WO2002059982A1 - Light emitting diode, optical semiconductor elemet and epoxy resin composition suitable for optical semiconductor element and production methods therefor - Google Patents

Light emitting diode, optical semiconductor elemet and epoxy resin composition suitable for optical semiconductor element and production methods therefor Download PDF

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WO2002059982A1
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light
light emitting
fluorescent substance
emitting diode
resin
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PCT/JP2002/000484
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Kensho Sakano
Kazuhiko Sakai
Yuji Okada
Toshihiko Umezu
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Nichia Corporation
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Definitions

  • the present invention relates to an optical semiconductor device such as a liquid crystal backlight, a full-color display, an in-switch illumination, a light source for illumination, various indicators, a traffic signal light, and the like, mainly a surface-mount type light-emitting diode and the like, and a method for manufacturing the same.
  • the present invention relates to a transparent epoxy resin composition excellent in light resistance and flexibility suitable for a light emitting diode.
  • nitride semiconductor blue light is capable of emitting semiconductor light-emitting device with high luminance (I n x Ga y A l ⁇ y N, 0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1) L ED chips using Was developed.
  • Light-emitting devices using nitride semiconductors have higher output and less color shift with temperature compared to other light-emitting devices that emit red to yellow-green light using materials such as GaAs and A1InGaP. Despite its characteristics, there is a tendency that it is difficult to obtain high output in a long wavelength region having a wavelength of green or more so far.
  • This light-emitting diode is, for example, a light-emitting resin that covers the LED chip and light from the LED chip that is electrically connected to the lead electrodes, despite the relatively simple structure of a one-chip two-terminal structure. It outputs white light, which is mixed light with light from fluorescent substances such as YAG: Ce contained therein, through a convex lens.
  • the mixed color light emitted from the light-emitting diode can be adjusted to an arbitrary color such as bluish white to yellowish white. it can.
  • pigments can be added, for example, yellow light or red light It is also conceivable to get
  • chip-type light-emitting diodes have been widely used as light for lighting in switches, full-color displays, liquid crystal backlights, and the like.
  • the chip-type light-emitting diode uses a package having a recess for accommodating the light-emitting element chip, electrically connects the light-emitting element chip to the recess of the package, and forms a light-transmitting resin so as to cover the light-emitting element chip. It is constituted by sealing.
  • a light emitting layer is formed.
  • the main emission peak can emit light with an arbitrary light emission peak of about 365 nm to about 65 nm, and visible light of about 550 nm or less (specifically, near-ultraviolet light to blue-green light).
  • the light emitting layer of nitride semiconductor it is possible to emit light as high as 5 mW or more. This high power has created new problems.
  • countermeasures against deterioration of the mold resin due to light and relaxation of stress generated between the mold resin and the optical semiconductor chip due to heat are particularly important issues.
  • Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2000-19661 discloses a mold resin mainly composed of an alicyclic epoxy resin instead of a general bisphenol-type epoxy resin.
  • Epoxy resin compositions mainly composed of alicyclic epoxy resins and cured with acid anhydrides have long-term light irradiation because the main skeleton contains few carbon-carbon double bonds that cause photodegradation. After that, the mold resin is less inferior and relatively flexible, so that the semiconductor chip is less likely to be damaged by thermal stress.
  • cationic curing agents such as aromatic sulfonium salts are generally used instead of acid anhydride curing agents. Since the cationic curing agent has low volatility, good curing can be performed even when a mixed solution with an epoxy resin is applied to a thin film.
  • the epoxy resin cured by the cationic curing agent is liable to yellow by irradiation with short-wavelength light. Therefore, it has been difficult to use an epoxy resin thread composition cured with a cationic curing agent for an optical semiconductor element that emits or receives short-wavelength light of blue or less.
  • the curing reaction with the cationic curing agent almost proceeds only by a ring-opening reaction between epoxy groups, the obtained epoxy resin composition has a three-dimensional network structure in which ether bonds are relatively regularly arranged. And low flexibility.
  • the epoxy resin to be cured includes: monodaricidyl ether ⁇ /, polyglycol glycidyl ether, and tertiary carboxylic acid monoglycidyl ether. And a low molecular weight reactive diluent such as.
  • a low molecular weight reactive diluent such as.
  • the mixing of these reactive diluents hinders the curing of the epoxy resin, so that it is necessary to increase the amount of the cationic curing agent used, which further exacerbates the problem of yellowing of the epoxy resin composition. Disclosure of the invention
  • an object of the present invention is to provide a color conversion type light emitting diode having more excellent light emitting characteristics.
  • an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a light emitting diode having excellent mass productivity.
  • the present invention provides an epoxy resin composition which is less likely to cause yellowing, is excellent in sharpness and flexibility while performing stiffening with a cationic curing agent. It is an object of the present invention to provide a light emitting diode having excellent light resistance and heat resistance by using an object as a mold resin.
  • a first light emitting diode has an LED chip in which a light emitting layer is made of a nitride-based compound semiconductor, and absorbs at least a part of light from the LED chip.
  • the fluorescent material includes a small particle size fluorescent material and a large particle size fluorescent material, and the large particle size fluorescent material is distributed near the LED chip in the translucent resin to form a color conversion layer, The small particle size fluorescent substance is distributed outside the color conversion layer in the translucent resin.
  • color conversion can be efficiently performed by the color conversion layer composed of the large particle diameter fluorescent substance, and the small particle diameter fluorescent light dispersed outside the light emitting diode can be efficiently converted. Color unevenness can be suppressed by the substance.
  • the large ⁇ light material particle size of its 1 Omicron mu eta! It is preferable that the diameter is adjusted to be within a range of about 60 im, whereby the large-diameter fluorescent substance can be relatively coarsely distributed in the vicinity of the LED chip in the translucent resin, The wavelength conversion function can be exhibited efficiently. Further, in the first light-emitting diode according to the present invention, it is preferable that the particle diameter of the small particle diameter fluorescent substance is adjusted to a range of 0.2111 to 1.5 m, whereby Since the aggregation of the fluorescent particles having a particle size can be prevented and the function of scattering power and light can be effectively exhibited, color unevenness can be more effectively suppressed.
  • the frequency peak particle size value of the large particle size fluorescent substance is set in a range of 20 times to 90 times the frequency peak particle size value of the small particle size fluorescent substance.
  • the light extraction efficiency can be increased.
  • the second light-emitting diode includes a light-emitting element whose light-emitting layer is made of a semiconductor and a fluorescent substance that absorbs at least a part of light from the light-emitting element and emits light of different wavelengths.
  • a light emitting diode comprising a transparent resin, wherein the phosphor has a flat slope having a zero slope between an integrated value of 0.0 l vol% and LO vol% in a volume-based particle size distribution curve. It has a region. As a result, a light-emitting diode with high luminance and high output can be obtained.
  • the fluorescent material comprises a small particle size fluorescent material and a large particle size fluorescent material bounded by the flat region, and the frequency peak particles of the large particle size fluorescent material
  • the diameter is preferably 20 to 90 times the frequency peak particle size of the small-diameter fluorescent substance, whereby a light-emitting diode having good light extraction efficiency can be obtained.
  • the center particle diameter of the fluorescent substance is 15! It is preferably in the range of about 50 ⁇ , whereby the light emitting efficiency is improved and a light emitting diode with high luminance can be obtained. Further, it is possible to suppress the formation of a dense aggregate that tends to affect optical characteristics.
  • the frequency value of the center particle diameter when the frequency value of the center particle diameter is in the range of 20% to 50%, the dispersion of the particle diameter can be reduced, and as a result, the color unevenness can be reduced. Is suppressed, and light emission having good contrast is obtained.
  • the light-transmitting resin contains a diffusing agent together with the fluorescent substance, because color unevenness can be further suppressed and uniform light emission can be obtained.
  • the light emitting surface made of the translucent resin has a curved surface.
  • the light of the light emitting element is extracted from the translucent resin to the outside, the light is diffused at the interface between the translucent resin and an external air layer, and the light is diffused by using the large particle size fluorescent substance.
  • uneven color unevenness can be suppressed.
  • the light extraction efficiency at the light emitting surface is improved, and light can be emitted with higher output.
  • the third light emitting diode comprises a pair of gold constituting positive and negative electrodes.
  • a metal base formed by joining the metal thin plates so as to be electrically separated by an insulating resin; a side wall joined to one surface of the metal base to form a housing;
  • a light emitting diode comprising: an LED chip provided in the storage part; and a translucent resin filled in the storage part so as to seal the LED chip.
  • the light-transmitting resin is formed continuously from the storage portion to the upper surface of the surrounding side wall portion, and the upper surface of the light-transmitting resin is flat and substantially parallel to the metal base.
  • the outer peripheral side surface of the conductive resin is substantially flush with the outer peripheral side surface of the package.
  • the third light emitting diode configured as described above, a light emitting diode excellent in reliability and mass productivity can be provided.
  • the translucent resin is formed continuously from the housing portion to the upper surface of the peripheral side wall portion, the light emitting surface is widened to form the entire upper surface of the light emitting diode, so that good directivity characteristics are obtained. Can be realized.
  • the light-transmitting resin may contain a filler, and as one kind thereof, a fluorescent substance capable of absorbing a part of light from the light-emitting element and emitting light of a different wavelength may be contained.
  • the method for manufacturing a light emitting diode according to the present invention is a method for manufacturing the third light emitting diode
  • the epoxy resin composition according to the present invention has an epoxy resin comprising 65% by weight or more of an alicyclic epoxy resin, and an epoxy resin having an epoxy equivalent of 0.05 to 0.5 mol based on the epoxy equivalent of the epoxy resin.
  • the ester conversion of the carboxyl group of the acid anhydride or the like in the crosslinked oligomer is preferably 10% or more, and more preferably 70% or more. The ester conversion can be adjusted by the reaction temperature and time.
  • an advantage of the epoxy resin composition of the present invention is that after alicyclic epoxy resin is reacted with an acid anhydride or dicarboxylic acid to obtain a crosslinked oligomer, a mixture of the crosslinked oligomer and the force-curing agent is obtained.
  • an alicyclic epoxy resin is reacted with an acid anhydride or the like in an appropriate reaction vessel in advance to form a bridge oligomer, and a mixed solution of the cross-linked oligomer and a cationic curing agent is placed on a substrate of an optical semiconductor device.
  • the cross-linked oligomer and The viscosity of the mixed solution of the cationic curing agent can be freely adjusted by the amount of acid anhydride or the like added and the ester conversion, so that the viscosity suitable for handling can be easily set.
  • the viscosity does not change with time and the pot life is long.
  • the epoxy resin composition according to the present invention is used for a mold resin of an optical semiconductor device, it is conceivable to mix fillers, fluorescent agent particles, diffusing agent particles, colorant particles, and the like with functional particles as appropriate. Since the mixture of the oligomer and the cationic curing agent has a relatively high viscosity, the dispersibility of these functional particles is good. For this reason, a desired function can be expressed with a small particle content, and light emission or light reception loss of the optical semiconductor element due to light scattering / shielding of the functional particles can be reduced.
  • the alicyclic epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention it is preferable to use a hexene epoxide derivative, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, or the like.
  • a hexene epoxide derivative hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, or the like.
  • cationic curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention it is preferable to use an aromatic sulfonate salt, an aromatic diazonium salt, an aromatic odonium salt, an aromatic selenium salt, or the like. These cationic curing agents have a high curing speed and can achieve sufficient curing with a small amount.
