥエツト法により塗工液から形成した中〜高屈折率層の上に、蒸着法などのいわゆるドライコーティング法により酸化ケィ素（S i〇x ) 膜などの低屈折率層を形成する場合には、'密着性が極めて足りず簡単に剥離してしまうので、特に優れた密着性が求められる。

また、ハードコート層は本来、反射防.止膜の傷付きを防止するために中〜高屈折率層の支持層としての役割を持っているが、このハードコート層に高屈折率微粒子を配合.して、中〜高屈折率層としての機能を併せ持つ高屈折率ハードコート層とする場合には、反射防止膜の構成層数を減らすことができる。しかし、中〜高屈折率層の厚さは 5 〜 2 0 0 n m程度、好ましくは 5 0 〜 1 6 0 n m程度であるのに対して、ハードコート層は十分な硬度を確保すると言う本来 'の目的のために 0 . 2 〜 2 0 μ πι程度、好ましくは 1 〜 1 0 ju m程度、更に好ましくは 2 〜 5； u m程度とかなり厚く形成されるので、高屈折率ハードコート層を中〜高屈折率層用塗工液と同様の塗工液を用いてゥエツト法により形成する場合には、中〜高屈折率層をゥエツト法により形成する場合にも増して高屈折率微粒子の凝集による透明性の悪化を招きやすい。しかも、ハードコート層には高い硬度が求められるのに対して、上記したように分散剤には塗膜のバインダー硬化を妨げる性質があるので、ハードコート層用塗工液に配合できる分散剤の量は、中〜高屈折率層用塗工液にも増して制限される。従って、高屈折率ハードコート層用塗工液に対する分散剤削減の要求は、中〜高屈折率層用塗ェ液に対するよりも、さらに厳しい。発明の開示

本発明は上記実状を鑑みて成し遂げられたものであり、その第一の目的は、分散性、分散安定性に優れ、ヘイズの小さい塗膜を形成し得る保存性の良いコ一ティング組成物を提供することにある。

' また、本発明の第二の目的は、分散性、分散安定性と共に、塗工適性にも優れ大面積薄膜を形成し得るコーティング組成物を提供することにある。

本発明の第三の目的は、塗膜形.成後、バインダー成分の硬化により十分な塗膜強度が得られるコーティング組成物を提供することにある。

本発明の第四の目的は、隣接層、特に蒸着層に対して十分な密着性を有する塗膜が得られるコーティング組成物を提供することにある。

本発明の第五の目的は、上記第一乃至第四のうち少なくとも一の目的を達成し得るコーティンク:組成物を用いて、屈折率の調節された高品質の光学薄膜として利用可能で、特に反射防止膜の少なくとも一層を形成するのに好適な塗膜を提供することにある。

本発明の第六の目的は、透明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均 '一性などの諸性能に優れた光透過層を積層してなる高品質の反射防止膜を提供することにある。 · ' また、本発明の第七の目的は、透明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能に優れると共に屈折率も十分に高い高屈折率層及び/ 又は中屈折率層を備えた、高品質の反射防止膜を提供することにある。

また、本発明の第八の目的は、中〜高屈折率層及ぴ低屈折率層の下地として形成した時に、硬度、透明性、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能に優れ、反射膜の硬度を向上させるハードコート層として機能し得ると共に、屈折率が高く、中〜高屈折率層としても機能し得る高屈折率ハードコート層を備えた、高品質の反射防止膜を提供することにある。

また、本発明の第九の目的は、上記目的を達成しうる反射防止膜を設けた反射防止フィルム及び画像表示装置を提供することにある。

本発明は、これらの目的のうち少なくともひとつを解決するものである。上記課題を解決する本発明は、以下の基本原理に基づいて構成される A. 本発明に係るコーティング組成物

上記課題を解決するための本発明に係るコーティング組成物は、少なくとも、 ( 1 ) 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され、 0 . 0 1 〜 0 . 1 // mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、（2 ) 電離放射線硬化性のバインダー成分、（3 )ァニオン性の極性基を有する分散剤、及び、（4 ) 有機溶剤、からなることを特徴とする。

本発明に係るコーティング組成物は、高屈折率のルチル型酸化チタンを含有しているので、塗膜の屈折率を容易に調節することができる。本発明のコーテイング組成物には、酸化チタンを均一且つ安定的に分散させるために酸化チタンと共にァユオン性の極性基を有する分散剤が配合されている。さらに本発明のコーティング組成物においては、酸化チタンが無機化合物で被覆されていると共に、ァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆されている。酸化チタンを有機化合物や有機金属化合物で表面処理してバインダー成分等に対する親和性を付与することにより、塗工液中での酸化チタンの分散性を、さらに向上させることができる。

従って、上記のコーティング組成物は、高屈折率の酸化チタンの超微粒子を十分に分散させることが可能であり、また分散安定性にも優れているので、分散剤の使用量を少量に抑えることが可能であり、当該コーティング組成物を被塗布面に塗布し電離放射線の照射により硬化させることにより、反射防止膜などの光学部材に必要な高い屈折率と透明性が得られると共に、十分な塗膜強度及び隣接層との密着性を得ることができる。

すなわち、本発明のコーティング組成物は、ァニオン性の極性基を有する分散剤の配合とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物による被覆によって、酸化チタンの優れた分散性及び分散安定性を有しており、屈折率の調節された、ヘイズの小さい、さらには膜強度や隣接層との密着性も良好な透明膜を形成することができる。

また、本発明のコーティング組成物は、ポットライフも長い。また、本発明のコーティング組成物は塗工適性にも優れ、均一な大面積薄膜を容易に形成することができる。

さらに、本発明においては、酸化チタンの光触媒活性を無機化合物による表面処理を行って低下又は消失させて用いるので、バインダ一成分の劣化に伴う塗膜の強度低下や、反射防止性能低下の原因となる黄変現象が起こり難い。特に、上記のコーティング組成物は、酸化チタンの配合量を変えて調節できる屈折率の範囲から考えて、中屈折率層、高屈折率層又は高屈折率ハードコート層を形成するのに適している。

従って、本発明によれば、透明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能に優れると共に屈折率も十分に高い高屈折率層及び又は中屈折率層を備えた、高品質の反射防止膜が提供される。

また、本発明によれば、中〜高屈折率層及び低屈折率層の下地として形成した時に、硬度、透明性、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能に優れ、反射膜の硬度を向上させるハードコート層として機能し得ると共に、屈折率が高く、中〜高屈折率層としても機能し得る高屈折率ハードコート層を備えた、高品質の反射防止膜も提供される。

この場合、当該高屈折率ハードコート層の表面を微細凹凸形状に形成して、防眩層（アンチグレア層）として機能するハードコート層としてもよい。酸化チタンを被覆する前記無機化合物としては、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、アンチモンをドープした酸化スズ（A T O ) 、スズをドープした酸化インジウム（I T O ) 、亜鉛をドープした酸化インジゥム（I Z O) 、アルミエゥムをドープした酸化亜鉛（A Z O ) 、及び、フッ素をドープした酸化スズ（F T O ) よりなる群から選ばれる化合物が好適に用いられる。ァニオン性の極性基を有する前記の分散剤としては、エチレンォキサイド鎖の骨格を有する主鎖にァニオン性の極性基からなる側鎖又はァュォン性の極性基を有する側鎖結合した分子構造を有し、数平均分子量が 2 , 0 0 0から 2 0 , 0 0 0の化合物が好適に用いられる。

電離放射線硬化性のバインダー成分としては、ァニオン性の極性基を有するバインダ一成分を用いるのが好ましい。ァニオン性の極性基を有するバインダ一成分は、酸化チタンとの親和性が高く、分散助剤として作用するので、コーティング組成物中および塗膜中での酸化チタンの分散性を向上させ、また、分散剤の使用量を減らす効果もあるので好ましい。 '分散剤はバインダーとしては機能しないので、分散剤の配合割合を減らすことによって塗膜強度の向上を図ることができる。

前記バインダー成分としては、分子中に水.酸基を残したものを用いるのが好ましい。水酸基はァニオン性の極性基であり酸化チタンに対する親和性が大きいので、水酸基を有するバインダー成分は分散助剤として作用し、上記分散剤の配合量を減らすことが可能である。

バインダー成分は、ァニオン性の極性基として水素結合形成基を有するものが特に好ましい。バインダー成分が水素結合形成基を有する場合には、ァニォン性極性基としての効果により酸化チタンの分散性を向上させることに加えて, 水素結合によりハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電層などの隣接層相互間の密着性を向上させることが可能となる。

特に、水素結合形成基を有するバインダー成分を配合したコーティング組成物を用いて中〜高屈折率層を形成" る場合には、当該中〜高屈折率層の上に密着性の高い蒸着膜、例えば酸化ケィ素（S i O x ) 蒸着膜を^成することができ、非常に有用である。

水素結合形成基を有するバインダー成分として、具体的には、分子中に水酸基を有するバインダー成分を用いることができる。分子中に水酸基を有するバィンダ一成分としては、ペタエリスリトール多官能ァク 1J レート、ジペンタエリスリトール多官能ァクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、またはジペンタエリスリトール多官能メタクリレートが好適に用いられる。これらは、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのもともとの水酸基を分子中に残している。

'本発明に係る中〜高屈折率層又は高屈折率ハードコート層が水素結合形成基を含有すると共に、これらに隣接する層も水素結合形成基を含有する場合には、特に優れた密着性が得られる。

氷素結合形成基を含有する隣接層としては、ドライコーティング法であるスパッタリングによって中〜高屈折率層としての酸化チタン（T i O x ) 膜を形成する場合がある。また、低屈折率層としては、ドライコーティング法である蒸着法又はゥエツト法であるゾルゲル反応により酸化ケィ素（S i O x ) 膜を形成する場合がある。また、水素結合形成基を有するバインダー成分と A T O や I T Oなどの導電性材料を含有するコーティング組成物を用いるゥエツト法により、透明導電層を形成する場合がある。また、ドライコーティング法により透明導電層としての A T O蒸着膜や I T O蒸着膜を形成する場合もある。従来は、ゥエツト法により形成された中〜高屈折率層の上にドライコーティング法により酸化チタン膜や酸化ケィ素膜を形成する場合には十分な密着性が得られず、膜が剥離し易かった。これに対して本発明によれば、水素結合形成基を有するバインダー成分を配合したコーティング組成物を用いるゥエツト法により中〜高屈折率層又は高屈折率ハードコート層を形成することにより、当該中〜高屈折率層の上にドライコーティング法により密着性よく成膜することができるので、非常に有用である。

水素結合形成基のようなァニオン性極性基を有する好ましいバインダ一成分を用いる場合には、具体的には、酸化チタン 1 0重量部に対して、前記バインダー成分を 4〜 2 0重量部、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤を 2〜 4重量部の割合で配合することができる。この配合割合は、中〜高屈折率層用のコーティング組成物として特に好適である。

また、酸化チタン 1 0〜 2 0重量部に対して、分子中にァユオン性の極性基を有する前記バインダー成分を 4〜 4 0重量部、及び、分散剤を 2〜 1 0重量部の割合で含有するコーティング組成物は、高屈折率ハードコート層を形成するために特に好適である。

酸化チタンを被覆する前記有機化合物としては、有機カルボン酸が好適に用いられる。また、酸化チタンを被覆する前記有機金属化合物としては、 'シランカップリング剤及び/又はチタネートカップリング剤が好適に用いられる。前記の有機溶斉 I]としてはケトン系溶剤が好適に用いられる。本発明に係るコ一ティング組成物をケトン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に薄く均一に塗布することができ、且つ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な薄さの大面積塗膜を容易に得ることができる。反射防止膜の支持層であるハードコート層の表面を微細凹凸に形成して、ァンチグレア層どしての機能を付与する場合がある。本発明に係るコーティング • 組成物をケトン系溶剤を用いて調製すると、このような微細凹凸の表面にも均一に塗工することができ、塗工むらを防止できる。

さらに、上記コーティング組成物は、干渉色斑が非常に見え易いクリアな面を有するハードコート層上でも塗工斑を引き起こさないで、均一な反射防止膜を形成することができ、塗工適正に非常に優れている。また、微細凹凸表面を有するマツトハードコート層の上にも塗工斑のない膜を形成できる。

本発明に係るコーティング組成物は、光開始剤として、 1ーヒドロキシ一シクロへキシル—フエ二ル一ケトン、及び/又は、 2—メチルー 1 [ 4 - (メチルチオ）フエ二ノレ] 一 2 —モノレフオリノプロパン一 1—オンを含有していてもよい。

有機溶剤の割合は、本発明に係るコーティング組成物中の固形分と有機溶剤の合計量を 1 0 0重量部とした時に、本発明に係るコーティング組成物の全固形分 0 . 5〜 5 0重量部に対して、前記有機溶剤を 5 0〜 9 9 . 5重量部の割合で配合するのが好ましい。有機溶剤の使用量がこの範囲にあると、特に分散安定性に優れ、長期保存に適したコーティング組成物が得られる。

B . 本発明に係る塗膜

本発明に係る塗膜は、本発明に係る上記コーティング組成物を被塗工体の表面に塗布し硬化させることにより得られる。硬化後の塗膜は、光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニォン性の極性基を有する有機化合物及び/ 又は有機金属化合物により被覆され 0 . 0 1〜 0 . 1 mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダ一中均一に混合されてなるものである。

この塗膜は、透明性が高く、 ^一ズが小さく、酸化チタンの配合量をコントロールして屈折率を調節できるので、反射防止膜を構成する一又は二以上の光透過層、例えば、中〜高屈折率層や高屈折率ハードコート層として好適に利用できる。

また、この塗膜中のバインダーが水素結合形成基を有している場合には、隣接層、特に蒸着膜との密着性が良好となる。

本発明によ—れば、硬化後膜厚が 0 . 0 5〜 0 . 2 μ mの塗膜を形成した時に、屈折率を 1 . 5 5〜 2 . 3 0の範囲に調節し、且つ、 J I S— K 7 3 6 1— 1 . に規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値を、前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内に抑制することが可能であり、中〜高屈折率層を形成することができる。

また、本発明によれば、硬化後膜厚が 0 . 2〜 2 0 mの塗膜を形成した時に、屈折率が 1 . 5 5〜 2 . 3 0で、且つ、 J I S— K 7 3 6 1 _ 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのへィズ値との差が 1 0 %以内となるように抑制することが可能であり、高屈折率ハードコート層も形成できる。

C . 本発明に係る反射防止膜、 ·

本発明に係る反射防止膜は、光透過性を有する 1の光透過層からなる単層構造、又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる光透過層を 2以上積層した多層構造を有し、 .