  • the epoxy resin composition of the present invention preferably further contains 0.1 to 5.0 equivalents of a polyhydric alcohol or a polycondensate thereof with respect to the acid anhydride or the dicarboxylic acid.
  • a polyhydric alcohol there can be used, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, trimethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol and the like. .
  • the optical semiconductor device is an optical semiconductor device provided with at least a pair of lead electrodes, an optical semiconductor chip electrically connected to the lead electrode, and a mold resin for sealing the optical semiconductor chip.
  • the mold resin is related to the present invention. Characterized by comprising an epoxy resin composition. As a result, it is possible to obtain an optical semiconductor device in which a decrease in light emission or light receiving efficiency due to yellowing of the mold resin is small and in which chip damage and wire breakage due to thermal cycling are less likely to occur.
  • the optical semiconductor element according to the present invention is of a surface mount type in which the optical semiconductor chip is bonded to a substrate surface on which lead electrodes are formed
  • the optical semiconductor chip contains at least In and Ga.
  • the light emitting diode chip has a light emitting layer made of a nitride semiconductor and has a main light emitting peak of 55 O nm or less, the light resistance and the heat resistance are remarkably improved.
  • the first method for producing a fluorescent substance according to the present invention is a method for producing a fluorescent substance by mixing a raw material and a flux and firing the mixture.
  • the firing step includes a first firing step of firing in a first reducing atmosphere and a second firing step of firing in a second reducing atmosphere, wherein the first reducing atmosphere is It is characterized by being a reducing atmosphere weaker than the reducing atmosphere of 2.
  • aluminum fluoride can be used as the flux.
  • a second method for producing a fluorescent substance according to the present invention is a method for producing a fluorescent substance by mixing a raw material and a flux and firing the mixture.
  • the flux includes barium fluoride, boric acid, and a liquid.
  • the fluorescent substance produced by this method can suppress the chromaticity fluctuation of the emission color.
  • FIG. 2A is a graph showing a volume-based distribution curve (integrated value with respect to particle size) of the fluorescent substance of the first embodiment.
  • FIG. 2B is a graph showing a volume-based distribution curve (frequency value with respect to particle size) of the fluorescent substance of the first embodiment.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of a part of the package assembly after stencil printing and hardening of the translucent resin in the manufacturing method according to the first embodiment.
  • FIG. 9B is a graph showing a volume-based distribution curve (frequency value with respect to particle size) of the fluorescent substance of Comparative Example 1.
  • FIG. 1OA is a schematic sectional view of a lamp-type light-emitting diode according to Example 9 of the present invention.
  • FIG. 10B is an enlarged view of a dotted circle in FIG. 10A.
  • Fig. 11A shows the total light transmittance of the epoxy resin composition before the light resistance test. It is a graph.
  • FIG. 12B is a graph showing the total light transmittance of the epoxy resin composition after the heat resistance test.
  • the light emitting diode of the first embodiment is a surface mount type (SMD type) in which a light emitting diode chip (LED chip) 5 is sealed with a transparent resin 8 in a package.
  • SMD type surface mount type
  • LED chip light emitting diode chip
  • the package includes a metal base 2 and a side wall 1, and the side wall 1 is formed around one surface of the metal base 2 to form the storage section 1 a.
  • the LED chip 5 is die-bonded to the housing part 1a of the package, and after predetermined wiring by wire bonding, is sealed with a translucent resin 8 (for example, a thickness of about 1 mm on the LED chip).
  • an epoxy resin peculiar to the present invention is used as the sealing resin 8
  • the light emitted from the light emitting diode (LED) chip has a different wavelength in the sealing resin 8.
  • Fluorescent substances (phosphor particles) that are converted into light and output are dispersed and have the following features.
  • an alicyclic epoxy resin and an acid anhydride or dica Light resistance and heat resistance are improved by using an epoxy resin composition that reacts with rubonic acid to form a crosslinked oligomer and can be cured with a small amount of a cationic curing agent.
  • the LED chip 5 is die-bonded to one of the metal thin plates 2 b by the die bonding resin 6.
  • the LED chip 5 may be die-bonded on the other metal sheet 2a, or may be die-bonded across the metal sheet 2a and the metal sheet 2b. .
  • the light emitting diode of the first embodiment is configured so that a part or all of the light from the LED chip 5 is wavelength-converted by the fluorescent substance, so that the LED chip 5 can emit light capable of exciting the fluorescent substance.
  • One that emits light of a wavelength is used.
  • such an LED chip 5 can be used that is formed by using various semiconductors such as ZnSe-based and GaN-based, but in the present invention, the fluorescent substance is efficiently used.
  • excitation can short-wavelength light is capable of emitting nitride semiconductor (I n x Al Y G ai - x - Y n, 0 ⁇ X, 0 ⁇ YX + Y ⁇ 1) it is preferable to use an LED chip 5 using .
  • the LED chip 5 has In x G ai — X N (0 ⁇ x ⁇ 1) as a light emitting layer, and the light emission wavelength is arbitrarily changed from about 365 nm to 650 nm depending on the degree of mixed crystal. be able to.
  • Examples of the structure of the LED chip 5 include a homo structure, a hetero structure, and a double hetero structure having a MIS junction, a PIN junction, a Pn junction, and the like.Either of them can be used in the present invention. High brightness It is preferable to adopt a double hetero structure that can obtain the following.
  • various emission wavelengths can be selected depending on the composition of the semiconductor constituting the light emitting layer (active individual layer) and the degree of mixed crystal thereof.
  • the active layer may have a single quantum well structure or a multiple quantum well structure including a thin film in which a quantum effect occurs.
  • an LED chip 5 using a nitride semiconductor materials such as sapphire, spinel, SiC, Si, and ZnO can be used for the substrate, but mass production of a nitride semiconductor with good crystallinity is possible.
  • a sapphire substrate A nitride semiconductor can be formed on the sapphire substrate by using the MOCVD method or the like. At this time, it is preferable to form a buffer layer such as GaN, A1N, or GaN on the sapphire substrate and grow a nitride semiconductor layer having a pn junction thereon.
  • a buffer layer is formed on a sapphire substrate, and a first contact layer made of n-type gallium nitride is formed on the buffer layer.
  • a first cladding layer formed of gallium, an active layer formed of indium nitride / gallium, a second cladding layer formed of p-type aluminum nitride / gallium, and a second cladding layer formed of p-type gallium nitride An LED chip with a double-headed structure in which contact layers are sequentially stacked.
  • Nitride semiconductors exhibit n-type conductivity without being doped with impurities, but to form a desired n-type nitride semiconductor, Si, Ge, Se, Te, C It is preferable to appropriately introduce such elements.
  • p-type dopants such as Zn, Mg, Be, Ca, Sr, and Ba are doped.
  • the LED chip 5 using the nitride semiconductor can be manufactured by pressing a wafer having electrodes formed at predetermined positions into chips. it can.
  • the light emission wavelength of the phosphor when emitting white light, is preferably set in consideration of the complementary color relationship with the emission wavelength of the fluorescent substance and the prevention of deterioration of the light transmitting resin.
  • the emission wavelength of the D chip 5 is preferably set to 400 nm or more and 530 nm or less, and more preferably 420 nm or more and 490 nm or less.
  • an LED chip that emits light having a wavelength in the ultraviolet region shorter than 400 nm can be applied by selecting the type of phosphor.
  • a nitride semiconductor LED chip using an insulating substrate such as sapphire spinel in order to form p-type and n-type electrodes on the semiconductor surface side, the p-type semiconductor is etched to expose the n-type semiconductor.
  • Each electrode having a desired shape is formed on each of the p-type semiconductor layer and the n-type semiconductor layer by using a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like.
  • the electrode formed on almost the entire surface of the p-type semiconductor layer is a translucent electrode made of a metal thin film.
  • the specific gravity of the fluorescent material is several times that of the liquid resin before curing.
  • the viscosity of a thermosetting resin is greatly reduced during heat curing. For this reason, when the LED chip is covered with a liquid luster containing a fluorescent substance and thermally cured, most of the fluorescent substance in the resin tends to concentrate around the LED chip and settle down.
  • a fluorescent substance having a specific particle size distribution is used so that all the fluorescent substances exert a wavelength conversion function and can be utilized to the maximum, thereby improving the output of the light emitting diode.
  • the fluorescent substance used in the light emitting diode of the first embodiment is composed of an aggregate (first distribution) of the large-diameter fluorescent substance 81 and an aggregate (the second distribution) of the small-particle fluorescent substance 82. Distribution) and And there is almost no fluorescent substance between the first distribution and the second distribution! /, Area exists.
  • the use of the fluorescent substance distributed in this way prevents the formation of aggregates that tend to have a bad influence on the optical properties, and also prevents the color unevenness of the emission color.
  • 2A and 2B show the volume-based particle size distribution curves of the fluorescent substance used in the first embodiment.
  • Figure 2A shows the cumulative distribution at each particle size
  • Figure 2B shows the frequency distribution at each particle size.
  • the fluorescent substance used in the present invention has a flat region in which the slope is zero between the integrated values of 0.0 lvol% and lOvol% in the volume-based distribution curve. .
  • This flat region is located between the first distribution and the second distribution described above, and is the range (region) of the particle diameter where almost no fluorescent substance is distributed.
  • the content of the small particle size fluorescent substance 82 is 0.01 vol% to 10 vol% of the entire fluorescent substance, and the content of the large particle size fluorescent substance 81 is Is 90 vol% or more of the whole fluorescent substance.
  • the more preferable content of the small-particle-diameter fluorescent substance is 0.0 lvol% to 5 vol ° / 0 .
  • the frequency peak particle value of the large particle size fluorescent substance 81 is set to 20 to 90 times the frequency peak value of the small particle diameter fluorescent substance 82.
  • each fluorescent substance has a different function (small particle size fluorescent substance 82 is mainly a scattering function, and large particle size fluorescent substance 81 is mainly a wavelength change). «Noh) can be arranged to make the most of it.
  • the small particle size fluorescent substance used in the present invention is adjusted to a very small amount and a small particle diameter far from the particle diameter of the large particle diameter fluorescent substance.
  • a light emitting diode in which the substance is well dispersed is obtained.
  • the particle size of the small particle size fluorescent substance 82 is preferably in the range of 0.2 m to 1.5 zm. By this, Aggregation of each small particle size fluorescent substance can be suppressed, and the light scattering function can be effectively exerted.
  • the small-diameter fluorescent substance 82 having a particle diameter in the above range hardly settles in the uncured translucent luster, it can be disposed separately from the large-particle fluorescent substance 81. It is.
  • the fluorescent substance according to the present invention comprising the large-diameter fluorescent substance 81 and the small-diameter fluorescent substance 82 includes, in the translucent resin covering the LED chip 5, the large-diameter fluorescent substance 81
  • the small-diameter phosphor 82 is present almost uniformly dispersed outside.
  • the large-diameter phosphor 81 acts to convert the wavelength of the light from the LED chip 5, and the small-diameter phosphor 82 outside the phosphor functions to reflect the light. Acts to prevent color unevenness of the emission color.
  • a medium-sized fluorescent substance having a frequency peak between the small-sized fluorescent substance 82 and the large-sized fluorescent substance 81 may be contained. It is difficult to absorb all the light to be wavelength-converted by the large-diameter fluorescent substance and convert it. Since the large-diameter fluorescent material 81 has a large surface area, there is light reflected by the fluorescent material having a large particle size. Therefore, together with the large-diameter fluorescent substance 81, a medium-diameter fluorescent substance having a smaller particle diameter than the large-diameter fluorescent substance 81 and larger than the small-diameter fluorescent substance 82 coexists, and is absorbed by the large-diameter fluorescent substance 81.
  • the light that cannot be absorbed is absorbed by the medium-diameter fluorescent substance and color-converted.
  • the medium-sized fluorescent material preferably has a central particle size of 0.3 to 0.9 times, more preferably 0.5 to 0.8 times the large-sized fluorescent material 81, Accordingly, light reflected on the surface of the large-diameter fluorescent substance can be efficiently absorbed and color-converted.
  • the larger the particle size of the fluorescent substance the higher the light conversion efficiency.
  • the large-diameter fluorescent substances 81 are prevented from overlapping each other around the LED chip 5. The light from the LED chip 5 is efficiently absorbed by all the large-diameter fluorescent materials 81 to convert the light.
  • the above is the basic concept of setting the distribution of the large-diameter fluorescent substance 81 in the present invention.
  • the particle size of the large-diameter fluorescent substance 81 used in the present invention is 10 ⁇ ! In order to improve external light extraction efficiency, light absorption efficiency, and light conversion efficiency. It is preferable to set the value in the range of 60 ⁇ to 1 ⁇ ! More preferably, it is set in the range of ⁇ 50 / im, and even more preferably, it is set in the range of 15 zm to 30 / m.
  • the fluorescent substance having a particle diameter smaller than 10 / m and having the above-mentioned small particle diameter 82 is more likely to form an aggregate and sedimented densely in the liquid resin, so that the light transmission efficiency Reduced Let me do it.
  • a fluorescent substance having a particle diameter smaller than 15 ⁇ m and having a particle diameter larger than the small-diameter fluorescent substance 82 is more likely to form aggregates than those having a particle diameter of 15 ⁇ m or more, and is not controlled in the manufacturing process. If it is sufficient, it will be densely settled in the liquid resin, and the light transmission efficiency may be reduced.
  • the particle size of the fluorescent substance is indicated by a value obtained by a volume-based particle size distribution curve.
  • the volume-based particle size distribution curve can be obtained by measuring the particle size distribution of the fluorescent substance by laser diffraction 'scattering method. Specifically, in an environment with a temperature of 25 ° C and a humidity of 70%, an aqueous solution of sodium hexametaphosphate with a concentration of 0.05% is used. The fluorescent substance is dispersed in the sample, and the particle size range is 0.03 / ir! Using a laser diffraction particle size distribution analyzer (SALD-2000A). It was measured at ⁇ 700 // m.
  • SALD-2000A laser diffraction particle size distribution analyzer
  • the central particle size of the fluorescent substance is a particle size value when the integrated value is 50 vol% in the volume-based particle size distribution curve, and is 15 ⁇ n! It is preferably in the range of 5050 ⁇ m. Further, it is preferable that a fluorescent substance having this central particle size value is contained frequently, and the frequency value is preferably 20% to 50%. By using such a fluorescent substance having a small variation in particle diameter, color unevenness is suppressed and a light emitting diode having a good contrast can be obtained.
  • the large-diameter fluorescent material 81 tends to cause color unevenness of the light emitting diode as compared to a fluorescent material having a smaller particle size, but the large-diameter fluorescent material 81 has a small variation in particle size. As a result, the color unevenness is improved as compared with the one having large variations.
  • a yttrium-aluminum acid-based fluorescent substance activated by cerium which can emit light by exciting light emitted from a semiconductor LED chip having a nitride-based semiconductor as a light-emitting layer. It is preferable to use a substance-based one.
  • the aluminum oxide based fluorescent substance YA 1 O 3: C e , Y 3 A 1 5 0 12: C e (YAG: C e) and Y 4 A 1 2 0 9: C e, Further, a mixture thereof and the like can be mentioned.
  • the yttrium-aluminum oxide-based fluorescent material may contain at least one of Ba, Sr, Mg, Ca, and Zn.
  • Si the reaction of crystal growth can be suppressed and the particles of the fluorescent substance can be made uniform.
  • At least part or all of aluminum is selected from the group consisting of Ba, Tl, Ga, and In. Also a fluorescent substance replaced by one element.
  • yttrium-aluminum oxide-based fluorescent material part or all of yttrium is replaced by at least one element selected from the group consisting of Lu, Sc, La, Gd, and Sm, and aluminum is removed.
  • this fluorescent substance Due to its garnet structure, this fluorescent substance is resistant to heat, light and moisture, and can make the excitation spectrum peak around 450 nm, and the emission peak is around 580 nra, which extends to 70 ° nm It has a broad light emission spectrum.
  • the photoluminescence phosphor can increase the excitation emission efficiency in the long wavelength region of 46 Onm or more by containing Gd (gadolinium) in the crystal. Due to the increase in the Gd content, the emission peak wavelength shifts to a longer wavelength, and the entire emission wavelength shifts to the longer wavelength side. That is, when a reddish emission color is required, it can be achieved by increasing the substitution amount of Gd. On the other hand, as Gd increases, the emission luminance of photoluminescence by blue light tends to decrease. Further, if desired, Tb, Cu, A, Au, Fe, Cr, Nd, Dy, Co, Ni, Ti, Eu and the like can be contained in addition to Ce.
  • the emission wavelength shifts to the shorter wavelength side by partially replacing A1 with Ga. Also, by substituting a part of Y in the composition with Gd, the emission wavelength shifts to the longer wavelength side.
  • the substitution with Gd is less than 10% and the content (substitution) of Ce is 0.03 to 1.0. If the substitution with Gd is less than 20%, the green component is large and the red component is small, but by increasing the Ce content, By capturing the red component, a desired color tone can be obtained without lowering the luminance. With such a composition, the temperature characteristics are improved, and the reliability of the light emitting diode can be improved. When a photoluminescent phosphor adjusted to have many red components is used, a light emitting diode capable of emitting an intermediate color such as pink can be manufactured.
  • Such a photoluminescent phosphor can be produced as follows. First, an oxide or a compound that easily becomes an oxide at a high temperature is used as a raw material for Y, Gd, Al, and Ce, and these are sufficiently mixed in a stoichiometric ratio to obtain a raw material. Alternatively, aluminum oxide is mixed with a coprecipitated oxide obtained by sintering a solution obtained by dissolving a rare earth element of Y, Gd, and Ce in an stoichiometric ratio in an acid and co-precipitating the solution with oxalic acid. Obtain a mixed raw material.
  • the product can be obtained by calcining the product, then ball-milling the product in water, washing, separating, drying, and finally passing through a sieve.
  • fluoride such as barium fluoride and ammonium fluoride
  • such a photoluminescent phosphor may be a mixture of a yttrium-aluminum-garnet-based phosphor activated with two or more kinds of cells or another phosphor.
  • the fluorescent substance having a large amount of substitution is the large-diameter fluorescent substance and the fluorescent substance having a small or zero substitution amount is the medium-sized fluorescent substance, the color rendering properties and the luminance can be simultaneously improved. be able to.
  • the translucent resin 8 is prepared by reacting 65% by weight or more of an epoxy resin composed of an alicyclic epoxy resin with 0.0005 to 1.5 mol of an acid anhydride or dicarboxylic acid with respect to the epoxy equivalent. And a small amount of a cationic curing agent (0.0005 to 0.003 mol, preferably 0.0001 to 0.01 mol of epoxy equivalent) is mixed with the crosslinked oligomer.
  • the solution thus formed is formed by applying the solution to the inside of the housing portion 1a housing the nitride semiconductor LED chip 5, and then heating and curing the same. Since the translucent resin 8 formed in this way has a content of the cation curing agent for absorbing blue light of 1/10 to 1/100 of the conventional amount, the yellowing of the resin hardly occurs.
  • the light emitted from the nitride semiconductor LED chip 5 capable of emitting blue light and the light whose wavelength has been converted by the fluorescent substance can be output to the outside with high efficiency.
  • the translucent resin 8 since the translucent resin 8 has relatively high flexibility, the stress caused by the difference in the coefficient of thermal expansion between the translucent resin 8 and the LED chip 5 is reduced, and the light is transmitted to the nitride semiconductor LED chip 5. This can prevent defects such as generation of cracks and cutting of the wire 7.
  • the epoxy resin composition constituting the translucent resin 8 includes an epoxy resin having an alicyclic epoxy resin as a main component, an acid anhydride or a dicarboxylic acid, and a cationic curing agent as essential components. Accordingly, a co-catalyst comprising a polyhydric alcohol or a polycondensate thereof may be contained. Details of each component are as follows.
  • the alicyclic epoxy resin a cyclohexene epoxide derivative, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hexydrophthalic acid diglycidyl ester, or the like can be used alone or in combination of two or more.
  • cyclohexene epoxide derivatives represented by 3,4 epoxycyclohexylmethyl-3 ', A' epoxycyclohexylcarboxylate are mainly used, and hexahydrophthalenoleic acid diglycidyl ester and hydrogenated bisphenoyl ester are mainly used. It is preferable to mix a cyclohexane derivative such as Nore A diglycidyl ether and an epoxy resin composed of epichlorohydrin as required. In addition, a liquid or solid epoxy resin composed of bisphenol diglycidyl ether can be mixed as necessary.
  • acid anhydride or dicarboxylic acid As the acid anhydride or dicarboxylic acid, an acid anhydride represented by the following general formula (1) or a dicarboxylic acid represented by the following general formula (2) can be used.
  • R is 0 carbon atoms: shows a cyclic or aliphatic alkyl or ⁇ re Ichiru of L 2, R 2 represents an alkyl or Ariru 2 0-1 carbon atoms.
  • the acid anhydride include, for example, propionic anhydride, succinic anhydride, 1,2-cyclohexanedicanoleponic anhydride, 3-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methyl — 1,2 cyclohexanedicarboxylic anhydride, phthalic anhydride, 4,4-biphthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hydrogenated methylnadic acid An anhydride or the like can be used.
  • dicarboxylic acid examples include 4,4, -biphenyldicanoleponic acid, 2,2,2-biphenyldicanolevonic acid, oxalic acid, succinic acid, adipic acid, 1,6-hexanedicarboxylic acid, and 1,2-cyclohexane.
  • Xandicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, o-phthalic acid, m-phthalic acid, p-phthalic acid and the like can be used.
  • the acid anhydride or dicarboxylic acid is added to the epoxy equivalent at 0.0. It is preferable to mix them in a ratio of 0.5 to 0.5 mol, preferably in a ratio of 0.1 to 0.2 mol.
  • the acid anhydride or dicarboxylic acid is added in an amount of 0.005 to 1.5 mol per epoxy equivalent. It is preferable to mix them in a proportion, preferably in a proportion of 0.1 to 0.8 mol.
  • an aromatic sulfonium salt As the cationic curing agent, an aromatic sulfonium salt, an aromatic diazonium, an aromatic metal salt, an aromatic seleum, or the like can be used.
  • the aromatic sulfonium salt is decomposed by heat and / or ultraviolet light of 360 nm or less to generate cations.
  • trifenylsulfonium antimony hexafluoride trifenylsulfonium hexafluorophosphate and the like.
  • triphenyl sulfonium hexafluoride antimony salt has a high curing rate and cures sufficiently even in a small amount.
  • the cationic curing agent is used in an amount of 0.005 to 0.003 mol, preferably 0.001 to 0.01 mol, and more preferably 0.000 mol, based on the epoxy equivalent. It is preferable to use 2 to 0.05 mol.