前記光透過層のうちの少なくともひとつ.が、光触媒活性を.低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され 0 . 0 1〜0 . 1 / mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合されてなる硬化層であることを特徴とするものである。

D . 本発明に係る反射防止フィルム

また、本発明に係る反射防止フィルムは、光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に、上記の反射防止膜を、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑賞面側に位置するように積層してなることを特徴とするものである。

E . 本発明に係る画像表示装置

また、本発明に係る画像表示装置は、上記の反射防止膜により、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑賞面側に位置するように表示面を被覆してなることを特徴とするものである。図面の簡単な説明

図 1は、本発明に係る塗膜を含んだ多層型反射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置の一例であり、その断面を模式的に示した図である。

図 2は、本発明に係る塗膜を含んだ多層型反射防止膜を設けた配向板の一例であり、その断面を模式的に示した図である。

図 3は、本発明に係る塗膜を含んだ反射防止フィルムの一例であり、その断面を模式的に示した図である。図' 4は、実施例 2において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 5は、実施例 3において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 6は、実施例 4において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。 ·

図 7は、実施例 5において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 8は、実施例 6において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 9は、実施例 7において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 1 0は、'実施例 8において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 1 1は、実施例 9において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 1 2は、実施例 1 0において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 1 3は、実施例 1 1において作成した反射防止フィルムの断面を模式的に示した図である。

図 1 4は、実施例 1 2において作成した反射防止フィルムの断面を模式'的に示した図である。

図 1 5は、実施例の結果を集約した表である。

図 1 6は、実施例の結果を集約した表である。

図 1 7は、実施例の結果を集約した表である。

図 1 8は、実施例の結果を集約した表である。図中の各符号の意味を以下に示す。 1 0 1 :液晶表示装置、 102 :反射防止フィルム、 1 ：表示面側のガラス基板、 2 ：画素部、 3 :ブラックマトリツクス層、 4 ：カラーフィルター、 5及ぴ 7 ：透明電極層、 6 ：背面側のガラス基板、 8 ：シール材、 9 ：配向膜、 1 0 ：偏光フィルム、 1 1 ：バックライトユニット、 1 2 ：偏光素子、 1 3及び 14 ：保護フィルム、 1 5 :接着剤層、 1 6 ：ハードコート層、 1 7 :多層型反射防止膜、 1 8 ：中屈折率層、 1 9 ：高屈折率層、 20 ：低屈折率層、 2 1 ：基材フィルム、 22 ：高屈折率層、 2 3 ：低屈折率層、 24 :基材フィルム、 2.5 ：クリアハードコート層、 26 : 中屈折率層、 27 ：高屈折率層、 28 ：低屈折率層、 29 ：マットハードコート層、 30 : フィラー、 3 1 ：透明導電層、 32 ：高屈折率クリアハードコート層、 33 ：高屈折率マットハードコート層、 34 ：防汚層発明を実施するための最良の形態

以下にぉレ、て本発明を詳しく説明する。本発明に係るコーティング組成物は、少なくとも下記の必須成分：

( 1 ) 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び Z又は有機金属化合物により被覆され、 0. 01〜0. 1 μ mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、

(2) 電離放射線硬化性のバインダー成分、

(3) ァニオン性の極性基を有する分散剤、及び、

(4) 有機溶剤、

からなる塗工材料であり、必要に応じて、その他の成分を含んでいることもある。

当該コーティング組成物を用いる塗布法によって、屈折率が調節された光学薄膜、代表的には反射防止膜を構成する様々な光透過層、そのなかでも特に中〜高屈折率層や高屈折率ハードコート層などの高屈折率が求められる光透過層を効率よく形成することができる。

上記必須成分のうち酸化チタンは、本発明に係るコーティング組成物を用、て形成する塗膜の屈折率を所望の値に調節するための主要成分である。酸化チタンは、屈折率が高く、且つ、無色であるか又はほとんど着色していないので、屈折率を調節するための成分として適している。酸化チタンには、ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型があるが、本発明においてはアナターゼ型ゃァモルファス型と比べて屈折率の高いルチル型の酸化チタンを用いる。

酸化チタンは、塗膜の透明性を低下させないために、いわゆる超微粒子サイズのものを用いる。ここで、「超微粒子」とは、一般的にサブミクロンオーダ一の粒子のことであり、一般的に「微粒子」と呼ばれている数 μ πιから数 1 0 0 μ mの粒径を有する粒子よりも粒径の小さいものを意味している。すなわち本発明において酸化チタンは、一次粒子径が 0 . Ο ΐ μ πι以上であり、且つ、 0 . 1 μ ηι以下、好ましくは 0 . 0 3 μ πι以下のものを用いる。平均粒子径が 0 . Ο ΐ μ ιη未満のものは、コーティング組成物中に均一に分散させることが困難であり、ひいては、酸化チタン超微粒子を均一に分散させた塗膜が得られなくなる。また、平均粒子径が 0 . Ι μ πι超のものは、塗膜の透明性を損なうので好ましくない。酸化チタンの一次粒子径は、走査型電子顕微鏡（S E M) 等により目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。

酸化チタン超微粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、その粒子形状が球状であっても針状であっても、その他どのような形状であっても本発明に用いることができる。

酸化チタンは光触媒活性を有しているので、表面処理を何も行っていない酸化チタンを含有する塗工液を用いて塗膜を形成すると、光触媒作用によって塗膜を形成しているバインダー間の化学結合が切れて塗膜強度が低下したり、塗膜が黄変して塗膜の透明度、ヘイズが劣化しやすい。そのため、酸化チタンの表面を、光触媒活性を低下又は消失させ ¾無機化合物により被覆して用いる。そのような無機化合物としては、例えば、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物や、アンチモンをドープした酸化スズ（A T O )、スズをドープした酸化インジウム（ I T O ) 、亜鉛をドープした酸化インジゥム（I Z O ) 、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（A Z O ) 、フッ素をドープした酸化スズ（F T O ) 等の導電性複合金属酸化物などを例示することができ、これらの中から 1種単独で又は 2種以上の組み合わせて用いることができる。 .

. 酸化チタン微粒子の表面を無機化合物により被覆するには、酸化チタン微粒子を水に分散させた分散液中に、被覆させたい無機化合物の塩、或いは、加水 ― 分解により被覆させたい無機化合物を生じ得る有機金属化合物を添加し、 p H 及び/又は温度条件を変えることで、酸化チタン微粒子の表面に所望の無機化合物を物理化学的に吸着させる。

また、無機化合物で被覆した酸化チタンは、市販品にも存在しており、例えば、アルミナで被覆した酸化チタンとしては T T O 5 1 (A) の商品名で石原産業から入手することができる。

酸化チタンの表面は、光触媒活性を低下又は消失させるために無機化合物で被覆すると *に、有機溶剤中での分散性を高めるために有機化合物又は有機金属化合物により被覆する。本発明に係るコーティング組成物には、酸化チタンを分散させるために後述するようにァニオン性の極性基を有する分散剤を配合するが、酸化チタンを有機化合物又は有機金属化合物で表面処理して疎水性を付与することにより、塗工液中での酸化チタンの分散性を、さらに向上させることができる。ァニオン性の極性基は酸化チタンとの親和性が大きいので、本発明においては特にァニオン性の極性基を有する有機化合物及び又はァニォン性の極性基を有する有機金属化合物で酸化チタンを被覆する。ァニオン性の極性基を有する有機化合物としては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のようなァニオン性の極性基を有するものを用いることができ、例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、ォレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリアタリレート、ジペンタエリスリトールペンタアタリレート、 EO (エチレンオキサイド）変性リン酸トリアタリレート、 E C H変性グリセ口ールトリァクリレート等を例示することができる。

' また、ァニオン性の極性基を有する有機金属化合物としては、シランカップリング剤及び/又はチタネートカツプリング剤を用いることができる。

シランカップリング剤としては、具体的には、 3—グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、 3—グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、 2— (3, 4—エポキシシクロへキシル）ェチルトリメトキシシラン、 3—ァミノプロピルトリェトキシシラン、 3—ァミノプロピルトリメトキシシラン、 N— (2—アミノエチル） 3—ァミノプロピルメチルジェトキシシラン、 3—メルカプトプロピノレトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビエルトリエトキシシラン、ビエノレトリス（2—メトキシエトキシ）シラン、 3—メタクリロキシプロビルトリメトキシシラン等を例示することができる。

チタネートカップリング剤としては、具体的には、味の素（株）より巿販されている、製品名プレンァクト KR— TT S、 KR—46 B、 KR— 5 5、 K R— 41 Β、 KR— 38 S、 KR— 1 3 8 S、 KR— 238 S、 338 X、 K R_44、 KR— 9 SA、 KR— ET等が例示でき、更に、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ n—プロポキシチタン、テトラ n—ブトキシチタン、テトラ s e c—ブトキシチタン、テトラ t e r t—ブトキシチタン等の金属アルコキシドも使用することができる。

酸化チタンを表面処理する有機化合物及び又は有機金属化合物としては、特にカップリング剤、及び有機カルボン酸を用いるのが好ましい。また、後述するケトン系溶剤を用いてコーティング組成物を調製する場合には、カツプリング剤、及び、ステアリン酸、ラウリン酸、ォレイン酸、リノール酸、リノレィン酸の中から 1種を単独で又は 2種以上を組み合わせて用いるのが好ましく. 十分な分散性が得られる。

5 酸化チタンの表面を有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆して疎水性を付与するには、ァニオン性の極性基を有する有機化合物及び Z又は有機

• 金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中に、無機化合物表面処理を未だ施していないか或いはすでに施した酸化チタンを分散させた後に有機

' 溶剤を完全に蒸発除去することにより、被覆できる。

0 また、無機化合物及び有機化合物の両方を用いて被覆した酸化チタンは、市販品にも存在しており、例えば、アルミナ及びステアリン酸で被覆した酸化チタンとしては T T〇 5 1 ( C )の商品名で石原産業から入手することができる。電離放射線硬化性のバインダ一成分は、本発明に係るコーティング組成物に成膜性や、基材ゃ隣接する層に対する密着性を付与するために、必須成分とし5 て配合される。電離放射線硬化性のバインダー成分は、コーティング組成物中において重合していないモノマー又はオリゴマーの状態で存在しているので、コーティング組成物の塗工適性に優れ、均一な大面積薄膜を形成しやすい。また、塗膜中のバインダー成分を塗工後に重合、硬化させることにより十分な塗膜強度が得られる。

0 電離放射線硬化性のバインダ一成分としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を有するモノマー又はオリゴマーを用いることができる。本発明においては、主に、エチレン性二重結合を有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを用いることができ、必要に応じて光開始剤が組み合わせられる。しか5 しながら、その他の電離放射線硬化性のバインダー成分を用いることも可能であり、例えば、エポキシ基含有化合物のような光力チオン重合性のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。光力チオン重合性のバインダー成分には、必要に応じて光力チオン開始剤が組み合わせて用いられる。バインダ一成分の分子間で架橋結合が生じるように、バインダー成分であるモノマー又はオリゴマーは、重合性官能基を 2個以上有する多官能性のバインダー成分であることが好ましい。

エチレン性二重結合を有するラジカル重合性のモノマー及びオリゴマーとしては、具体的には、 2—ヒドロキシェチル（メタ）アタリレート、 2—ヒドロキシプロピル（メタ）アタリレート、ヒドロキシブチルァクリレート、 '2—ヒドロキシ 3—フエノキシプロピルァクリレート、カルボキシポリ力プロラタトンアタリレート、アタリノレ酸、メタクリル酸、アクリルアミド等の単官能（メタ）アタリレート；ペンタエリスリトーノレトリアタリレート、エチレングリコ一ノレジァクリレート、ペンタエリスリトーノレジァクリレートモノステアレート等のジァクリレート；トリメチロールプロパントリァクリレート、ペンタエリスリトールトリァクリレート等のトリ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート誘導体ゃジペンタエリスリトールペンタァクリレート等の多官能（メタ）アタリレート、或いは、これらのラジカル重合性モノマ一が重合したオリゴマーを例示することができる。ここで「（メタ）アタリレート」とは、アタリレート及び Z又はメタクリレートを意味する。 ·

電離放射線硬化性のバインダ一成分のうちでも、ァニオン性の極性基を有するバインダー成分は、酸化チタンとの親和性が高く、分散助剤として作用する。従って、コーティング組成物中および塗膜中での酸化チタンの分散性が向上し、また、分散剤の使用量を減らす効果もあるので好ましい。

バインダー成分は、ァニオン性の極性基として水素結合形成基を有するものが特に好ましい。バインダー成分が水素結合形成基を有する場合には、ァニォン性極性基としての効果により酸化チタンの分散性を向上させることに加えて、水素結合によりハードコート層、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、透明導電層などの隣接層に対する密着性を向上させることが可能となる。

酸化チタン超微粒子を含有する光透過層のバインダ一成分が水素結合形成基を有すると共に、ハードコート層などの隣接層も水素結合形成基を含有している場合には、水素結合により両者間の密着性が更に向上するので、特に好ましい。

例えば、水素結合形成基を有するバインタ、 '一成分を配合したコーティング組成物を用いて中〜高屈折率層を形成する場合には、いわゆるウエット法（皮膜形成面に塗工液を塗布し乾燥及びノ又は硬化させる方法）により塗工液から形成したハードコート層や低、中及び高屈折率層に対しても、また、蒸着法ゃスパッタ.リング法等のいわゆるドライコーティング法（皮膜形成面に気相状態の材料を付着し、析出させる方法）により形成した低、中及び高屈折率層に対しても優れた密着性が得られる。

中〜高屈折率層としては、ドライコーティング法であるスパッタリングによつて酸化チタン（T i O x ) 膜を形成する場合がある。酸化チタンは分子中に酸素原子を有しており、水素結合を形成し得る。また、低屈折率層としては、ドライコーティング法である蒸着法又はウエット法であるゾルゲル反応により酸化ケィ素（S i O x ) 膜を形成する場合がある。酸化ケィ素膜はシラノール基を含有しており水素結合を形成し得る。このような水素結合形成基を含有する膜に対して、水素結合形成基を有するバインダー成分を用いた高屈折率ハードコート層は特に優れた密着性を示す。