  • polyhydric alcohol used as a cocatalyst examples include ethylene glycol, diethylene glycolone, trimethylene glycolone, triethyleneglyconele, propylene glycolonele, 1,4-butanedioleone, and 1,6-hexanediol. Can be.
  • a polycondensate obtained by condensation polymerization of one or more of these polyhydric alcohols can also be used.
  • the polyhydric alcohol or a polycondensate thereof is used in an amount of 0.1 to 5.0 equivalents, preferably 0.1 to 5.0 equivalents to the acid anhydride or dicarboxylic acid.
  • the epoxy resin composition used for the translucent resin 8 may contain components other than the above-described components.
  • the translucent resin 8 may contain a filler 10.
  • various functional particles such as a diffusing agent and a coloring agent can be contained.
  • the translucent resin 8 (i) a method in which an acid anhydride or the like and a cationic curing agent are simultaneously mixed with the epoxy resin is applied and cured, and (ii) an acid anhydride or the like is reacted with the epoxy resin. After forming a crosslinked oligomer by coating, a solution in which a cationic curing agent is mixed with the crosslinked oligomer is applied and cured.
  • a solution in which a cationic curing agent is mixed with the crosslinked oligomer is applied and cured.
  • the translucent resin 8 is formed to have a thickness of 500 ⁇ m or less
  • the method (ii) is preferable.
  • the light-transmitting resin 8 is applied in a thin film form and cured to form an acid anhydride and the like when cured.
  • the viscosity of the solution to be applied can be easily adjusted and the pot life can be increased, so that the workability is improved.
  • an epoxy resin comprising 65% by weight or more of an alicyclic epoxy resin is added in an amount of 0.05 to 0.5 mol, preferably 0.5 mol, based on the epoxy equivalent.
  • a crosslinked oligomer is prepared by reacting 0.1 to 0.20 mol of an acid anhydride or dicarboxylic acid.
  • a polyhydric alcohol or a polycondensate thereof is used as a co-catalyst, the polyhydric alcohol or a polycondensate is mixed with the epoxy resin simultaneously with the acid anhydride or dicarboxylic acid.
  • the reaction between the epoxy resin and the acid anhydride or dicarboxylic acid is preferably carried out at room temperature where side reactions such as acidification do not easily occur.
  • the reaction time for acid anhydride is about 1 to 360 hours, and the reaction time for dicarboxylic acid is about 1 to 180 hours. Heating to 50 to 150 ° C. (preferably 60 to 120 ° C.) may be used to accelerate the ring opening reaction of the acid anhydride to shorten the reaction time.
  • the mixed solution is filled into the storage section 1a in which the nitride semiconductor LED chip 5 is stored, the mixed solution is cured by heating to form the translucent resin 8. It is preferable to heat the mixed solution at 80 ° C; at L 0 ° C for 2 to 4 hours to perform primary curing, and then heat it at 140 ° C to 150 ° C for 2 to 4 hours to harden it 27 times.
  • the flexibility of the epoxy resin composition finally obtained as described above is proportional to the molecular weight of the crosslinked oligomer obtained in the middle. That is, the higher the proportion of the carboxyl group of the acid anhydride or the dicarboxylic acid which reacts with the epoxy resin or the cocatalyst to convert to the ester, the better the flexibility of the obtained epoxy resin composition.
  • the viscosity of the mixture of the cross-linked oligomer and the cationic curing agent depends on the molecular weight of the cross-linked oligomer, the viscosity can be freely adjusted by adjusting the amount of an acid anhydride or the like and the ester conversion. .
  • This manufacturing method is a method for manufacturing the surface-mounted light emitting diode of the first embodiment with stable quality and with good mass productivity.
  • a package assembly in which a plurality of packages are assembled is used to collectively process a plurality of packages.
  • This package assembly is manufactured by bonding an insulating substrate 101 having a plurality of through-holes 101 a corresponding to a storage portion 1 a of each package to a metal base plate 102. .
  • the insulating substrate 101 is made of, for example, a resin laminate having a thickness of 0.06 mm to 2.0 mm, and has a plurality of through holes 1 ⁇ 1a penetrating in the thickness direction. ing.
  • the cross-sectional shape of the through hole 101a may be elliptical, circular or square. That is, the present invention is not limited by the cross-sectional shape of the through hole 101a, and can be arbitrarily selected from various shapes.
  • the through-hole 101a penetrates so that the opening diameter increases from one surface of the insulating substrate (the surface joined to the thin metal plate) toward the other surface.
  • the side surfaces of the holes are inclined.
  • the metal base plate 102 when the metal base plate 102 is cut into individual packages, the metal thin plate 2 a and the metal thin plate 2 b are electrically separated by the insulating resin 4 in each package. Separation grooves are formed corresponding to the through holes, and the insulation resin 4 is filled in the separation grooves.
  • each package section a portion of the metal sheet 2 a in the through-hole 1 0 in 1 a, insulating Kitsuki effect 4, and a portion of the thin metal plate 2 b is exposed.
  • a plurality of packages are arranged in a gnorape form for one opening 113 of a mask 112 described later. Mounting of LED chip>
  • the LED chip 5 is die-bonded to a predetermined position of each through-hole (storage portion) of the package assembly configured as described above using a die-bonding resin. Perform the prescribed wiring by wire bonding (Fig. 5).
  • the metal thin plate 2a and the metal thin plate 2b are exposed, and the LED chip 5 is bonded on the metal thin plate 2b which is a negative electrode, and the p-side electrodes 5a and n side of the LED chip 5
  • the electrodes 5b are connected to the sheet metal 2a and the sheet metal 2b by wires 7, respectively.
  • FIG. 3A is a plan view of a mask 112 used for stencil printing in the manufacturing method according to the first embodiment.
  • a plurality of openings 113 are formed in the mask 111, and the position and size of each opening 113 are formed in one opening 113.
  • Fig. 3B is set so that multiple packages in one group correspond.
  • the mask used in the present invention is designed so that a resin layer is formed not only on the inside of each through-hole but also on the surrounding insulating substrate 101, instead of providing the light-transmitting resin. .
  • stencil printing is performed using such a mask 112, so that the surface is hardened even after being cured in the through hole 101a of the insulating substrate and on the insulating substrate 101.
  • the light-transmitting resin can be formed to have a smooth surface.
  • a plurality of grouped packages are arranged except for a portion where it is difficult to form the transparent resin around the opening 113.
  • a light-transmitting resin in a portion where a plurality of packages are arranged so as to have a constant thickness and a flat surface, variations in the thickness of the light-transmitting resin layer between packages can be suppressed and The surface of the translucent resin of the package is flattened.
  • the light emitting resin is cut and separated at the dotted line shown in FIG. 5 to obtain individual light emitting diodes.
  • a light emitting diode having a uniform film thickness can be formed with a high yield so that size and color variations do not occur between the light emitting diodes.
  • the thickness of the light-transmitting resin formed on the insulating substrate can be arbitrarily changed by adjusting the thickness of the mask.
  • the package assembly 100 can be brought into contact with the mask 112 in a state where the warpage of the package assembly has been corrected.
  • the warpage of the package assembly 100 it is possible to form a light-transmitting resin having a uniform thickness on one surface of the package assembly 100. That is, if the sealing member is formed while warping the package substrate, the thickness of each formed light emitting diode varies, and the yield is deteriorated.
  • the transparent resin containing the fluorescent substance is masked under atmospheric pressure.
  • degassing is performed by reducing the pressure.
  • the decompression is preferably set in the range of 100 Pa to 400 Pa, and if it is within this range, bubbles contained inside the tree can be effectively extracted.
  • a translucent resin having a relatively high viscosity can be used.
  • a fluorescent substance when a fluorescent substance is used by being contained in a light-transmitting resin, particularly, a fluorescent substance having a large particle diameter has a high sedimentation speed in a liquid resin, so that dispersion uniformity is maintained.
  • a resin having a certain degree of viscosity it is preferable to use a resin having a certain degree of viscosity.
  • the higher the viscosity of the resin the more difficult it is to remove bubbles, and the lower the production yield may be. Therefore, in the present invention, as a pre-process for performing stencil printing, a method is used in which depressurization is performed once to remove bubbles, and then stencil printing is performed while repeating calo-pressure and depressurization. It is possible to use translucent resin with viscosity.
  • the use of high-viscosity resin is aimed at improving the color variation that tends to occur when a fluorescent substance with a large particle size is used. Becomes possible. Further, even when a resin having a high viscosity is used, a light emitting diode can be manufactured with a high yield.
  • the air bubbles are mixed and sealed in the translucent resin, the air bubbles reflect and refract the light from the LED chip and the emission of the fluorescent substance, so that color unevenness and brightness unevenness are remarkably observed. Therefore, when forming a light-transmitting resin containing a fluorescent substance, it is extremely effective to repeat pressure reduction and pressure application as in this embodiment, and there is a wise effect of suppressing color unevenness and luminance unevenness. . In addition, if air bubbles are included in the light-transmitting resin, this may cause peeling of the light-transmitting resin, peeling of the bonding portion of the wire, disconnection of the wire, and the like, resulting in reduced reliability. . Therefore, preventing bubbles by this method is extremely effective in improving reliability.
  • the first squeegee scan is performed under reduced pressure (Fig. 4C).
  • the outgoing squeegee spatula 114 used at this time is inclined in the operating direction with respect to the vertical line of the mask 112 as shown in Fig. 4C, and the spatula 114 is masked by air pressure.
  • the resin 8 is pressed against and operated to pour resin 8 into the opening 1 1 3 of the mask 1 1 2.
  • the forward squeegee scanning is performed under reduced pressure, so the suction action of the lifting stage 1 17 does not make sense, but since the lifting stage 1 17 is physically pressed against the mask 111, the package assembly loo and the mask No deviation from 1 1 2 occurs.
  • the pressure is increased to atmospheric pressure, and after the calo pressure is completed, the first reciprocating squeegee scan is performed in the opposite direction to the forward squeegee scan (Fig. 4D).
  • the return squeegee spatula 1 15 is inclined with respect to the vertical line of the mask 1 12 in the operation direction more than the forward squeegee spatula 1 1 4 and is operated by a higher air pressure than in the forward squeegee scanning. In this manner, the contact area between the return squeegee spatula 1 15 and the mask 1 12 is increased by strong pressure, and the translucent resin is filled again, so that the resin filled in the opening 1 13 is filled.
  • Bubbles appearing on the surface of the sealing member can be efficiently removed, and the surface of the sealing member can be finished to a smooth surface.
  • depressurization and pressurization are repeated to remove Perform a reciprocating squeegee several times while filling the openings 1 13 with a uniform thickness of resin.
  • the light-transmitting resin is hardened, and after being cured, the mask is removed, so that the LED chip is disposed.
  • the upper surface of the translucent resin integrally molded in the hole and on the upper surface of the insulating substrate can be made substantially parallel and smooth with the bottom surface of the package.
  • the sealing resin forming method by stencil printing, it is possible to use a translucent resin having a relatively high viscosity even before curing. Therefore, unlike the case of using a resin having a low viscosity, the fluorescent substance does not settle or float freely in the resin. Therefore, the mixed state of the fluorescent substances can be maintained relatively well.
  • the time during which the light-transmitting resin melts and exists as a liquid is several minutes to several tens of seconds, which is much shorter than the time required for the resin to be poured into the through-holes by the potting method and formed by thermosetting. Can be shortened. Further, since the time until solidification can be extremely short, it is possible to avoid a state in which the fluorescent substances overlap and settle on the LED chip.
  • a light-transmitting resin having a high viscosity can be used. Separation of the resin and the fluorescent substance between the layers can be prevented. As a result, it is possible to suppress the variation in the content of the fluorescent substance between the light emitting diodes, and it is possible to manufacture the light emitting diodes with little color variation within the same manufacturing lot and between the manufacturing lots. Also, the production yield can be improved.
  • the large-diameter fluorescent substance is settled in the vicinity of the surface of the LED chip densely between the time of filling each through-hole and the time of curing, thereby reducing the light conversion ability of each large-diameter fluorescent substance. It is possible to make it work effectively. Further, the small-diameter fluorescent substance can be uniformly arranged in the translucent resin outside the large-diameter fluorescent substance particles, thereby preventing color unevenness of the light emitting diode.
  • the specific gravity of the fluorescent substance is greater than that of the translucent resin, and the sedimentation tends to be dense.
  • the large-diameter fluorescent substance 81 is settled in the vicinity of the surface of the LED chip 5 or the like, and to stably manufacture a light emitting diode having a uniform color temperature.
  • the translucent resin is formed (cured) as described above, it is diced and divided into individual light emitting diodes as follows.
  • the bonding surface of the package assembly 100 with the die cylindrical sheet is made of substantially the same material and is a smooth flat surface, so that the bonding strength can be increased. As a result, it is possible to prevent chips from jumping or dicing deviation during dicing, and to cut into individual light emitting diodes with good yield.
  • the filled resin thermally contracts and collapses at the through-hole portion.
  • the surface in contact with the dicing sheet is only the upper surface of the insulating substrate except on the through-holes, and the adhesion is reduced.
  • the upper surface of the resin will be higher than the upper surface of the insulating substrate, which is the part to be diced.
  • the bonding surface with the die cylindrical sheet is only the resin upper surface, and in this case also, the bonding strength between the package assembly and the die cylindrical sheet becomes extremely weak and dicing deviation occurs. If dicing is performed while the fixing between the package assembly and the die cylindrical sheet is unstable, chip flying and dicing misalignment will occur. In addition, there is also an inconvenience that burrs are formed at the cut end of the obtained light emitting diode. The burrs may be cracked in the mounting process in a later process, and if the burrs are deeply cracked, moisture is mixed into the sealing member from the outside, and the reliability of the light emitting diode is reduced or the metal parts inside are reduced. It causes defects such as oxidation and discoloration.
  • Step 2> The package assemblies fixed to the dicing sheet with good adhesion in step 1 are individually cut from the bottom side of the package assembly by a dicing blade (cut along the broken lines in FIG. 5).
  • Daisyndrate is made up of small diamond particles around a pound.
  • the diamond blade having such a configuration when dicing the knockage assembly, metal fragments which are a part of the chips of the light emitting diode are easily clogged between the particles. Therefore, in the first step, if a hard filler is contained in the translucent resin as the sealing member, the clogged metal is blown out by the filler, and a good dicing process can be performed. It is preferable because it is possible.
  • the above-described effects are enhanced.
  • the large-diameter fluorescent substance having a large particle diameter is used as a filler, and the large-diameter fluorescent substance has a high hardness, the above-described effect is enhanced.
  • the translucent resin is formed integrally with the upper surface of the insulating substrate and the inside of the through hole of the insulating substrate, and the upper surface of the translucent resin is substantially the same as the package bottom surface.
  • the outer peripheral side surface of the transparent resin is parallel to and substantially flush with the outer peripheral side surface of the package.
  • the light-emitting diode according to the embodiment of the present invention has a small particle size fluorescent substance and a large particle size fluorescent substance whose respective particle size distribution regions are far apart. Luminous intensity and luminous output can be improved by using the classified fluorescent substances and arranging them so that their actions can be utilized to the fullest.
  • the small particle size phosphor scatters light satisfactorily when it is cured in a state of being dispersed in the translucent resin within the range of 0.0 l vol% of the whole phosphor: LO vol%. And uniform light emission can be obtained.
  • the large particle size fluorescent substance is adjusted to a particle size range that can be placed around the LED chip in a state where high luminous efficiency can be fully exhibited,
  • the wavelength conversion function which is the original function, can be sufficiently exhibited.
  • the large-diameter fluorescent substance used in the present embodiment has a wide excitation wavelength, it is possible to cope with the wavelength shift of the LED chip due to an electric current, a decrease in chromaticity due to a smaller package, and the like.
  • a light emitting diode having excellent properties and mass productivity can be formed. Further, with the method for manufacturing a light emitting diode of the present embodiment, a light emitting diode with stable light emitting characteristics can be manufactured with high mass productivity.
  • the variation in light emission between the light emitting diode manufactured first and the light emitting diode manufactured later can be extremely reduced. Furthermore, since the light emission unevenness in the light emitting diode can be reduced, the yield can be improved.
  • the translucent resin according to the present invention described in the first embodiment has a low yellowing and flexibility because a crosslinked oligomer of an epoxy resin and an acid anhydride or a dicarboxylic acid is cured with a cationic curing agent.
  • An excellent epoxy resin composition can be provided.
  • the viscosity of the epoxy resin composition obtained by the present invention can be freely adjusted by adjusting the amount of acid anhydride or dicarboxylic acid added to the epoxy resin or the ester conversion thereof, and the pot life is long. Therefore, workability is also excellent.
  • FIG. 6 is a schematic sectional view of an SMD type light emitting diode according to a second embodiment of the present invention.
  • Emission Daiodo of the second embodiment, G a d A 1 ⁇ _ d N (0 ⁇ d ⁇ 1) consisting essentially via the buffer first layer nitride semiconductor Safuaiya substrate (A l x Ga y I ⁇ ⁇ ⁇ , 0 ⁇ ⁇ 1 0 ⁇ y ⁇ l ⁇ 0 ⁇ ⁇ 1 ⁇ ⁇ + y + ⁇ 1) ⁇ ⁇ Junction-formed LED chip 5 is connected to a pair of lead electrodes 12 a, 12 b It is arranged on a glass epoxy substrate 12 having the same.
  • the LED chip 5 has at least a light emitting layer made of a nitride semiconductor layer. Positive and negative electrodes provided on one surface side of the LED chip 5 are electrically connected to a pair of lead electrodes 12a and 12b by conductive wires 7, respectively.
  • the same fluorescent substance as that of the first embodiment is dispersed in the translucent resin 18. That is, the fluorescent material dispersed in the translucent resin 18 is composed of the large-diameter fluorescent material 81 and the small-diameter fluorescent material 82, and has a maximum wavelength conversion effect on all the large-diameter fluorescent materials 81 in the light emitting diode. In addition to improving the output of the light emitting diode, color unevenness is prevented by the small-diameter fluorescent substance 82.
  • the epoxy resin described in Embodiment 1 it is preferable to use the epoxy resin described in Embodiment 1 as the translucent resin 18.
  • the light emitting diode according to the third embodiment of the present invention is configured using, for example, an LED chip capable of emitting ultraviolet light having a short wavelength region near 400 nm as a main light peak in the structure of FIG. 1 or FIG. It is a light emitting diode.
  • An LED chip capable of emitting ultraviolet light can be easily formed by growing a nitride semiconductor-based semiconductor layer on a sapphire substrate.
  • the translucent resin a resin, glass or the like which is relatively resistant to ultraviolet light is used as the translucent resin, and the fluorescent substance having the particle size distribution described in the first embodiment is used as the fluorescent substance.
  • Y 2 0 2 S Eu phosphor is excited by light of short wavelength in the ultraviolet range of the blue light emitting
  • S r 5 (P0 4) 3 C 1: Eu is excited by light of short wavelength in the ultraviolet range emits green light, can be used (S r Eu) O ⁇ a 1 2 0 3 .
  • a white light emitting diode that outputs white light can be manufactured.
  • a white light emitting diode capable of emitting light with high luminance can be obtained.
  • the fluorescent substance is composed of the large-diameter fluorescent substance 81 and the small-diameter fluorescent substance 82 similar to the first embodiment, it is possible to efficiently convert ultraviolet light.
  • a color conversion layer is formed, and a high-brightness light emitting diode is obtained.
  • color scattering is effectively suppressed by the scattering action of the small-diameter phosphor, which is preferable.
  • the center diameters and shapes of the fluorescent substances are similar. As a result, light emitted from various fluorescent materials is mixed well, and color unevenness can be suppressed.
  • each fluorescent substance may be formed as a separate color conversion layer.
  • a red fluorescent layer, a green fluorescent layer, and a blue fluorescent layer are provided on the LED chip in consideration of the ultraviolet light transmittance of each fluorescent substance. It is preferable that the layers are sequentially stacked because all layers can efficiently absorb ultraviolet light.
  • the central particle size of each fluorescent substance is set as blue fluorescent substance> green fluorescent substance> red fluorescent substance so that the particle diameter of the fluorescent substance in each layer decreases from the lower layer to the upper layer in the color conversion multi-layer, It is preferable because ultraviolet light can be satisfactorily transmitted and ultraviolet light can be completely absorbed in the color conversion multilayer.
  • each color conversion layer can be arranged on the LED chip so as to have a stripe shape, a lattice shape, or a triangle shape. At this time, an interval may be provided between different layers containing different phosphors, and in this case, the color mixing property is improved. On the other hand, it is preferable to dispose the color conversion layer so as to cover the entire periphery of the LED chip because ultraviolet light can be suppressed from being absorbed outside such as a sealing resin.
  • Embodiment 4 according to the present invention relates to a method for producing a fluorescent substance suitable for a light emitting diode, which can prevent a chromaticity shift of a luminescent color and prevent a decrease in a reddish component. This is a method for synthesizing a fluorescent substance that can be used.
  • a liquid is added to the mixture and baking is performed to suppress chromaticity fluctuation of the fluorescent substance. is there.
  • This effect is considered to be due to the fact that the addition of the liquid during firing makes the mixed raw materials denser and the reactivity improved, and a fluorescent material having a uniform material and a uniform particle shape can be obtained. Further, by pressing during firing, the effect can be further enhanced.
  • the amount of the liquid is preferably 5 wt% to 200 wt%, more preferably 1 Owt% to 70 wt%, and still more preferably 5 wt% to 70 wt% with respect to the mixed raw material. is there. Further, when Fe is contained as a raw material of the fluorescent substance in addition to Ce acting as an activator, the above-mentioned effect is enhanced.
  • the first firing step in which the mixture of the mixed raw material obtained by mixing the raw materials of the fluorescent substance and the flux is performed in the air or a weak reducing atmosphere; It is preferable to perform calcination in two stages, which includes the second calcination step performed in step (a).
  • the weak reducing atmosphere refers to a weak reducing atmosphere that is set so as to include at least an oxygen amount required in a reaction process for forming a desired fluorescent substance from the mixed raw material.
  • the reducing atmosphere in the second firing step Medium refers to a reducing atmosphere that is stronger than a weak reducing atmosphere.
  • a specific epoxy resin is used as a preferable example.
  • a light emitting diode is formed by mixing another resin or glass with the fluorescent substance described in the first embodiment. You can also.
  • specific materials suitable as the light-transmitting resin include other types of epoxy resins (such as nitrogen-containing epoxy resins), acrylic resins, silicones, and other weather-resistant transparent luster and glass. Is mentioned.
  • a high-output light-emitting diode can be formed even when a fluorescent substance composed of a large-diameter fluorescent substance and a small-diameter fluorescent substance is contained in these resins and the like. Further, a pigment may be contained in the translucent resin together with the fluorescent substance.