従来は、ウエット法により形成された中〜高屈折率層の上に蒸着等のドライコーティング法により酸化チタン膜や酸化ケィ素膜を形成する場合には十分な密着性が得られず、酸化ケィ素蒸着膜が剥離し易かったのに対して、水素結合形成基を有するバインダー成分を配合したコーティング組成物を用いて中〜高屈折率層を形成する場合には、当該中〜高屈折率層の上に酸化ケィ素（S- i O X )蒸着膜等のドライコーティング膜を密着性よく形成することができるので、非常に有用である。

また、帯電防止の目的で反射防止膜中にウエット法又はドライコーティング法により I T O蒸着膜や A T O蒸着膜などの透明導電層を設け、当該透明導電層上にハードコート層を形成する場合がある。なお、ハードコート層としては、異方導電性を有する、すなわち膜面方向の体積抵抗率が膜厚方向の体積導電率よりも高いハードコート層を形成しても良い。このような異方導電性を有する又は有しないハードコート層を形成する場合にも、水素結合形成基を有するバィンダ一成分を配合したコーティング組成物を透明導電層上に塗布することにより、透明導電層に対して密着性の良い高屈折率ハードコート層を形成することができ、非常に有用である。

透明導電層をゥエツト法により形成する場合には、水素結合形成基を有するバインダ一成分を用いて透明導電層を形成することにより、透明導電層にも水素結合形成基を多量に含有させることができ、水素結合形成基を含有する高屈折率ハードコート層との間に特に優れた密着性が得られる。透明導電層を形成するバインダー成分としては、水素結合形成基としての水酸基を有するウレタンァクリレート樹脂を例示することができる。'透明導電層をドライコーティング法により形成する場合には、 I T O蒸着膜や A T O蒸着膜などの金属酸化物蒸着膜が得られ、皮膜組成の大部分が酸素原子を有する金属酸化物で占められているので、水素結合を容易に形成でき、水素結合形成基を含有する高屈折率ハードコート層との間に充分な密着性が得られる。なお、異方導電性を有する高屈折率ハードコート層を形成するには、本発明に係る高屈折率ハードコート '層用コーティング組成物に、水素結合形成基を有するバインダー成分と共に、異方導電性を付与するための導電性微粒子を配合し、透明導電層上に塗布すればよい。異方導電性を付与するための導電性微粒子としては、金及び/又は二ッケルで表面処理された有機ビーズを例示することができる。

水素結合形成基を有するバインダー成分として、具体的には、分子中に水酸基を有するバインダー成分を用レ、ることができる。分子中に水酸基を有するバィンダ一成分としては、ペンタエリスリトール多官能（メタ）アタリレートまたはジペンタエリスリトール多官能（メタ）アタリレートであって分子中に水酸基を残したバインダー成分を用いることができる。すなわち、そのようなバィンダ一成分は、一分子のペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールに 2分子以上の（メタ）アクリル酸がエステル結合しているが、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールの分子中にもともとある水酸基の一部はエステル化されないまま残っているものであり、例えば、ペンタエリスリトーノレトリアタリレートを例示することができる。ペンタエリスリトール多官能ァタリレート及びジペンタエリスリトール多官能アタリレートは、一分子中にェチレン性二重結合を 2個以上有するので、重合時に架橋反応を起こし、高い塗膜強度が得られる。

ラジカル重合を開始させる光開始剤としては、例えば、ァセトフヱノン類、ベンゾフエノン類、ケタール類、アントラキノン類、チォキサントン類、ァゾ化合物、過酸化物、 2 , 3—ジアルキルジオン化合物類、ジスルフイド化合物類、チウラム化合物類、フルォロアミン化合物などが用いられる。より具体的には、 1ーヒドロキシ一シク口へキシノレ一フエ二ノレ一ケトン、 2—メチノレ一 1 [ 4 - (メチノレチォ）フエ二ノレ] - 2一モノレフォリノプロパン一 1—オン、ベンジ /レジメチノレケトン、 1 - ( 4—ドデシルフェニル） — 2—ヒドロキシー 2 —メチノレプロノヽ⁰ン一 1一オン、 2—ヒドロキシー 2—メチノレー 1—フエ-ノレプ口パン一 1一オン、 1 - ( 4一イソプロピノレフェニル) 一 2—ヒドロキシ一 2 —メチルプロパン一 1一オン、ベンゾフエノン等を例示できる。これらのうちでも、 1ーヒドロキシ一シクロへキシ Λ /—フエ二ルーケトン、及び、 2—メチル一 1 [ 4 - (メチルチオ）フエニル] - 2—モルフオリノプロパン一 1ーォンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。これらは、 .いずれか一方を単独で、又は、両方を組み合わせて用いることができる。これらは市販品にも存在し、例えば、 1—ヒドロキシーシク口へキシノレ一フエ二ノレ一ケトンはイノレガキュア一 1 8 4 (Irgacure 184) の商品名で日本チバガイギ一から入手できる。

ァニオン性の極' |·生基を有する分散剤は、酸化チタンに対して親和性の高いァ二オン性の極性基を有しており、本発明に係るコーティング組成物に酸化チタンに対する分散性を付与するために配合される。ァニオン性の極性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、水酸基などが該当する。， . ァニオン性の極性基を有する分散剤としてほ、具体的には、ビックケミー - ジャパン社がディスパービックの商品名で供給する ¾品群、すなわち、 Di'sperb yk-111, Disperbyk-110, Disperbyk-116, Disperbyk- 140, Disperbyk-161, Disperbyk -162, Disperbyk- 163, Disperbyk- 164, Disperbyk- 170, Disperbyk- 171, Disperbyk-1 74, Disperbyk-180, Disperbyk-182等を例示することができる。

これらのうちでも、エチレンォキサイド鎖の骨格を有する主鎖に上記したようなァニォン性の極性基からなる側鎖又はァニォン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、数平均分子量が 2 , 0 0 0から 2 0 , 0 0 0の化合物を用いると、特に良好な分散性が得られ好ましい。数平均分子量は、 G P C . (ゲル浸透クロマトグラフィー）法により測定することができる。このような条件に合うものとして、上記ディスパービックシリーズの中ではデイスパービック 1 6 3 (Disperbyk 163) がある。

上記コーティング組成物を用いて高屈折率ハードコート層を形成する場合には、コーティング組成物に有機系微粒子等のマツト材を配合して塗布することにより、高屈折率ハードコート層の表面を微細凹凸にしてアンチグレア層としての機能を付与することができる。ここで、微細凹凸を形成するためのマット材とし、具体的には S E M観察による平均粒子径が 0 . 5〜1 0 . 程度、好ましくは 1〜1 0 . 0 / m程度のスチレンビーズやアクリルビーズを用いることができる。 ' また、コーティング組成物の塗膜に、好ましい表面形状を持つ金属製の版やマツト調表面を持つ P E Tフィルムを押圧してエンボス加工し、その状態で光硬化させた後、版や P E Tフィルムを取り除くことによつても、高屈折率ハードコート層表面に微細凹凸を形成することができる。

本発明のコーティング組成物の固形成分を溶解分散するための有機溶剤は特に制限されず、種々のもの、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルェチルケトン、メチノレイソブチルケトン、シク口へキサノン等のケトン類；酢酸ェチル、酢酸プチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；或いはこれらの混合物を用いることができる。

本発明においては、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましい。本発明に係るコーティング組成物をケトン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に薄く均一に塗布することができ、且つ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な薄さの大面積塗膜を容易に得ることができる。

反射防止膜の支持層であるハードコート層にアンチグレア層としての機能を付与するために当該ハードコート層の表面を微細凹凸に形成し、その上に本発明に係るコーティング組成物を塗布して中屈折率層又は高屈折率層を形成する場合がある。本発明に係るコーティング組成物をケトン系溶剤を用いて調製すると、このような微細凹凸の表面にも均一に塗工することができ、塗工むらを防止できる。

ケトン系溶剤としては、 1種のケトンからなる単独溶剤、 2種以上のケトンからなる混合溶剤、及び、 1種又は 2種以上のケトンと共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性質を失っていないものを用いることができる。好ましくは、溶剤の 7 0重量％以上、特に 8 0重量％以上を 1種又は 2種以上のケトンで占められているケトン系溶剤が用いられる。有機溶剤としてケトン系溶剤を用い、酸化チタンの表面を上記したような有機化合物及び/又は有機金属化合物で被覆することにより、特に塗工適性に優れたコーティング組成物が得られ、'均一な大面積薄膜を容易に形成できるようになる。この場合でも、ァユオン性の極性基を有する分散剤として上記したようなエチレンォキサイド系の分散剤、すなわち、エチレンォキサイド鎖の骨格を有する主鎖にァニオン性の極性基からなる側鎖又はァ-ォン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、数平均分子量が 2， 0 0 0から 2 0， 0 0 0の化合物を用いると、さらに好ましい。或いは、バインダー成分として、ペンタエリスリトール多官能（メタ）ァクリレートまたはジペンタエリスリトール多官能（メタ）アタリレートであって分子中に水酸基を残したバインダー成分を用いるのも効果的である。

本発明に係るコーティング組成物は、必須成分として、酸化チタン、電離放射線硬化性のバインダー成分、ァニオン性の極性基を有する分散剤、および、有機溶剤を含有し、必要に応じて電離放射線硬化性のバインダ一成分の重合開始剤を含有するが、さらに、その他の成分を配合してもよい。例えば、必要に応じて紫外線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レべリング剤）、酸化'ジル' コニゥム、アンチモンでドープした酸化スズ（A T O ) などを用いることがでさる。

各成分の配合割合は適宜調節可能であるが、一般的には、酸化チタン 1 0重量部に対して、前記バインダー成分を 4〜 2 0重量部、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤を 4〜1 0重量部の割合で配合する。ただし、バインダー成分として分子中にァ-オン性の極性基を有するものを用いる場合には、当該バインダー成分が分散助剤として作用するので、ァニオン性の極性基を有する分散剤の使用量を大幅に減らすことができる。分散剤はバインダーとしては機能しないので、分散剤の配合割合を減らすことによって塗膜強度の向上を図ることができる。具体的には、酸化チタン 1 0重量部に対して、ァニオン性の極性基を有するバインダー成分を 4〜 2 0重量部、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤を 2〜 4重量部の割合で配合することができる。この配合割合は、中〜高屈折率層用のコーティング組成物をとして特に好適である。

また、酸化チタン 1 0〜 2 0重量部に対して、分子中にァニオン性の極性基を有する前記バインダー成分を 4〜 4 0重量部、及び、分散剤を 2〜 1 0重量部の割合で含有するコーティング組成物は、高屈折率ハードコート層を形成するために特に好適である。さらに、この高屈折率ハードコート層用コーティング組成物には、アンチグレア層（防眩層）としての機能を付与するために有機系微粒子等のマット材粒子を、前者の組成に対しては 1 〜' 2 0重量部、及び、後者の組成に対して 1 〜 5重量部の割合で配合してもよい。

光重合開始剤を用いる場合には、バインダー成分 1 0 0重量部に対して、光重合開始剤を通常は 3 〜 8重量部の割合で配合する。

また、有機溶剤の量は、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後の保存時に凝集を来たさず、且つ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度のコーティング組成物を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に希釈するのが好ましい。本発明においては、固形分と有機溶剤の合計量を 1 0 0重量部とした時に、必須成分及びその他の成分を含む全固形分 0 . 5 〜 5 0重量部に対して、有機溶剤を 5 0〜 9 5 . 5重量部、さらに好ましくは、全固形分 1 0〜 3 0重量部に対して、有機溶剤を 7 0〜 9 0重量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適したコーティング組成物が得られる。

上記各成分を用いて本発明に係るコーティング組成物を調製するには、塗工液の一般的な調製法に従って分散処理すればよい。例えば、各必須成分及び各所望成分を任意の順序で混合し、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシエーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティング組成物が得られる。

こうして得られたコーティング組成物は、必須成分として、所定の一次粒径を有し無機化合物と有機化合物及び Z又は有機金属化合物で被覆されたルチル型の酸化チタン粒子と、電離放射線硬化性のバインダー成分と、ァニオン性の極性基を有する分散剤を有機溶剤中に溶解、分散してなるものであり、特に、酸化チタン粒子は、当該チタン粒子を被覆している有機化合物及びノ又.は有機金属化合物と、ァニオン性の極性基を有する分散剤により、コーティング組成物中に均一に分散されている。

本発明に係るコーティング組成物は、ァニオン性の極性基を有する分散剤の配合とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び Z又は有機金属化合物による被覆によって、酸化チタンの優れた分散性及び分散安定性を有しており、へィズが非常に小さい。すなわち、本発明に係るコーティング組成物中の酸化チタン配合量をコントロールして屈折率を調節し、当該コーティング組成物を基材等の被塗工体の表面に塗布し、乾燥、硬化させることよって、所定の屈折率を有し、透明性が高く、ヘイズの小さい塗膜が得られる。従って、本発明に係るコーティング組成物は、反射防止膜を構成する 1又は 2以上の層を形成するのに適しており、特に、酸化チタンの配合 *を変えて調節できる屈折率の範囲から考えて、中屈折率層、高屈折率層又は高屈折率ハードコート層を形成するのに適している。

また、本発明に係るコーティング組成物は、長期間に渡る分散安定性にも優れているのでポットライフが長く、長期間保存した後に使用する場合でも透明性が高く且つヘイズの小さい塗膜を形成することができる。

さらに、本発明に係るコーティング組成物は、塗工適性に優れ、被塗工体の表面に、容易に薄く広く且つ均一に塗布することができ、均一な大面積薄膜を形成できる。特に、ケトン系溶剤を用いると粘度が適度で、また、蒸発速度が遅いケトン系溶剤ほど塗膜の乾燥むらが生じ難いので、均一な大面積薄膜を特に形成しやすい。

本発明のコーティング組成物を基材等の被塗工体の表面に塗布し、乾燥し、電離放射線硬化させることによって、実質的に無色透明でヘイズの小さい塗膜を形成することができる。この調節された屈折率を有する透明塗膜は、様々な光学的物品の光学薄膜として利用することができる、特に、反射防止膜に含まれる光透過層として非常に適している。