  • an ultraviolet absorber may be added to the light-transmitting resin in order to enhance the weather resistance of the light-transmitting resin
  • an antioxidant an organic zinc carboxylate, an acid anhydride, zinc may be added to the light-transmitting resin.
  • a chelate compound may be added.
  • Organic diffusing agents such as CTU guanamine resin and benzoguanamine resin can also be used.
  • a diffusing agent is one having a center particle diameter of 1 nm or more and less than 5 ⁇ m.
  • a diffusing agent having a particle size of 1 ⁇ m or more and less than 5 ⁇ m is preferable because light from the LED chip and the fluorescent substance is diffused well, and the use of a fluorescent substance having a large particle diameter can suppress the occurrence of color blur that is likely to occur.
  • the use of a diffusing agent can narrow the half width of the emission spectrum, and can provide an emission diode S with high color purity.
  • a diffusing agent of 1 nm or more and less than 1 / z m has a low interference effect on light from the LED chip, but can increase the resin viscosity without lowering the luminous intensity.
  • the fluorescent substance in the resin can be dispersed almost uniformly in the syringe and the state can be maintained, making it relatively difficult to handle Even when a fluorescent substance having a large particle size is used, it is possible to produce with a high yield.
  • the action of the diffusing agent according to the present invention differs depending on the particle size range, and can be selected or used in combination according to the method of use. Modification 3.
  • a filler may be contained in the translucent resin in addition to the fluorescent substance.
  • the specific material is the same as the diffusing agent, but the central particle size is different from that of the diffusing agent.
  • the filler refers to a material having a central particle size of 5 / zm or more and 100 / ⁇ m or less.
  • the fluidity of the resin can be adjusted to be constant for a long time, and a predetermined amount of the translucent resin can be applied to a desired place, so that mass production can be performed with a high yield.
  • the filler preferably has a similar particle size and Z or shape as the fluorescent substance.
  • similar particle size refers to a case where the difference between the respective center particle sizes of the respective particles is less than 20%
  • both the fluorescent substance and the filler have a center particle diameter of 15 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 20 ⁇ m to 50 ⁇ m, and the particle diameter is adjusted in this manner.
  • a light extraction path is secured, and the directional characteristics can be improved while suppressing a decrease in luminous intensity due to the filler mixture.
  • dicing is performed in a dicing process after the light-transmitting resin is cured. The dresser effect that the clogging of the blade is recovered can be brought about, and the mass productivity is improved.
  • a filler having a large particle size is contained as a filler, and the center particle size is 15 ⁇ ⁇ 50 / im, preferably 2 ⁇ . / ⁇ !
  • the filler of up to 50 im is contained in the translucent resin, the clogging of the die sinter blade can be effectively recovered, and an excellent dressing effect can be obtained.
  • the surface of the light-transmitting resin which is the light-emitting surface of the light-emitting diode may be a curved surface.
  • the light cannot be reflected upward by the side wall of the package, so that the surface of the light-transmitting resin is curved. It is preferable to achieve desired directional characteristics.
  • the light-emitting surface which is a curved surface, is made of a translucent resin in which the necessary substances are dispersed by using a mask 39 (Figure 7A) with openings formed for each light-emitting diode. It can be realized by forming by a stencil printing method. Figures 7A and 7B schematically show the situation.
  • the surface of the translucent resin thus formed is usually After the resin is heat-cured, it becomes a curved surface, but it can be formed into a predetermined shape according to the material and structure of the mask 39 and the filling amount of the resin. Further, by this method, a light emitting diode can be manufactured with good mass productivity.
  • the light emitting diode of the present invention containing a large particle diameter fluorescent substance and a small particle diameter fluorescent substance having a difference in particle diameter is mass-produced over a long period of time, the light emitting diode manufactured at the beginning of the process is not used.
  • the variation in light emission between the light emitting diode and the light emitting diode manufactured later can be extremely reduced, and the yield can be improved.
  • the cost can be reduced, and a light emitting surface having a desired curved surface is formed due to a difference in thermal expansion between the silicone and the translucent luster. be able to. Modification 5.
  • the LED chip and the package are connected by a wire, but the present invention is not limited to this, and the LED chip is flipped using a conductive member in the package housing 1a. Chip bonding may be performed to extract light output from the substrate side of the LED chip.
  • the package has an insulation separation part 4 located in the storage part la (through hole) and the metal thin plates 2a and 2b exposed on both sides thereof.
  • the LED chip may be placed across the four, and the positive and negative electrodes of the LED chip may be directly connected to the metal sheets 2a and 2b, respectively.
  • the SMD type light emitting diode is used, but the present invention is not limited to this.
  • the fluorescent substance and Z or epoxy resin described in Embodiment 1 can be used for various types of light emitting diodes such as a display display, an 8-segment type and a shell type.
  • a high-output light-emitting diode can be obtained by using the fluorescent substance described in Embodiment 1, and high reliability can be obtained by using the epoxy resin described in Embodiment 1.
  • the translucent resin described in Embodiment 1 can be applied not only to a light emitting element such as a light emitting diode, but also to a light receiving element such as a photo diode.
  • a light emitting element such as a light emitting diode
  • a light receiving element such as a photo diode.
  • an SMD type light emitting diode shown in the sectional view of FIG. 8 is manufactured.
  • the LED chip 5 an LED chip having a light emission layer made of InGaN and having a main emission peak of 470 nm is used.
  • the package consists of a resin molded body 24 in which a base portion and a side wall portion are integrally molded, and the electrode leads 22a and 22b are insert molded in the base portion of the resin 24. Has been done.
  • the LED chip is formed using the MOCVD method.
  • a washed sapphire substrate is set in a reaction chamber, and TMG (trimethyl) gas, TMI (trimethylindium) gas, TMA (trimethylaluminum) gas, and ammonia gas are used as reaction gases.
  • TMG trimethyl
  • TMI trimethylindium
  • TMA trimethylaluminum
  • ammonia gas a gas that is used as reaction gases.
  • a film is formed using hydrogen gas as a carrier gas, and silane gas and pentadiamagnesium as a impurity gas as an impurity gas.
  • a 1 G a N layer, one layer of low-temperature buffer,
  • a non-doped GaN layer (about 15,000 A thick) to improve crystallinity, a Si-doped GaN layer (about 2165 OA thick), which is an n-type contact layer on which electrodes are formed,
  • a non-doped GaN layer (thickness of about 300 OA) to improve crystallinity, a non-doped GaN (thickness of about 50 A) and a Si-doped GaN (thickness of about 30 OA) Superlattice multilayer film (n-type cladding layer),
  • a multilayer film composed of a superlattice of non-doped GaN (about 4 OA thick) and non-doped InGaN (about 20 A thick) to improve the crystallinity of the light emitting layer;
  • a multi-quantum well light-emitting layer consisting of undoped G a N (about 250 A thick) and InG a N (about 30 A thick)
  • a multilayer film composed of a Mg-doped InG a N (thickness of about 25 A) and a Mg-doped G a A IN (thickness of about 4 OA) superlattice;
  • the semiconductor wafer on which the plurality of nitride semiconductor layers have been formed in this manner is partially etched to expose a part of the n-type contact layer. And exposed! After forming n-type and J) -type electrodes on the) -type and n-type contact layers, respectively, by sputtering, the LED chips are divided into individual LED chips to produce blue-emitting LED chips. .
  • the LED chip manufactured as described above is die-bonded with a die bond resin 6 to a concave portion of a molded body package in which the lead electrodes 22 a and 22 b are integrally molded with the resin 24, and each electrode of the LED chip is connected to each electrode of the LED chip.
  • the lead electrodes 22 a and 22 b are electrically connected by wire bonding using a gold wire 7 of 35 im.
  • Y is substituted by about 20% in G d, the center particle size of 2 1. 429 11 (Y 0. 8 G d 0. 2) 2. 9 6 5 A 15 0 12 : C e 0 .
  • the fluorescent material is composed of a large particle size fluorescent material and a small particle size fluorescent material, and has a volume-based particle size distribution shown in FIGS. 2A and 2B.
  • the flat region where the slope is zero is an integrated value of 4.6 vol% and a particle size range of 1.37.1 ⁇ II! ⁇ 8.37 9 im.
  • 4.6 vol% of the total fluorescent material consists of small-diameter fluorescent materials having a particle size smaller than 1.371 m, and the remaining 95.6 vol% is particles larger than 8.379 ⁇ m. It is composed of a large-diameter fluorescent substance having a diameter.
  • the central diameter of the fluorescent substance classified by the sedimentation method to have such a distribution is 21.4 m, and the frequency value at the central particle diameter is 29.12%.
  • the frequency peak particle size of the small particle size fluorescent substance is 0.613 / m, and the frequency peak particle size value of the large particle size fluorescent substance is 22.908 ⁇ m.
  • the standard deviation in the particle size distribution of the large particle size fluorescent substance was 0.295.
  • volume-based distribution curve as shown in FIG. 9 A, Fig. 9 B a broad phosphor particle size distribution range, the center particle size 6.
  • Q 3 5 phosphor in the same manner as in Example 1, to produce a light-emitting Daiodo comprising the same chromaticity point.
  • the luminous intensity and output of the light emitting diode of this comparative example are measured, the luminous intensity is reduced by about 35% and the output is reduced by about 25% as compared with the light emitting diode of Example 1. This indicates that the light emitting diode of the present invention can emit light with low color purity such as white color and high luminance even on the long wavelength side.
  • the standard deviation in the particle size distribution of the fluorescent substance used in this comparative example is 0.365.
  • the frequency value at the center particle size is 24.81 2%
  • the frequency peak particle size value of the small particle size fluorescent substance is 0.613 / m
  • the frequency peak particle size value of the large particle size fluorescent substance is 28.
  • a light emitting diode having a similar chromaticity point is produced in the same manner as in Example 1 except that a fluorescent substance classified so as to be 0 12 / zm is used.
  • the luminous intensity and output of the light emitting diode of Example 2 were measured, the luminous intensity was about 1 compared to the light emitting diode of Example 1.
  • a light emitting diode with a brightness higher than 1 can be provided.
  • Example 2 the standard deviation in the particle size distribution of the large particle size fluorescent substance was ⁇ .25. 9
  • Example 1 After mixing the epoxy resin and SiO 2 having a center particle size of 2.5 ⁇ m as a diffusing agent so that the weight ratio becomes 100: 50, the mixture was mixed with the epoxy resin containing the diffusing agent according to Example 1.
  • a light emitting diode having a chromaticity point similar to that of Example 1 is manufactured by mixing the same fluorescent substance as that of Example 1 and the other conditions are the same as in Example 1.
  • the light emitting diode of the third embodiment can obtain the same brightness and output as in the first embodiment, and can suppress color unevenness and obtain a good color tone as compared with the first embodiment.
  • Example 6 As shown in FIG. 6, the same procedure as in Example 1 was carried out except that a translucent resin containing a fluorescent substance was placed on the LED chip electrically connected to the substrate by using a mold. A light emitting diode having a chromaticity point of is manufactured. A light-emitting diode having a smooth light-emitting surface is obtained, and the same characteristics as in Example 1 are obtained.
  • a translucent resin containing a fluorescent substance is formed on a substrate 32 to which the LED chip 5 is electrically connected by a stencil printing method using a mask 39 made of silicone and cured.
  • a light emitting diode having a similar chromaticity point is produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • a light emitting diode having a curved light emitting surface is obtained, and more uniform light emission is obtained than in the first embodiment.
  • the substrate 32 is provided with positive electrodes 32a and 32b forces S corresponding to the respective LED chips.