本発明のコーティング組成物を塗布する支持体は特に制限されない。好ましい支持体としては、例えば、ガラス扳；トリァセテ一トセルロース（T A C )、ポリエチレンテレフタレート（P E T ) 、ジァセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；'ポリエステル；ポリカーボネート；ポリスルホン'；ポリエーテル；トリメチルペンテン；ポリエーテルケトン； (メタ) アクリロニトリル等の各種樹脂で形成したフィルム等を例示することができる。支持体の厚さは、通常 2 5 /i m〜 1 0 0◦ μ m程度であり、好ましくは 5 0 μ m〜 1 9 0 μ mである。コーティング組成物は、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコ一ト法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の各種方法で基材上に塗布することができる。

本発明に係るコーティング組成物を基材等の被塗工体の表面に所望の塗工量で塗布した後、通常は、オーブン等の加熱手段で加熱乾燥し、その後、、紫外線や電子線等の電離放射線を放射して硬化させることにより塗膜が形成される。このようにして得られた塗膜は、光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニォン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され 0 . 0 1〜0 . 1 mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合されてなるものであるが、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。

. 本発明により得られる塗膜（硬化層）は、反射防止膜を構成する 1又は 2以上の層として好適に利用することができ、特に、酸化チタンの配合量を変えて調節できる屈折率の範囲から考えて、中〜高屈折率層を形成するのに適している。本発明によれば、硬化後膜厚が 0. 0 5〜0. 2 /imの塗膜を形成した時に、屈折率が 1. 5 5〜2. 30の範囲に調節し、且つ、 J I S—K.7 36 1 ― 1の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値が、前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内に抑制することが可能である。 '

また、本発明により得られる塗膜は、，高屈折率ハードコート層を形成するのにも適している。本発明によれば、硬化後膜厚が 0. 2〜20 μιηの塗膜を形成した時に、屈折率が 1. 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S— K7 36 1— 1 .に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 10 %以内となるように抑制することが可能であり、高屈折率ハードコート層も形成できる。

本発明に係る塗膜は、反射防止膜を形成するのに好適に利用できる。反射防止膜は、原理的には、高屈折率層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に 1 又は 2以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、前記の高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層が、屈折率の高低が交互に入れ替わり且つ低屈折率層が最も鑑賞面側に位置するように積層されてなるものである。ただし、反射防止 '膜で被覆する面、例えば画像表示装置の表示面に、光透過層をだ一層設けただけでも、被覆面自体の屈折率と光透過層の屈折率のバランスが丁度良い場合には反射防止効果が得られるので、単層構造の反射防止膜とすることも可能である。

また、反射防止膜は、通常、基材フィルムや画像表示媒体などの支持体の表面に、先ず、反射防止膜に十分な硬度を付与するため目的でハードコート層を設け、当該ハードコート層の上に上記したような高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を設ける。

また、十分な硬度と高い屈折率を併せ持ち、ハードコート層としての機能と中〜高屈折率層としての機能を発揮し得る高屈折率ハードコート層を設ける場 '合がある。この場合には、高屈折率ハードコート層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に、高屈折率層及び又は 1又は 2以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、前記の高屈折率ハードコート層、高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層が、屈折率の高低が交互に入れ替わり、高屈折率ハードコート層が最も表示媒体との接触面側に位置し、且つ、低屈折率層が最も鑑賞面側に位置するように積脣することにより、反射防止膜とすることができる。

さらに、反射防止膜には、帯電防止機能を付与する目的で I T Oや A T O等からなる透明導電層を設けたり、低屈折率層の表面にフッ素系界面活性剤ゃフッ素系シリコーンコーティング剤等からなる防汚層を設ける場合がある。

上記した様々な層は、いずれも光透過性を有する光透過層であり、反射防止膜は、光透過性を有する 1の光透過層からなる単層構造、又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる光透過層を 2以上積層した多層構造を有している _t 本発明に係る塗膜は、これらの単層型反射防止膜又は多層型反射防止膜に含まれる光透過層の一又は二以上を形成するのに用いることができる。'

従って、本発明に係る上記コーティング組成物を、当該コーティング組成物により被覆すベき面に塗布し硬化させることによって、光透過性を有する 1の光透過層からなる単層構造、又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる光透過層を 2以上積層した多層構造を有し、

前記光透過層のうちの少なくともひとつが、光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及びノ又は有機金属化合物により被覆され 0 . 0 1 〜 0 . 1 mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合されてなる硬化層であることを特徴とする反射防止膜が得られる。

上記の硬化層（本発明に係る塗膜）は透明性に優れると共に屈折率を 1 . 5 5以上とすることができ、主として中屈折率層として用いられるが、高屈折率層、又は、高屈折率ハードコート層として用いることもできる。なお、多層型反射防止膜の中で最も屈折率の高い層を高屈折率層と称し、最も屈折率の低い ' 層を低屈折率層と称し、それ以外の中間的な屈折率を有する層を中屈折率層と称する。

上記の硬化層を高屈折率ハードコート層として用いる場合には当該高屈折率パードコート層の表面を微細凹凸形状に形成して、防眩層（アンチグレア層') として機能するハードコート層としてもよい。高屈折率ハードコート層表面の微細凹凸形状は、高屈折率ハードコート層用コーティング組成物を基材に塗工し、エンボス加工を行ったり、或いは、無機や有機のフィラーを分散させた高屈折率ハードコート層用コーティング組成物を基材に塗工することにより、付与することができる。

高屈折率ハードコート層としての上記硬化層の表面を微細凹凸形状に形成するために添加するフイラ一の屈折率と硬化後のバインダ一との間の屈折率の差 Δ ηを、 0 . 0 1≤Δ η≤0 . 5とし、且つ、フィラーの平均粒径 dを、通常は 0 . 1 μ m≤ d≤ 1 0 /i in、好ましくは 1 μ m≤ d 5 mとすると、アンチグレア層の凹凸形状と、ディスプレイの中からの透過光によって生じる "ぎらつき" を効果的に抑制することができ、さらに視認性の良いディスプレイとなる。

特に、酸化チタン 1 0重量部に対して、分子中にァニオン性の極性基を有する前記バインダー成分を 4 〜 2 0重量部、及ぴ、分散剤を 2 〜 4重量部の割合で含有するコーティング組成物を用いることにより、膜厚が 0 . 0 5 〜 0 . 2 β mで、屈折率が 1. 5 5〜 2. 30で、且つ、 J I S— K736 1— 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1%以内である高屈折率層及び Z又は中屈折率層を形成することができる。

また酸化チタン 10〜 20重量部に対して、分子中にァニオン性の極性基を有する前記バインダ一成分を 4〜 40重量部、及び、分散剤を 2〜 10重量部の割合で含有するコーティング組成物を用いることにより、硬化後膜厚が 0. 2〜 20 mで、屈折率が 1. 5 5〜 2 · 30で、且つ、 J I S— K73 6 1 一 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 10%以内である高屈折率ハードコート層を形成することができる。

本発明に係るコーティング組成物を、必要に応じてあらかじめ 1又は 2以上の何らかの光透過層を形成しておいた支持体に塗布、乾燥した後、電離放射線の照射により硬化させることにより、光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され 0. 0 1〜0. 1 mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合されてなる塗膜が形成され、このような塗膜からなる硬化層を有する反射防止膜が得られる。

本発明に係るコーティング組成物を用いて高屈折率層及び Z又は中屈折率層を形成する場合には、膜厚が 0. 0 5〜0. 2 111で、屈折率が1. 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S-K 736 1一 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内である中〜高屈折率層を形成することができる。

' また、本発明に係るコーティング組成物を用いて高屈折率ハードコート層を形成する場合には、膜厚が 0. 2〜20 μιηで、屈折率が 1. 55〜2. 30 で、且つ、 J I S— K 7 36 1— 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのへィズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 10%以内である高屈折率ハードコート層を形成することができる。

本発明に係る塗膜は、特に、液晶表示装置（LCD) や陰極管表示装置（C RT) 、プラズマディスプレイパネノレ (P D P) 、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ELD) 等の画像表示装置の表示面を被覆する多層型反射防止膜の少なくとも一層、 '特に中屈折率層を形成するのに好適に用いられる。

図 1は、本発明に係る塗膜を光透過層として含んだ多層型反射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置の一例（1 01) の断面を模式的に示したものである。液晶表示装置 1 0 1は、表示面側のガラス基板 1の一面に RGBの画素部 2 (2R、 2G、 2 B) とブラックマトリックス層 3を形成してなるカラ一フィルター 4を準備し、当該カラーフィルターの画素部 2上に透明電極層 5 を設け、バックライト側のガラス基板 6の一面に透明電極層 7を設け、バックライト側のガラス基板とカラーフィルターとを、透明電極層 5、 7同士が向き合うようにして所定のギャップを空けて対向させ、周囲をシール材 8で接着し、ギヤップに液晶 Lを封入し、背面側のガラス基板 6の外面に配向膜 9を形成し、表示面側のガラス基板 1の外面に偏光フィルム 1 0を貼り付け、後方にバックライトュニット 1 1を配置したものである。

図 2は、表示面側のガラス基板 1の外面に貼り付けた偏光フィルム 1 0の断面を模式的に示したものである。表示面側の偏光フィルム 1 0は、ポリビニノレアルコール（PVA) 等からなる偏光素子 1 2の両面をトリアセチルセルロース（TAC) 等からなる保護フィルム 1 3、 14で被覆し、その裏面側に接着剤層 1 5を設け、その鑑賞側にハードコート層 1 6と多層型反射防止膜 1 7を順次形成したものであり、接着剤層 1 5を介して表示面側のガラス基板 1に貼着されている。

ハードコート層 1 6は、ジペンタエリスリトールへキサァクリレート（D P H A) 等の多官能ァクリルモノマーを溶剤に希釈してダラビアコーティング等の方法により形成することができる。

ハードコート層 1 6は、一般的なクリアハードコートであっても良いし、ァンチグレア性ハードコートであってもよい。すなわち、ハードコート層 1 6の表面を、エンボス加工や、或いは、当該ハードコート層 1 6の内部に無機や有機のフィラーを分散させるなどの方法で微細凹凸形状に形成することで、外部からの光を散乱させる機能を持たせた防眩層（アンチグレア層）として機能するハードコート層とすることができる。また、ハードコート層 1 6の表面を微細凹凸形状に形成するために添加するフィラーの屈折率とバインダー樹脂の屈折率の差 Δ nを、 Ο . Ο Ι ^ Δ η ^ Ο .

5とし、且つ、フィラーの平均粒径 dを、通常は 0 . 1 μ m≤ d≤ 1 0 好ましくは 1 μ πα≤ d≤ 5 μ παとすると、アンチグレア層の凹凸形状と、ディスプレイの中からの透過光によって生じる "ぎらつき" を効果的に抑制することができ、さらに視認性の良いディスプレイとなる。 '

上記の硬化層を高屈折率ハードコート層として用いる場合には、当該高屈折率ハードコート層の表面を微細凹凸形状に形成して、防眩層（アンチグレア層）として機能するハードコート層としてもよい。高屈折率ハードコート層表面の. 微細凹凸形状は、高屈折率ハードコート層用コーティング組成物を基材に塗工し、エンボス加工を行ったり、或いは、無機や有機のフィラーを分散させた高屈折率ハードコート層用コーティング組成物を基材に塗工することにより、付与することができる。

なお、ハードコート層 1 6を、微細凹凸形状を有しないクリアハードコート層とし、その上に、アンチグレア機能を発揮する微細凹凸形状を有する高屈折率層又は中屈折率層を、本発明に係るコーティング組成物を用いて形成することもできる。その場合には、アンチグレア機能付き高屈折率ハードコート層と同様の方法で形成することができ、例えば、高乃至中屈折率層用コーティング組成物に無機や有機のフィラーを分散させて用いたり、高乃至中屈折率層の表面をエンボス加工する。

多層型反射防止膜 1 7の部分は、バックライト側から鑑賞側に向かって中屈折率層 1 8、高屈折率層 1 9、低屈折率層 2 0が順次積層された 3層構造を有している。多層型反射防止膜 1 7は、高屈折率層 1 9と低屈折率層 2 0が順次積層された 2層構造であってもよい。なお、ハードコート層 1 6の表面が凹凸形状に形成される場合には、その上に形成される多層型反射防止膜 1 .7も図示のように凹凸形状となる。

低屈折率層 2 0は、例えば、シリカやフッ化マグネシウム等の無機物、フッ素系樹脂等を含有する塗工液から得られる屈折率 1 . 4 6以下の塗膜や、シリ力やフッ化マグネシウムなどを化学蒸着法（C V D ) や物理蒸着法（P V D ) などの蒸着法を用いた蒸着膜とすることができる。また、中屈折率層 1 8及び高屈折率層 1 9は、本発明に係る塗膜を用いて形成することができ、中屈折率層 1 8には屈折率 1 . 4 6〜1 . 8 0の範囲の光透過層、高屈折率層 1 9には屈折率 1 . 6 5以上の光透過層が使用される。 · この反射防止膜の作用により、外部光源から照射された光の反射率が低減するので、景色や蛍光燈の映り込みが少なくなり、 ¾示の視認性が向上する。また、外光がディスプレイ表面に映り込んだり、眩しく光ったりする状態であるのを、ハードコート層 1 6の凹凸による光散乱効果によって外光の反射光が軽減し、表示の視認性がさらに向上する。

液晶表示装置 1 0 1の場合には、偏光素子 1 2と保護フイルム 1 3、 1 4からなる積層体に本発明に係るコーティング組成物を塗布して屈折率を 1 . 4 6 〜1 . 8 0の範囲で調節した中屈折率層 1 8と屈折率を 1 . 6 5以上に調節した高屈折率層 1 9を形成し、さらに低屈折率層 2 0を設けることができる。そして、反射防止膜 1 7を含む偏光フィルム 1 0を接着剤層 1 5を介して鑑賞側のガラス基板 1上に貼着することができる。これに対し、 C R Tの表示面には配向板を貼着しないので、反射防止膜を直接設ける必要がある。しかしながら、 C R Tの表示面に本発明に係るコーティング組成物を塗布するのは煩雑な作業である。このような場合には、本発明に係る塗膜を含んでいる反射防止フィルムを作製し、それを表示面に貼着すれば反射防止膜が形成されるので、表示面に本発明に係るコーティング組成物を塗布しなくて済む。

光透過性を有する基材フィルムの一面側又は両面に、光透過性を有し且つ互いに屈折率が異なる光透過層を二層以上積層してなり、当該光透過層のうちの少なくとも一つを本発明に係る塗膜で形成することにより、反射防止フィルムが得られる。基材フィルム及び光透過層は、反射防止フィルムの材料として使用できる程度の光透過性を有する必要があり、できるだけ透明に近いものが好ましい。

図 3は、本発明に係る塗膜を含んだ反射防止フィルムの一例（1 0 2 ) の断面を模式的に示したものである。反射防止フィルム 1 0 2は、光透過性を有する基材フィルム 2 1の一面側に、本発明に係るコーティング組成物を塗布して高屈折率層 2 2を形成し、さらに当該高屈折率層の上に低屈折率層 2 3を設けたものである。この例では、互いに屈折率の異なる光透過層は高屈折率層と低屈折率層め二層だけだが、光透過層を三層以上設けてもよい。その場合には、高屈折率層だけでなく中屈折率層も、本発明に係るコーティング組成物を塗布して形成することができる。

以上に述べたように、本発明に係るコーティング組成物は、高屈折率の酸化チタンの超微粒子を十分に分散させることが可能であり、また分散安定性にも優れているので、分散剤の使用量を少量に抑えることが可能であり、当該コーティング組成物を被塗布面に塗布し電離放射線の照射により硬化させることにより、反射防止膜などの光学部材に必要な高い屈折率と透明性が得られると共に、 ·十分な塗膜強度及び隣接層との密着性を得ることができる。また、本発明においては、酸化チタンの光触媒活性を無機化合物による表面処理を行って低下又は消失させて用いるので、バインダー成分の劣化に伴う塗膜の強度低下や、反射防止性能低下の原因となる黄変現象が起こり難い。また、本発明に係るコーティング組成物は、塗工適性に優れ、均一な大面積の薄膜を容易に形成することができ、屈折率が調節されたヘーズの小さい透明膜を低コストで大量生産するのに適している。

また、本発明に係る塗膜は、本発明に係る上記コーティング組成物を用いて形成されるものである。この塗膜は、透明性が高く、ヘーズが小さく、酸化チタンの配合量をコントロールして屈折率を調節できるので、光学部材を構成する一又は二以上の光透過層、特に、反射防止膜の中〜高屈折率層や高屈折率ハドコート層として好適に利用できる。また、バインダー成分が水素結合含有基を有する場合には、隣接層、その中でも特に蒸着層との密着性が特に優れている。

従って、本発明によれば、透明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能に優れた光透過層を積層してなる高品質の反射防止膜が提供され、液晶表示装置や C R T等の表示面に好適に適用される。また、本究明によれば、そのような高品質の反射防止膜をゥエツトコ一ティングにより製造することが可能である。

特に、上記のコーティング組成物は、酸化チタンの配合量を変えて調節できる屈折率の範囲から考えて、中屈折率層、高屈折率層又は高屈折率ハードコート層を形成するのに適している。

さらに本発明によれば、コーティング組成物のバインダー成分として、電離放射線硬化性を有すると共に、水素結合形成基を有するバインダ一成分を用いることにより、隣接層に対する密着性に優れた硬化層を形成できる。特に、酸化ケィ素蒸着膜や酸化チタンスパッタリング膜のようなドライコーティング法で形成される膜に対しても非常に高い密着性が得られる点で有用である。さらに、本発明において用いるコーティング組成物は、塗工適正にも非常に優れており、干渉色斑が非常に見え易いクリァな面を有するハードコート層上でも塗工斑を引き起こさないで、均一な反射防止膜を形成することができ、また、微細凹凸表面を有するマツトハードコート層の上にも塗工斑のない膜を形成できる。

以下において、本発明を実施例により実証する。

(実施例 1 )

( 1) コーティング組成物の調製

ルチル型酸化チタンとして、酸化チタン含量が 7 9〜 8 5 %で、 A 1₂0₃およびステアリン酸で表面処理し、一次粒径 0. 0 1〜0. 0 3 /imで、比表面積が 5 0〜 6 0 m²/ gで、吸油量が 24〜3 0 g/l 00 gで、表面が撥水性のルチル型酸化チタン（TT05 1 (C) 、石原産業社製）を用意した。電離放射線硬化性バインダー成分として、ペンタエリスリトールトリアタリレート (P ET 3 0、日本化薬社製）を用意した。ァニオン性の極性基を有する分散剤としては、顔料に親和性のあるプロック共重合体くデイスパービック 1 6 3、ビックケミー .ジャパン社製）を用意した。光開始剤としては、 1—ヒド口キシ一シクロへキシノレ一フエ二ノレ一ケトン（イノレガキュア一 1 8 4、日本チバガイギ一社製）を用意した。有機溶剤としては、メチルイソプチルケトンを用意した。

ルチル型酸化チタン、ペンタエリスリトールトリアタリレート、分散剤（デイスパービック 1 6 3) 、および、メチルイソプチルケトンをマヨネーズ瓶に入れ、混合物の約 4倍量のジルコ-ァビーズ (φ 0. 3 mm) を媒体に用いてペイントシェーカーで 1 0時間攪拌し、攪拌後に光開始剤（ィルガキュア一

1 8 4) を加えて下記組成のコーティング組成物を得た。

〈コーティング組成物の組成〉

-ルチル型酸化チタン（A 1₂0₃およびステアリン酸による表面処理品、一次粒径 0. 01〜0. 03 m) (TTO 5 1 (C) 、石原産業社製）： 1 0重

：ンタエリスリトールトリアタリレート（PET 30、日本化薬社製）： 4 ' ァユオン性基含有分散剤（デイスパービック 1 63、ビックケミー 'ジャパン社製）： 2重量部

-光開始剤（ィルガキュア一 1 84、日本チバガイギ一社製）： 0. 2重量部 - メチルイソブチルケトン： 3 7. 3重量部'

(2) 塗膜の作成

厚さ 80 μ mのトリアセチルセルロースフィルム（FT— T 80UZ、富士写真フィルム（株）製）上に厚さ 3； umのペンタエリスリトールトリアタリレ一ト硬化膜を形成した後、調製直後のコーティング組成物をバーコ一ター # 2 で塗工し、 60 °Cで 1分間加熱乾燥した後、 500 m Jの U V照射によつて硬化させ、硬化後膜厚が 0. 1 πιの透明膜を形成した。 . また、ヘイズ測定用に、厚さ 50 μ mの表面未処理 Ρ ΕΤ基材（東レ（株）製ルミナ一 T 60) 上に、調製直後のコーティング組成物をバーコ一ター # 2 で塗工し、 60°Cで 1分間加熱乾燥した後、 500m Jの UV照射によって硬化させ、硬化後膜厚が 0. 1 μπιの透明膜を形成した。

また、コーティング組成物を室温で 30日間放置して沈殿の発生状況を観察し、さらに放置後のコーティング組成物を用いて、上記と同様に厚さ 50 m の表面未処理 PET基材（東レ（株）製ルミナ一 T 60) 上に透明膜を形成した。

調製直後および室温放置後のコ一ティング組成物それぞれから形成した硬化後膜厚が 0. 1 μπιの透明膜について、ヘイズと屈折率を測定した。ヘイズは、濁度計 NDH2000 (日本電色工業社製）を用いて測定した。また、硬化後の塗膜の屈折率は、分光エリプソメーター（UVSEL、ジョバン一イーボン社製）を用い、ヘリゥムレーザー光の波長 6 33 nmでの屈折率を測定した。また、この透明莫について、スチーノレウーノレの # 0000番を用い 200 g 〜1 k g荷重で膜表面を 20回擦った時のヘイズの変化により膜強度を評価した。

各試験の結果を第 1表（図 1 5) に示す。実施例 1において調製したコーティング組成物を用いたところ、ヘイズおよび屈折率が良好な透明膜が得られた。また、実施例 1のコーティング組成物は、室温放置後も分散性に優れ、調製直後と同様にヘイズおよび屈折率が良好な透明膜が得られた。

(比較例 1 )

実施例 1において、疎水性処理を施したルチル型酸化チタン（TTO 5 1 (C) 石原産業社製）に代えて、酸化チタン含量が 76〜8 3%で、 A l₂〇₃のみで表面処理し、一次粒径 0. 0 1〜0. 03 μ mで、比表面積が 75〜 8 5 m² / gで、吸油量が 40〜47 gZl 00 gで、表面が親水性のルチル型酸化チタン（TT05 1 (A) 、石原産業製）を同量用いた以外は実施例 1と同様に実施して、コーティング組成物を得た。得られたコーティング組成物を実施例 1と同様に試験した。 '

試験結果を第 1表に示す。比較例 1のコーティング組成物を調製直後に用いて塗膜を形成したが、得られた塗膜のヘイズは高く、屈折率は低かった。また、室温放置により多量の沈殿を生じた。なお、室温放置後の塗膜形成は中 ±した。

(比較例 2 )

実施例 1において、ペンタエリスリトールトリアタリレートの代わりに、水酸基を持たないペンタエリスリトールテドラアタリレート（PET_40、日本化薬製）を同量用いた以外は実施例 1と同様に実施して、コーティング組成物を得た。得られたコーティング組成物を実施例 1と同様に験した。

試験結果を比較例 2— 1として第 1表に示す。得られたコーティング組成物は、分散性が悪く、すでに調製直後にゲル化しており、均一な薄膜を形成することはできなかった。ヘイズと屈折率の測定、および、室温放置の観察は中止した。

そこで、実施例 1で使用したァニオン性基含有分散剤（デイスパービック 1 6 3、ビックケミー■ジャパン社製）を 6重量部まで増量してコーティング組成物を調製し、実施例 1と同様に試験した。このコーティング組成物の試験結果を比較例 2— 2として第 1表に示す。この場合には、ルチル型酸化チタンが均一に分散され、室温放置しても粘度の変化や沈殿物の出現は観察されなかつた。調製直後のものと室温放置後のもの、それぞれを用いて塗膜を形成したところ、得られた塗膜のヘイズは良好であった。しかしながら比較例 2— 2の屈 '折率は実施例 1に比べて低く、また、塗膜の強度が極端に低かった。

(比較例 3 )

実施例 1において、ルチル型酸化チタンとして、 A 1 2〇₃およびステアリン酸で表面処理した一次粒径 0 . 0 1〜0 . 0 3 / mのルチル型酸化チタン（T T O 5 1 ( C ) 、石原産業社製）を使用しているのに代えて、一次粒径 0 . 0 1〜0 . 0 3 μ mであるが A 1 ₂〇₃およびステアリン酸いずれの表面処理もしていないルチル型酸化チタン（T T 0 5 1 (N) 、石原産業製）を同量用いた以外は実施例 1と同様に実施して、コーティング組成物を得た。得られたコーティング組成物を実施例 1と同様に試験した。

得られたコーティング組成物は、分散性が悪く、すでに調製直後にゲル化しており、均一な薄膜を形成することはできなかった。ヘイズと屈折率の測定、および、室温放置の観察は中止した。

(蒸着膜との密着性）

厚さ 8 0 μ mのトリアセチルセルロースフィルム（F T— T 8 0 U Z、富士写真フィルム（株）製）上に厚さ 3 μ mのペンタエリスリトールトリアタリレート硬化膜を形成した後、実施例 1及び比較例 2— 2で得られたコーティング組成物をバーコ一ター # 2で塗工し、 6 0 °Cで 1分間加熱乾燥した後、 5 0 0 m Jの UV照射によって硬化させ、硬化後膜厚が 0. l /zmの透明胰を形成した。次に、以下の条件で PVD法により膜厚 84. 7 xmのシリカ蒸着膜を形成した。

< P VD法条件 >

熱蒸着用ターゲット：一酸化ケィ素（純度 99. 9%)

出力：電流値 0. 4 A、電圧 480V

真空チャンバ一内の真空度： 0. 1 3 P a

ァノレゴン流量： 38. 8 s c cm

酸素流量： 5 s c c m

蒸着速度： 8. 47 nmZ分

得られた蒸'着膜にっレ、て後述する密着性試験（セロハンテープ碁盤目剥離試験）を行った。試験結果を第 2表（図 1 6；) に示す。比較例 2— 2のコーティング組成物から形成した硬化膜の上を被覆したシリカ蒸着膜は全面が剥離したのに対し、実施例 1のコーティング組成物から形成した硬化膜を被覆したシリ力蒸着膜は全く剥離せず、塗膜への良好な密着性を示した。

(実施例 2 )

本実施例では図 4に示す構成の反射防止フィルム F 1を作成した。反射防止フィルム F 1は、基材フィルム 24の上にクリアハードコート層 25、中屈折率層 26、高屈折率層 2 7、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率層と中屈折率層を、本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

(1) 高屈折率層用コーティング液の調製

ルチル型酸化チタンとして、 A 1₂〇3およびステアリン酸で被覆した、一次粒径約 0. 03 μ mのルチル型酸化チタンを 1 00部用意した。電離放射線硬化性バインダ一成分として、ペンタエリスリトールトリアタリレート (PET 30、日本化薬社製）を 20部用意した。分散剤としては、エチレンォキサイド鎖を有し且つァニオン性の極性基を有する分散剤（ァジスパー P A 1 1 1、味の素（株）製）を 20部用意した。

これらの材料をメチルイソプチルケトンに混合して、固形分濃度を 1 5重量％とし、そこに分散メディアとしてジルコニァボールを添加して、ペイントシェーカーにて 7時間以上攪拌した。

得られた分散液に、光開始剤として 1ーヒドロキシーシクロへキシルーフエ二ルーケトン（ィルガキュア一 1 84) を 3部添加.した後、メチルイソプチルケトンを添加して固形分濃度を 3重量％に希釈し、屈折率 1. 90の高屈折率層用コーティング液を得た。

(2) 中屈折率層用コーティング液の調製

ペイントシエ一力一で攪拌して得られた上記分散液に、光開始剤として 1― ^ ヒドロキシ一シクロへキシノレ一フエエノレーケトン (ィ /レガキュア一 1 84) を 3部添加した。この混合液 100部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアタリレート（D P P A) 60部をさらに添加した後、メチルイソブチルケトンを添加して固形分濃度を 3重量。 /。に希釈し、屈折率 1. 76の中屈折率層用コーティング液を得た。