  • Example 2 After mixing the epoxy resin and Si02 having a center particle size of 2.5 / m as a diffusing agent so as to have a weight ratio of 100: 50, the same fluorescent substance as in Example 2 was mixed. Further, a filler containing 70 wt% of SiO 2 having a center particle diameter of 6 ⁇ with respect to the epoxy resin amount is used as a light-transmitting resin. This translucent resin was filled by stencil printing in the same manner as in Example 5 into the recess of the housing having a wall surface in which the LED chip was connected to a pair of lead electrodes with gold wires, and was filled at 85 ° C.
  • the light emitting diode of the sixth embodiment has a further improved life, and a light emitting diode having uniform light emission can be obtained.
  • Example 8 The same light emitting diode as in Example 2 was used, and a light emitting diode was manufactured in the same manner as in Example 3 except that Si 0 2 having a center particle size of about 25; To form Thereby, the luminous intensity is improved by 10% as compared with the third embodiment.
  • Example 8 The same light emitting diode as in Example 2 was used, and a light emitting diode was manufactured in the same manner as in Example 3 except that Si 0 2 having a center particle size of about 25; To form Thereby, the luminous intensity is improved by 10% as compared with the third embodiment. Example 8.
  • Example 2 The same fluorescent substance as in Example 2 was used, and the same procedure as in Example 6 was carried out except that Si 0 2 having a circularity difference of 10% and a center particle diameter of about 25 / zm was used as a filler. A light emitting diode is formed. As a result, the luminous intensity is improved by 10% compared to the sixth embodiment.
  • the LED chip 5 (same as in Example 1) is coated with a glossy plated copper mount ' after die bonding resin 42, the electrodes and the mounting of the LED chip 5.
  • the mixture is mixed so that the weight ratio becomes 5: 100, and the mixture is injected into the cup of the mount ⁇ ⁇ ⁇ lead, and then cured at a temperature of 150 ° C.
  • a coating portion 48 containing a fluorescent substance is formed.
  • a shell-shaped lens 49 is formed of translucent epoxy resin so as to be circular as viewed from the light emission observation surface.
  • the lamp-type light-emitting diode thus obtained has the same effect as in the first embodiment.
  • the epoxy resin is a translucent resin, and S i O 2 of the fluorescent substance and the circularity of the difference and the center grain size of about 25 m at 10% as a filler Of a lamp-type light emitting diode in the same manner as in Example 9 except that the mixture having a weight ratio of 100: 10: 35 was injected into the cup of the mount lead.
  • the mixture having a weight ratio of 100: 10: 35 was injected into the cup of the mount lead.
  • Example 2 The same LED chip as in Example 1 was placed in the concave portion of the resin package in which the lead electrode was insert-molded, and a silicone resin as a translucent resin, the same fluorescent substance as in Example 1, and the center particle diameter were used.
  • a fluorescent material comprising 5 weight ratio and S i 0 2 center particle diameter of about 0.5 Myupaiiota is, 10 0: 0.
  • the light emitting diode has the same effect as in Example 2, and further has excellent color rendering properties, high brightness, and a light emitting diode. Is obtained.
  • Example 13 is an example related to the manufacturing method of the first embodiment.
  • Example 13 a surface-mounted light emitting diode as shown in FIG. 1 is manufactured.
  • the LED chip 5 has a monochromatic emission peak of visible light of 475 nm as an emission layer. . 2 Ga. .
  • nitride arsenide compound semiconductor LED chip having 8 N semiconductor light-emitting layer More specifically, the LED chip 5 is formed by flowing a TMG (trimethyl gallium) gas, a TMI (trimethyl indium) gas, a nitrogen gas, and a dopant gas together with a carrier gas on a cleaned sapphire substrate, and using the MOC VD method to form a nitride semiconductor. Is formed by forming a film. At this time, a layer to be an n-type nitride semiconductor or a p-type nitride semiconductor is formed by switching between SiH 4 and Cp 2 Mg as a dopant gas.
  • N-type GaN layer which is an undoped nitride semiconductor
  • n-type contact layer on which an n-type electrode is formed, an n-type GaN layer of an undoped nitride semiconductor,
  • Light-emitting layer
  • a 1 GaN layer doped with Mg (p-type cladding layer)
  • a GaN layer (p-type contact layer) doped with Mg is sequentially laminated.
  • the p-type semiconductor anneals at 400 ° C. or higher after film formation.
  • each of the p-type and n- type contact layers is exposed on the same surface on the nitride semiconductor side on the sapphire substrate by etching.
  • Positive and negative electrodes are formed on each contact layer by using a sputtering method. Note that a metal thin film is formed on the entire surface of the P-type nitride semiconductor as a light-transmitting electrode, and then a pedestal electrode is formed on a part of the light-transmitting electrode. After the completed semiconductor wafer is drawn along the scrape line, it is split by external force. Thus, an LED chip as a light emitting element is manufactured.
  • the LED chip manufactured as described above is die-bonded with epoxy resin into each through-hole of the package assembly described in Embodiment 1, and each electrode of the LED chip and the metal thin film 2a, 2b are respectively connected. Conduct electrical connection by wire bonding with gold wire.
  • the fluorescent material is prepared as follows.
  • the S i O 2 mean particle diameter of 0. 3 m in pairs to 20 wt% containing an epoxy resin, the fluorescent substance 17 wt central particle size of 10 ⁇ m S i O 2 of 70 w
  • the alicyclic epoxy resin composition (viscosity: 8 OOO mPa-s) further mixed and dispersed by t% is used as a material for the sealing member.
  • Example 13 a mask 112 made of stainless steel and having a thickness of 100 zm is used.
  • the mask design is the same as in FIG. 3 described in the first embodiment.
  • the package assembly on which the LED chip is placed is masked on the opening side of the through hole by placing the substrate lifting stage on the opening side of the mask 1 1 2 ⁇ Make contact.
  • a predetermined amount of the translucent resin required for printing is applied to the end of the mask 112, and the pressure is reduced to 330 Pa.
  • the first reciprocating squeegee is performed by applying a printing air pressure of 0.1 O Mpa to the spatula 14 inclined 30 degrees in the operation direction with respect to the vertical line of the mask 112.
  • the inside of the chamber is pressurized to 2000 Pa.
  • Perform the first round trip return squeegee Perform this reciprocating squeegee two times.
  • the substrate lifting stage is lowered, and the package assembly is separated from the mask 112 force.
  • the translucent resin is temporarily cured at 85 ° C. for 3 hours, and then secondarily cured at 140 ° C. for 4 hours. In this manner, a light-transmitting resin having a smooth surface can be formed over the through hole and the upper surface of the insulating substrate at both ends thereof.
  • the package assembly is adhered to an ultraviolet-curable dicing adhesive sheet having a film thickness of 150 m and an adhesive layer of 20 ⁇ m with the transparent resin side of the package assembly facing the adhesive layer.
  • an ultraviolet-curable dicing adhesive sheet having a film thickness of 150 m and an adhesive layer of 20 ⁇ m with the transparent resin side of the package assembly facing the adhesive layer.
  • a dicing blade from the bottom side of the package assembly, a cut is made to a depth of 100 m of the package assembly and the dicing adhesive sheet in order to divide the light emitting diodes into individual light emitting diodes.
  • the adhesive layer is cured by irradiating ultraviolet rays from the film side, and divided into each light emitting diode.
  • One opening corresponds to one through hole of the package assembly
  • a light emitting diode was manufactured in the same manner as in Example 13 except that the mask formed in Step 1 was used.
  • the filled translucent resin leaks to the upper surfaces of the substrates at both ends. When this light emitting diode is adhered to the adhesive sheet for dicing and diced, each light emitting diode falls apart.
  • Example 14 15 wt% of the fluorescent substance and 40 wt% of SiO 2 having a center particle diameter of 10 m were mixed and dispersed in a one-part curable epoxy resin containing no added crosslinked oligomer ⁇ ⁇ one.
  • a surface-mounted light-emitting diode is produced in the same manner as in Example 13, except that the alicyclic epoxy resin composition (viscosity 1500 OmPa ⁇ s) is used as a material for a sealing member.
  • the light emitting diode of the fourteenth embodiment improves both the luminous intensity and the output as compared with the thirteenth embodiment, and can further greatly improve the reliability.
  • Example 15 a fluorescent material, Y is about 20% substituted with Gd, the center particle size of 21. 429 / im (Y 0, 8 Gd 0. 2) 2. 9 6 5 Al 5 0 12 : making Ce 0 0 3 5 in the same manner as in example 13.
  • the fluorescent substance is composed of a large-diameter fluorescent substance and a small-diameter fluorescent substance. In the volume-based distribution curve, the flat region where the slope is zero has an integrated value of 4.6 vol% and a particle size range of 1.371 / 1. m to 8.379 m.
  • 4.6 vol% of the total fluorescent material is composed of a small particle size fluorescent substance having a particle size smaller than 1.371 ⁇ , and the remaining 95.6 vol% is a large particle size having a particle size larger than 8.379 ⁇ . It consists of a fluorescent substance.
  • the central particle size of the fluorescent substance classified by the sedimentation method so as to have such a distribution is 21.4 ⁇ m, and the frequency value at the central particle size is 29.12%.
  • the frequency peak particle size of the small particle size fluorescent substance is 0.613 ⁇ m, and the frequency peak particle size value of the large particle size fluorescent substance is 22.908 ⁇ m.
  • Example 15 a surface-mounted light emitting diode was produced in the same manner as in Example 14 except that the above-mentioned fluorescent substance was contained in a 15 wt% resin composition.
  • the light emitting diode of the embodiment 15 can obtain the same effects as the embodiment 14 and can obtain a light emitting diode having higher brightness than the embodiment 14.
  • Example 16 four types of resins C, D, E, and F, which are epoxy resins according to the present invention, and resins A and B of Comparative Examples were produced and their characteristics were evaluated.
  • Epoxy resin compositions A to F were prepared under the following conditions. When the acid anhydride was added, the ester conversion of the carboxyl group was also evaluated. The ester conversion, which is expressed by mol% of the ratio of carboxyl groups of the acid anhydride converted to ester bonds, was evaluated by a neutralization reaction with an aqueous KOH solution. Specifically, 1.0 g of epoxy resin is dissolved in 50 mL of ethanol, and the BTB indicator changes color from yellow to blue (pH 7.6) by adding 0.1 NKOH aqueous solution. The amount of canolepoxyl group that had not been converted to estenolate was determined from the amount of KOH aqueous solution required for neutralization with the point of neutralization as the neutralization point.
  • benzene sulfonium salt-based catalyst that is an aromatic sulfoium salt (Ayuon species is antimony hexafluoride) as a cationic curing agent Hydroxyphenylsulfonium (0.6 g) was added, and the mixture was stirred for 0.5 hours, heated at 85 ° C for 3 hours, and further heated at 140 ° C for 4 hours to cure.
  • Njinoresuruho base is cationic hard I ⁇ - ⁇ beam salts based catalyst hexafluoride antimonate base
  • Njinore methyl P- hydroxyphenyl An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Resin D, except that sulfonium was changed to 0.6 g. The transesterification ratio of the lipoxyl group was 94.2%.
  • the liquid phase impact test consists of a 1-minute dipping in the liquid phase at _40 ° C and a 1-minute dipping in the liquid phase at 100 ° C. Alternatively, the occurrence rate of operation failure due to wire open was examined (100 test pieces).