(3) 塗工、硬化

PET (ポリエチレンテレフタレート）基材上に、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（DPHA) からなる、屈折率 1. 52、乾燥後厚さ 3 m以上のクリアハードコート層を塗工した。得られたクリアハードコート層の上に、上記中屈折率層用コーティング液（屈折率 1. 76) を塗工し、屈折率 1. 76、乾燥後厚さ 6 O nmの中屈折率層を形成し、さらに、その上に上記高屈折率層用コーティング液（屈折率 1. 90) を塗工し、屈折率 1. 90、乾燥後厚さ 80 nmの高屈折率層を形成し、 UV硬化した。このようにして、基材の片面にハードコート層、中屈折率層及び高屈折率層が、この順序で積層した層構成を有する反射防止フィルム用屈折率調整フィルム（すなわち中間製品）が得られた。この屈折率調整フィルムの高屈折率層上に、シリコン含有フッ化ビ二リデン共重合体からなる屈折率 1. 42、乾燥後厚さ l O O nmの低屈折率層を塗工し、反射防止フィルムを得た。

(4) 評価

実施例 2により得られた反射防止フィルムについて、下記方法により反射率、鉛筆硬度、密着性、塗工斑を評価した。反射防止フィルムの層構成と評価結果を、第 3表及び第 4表（図 1 7、図 1 8) にそれぞれ示す。

実施例 2により得られた反射防止フィルムは、 450〜6 50 nmの可視光の反射率が 0. 4〜0. 7%であった。また、この反射防止フィルムは、 3H の鉛筆硬度を有していた。

また、クリァハードコート層上へ中屈折率層用コーティング液を塗工する時に斑を生じると、その上に高屈折率層、さらには低屈折率層という具合に層を重ねるごとに、下層の斑が一層目立つようになったり、各層がそれぞれ斑を生じるなどして、製品にはできない外観となってしまう力本実施例では、溶剤の変更により、クリアハードコート層上への均一な薄膜塗工性能が向上し、斑の発生を抑えることができた。

<評価方法〉

(a) 反射率

サンプルの裏面に、裏面反射の影響を考慮して黒ビニルテープを貼り、分光光度計により 380 n m〜 780 n mの反射率を測定した。一点測定の場合には、特に人間が一番眩しいと感じる波長 5 50 nmのを示した。

(b) 硬度

J I S 5400に従い鉛筆硬度を測定した。すなわち、サンプルに 1 k g 荷重をかけた鉛筆により筆記を 5本ほど行い、 5本中 4本が無傷となる最も硬い鉛筆と同じ硬度を有すると評価した。

(c) 密着性 J I S 5400に従いセロハンテープ碁盤目剥離試験を行った。すなわち、塗膜表面にカッターで縦 1 1本 X横 1 1本の傷を直交させて付け、 1mm幅で 1 00個の碁盤目状の桝目を設けた。その上からニチバン製セロハンテープを強く密着させた後、 5回連続して一気に引き剥がし、膜面に残った桝目の数を数えた。

(d) 塗工斑

サンプルの上、 3〜 5mmの高さから 3輝線蛍光灯で照らし、塗工斑（干渉膜なので、斑、すなわち異なる干渉色が見える。）の有無を観察した。

(実施例' 3)

本実施例では図 5に示す構成の反射防止フィルム F 2を作成した。反射防止フィルム F 2は、基材フィルム 24の上にクリアハードコート層 25、高屈折率層 27、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用レヽて形成した。

(1) 高屈折率層用コーティング液の調製

ルテル型酸化チタンとして、 Z r 0₂およびステアリン酸で被覆した、一次粒径約 0. 0 3 μ mのルチル型酸化チタンを 100部用意した。電離放射線硬化性バインダー成分として、ペンタエリスリトールトリアタリレート（PET 3 0、日本化薬社製）を 40部用意した。分散剤としては、エチレンオキサ^ド鎖を有し且つァニオン性の極性基を有する分散剤を 20部用意した。

これらの材料をメチルイソプチルケトンに混合して、固形分濃度を 1 5重量⁰ /₀とし、そこに分散メディアとしてジルコニァポールを添加して、ペイントシェーカーにて 7時間以上攪拌した。

得られた分散液に、光開始剤として 1ーヒドロキシ一シク口へキシル一フエ二ルーケトン（ィルガキュア一 1 84) を 3部添加、及び、ペンタエリスリトールペンタアタリレート（DP PA) 40部を添加した後、メチルイソプチルケトンを添加して固形分濃度を 2重量。 /₀に希釈し、屈折率 1. 76の高屈折率層用コーティング液を得た。

(2) 塗工、硬化

TAC (トリアセチルセルロース）基材上に、ペンタエリスリトールトリアクリレートからなる、屈折率 1. 5 1、乾燥後厚さ 3 μπι以上のクリアハードコート層を塗工し、さらに、その上に上記高屈折率層用コーティング液（屈折率 1. 76) を塗工して、屈折率 1. 76、乾燥後厚さ 90 nmの高屈折率層を形成し、 UV硬化した。このようにして、基材の片面にハードコート層及び高屈折率層が、この順序で積層した層構成を有する反射防止フィルム用屈折率調整フィルム（すなわち中間製品）が得られた。この屈折率調整フィルムの高屈折率層上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率 1. 4 2、乾燥後厚さ 90 nmの低屈折率層を塗工し、反射防止フィルムを得た。

(3) 評価

実施例 3により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 3により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 55 anm波長での反射率が、 0. 4%であった。また、この反射防止フィルムは、 2 Hの鉛筆硬度を有していた。

(実施例 4) .

本実施例では図 6に示す構成の反射防止フィルム F 3を作成した。反射防止フイノレム F 3は、基材フィルム 24の上にフィラー 30を含有するマットハードコート層 2 9、高屈折率層 27、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

(1) 高屈折率層用コーティング液の調製

実施例 2において屈折率 1. 76の中屈折率層用コーティング液を調製するに際して、溶剤をメチルイソブチルケトン（MI BK) から、 MI BK9 5部とブチルセ口ソルブ 5部の混合溶剤に変更するほかは同様に行って、屈折率 1. 7 6の高屈折率層用コーティング液を得た。

( 2) 塗工、硬化

T AC基材上に、下記組成を有する屈折率 1. 5 2のマットハードコート層用コーティング液を塗工し、表面タックが残らない程度に UV硬化し、屈折率 1. 5 2、乾燥後厚さ 3 x mで、且つ、微細凹凸を有するアンチグレア性のマットハードコート層を形成した。

<マットハードコート層用コーティング:液〉

'ペンタエリスリトールトリアタリレート： 2部

- スチレンペース卜（ペンタエリスリトーノレトリアタリレート /ビーズ = 6 / 4、粒径 3. 5 μ τη) ： 0. 5部

■セルロースアセテートポリプロピオネート（CAP) (固形分 1 0重量⁰ /₀の酢酸ェチル溶液）： 2. 3部

■溶剤（トルエンシクロへキサノン = 7 3) ： 4. 4部

•開始剤（ィルガキュア一 6 5 1 ) : 0. 0 6 g

得られたマットハードコート層の微細凹凸表面に、上記高屈折率層用コーテイング液（屈折率 1. 7 6 ) を塗工し、 UV硬化して、屈折率 1. 7 6、乾燥後厚さ 6 0 nmの高屈折率層を形成した。このようにして、基材の片面にアンチグレア性を有するハードコート層及び高屈折率層が、この順序で積層した層構成を有する反射防止フィルム用屈折率調整フィルム（すなわち中間製品）が得られた。この屈折率調整フィルムの高屈折率層上に、シリコン含有フッ化ビ二リデン共重合体からなる屈折率 1. 4 2、乾燥後厚さ 9 0 nmの低屈折率層を塗工し、 UVで完全硬化することにより反射防止フィルムを得た。

( 3) 評価

実施例 4により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 4により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 5 5 O nm波長での反射率が、 0. 6° /。であった。また、この反射防止フィルムは、 2 Hの鉛筆硬度を有していた。

また、本実施例では、溶剤の変更により、微細凹凸表面を有するマットハードコート層への塗工適正が向上し、高屈折率層用コーティング液を斑を生じることなく塗工できた。

(実施例 5 ) ' 本実施例では図 7に示す構成の反射防止フィルム F 4を作成した。反射防止フィルム F 4は、基材フィルム 24の上に透明導電層 3 1、フィラー 30を含有する異方導電性マットハードコート層 2 9、高屈折率層 27、低屈折率層 2 8を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率層を本発明に係るコーティンク組成物を用いて形成した。

(1) 塗工、硬化 · 実施例 4において、 TAC基材上に透明導電層を設け、マツトハードコ一ト層用コーティング液中に導電性材料として金-二ッケル樹脂ビーズ（ブライト GNR 4. 6— EH、日本化学工業製）を 0. 005部添加したほかは、実施例 4と同様に行った。

すなわち、 T AC基材上に A TO含有透明導電インキ（住友大阪セメント製、スミセファイン AS P— B J— 1 ) を塗工し、表面タックが残らない程度に U V硬化し、乾燥膜厚 2 / mの透明導電層を形成した。得られた透明導電層の上に、導電材料を添加したマットハードコート層用コーティング液を塗工し、 U V硬化して、屈折率 1. 5 2、乾燥後厚さ 3〜4 mで、且つ、微細凹凸を有するアンチグレア性の異方導電性マツトハードコート層を形成した。

次に、得られた.マットハードコート層の上に、高屈折率層用コーティング液 (屈折率 1. 76) を塗工し、 UV硬化して、屈折率 1. 76、乾燥後厚さ 6 0 nmの高屈折率層を形成した。その後、高屈折率層上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率 1. 42、乾燥後厚さ 90 nmの低屈折率層を形成し、 U Vで完全硬化することにより反射防止フィルムを得た。

( 2 ) 評価 - 実施例 5により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 5により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 5 5 0 n m波長での反射率が、 0 . 6。/。であった。また、この反射防止フィルムは、 2 Hの鉛筆硬度を有していた。

(実施例 6 )

本実施例では図 8に示す構成の反射防止フィルム F 5を作成した。反射防止フィルム F 5は、基材フィルム 2 4の上に高屈折率クリァハードコート層 3 2、高屈折率層 2 7、低屈折率層 2 8を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率クリアハードコート層及び高屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。 '

( 1 ) 高屈折率層用コーティング液の調製

ルチル型酸化チタンとして、 Z r〇₂およびステアリン酸で被覆した、一次粒径約 0 . 0 3 mのルチル型酸化チタンを 1 0 0部用意した。電離放射線硬化性バインダー成分として、ペンタエリスリトールトリアタリレート（P E T 3 0、日本化薬社製）を 4 0部用意した。分散剤としては、エチレンオキサイド鎖を有し且つァユオン性の極性基を有する分散剤を 2 0部用意した。

これらの材料をメチルイソプチルケトンに混合して、固形分濃度を 1 5重量％とし、そこに分散メディアとしてジルコ-ァポールを添加して、ペイントシェーカーにて 7時間以上攪拌した。 .

得られた分散液に、光開始剤として 1—ヒドロキシーシクロへキシル一フエ二ルーケトン（ィルガキュア一 1 8 4 ) を 3部、及び、ジペンタエリスリト —ルペンタアタリレート（D P P A) 4 0部を添加した後、メチルイソブチルケトンを添加して固形分濃度を 3重量％に希釈し、屈折率 1 . 8 4の高屈折率層用コーティング液を得た。

(2) 高屈折率クリァハードコート層用コーティング液の調製

ペイントシエ一力一で攪拌して得られた上記分散液に光開始剤として 1ーヒドロキシーシクロへキシノレ一フエ二 Λ ^—ケトン（イノレガキュア一 1 84) を 3部添加した。この混合物 100部に対し、ジペンタエリスリトールペンタァタリレート（DP PA) 20部と、ペンタエリスリトールトリアタリレート 5 5部を十分に混合して、屈折率 1. 70の高屈折率クリアハードコート層用コ一ティング液を得た。このコーティング液は分散性が良好であるため、バインダー量を増加しても基材フィルムとのヘイズ差は 0. 01であった。

(3) 塗工、硬化

TAC基材上に、屈折率 1. 70の上記高屈折率クリアハードコート層用コーティング液を塗工し、表面タックが残らない程度に U V硬化して、屈折率 1. 70、乾燥後厚さ 5 / mの高屈折率クリアハードコート層を形成した。このようにして、基材の片面に高屈折率クリァハードコート層を設けた反射防止フィルム用屈折率調整フィルム（すなわち中間製品）が得られた。それから、高屈折率クリァハードコート層の上に、屈折率 1.84の高屈折率層用コーティング液を塗工し、 UV硬化して、屈折率 1.84、乾燥後厚さ 60 nmの高屈折率層を形成した。このようにして、基材の片面に高屈折率クリアハードコート層及び高屈折率層が、この順序で積層した層構成を有する反射防止フィルム用屈折率調整フィルム（すなわち中間製品）が得られた。この屈折率調整フィルムの高屈折率層上に、シリコン含有フッ化ビ-リデン共重合体からなる屈折率 1. 42、乾燥後厚さ 9011 mの低屈折率層を形成し、 UVで完全硬化することにより反射防止フィルムを得た。

(4) 評価

実施例 6により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 6により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 5 5 O nm波長での反射率が、 0. 2%であった。また、この反射防止フィルムは、 2 Hの鉛筆硬度を有していた。

(実施例 7 )

本実施例では図 9に示す構成の反射防止フィルム F 6を作成した。反射防止フィルム F 6は、基材フィルム 24の上にフィラー 30を含有する高屈折率マットハードコート層 3 3、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率マツトハードコート層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

(1) 高屈折率マットハードコート層用コーティング液の調製

実施例 6と同様に屈折率 1. 70のタリァハードコート層用コーティング液を調製し、得られたコーティング液を使用して下記組成を有する屈折率 1. 6 6の高屈折率マツトハードコート層用コーティング液を得た。ルチル型酸化チタン超微粒子の分散性は、マット材（アクリルビーズ）やバインダーを添加しても安定で、基材フィルムとのヘイズ差は、マット材を含有した高屈折率マツトハードコート層用コーティング液を塗工し、表面を未処理 P ETでラミネ一トし、 UV硬化後に剥離することにより凹凸形状のない状態にして測定したところ、 0. 0 1であった。

く高屈折率マツトハードコート層用コーティング液〉

·屈折率 1. 70のクリアハードコート層用コーティング液（固形分 50重量％) ： 4部

■アタリルペースト（ペンタエリスリトールトリアタリレート /ビーズ = 6/ 4、粒径 3. 5 m) ： 0. 5部

■セルロースアセテートポリプロピオネート（CAP) (固形分 10重量⁰ /₀の酢酸ェチル溶液）： 2. 3部

■溶剤（トルニン）： 2. 4部 -開始剤（ィルガキュア一 6 5 1) : 0. 06部

(2) 塗工、硬化 . T AC基材上に、屈折率 1. 6 6の上記高屈折率マットハードコート層用コ一ティング液を塗工し、表面タックが残らない程度に UV硬化して、微細凹凸表面を有し、屈折率 1. 66、乾燥後厚さ 3 μπιの高屈折率マットハードコート層を形成した。このようにして、基材の片面にアンチグレア性を有する高屈折率ハードコート層を積層した層構成を有する反射防止フィルム用屈折率調整フィルム（すなわち中間製品) が得られた。この屈折率調整フィルムの高屈折率マツトハードコート層の上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率 1. 42、乾燥後厚さ 90 nmの低屈折率層を塗工し、 UVで完全硬化することにより反射防止フィルムを得た。

(3) 評価

実施例 7により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 7により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 5 50 nm波長での反射率が、 0. 8%であった。また、この反射防止フィルムは、 2 Hの鉛筆硬度を有していた。

(実施例 8 )

本実施例では図 1 0に示す構成の反射防止フィルム F 7を作成した。反射防止フィルム F 7は、基材フィルム 24の上にフィラー 30を含有する高屈折率マットハードコート層 33、高屈折率層 2 7、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率マツトハードコート層及び高屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

(1) 塗工、硬化 ·

T AC基材上に、実施例 7において得た屈折率 1. 6 6の高屈折率マットハードコート層用コーティング液を塗工し、微細凹凸表面を有し、屈折率 1. 6 6、乾燥後厚さ 3 mの高屈折率マットハードコート層を形成した。さらに、その上に、実施例 3において得た屈折率 1. 84の高屈折率層用コーティング液を塗工し、表面タックが残らない程度に UV硬化して、屈折率 1. 84、乾燥後厚さ 1 80 nmの高屈折率層を形成した。得られた高屈折率層の上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率 1. 40、乾燥後厚さ 9 0 nmの低屈折率層を塗工し、 UVで完全硬化することにより反射防止フィルムを得た。

(2) 評価 .

実施例 8により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 8により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 5 5 O nm波長での反射率が、 0. 5%であった。また、この反射防止フィルムは、 2 Hの鉛筆硬度を有していた。 .

(実施例 9 )

本実施例では図 1 1に示す構成の反射防止ブイルム F 8を作成した。反射防止フィルム F.8は、基材フィルム 24の上にフィラー 30を含有する高屈折率マツトハードコート層 _{3 3}、高屈折率層 2 7、低屈折率層 28、防汚層 34を順次積層した構成であり、そのう.ちの高屈折率マットハードコート層及び高屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

(1) 塗工、硬化

T AC基材上に、屈折率 1. 66の高屈折率マットハードコート層、及び、屈折率 1. 84の高屈折率層を形成するまでは前記実施例 8と同様に行った。さらに、屈折率 1. 84の高屈折率層の上に、屈折率 1. 45の低屈折率層用コーティング液としてゾル一ゲル S i 0₂インキをコーティングし、 80°Cで 1 分間乾燥した後、 40°Cで 1週間エージングを行い、完全に硬化させた。得られた低屈折率層の上に、フッ素系防汚材料をコーティングし、防汚層を形成し、反射防止フィルムを得た。

(2) 評価 ·

実施例 9により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 9により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 5 50 nm波長での反射率が、 1. 2%であった。また、この反射防止フィルムは、 3 Hの鉛筆硬度を有していた。 +

(実施例 1 0)

本実施例では図 1 2に示す構成の反射防止フィルム F 9を作成した。反射防止フィルム F 9は、基材フィルム 24の上にクリアハードコート層 25、中屈折率層 26、高屈折率層 27、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの中屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

(1) 塗工、硬化

PET基材上に、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（DPHA) からなる、屈折率 1. 52、乾燥後厚さ 7 i m以上のクリアハードコート層を塗工し、さらに、その上に、実施例 3において得た高屈折率層用コーティング液（屈折率 1. 76) を塗工し、完全に UV硬化して、屈折率 1.' 76、乾燥後厚さ 70 nmの中屈折率層を形成した。得られた中屈折率層上に、スパッタリングによって屈折率 1. 90、厚さ 80 nmの酸化チタン膜（T i O x) を高屈折率層として形成し、更に、その上に、同じくスパッタリングによって屈折率 1. 47、厚さ 90 nmの酸化ケィ素膜 (S i O x) を低屈折率層として形成した。さらに、その上に、フッ素系防汚材.料を塗工し、防汚層を形成し、反射防止フィルムを得た。

(2) 評価

実施例 1 0により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 1 0により得られた反射防止フィルムは、 450 ηπ！〜 6 50 nmの可視光領域の反射率が、 0. 3〜1. 2%であった。また、この反射防止フィルムは、 3Hの鉛筆硬度を有していた。

(実施例 1 1 )

本実施例では図 1 3に示す構成の反射防止フィルム F 10を作成した。反射. 防止フィルム F 10は、基材フィルム 24の上に透明導電層 3 1、異方導電性クリァハードコート層 25、中屈折率層 26、高屈折率層 27、低屈折率層 2 8、防汚層 34を順次積層した構成であり、そのうちの中屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

( 1 ) 塗工、硬化

ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（DPHA) に、導電性材料として金-ニッケル樹脂ビーズ（ブライト GNR4. 6— EH、日本化学工業製）を 0. 005部添加してなる、屈折率 1. 5 2のクリアハードコート層用コーティング液を調製した。 .

次に、 PET基材上に実施例 5と同様の AT〇含有透明導電インキ（住友大阪セメント製、スミセファイン AS P— B J— 1 ) を塗工し、表面タックが残らない程度に UV硬化し、乾燥膜厚 2 mの透明導電層を形成した。得られた透明導電層の上に、 .上記の導電材料を添加したクリァハードコート層用コーテイング液を塗工し、 UV硬化して、屈折率 1. 5 2、乾燥後厚さ以上の異方導電性クリアハードコート層を塗工し、さらに、その上に、実施例 3において得た高屈折率層用コーティング液（屈折率 1. 76) を塗工し、完全に U V硬化して、屈折率 1. 76、乾燥後厚さ 70 nmの中屈折率層を形成した。得られた中屈折率層上に、スパッタリングによって屈折率 1. 90、厚さ 80 nmの酸化チタン膜（T i〇x) を高屈折率層として形成し、更に、その上に、同じくスパッタリングによって屈折率 1. 47、厚さ 90 nmの酸化ケィ素膜 (S i Ox) を低屈折率層として形成した。さらに、その上に、フッ素系防汚材料を塗工し、防汚層を形成し、反射防止フィルムを得た。

(2) 評価

実施例 1 1により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 1 1により得られた反射防止フィルムは、実施例 1 0のものと同様に、 450 ηπ！〜 6 50 nmの可視光領域の反射率が、 0. 3〜1. 2 %であった。また、鉛筆硬度も 3 Hだった。

(実施例 1 2 )

本実施例では図 14に示す構成の反射防止フィルム F 1 1を作成した。反射防止フィルム F 1 1は、基材フィルム 24の上に透明導電層 31、フィラー 3

0を含有する高屈折率マツトハードコート層 33、低屈折率層 28を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率マツトハードコート層を本発明に係るコ一ティング組成物を用いて形成した。

(1) 透明導電層用コーティング液の調製

希釈溶剤を除く下記成分を混合し充分に攪拌した後、さらに希釈溶剤を混合して、透明導電層用コーティング液（固形分約 1 0重量％) を調製した。 <透明導電層用コーティング液 >

• ATO ： 29. 4部

• OH基含有バインダー 1 (ウレタンアタリレート）： 14. 2部

· ΟΗ基含有バインダー 2 (ペンタエリスリトールトリアタリレート（PET A) ノへキサンジオールジアタリレート（HDDA) = 7/3) ： 27. 8部 -溶剤（メチルセ口ソルブ）： 5 5. 0部

'開始剤（ィルガキュア一 1 84) : 3部

'希釈溶剤（シクロへキサノン Zトルエン = 3Z 7) ： 584部

(2) 異方導電性高屈折率マットハードコート層用コーティング液の調製実施例 6と同様に屈折率 1. 70のクリァハードコート層用コーティング液を調製し、得られたコーティング液を使用して下記組成を有する屈折率 1. 6 6の異方導電性高屈折率マツトハードコート層用コーティング液を得た。導電性微粒子としては、平均粒子径 5 μ πιの金 -ニッケル樹脂ビーズ（ブライト G NR 4. 6— EH、日本化学工業製 > を用いた。ルチル型酸化チタン超微粒子の分散性は、マット材（アクリルビーズ）やバインダーを添加しても安定で、基材フィルムとのヘイズ差は 0. 0 1であった。

<異方導電性高屈折率マツトハードコート層用コーティング液 >

■屈折率 1. 7 0のクリアハードコート層用コーティング液（固形分 5 0重量％) ： 4部

■ アクリルペースト（ペンタエリスリトールトリアタリレート/ビーズ = 6 Z 4、粒径 3. 5 μ ηχ) ： 0. 5部

-セルロースアセテートポリプロピオネート（CAP) (固形分 1 0重量⁰ /₀の酢酸ェチル溶液）： 2. 3部

•開始剤（ィルガキュア一 6 5 1 ) : 0. 0 6部

·導電性微粒子（ブライト GNR 4. 6 _ EH、 S本化学工業社製）： 0. 0 0 4 5部（全バインダー成分の 0. 1重量。/。） . ■溶剤（トルエン）： 2. 4部

( 2) 塗工、硬化 ■ .

TAC基材上に、前記透明導電層用コーティング液（固形分約 1 0 %) を塗ェし、表面タックが残らない程度に UV硬化して、乾燥後厚さ 1. の透明導電層を形成した。この導電層上に、さらに屈折率 1. 6 6の上記異方導電性高屈折率マットハードコート層用コーティング液を塗工、乾燥し、表面タツクが残らない程度に UV硬化して、微細凹凸表面を有し、屈折率 1. 6 6、硬化後厚さ 3 m、表面抵抗 2 X 1 0⁷Ωノロの異方導電性高屈折率マツトハードコート層を形成した。得られた異方導電性高屈折率マットハードコート層の上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率 1. 4 2、乾燥後厚さ 90 nmの低屈折率層を塗工し、 UVで完全硬化すること-.により反射防止フィルムを得た。なお、 PET基材を用いた場合も、同様に反射防止フィルムを作成することができた。

(3) 評価

'実施例 1 2により得られた反射防止フィルムについて、実施例 2と同様に試験した。層構成と試験結果を第 3表、第 4表にそれぞれ示す。実施例 1 2により得られた反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い 550 nm波長での反射率が、 0. 8%であった。また、この反射防止フィルムは、 2Hの鉛筆硬度を有していた。 '

(比較例 4 )

ルチル型酸化チタンとして、 A 12〇3およびステアリン酸で被覆した、一次粒径約 0. 03 z mのルチル型酸化チタンを 1 00部用意した。電離放射線硬化性バインダ一成分として、ペンタエリスリトール卜リアクリレー卜 (PET

30、日本化薬社製）を 20部用意した。分散剤は用いなかった。

これらの材料をメチルイソプチルケトンに混合して、固形分濃度を 1 5重量％とし、そこに分散メディアとしてジルコユアポールを添加して、ペイントシェーカーにて 7時間以上撹拌した。

得られた分散液に、光開始剤として 1—ヒドロキシ一シクロへキシルーフエ二ル一ケトン（ィルガキュア一 184) を 3部添加した後、メチルイソブチルケトンを添加して固形分濃度を 3重量。 /₀に希釈し、屈折率 1. 90の高屈折率層用コーティング液を得た。

' 得られたコーティング液を塗工したところ、塗膜は白濁していた。また、コ一ティング液を数時間放置したところ、沈降物が見られた。

(比較例 5 )

ルチル型酸化チタンとして、 A 1₂0₃で被覆したが、ァニオン性化合物では被覆していない、一次粒径約 0. 03 //mのルチル型酸化チタンを 1 00部用意した。電離放射線硬化性バインダー成分として、ペンタエリスリトールトリアタリレート（P E T 3 0、日本化薬社製）を 2 0部用意した。分散剤としては、エチレンオキサイド鎖を有し且つァニオン性の極性基を有する分散剤（ホスマー M) を 2 0部用意した。

これらの材料をメチルイソプチルケトンに混合して、固形分濃度を 1 5重量％とし、そこに分散メディアとしてジルコニァボールを添加して、ペイントシェーカーにて 7時間以上撹拌した。

得られた分散液に、光開始剤として 1ーヒドロキシーシク口へキシル一フエエルーケトン（ィルガキュア一 1 8 4 ) を 3部添加した後、メチルイソプチルケトンを添加して固形分濃度を 3重量％に希釈し、コーティング液を得た。得られたコーティング液を塗工したところ、塗膜は白濁していた。また、コ一ティング液を数時間放置したところ、沈降物が見られた。

(比較例 6 )

市販のジルコニァ（Z r 0₂) 分散液（固形分 1 5重量。/。、溶剤：トルエン 2 5 . 5 /ァセチルアセトン 4 2ノその他 1 7 . 5、住友大阪セメント製）中に、電離放射線硬化性バインダ一成分として、ペンタエ])スリトールトリアタリレート（P E T 3 0、日本化薬社製）を 3部添加し、屈折率 1 . 7 6の高屈折率層用コーティング液を調製し、当該高屈折率層用コーティング液を用いて実施例 3及び実施例 1 0と同じ層構成の反射防止フィルムを作成した。

実施例 3と同じ層構成の反射防止フィルムは、鉛筆硬度が Fであり、且つ、クリアハードコート層との密着性はなかった。，

実施例 1 0と同じ層構成の反射防止フィルムは、鉛筆硬度が Hであり、且つ、クリァハードコート層との密着性はなかった。

さらに、溶剤系が複雑なため、乾燥時に斑が生じ易かった。また、コーティングに適したケトン系溶剤を用いて固形分 1 5 %の上記ジルコ于ァ（Z r 0₂) 分散液を固形分 3 °/₀に希釈すると、分散剤との相性が悪いためか、分散性が悪化してしまうという問題も生じた

Claims

請求の範囲

1. 少なくとも、（1) 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び Z又は有機金属化合物により被覆され、 0. 0 1〜0. 1 μπιの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、 ( 2 ) 電離放射線硬化性のバインダ一成分、

(3) ァニオン性の極性基を有する分散剤、及び、

(4) 有機溶剤、

からなることを特徴とする、コーティング組成物。

2. 前記無機化合物は、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、アンチモンをドープした酸化スズ（ΑΤΟ) 、スズをドープした酸化インジウム（Ι ΤΟ) 、亜鉛をドープした酸化インジウム（Ι ΖΟ) 、アルミニゥムをドープした酸化亜鉛（ΑΖΟ) 、及び、フッ素をドープした酸化スズ（FTO) よりなる群から選ばれることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

3. 前記分散剤は、エチレンオキサイド鎖の骨格を有する主鎖にァニオン性の極性基からなる側鎖又はァニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、数平均分子量が 2, 000から 20， 000の化合物であることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

4. 前記バインダー成分は、分子中にァユオン性の極性基を有するバインダ一成分であることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

5. 前記バインダー成分のァニオン性極性基が、水素結合形成基であることを特徴とする、請求の範囲第 4項に記載のコーティング組成物。

6. 前記バインダー成分の水素結合形成基が、水酸基であることを特徴とする、請求の範囲第 5項に記載のコーティング組成物。

7 . 分子中に水酸基を有する前記バインダー成分が、ペンタエリスリトール多官能ァクリレート、ジペンタエリスリトール多官能ァクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタタリレート、及び、ジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる一又は二以上の成分であることを特徴とする、請求の範囲第 6項に記載のコーティング組成物。

8 . 前記酸化チタン 1 0重量部に対して、分子中にァニオン性の極性基を有する前記バインダー成分を 4〜 2 0重量部、及び、分散剤を 2〜4重量部の割合で含有することを特徴とする、請求の範囲第 4項に記載のコーティング組成物。

9 . 前記酸化チタン 1 0〜2 0重量部に対して、分子中にァニオン性の極性基を有する前記バインダー成分を 4 ~ 4 0重量部、及び、分散剤を 2〜1 0重量部の割合で含有することを特徴とする、請求の範囲第 4項に記載のコーティング組成物。

1 0 . ァニオン性の極性基を有する前記有機化合物が、有機カルボン酸であることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

1 1 . ァニオン性の極性基を有する前記有機金属化合物が、シランカツプリング剤及び/又はチタネートカツプリング剤からなることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

1 2 . 前記の有機溶剤は、ケトン系溶剤であることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

1 3 . さらに光開始剤として、 1—ヒドロキシーシクロへキシル一フエニル —ケトン、及び/又は、 2—メチル一 1 [ 4 - (メチルチオ) フエニル] - 2 —モルフオリノプロパン一 1—オンを含有することを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

1 4 . 全固形分 0 . 5〜 5 0重量部に対して、前記有機溶剤が 5 0〜 9 9 . 5重量部の割合で配合されていることを特徴とする、請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

1 5. 反射防止膜を形成するために用いられるものであることを特徴とする、 ' 請求の範囲第 1項に記載のコーティング組成物。

1 6. 反射防止膜の中屈折率層又は高屈折率層を形成するために用いられるものであることを特徴とする、請求の範囲第 8項に記載のコーティング組成物。

1 7. 反射防止膜の高屈折率ハードコート層を形成するために用いられるものであることを特徴とする、請求の範囲第 9項に記載のコーティング組成物。

1 8. 前記請求の範囲第 1項乃至第 1 4項いずれかに記載のコーティング組成物を被塗工体の表面に塗布し硬化させることにより得られ、硬化後膜厚が 0. 05〜0. 2 mの時に、屈折率が 1. 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S—K 7 36 1 - 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内であることを特徴とする、塗膜。

1 9. 前記請求の範囲第 1項乃至第 14項いずれかに記載のコーティング組成物を被塗工体の表面に塗布し硬化させることにより得られ、硬化後膜厚が 0. 2〜20 inの時に、屈折率が 1. 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S— K 73 6 1 - 1に規定されるヘイズ値が前記基材'だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 0%以内であることを特徴とする、塗膜。

20. 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び Z又は有機金属化合物により被覆され 0. 01〜0. 1 μ mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合されてなり、硬化後膜厚が 0. 05〜0. 2 mの時に、屈折率が 1 · 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S—K 736 1— 1に規定されるヘイズ値が基材だけのヘイズ値と変わらないか又は基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内であることを特徴とする、塗膜。 '

2 1. 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され 0. 0 1〜0. 1 πιの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダ一中に均一に混合されてなり、硬化後膜厚が 0. 2〜20 imの時に、屈折率が 1. 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S— K 736 1— 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値 . と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 0%以内であることを特徴とする、塗膜。 ·

22. 前記分散剤は、エチレンォキサイド鎖の骨格を有する主鎖にァニオン性の極性基からなる側鎖又はァニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有することを特徴とする、前記請求の範囲第 20項又は第 2 1項に記載の塗膜。 -,

23. 前記バインダーは、ペンタエリスリトール多官能アタリレート、ジぺンタエリスリトール多官能ァクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及び、 ^ペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる一又は二以上の成分の硬化物であることを特徴とする、前記請求の範囲第 20項又は第 2 1項に記載の塗膜。

24. 光透過性を有する 1の光透過層からなる単層構造、又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる光透過層を 2以上積層した多層構造を有し、 ' 前記光透過層のうちの少なくともひとつが、

光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニォン性の極性基を有する有機化合物及びノ又は有機金属化合物により被覆され 0. 01〜0. l / mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダ一中に均一に混合されてなる硬化層であることを特徴とする、反射防止膜。

25. 前記硬化層は、必須成分として、 .

(1) 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され、 0. 0 1〜0. 1 β mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、 '

( 2 ) 電離放射線硬化性のバインダ一成分、

(3) ァニオン性の極性基を有する分散剤、及び、

(4) 有機溶剤、

を含有するコーティング組成物を、硬化層により被覆すべき面に塗工し硬化させてなる塗膜であることを特徴とする、前記請求の範囲第 24項に記載の反射防止膜。

26. 前記無機化合物は、前記無機化合物は、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、アンチモンをドープした酸化スズ（ATO) 、スズをドープした酸化インジウム（I TO) 、亜鉛をドープした酸化インジゥム（I ZO) 、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（AZO) 、及び、フッ素をドープした酸化スズ（FT〇）よりなる群から選ばれることを特徴とする、前記請求の範囲第 24項に記載の反射防止膜。

27. ァニオン性の極性基を有する前記有機化合物が、有機カルボン酸であることを特徴とする、前記請求の範囲第 24項に記載の反射防止膜。

' 28. ァユオン性の極性基を有する前記有機金属化合物が、シランカップリング剤及びノ又はチタネートカップリング剤からなることを特徴とする、前記請求の範囲第 24項に記載の反射防止膜。

2 9. 前記分散剤は、エチレンオキサイド鎖の骨格を有する主鎖にァニオン性の極性基からなる側鎖又はァニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造を有することを特徴とする、前記請求の範囲第 24項に記載の反射防止膜。

30. 前記バインダーは、ァニオン性極性基を有するバインダー成分の硬化物であることを特徴とする、前記請求の範囲第 24項に記載の反射防止膜。 3 1. 前記バインダーは、ァニオン性極性基としての水素結合形成基を残した硬化物であることを特徴とする、前記請求の範囲第 30項に記載の反射防止

3 2 . 前記バインダーは、水素結合形成基として水酸基を残した硬化物であることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 1項に記載の反射防止膜。

3 3 . 前記バインダーは、ペンタエリスリトール多官能アタリレート、ジぺンタエリスリトール多官能ァクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及び、ジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる 1又は 2以上の成分の硬化物であることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 2項に記載の反射防止膜。

3 4 . 前記光透過層として高屈折率層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に 1又は 2以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、

前記の高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わり且つ低屈折率層が最も鑑賞面側に位置するように積層されており、前記高屈折率層及び前記中屈折率層のうち少なくとも一つが前記硬化層により形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 2 4項に記載の反射防止膜。

3 5 . 前記硬化層により形成された高屈折率層及び Z又は中屈折率層は、膜厚が 0 . 0 5〜0 . 2 111で、屈折率が1 . 5 5〜2 . 3 0で、且つ、 J I S - K 7 3 6 1 - 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらな V、か又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内であることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 4項に記載の反射防止膜。

3 6 . 前記高屈折率層及び前記中屈折率層のうち少なくとも一つが水素結合形成基を残した硬化物からなるバインダーを含有していると共に、当該硬化層により形成された高屈折率層又は中屈折率層に隣接して、水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層又は低屈折率層がドライコーティング法により形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 4項に記載の反射防止

3 7 . 水素結合形成基を含有する高屈折率層又は中屈折率層として、酸化チタンを含有するスパッタリング膜が形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 6項に記載の反射防止膜。

3 8 . 水素結合形成基を含有する低屈折率層として、酸化ケィ素を含有する蒸着膜が形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 6項に記載の反射防止膜。

3 9 . 前記光透過層としてハードコート層をさらに備え、当該ハードコト層の鑑賞面側に隣接して前記高屈折率層又は前記中屈折率層が前記硬化層により形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 3 4項に記載の反射防止膜。

4 0 . 前記光透過層として高乃至中屈折率層として機能し得る屈折率を有する高屈折率ハードコート層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に、高屈折率層及びノ又は 1又は 2以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、前記の高屈折率ハードコート層、高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わり、高屈折率ハードコート層が最も表示媒体との接触面側に位置し、且つ、低屈折率層が最も鑑賞面側に位置するように積層されており、

前記高屈折率ハードコート層が前記硬化層により形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 2 4項に記載の反射防止膜。

4 1 . 前記硬化層により形成された高屈折率ハードコート層は、防眩性の微細凹凸表面を有していることを特徴とする、前記請求の範囲第 4 0項に記載の反射防止膜。

4 2 . 前記硬化層により形成された高屈折率ハードコート層は、膜厚が 0 . 2〜2 0 μ ιηで、屈折率が 1 . 5 5〜2 . 3 0で、且つ、 J I S—K 7 3 6 1 — 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 0 %以内であることを特徴とする、前記請求の範囲第 4 0項に記載の反射防止膜。

4 3 . 前記高屈折率ハードコート層は水素結合形成基を残した硬化物からなるバインダーを含有していると共に、当該高屈折率ハードコート層に隣接して、水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層又は透明導電層がドライコーティング法により形成されていることを特徴とする、前記請求の範囲第 4 0項に記載の反射防止膜。

4 4 . 光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に、前記請求の範囲第 2 4項乃至第 4 3項いずれかに記載の反射防止膜を、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑賞面側に位置するように積層してなることを特徴とする、反射防止フイノレム。

4 5 . 前記請求の範囲第 2 4項乃至第 4 3項いずれかに記載の反射防止膜により、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑賞面側に位置するように表示面を被覆してなることを特徴とする、画像表示装置。 - 4 6 . 光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に、高屈折率層を少なくとも備えると共に、 1又は 2以上の中屈折率層をさらに備えていてもよ前記の高屈折率層及び中屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わるように積層されており、前記高屈折率層及び前記中屈折率層のうちの少なくとも一つが、光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物どァ-オン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され 0 . 0 1〜 0 . 1 μ mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダ一中に均一に混合されてなる硬化層であることを特徴とする、反射防止フィルムのための中間製品。

4 7 前記硬化層により形成された高屈折率層及び/又は中屈折率層は、防眩性の微細凹凸表面を有していることを特徴とする、前記請求の範囲第 4 6項に記載の中間製品。

48 前記硬化層により形成された高屈折率層及ぴ又は中屈折率層は、膜厚が 0. 05〜0. 2 ！!1で、屈折率が1. 5 5〜2. 30で、且つ、 J I S— K 736 1一 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 %以内であることを特徴とする、前記請求の範囲第 46項に記載の中間製品。

49. 光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に、高乃至中屈折率層として機能し得る屈折率を有する高屈折率ハードコート層を少なくとも備えると共に、高屈折率層及びノ又は 1又は 2以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、

前記の高屈折率ハードコート層、高屈折率層及び中屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わり、高屈折率ハードコート層が最も表示媒体との接触面側に位置するように積層されており、

前記高屈折率ハードコート層、高屈折率層及び中屈折率層のうちの少なくとも一つが、光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され 0. 01〜0. 1 i mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、ァニオン性の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダ一中に均一に混合されてなる硬化層であることを特徴とする、反射防止フィルムのための中間製品。

50. 前記硬化層により形成された高屈折率ハードコート層は防眩性の微細凹凸表面を有していることを特徴とする、前記請求の範囲第 49項に記載の中

5 1 前記高屈折率層及び/又は中屈折率層は、前記硬化層により形成されていると共に、防眩性の微細凹凸表面を有していることを特徴とする、前記請求の範囲第 49項に記載の中間製品。

5 2. 前記硬化層により形成された高屈折率ハードコート層は、膜厚が 0. 2〜 20 mで、屈折率が 1. 5 5〜 2. 30で、且つ、 J I S— K7 3 6 1 一 1に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が 1 0%以内であることを特徴とする、前記請求の範囲第 49項に記載の反射防止膜。

53. 前記硬化層は、必須成分として、

(1) 光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とァニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆され、 0. 01〜0. 1 μ mの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、

(2) 電離放射線硬化性のバインダー成分、

(3) ァニオン性の極性基を有する分散剤、及び、

(4) 有機溶剤、

を含有するコーティング組成物を、硬化層により被覆すべき面に塗工し硬化させてなる塗膜であることを特徴とする、前記請求の範囲第 46項乃至第 5 2項いずれかに記載の中間製品。