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • resin A which was obtained by curing an alicyclic epoxy resin with only a cationic curing agent, operation failure due to cracks occurred from the beginning of the test, and the operation failure rate became 100% after 1000 cycles.
  • Resin B which had improved flexibility by adding a reactive diluent, had a 7% malfunction after 2500 cycles.
  • all of the resins C, D, E, and F according to the present invention have a malfunction of 4% or less after 2500 cycles.
  • the resin D, E, and F with advanced ester conversion showed 0% malfunction. It was confirmed that the epoxy resin composition according to the present invention was more excellent in flexibility than the epoxy resin improved in flexibility by the conventional reactive diluent.
  • FIGS. 11A and 11B show the total light transmittance before irradiation
  • FIG. 11B shows the total light transmittance after irradiation.
  • the conventional epoxy resin composition resin diluent B with a reactive diluent, has a low transmittance in the short wavelength range from the beginning and turns yellow, and the light resistance test shows that The transmittance further decreased and yellowing proceeded remarkably.
  • the resin F which is the epoxy resin composition of the present invention, did not show any coloring at the initial stage and after the light resistance test.
  • FIGS. 12A and 12B show the total light transmittance before irradiation
  • FIG. 12B shows the total light transmittance after irradiation.
  • the conventional epoxy resin composition resin A to which a cationic curing agent was added, initially had the same transmittance as resin F, which is the epoxy resin composition of the present invention, but was short in heat resistance tests.
  • the transmittance in the wavelength range was reduced and yellowing advanced.
  • Resin B to which the reactive diluent has been added has a low transmittance in the short wavelength region from the beginning and turns yellow, and the heat resistance test further reduces the transmittance in the short wavelength region to yellow. Progressed remarkably.
  • Resin F which is the epoxy resin composition of the present invention, had no coloring at an early stage and showed better heat resistance than Resin B although yellowing progressed in the heat resistance test.
  • a light-emitting diode having the structure shown in Fig. 1 was prepared using epoxy resin compositions B and F, and a current-carrying life test at room temperature (25 ° C) and high temperature and high humidity (85 ° C, 85%) was performed. Flow rate 1 O mA).
  • Figures 13 and 14 show the relative output value P of the LED during the energized life at room temperature, high temperature and high humidity, respectively. 5 is a graph in which changes in% (relative value of output with initial value being 100%) were examined. As shown in FIGS. 13 and 14, the epoxy resin composition F of the present invention showed less reduction in the LED output during life than the conventional epoxy resin composition B.
  • Example 17 a surface-mounted light emitting diode shown in FIG. 1 was produced.
  • a fluorescent material was mixed with the translucent resin.
  • the LED chip 5 has a monochromatic emission peak of visible light of 475 nm as an emission layer. . 2 G a 0.
  • a nitride semiconductor device having an 8 N semiconductor That is, in the present example 17, the same LED chip as that of the example 13 was used.
  • Example 13 The same fluorescent substance as that of Example 13 was used. Then, an alicyclic epoxy resin composition in which 40 wt% of SiO 2 having a center particle diameter of 10 / Xm was mixed and dispersed in the resin F by 15 wt ° A viscosity of 1500 OmPas) was prepared as a translucent resin.
  • Example 17 When a light-emitting diode was manufactured in the same manner as in Example 17 except that the resin A was used and a mask was used in which one opening was formed for one through-hole of the captive insulating substrate, and Light emission unevenness is observed and uniform light emission cannot be obtained. In addition, the reliability is lower than that of Example 17. .
  • a light emitting diode was produced in the same manner as in Example 17 except that the same fluorescent substance as in Example 15 was used and the fluorescent substance was contained in 15 wt / o resin F.
  • the light-emitting diode according to the eighteenth embodiment can obtain the same effects as those of the first embodiment, and can obtain the light-emitting diode S having higher luminance than the seventeenth embodiment.
  • the following examples are examples relating to the synthesis of a fluorescent substance.
  • the following example relates to a method for producing a fluorescent material suitable for a light emitting diode.
  • Example 19 In the method of Example 19, first, a mixed material adjusted to have a desired fluorescent substance composition was mixed with a flux and packed in a crucible, and was placed in a weak reducing atmosphere at 140 ° C. to 160 ° C. For 6 to 8 hours at 140 ° C to 160 ° C in a reducing atmosphere.
  • the obtained fired product is pulverized and passed through a 200-mesh sieve to form a fluorescent substance.
  • the first firing step in which the mixture comprising the mixed raw material and the flux is performed in a weak reducing atmosphere and the second firing step in which the mixture is performed in a reducing atmosphere.
  • a fluorescent substance having high absorption efficiency at the excitation wavelength can be obtained.
  • the amount of fluorescent substance required to obtain a desired color tone can be reduced, and a light emitting diode S having high light extraction efficiency can be obtained.
  • Example 20 (formed by mixing the oxides of the respective raw materials at a stoichiometric ratio. Flux: aluminum fluoride)
  • Y 2 O 3, to obtain a G a O 3, A 1 2 O 3, and C e0 2 were mixed with stoichiometric mixing raw materials.
  • aluminum fluoride is added as a flux and mixed with a ball mill mixer for 2 hours.
  • baking is performed in a weak reducing atmosphere at 1400 ° C to 1600 ° C for 6 to 8 hours, and further in a reducing atmosphere at 1400 ° C to 1600 ° C for 6 to 8 hours.
  • the obtained fired product is pulverized and passed through a 200-mesh sieve to form a fluorescent substance.
  • JISZ8110 color coordinates
  • Example 21 (in Example 20, the flux was changed to barium fluoride + boric acid)
  • the fluorescent substance formed using barium fluoride as a flux has a longer chromaticity y value and a reddish tint than the case where other substances are used as a flux.
  • the components decrease.
  • the fluorescent substance produced by the method of the twenty-first embodiment has the same effect as that of the nineteenth embodiment when applied to, for example, the light emitting diode shown in FIG.
  • Example 22 (10 wt% of liquid was added during firing in Example 21)
  • Y 2 O 3 to obtain a G a 0 3, A 1 2 0 3, and Ce_ ⁇ 2 mixed by stoichiometric mixing raw materials.
  • barium fluoride and boric acid are added as flatus and mixed for 2 hours with a pole mill mixer.
  • a liquid of 1% by weight to the mixed powder for example, pure water is added and mixed, and the mixture is mixed in a weak reducing atmosphere at 1400 ° C .: L at 600 ° C. for 6 to 8 hours. Bake, and then bake at 1400 ° C to 1600 for 6 to 8 hours in a reducing atmosphere.
  • the obtained calcined product is ground and passed through a 200-mesh sieve to form a fluorescent substance.
  • the fluorescent substance produced by the method of Example 22 has the same effect as Example 19 when applied to, for example, the light emitting diode shown in FIG.
  • Example 23 In the method of Example 23 (Example 37. 5 wt% addition of a liquid during sintering at 21) this example 23, Y 2 0 3, Ga0 3, A 1 2 O 3, and Ce_ ⁇ 2 stoichiometry To obtain a mixed raw material. To this mixed raw material, add barium fluoride and boric acid as flux, and mix with a ball mill mixer for 2 hours. Next, after removing the ponol, a liquid of 37.5 wt%, for example, pure water is added to the mixed powder and mixed, and the mixture is mixed at 1400 ° C to 1600 ° C for 6 to 8 hours in a weak reducing atmosphere.
  • 37.5 wt% for example, pure water
  • the obtained fired product is pulverized and passed through a 200-mesh sieve to form a fluorescent substance.
  • the fluorescent substance produced by the method of the twenty-third embodiment has the same effect as that of the nineteenth embodiment when applied to, for example, the light emitting diode shown in FIG.
  • Example 24 (62 wt% liquid was added during firing in Example 21)
  • a Y 2 0 3, G a 0 3, A 1 2 0 3, and Ce_ ⁇ 2 mixed by stoichiometric mixing raw materials.
  • barium fluoride and boric acid are added as a flux and mixed for 2 hours using a Paul mill mixer.
  • a 62 wt% liquid for example, pure water is added to the mixed powder and mixed, and calcined in a weak reducing atmosphere at 1400 ° C. to 1600 ° C. for 6 to 8 hours. Further, bake at 1400 ° C to 1600 for 6 to 8 hours in a reducing atmosphere.
  • the obtained fired product is pulverized and passed through a 200-mesh sieve to form a fluorescent substance.
  • the fluorescent substance produced by the method of Example 24 provides the same effects as Example 19 when applied to, for example, the light emitting diode shown in FIG. Industrial applicability

Description

明 細 書 発光ダイォード、 光半導体素子及び光半導体素子に適したエポキシ樹脂組成物及 びそれらの製造方法 技術分野
本発明は、 液晶のバックライト、 フルカラーディスプレイ、 スィッチ内照明、 照明用光源、 各種インジケーターや交通信号灯などに利用可能な、 主として表面 実装型の発光ダイォード等の光半導体素子とその製造方法、 及びその発光ダイォ 一ドに適した耐光性及び可撓性に優れた透明性エポキシ樹脂組成物に関する。 背景技術
今 0、 青色光が高輝度に発光可能な半導体発光素子である窒化物半導体 （I n xGayA l^ yN、 0≤x≤ 1, 0≤y≤ 1) を利用した L EDチップが開発 された。 窒化物半導体を利用した発光素子は、 他の GaAs、 A 1 I nGa P等 の材料を利用した赤から黄緑色を発光する発光素子と比較して出力が高い、 温度 による色シフトが少ないなどの特徴を持っているものの、 現在までのところ、 緑 色以上の波長を有する長波長域で高出力を得られにくいという傾向がある。 他方、 この L E Dチップ上に L E Dチップから放出された青色光の一部を吸収して、 黄 色が発光可能な蛍光物質である Y AG： C e蛍光体などを配置させることによつ て白色系が発光可能な発光ダイオードをも本出願人が開発し、 出願 （国際公開番 号 WO 98/5078号） した。
この発光ダイォードは、 例えば、 1チップ 2端子構造の比較的簡単な構成にも 係わらず、 リード電極に電気的に接続させた LEDチップからの光と、 LEDチ ップを被覆する透光性樹脂中に含有された YAG： C eなど蛍光物質からの光と の混色光である白色光を凸レンズを介して出力するものである。
また、 この発光ダイオードは蛍光物質の使用量を調節することで、 発光ダイォ 一ドから放出される混色光を、 青味がかった白色から黄色味がかった白色などの 任意の色に調整することができる。 更に、 顔料を添加して例えば黄色光や赤色光 を得ることも考えられる。
しかしながら、 発光ダイオードの利用分野の広がりと共にさらに高輝度に発光 可能な発光ダイォードが求められている。
また、 近年では、 スィッチ内照明、 フルカラーディスプレイ、 液晶バックライ ト等の光 として、 チップ型の発光ダイオードが広く用いられている。 チップ型 の発光ダイォードは、 発光素子チップを収納する凹部を有するパッケージを用い、 該パッケージの凹部に発光素子チップを電気的に接続し、 発光素子チップを覆う ように透光性樹脂を形成して封止することにより構成される。
一方、 今日の光半導体技術の飛躍的な進歩により、 光半導体素子の高出力化及 び短波長化が著しく、 例えば、 窒化物半導体を用いた発光ダイオードでは、 発光 層の糸且成を構成する元素によって主発光ピークが約 3 6 5 n mから 6 5 0 n mの 任意努光ピークで発光可能であり、 5 5 0 n m以下の可視光 （具体的には近紫外 域光から青緑色光など） でも窒化物半導体の発光層に多重量子井戸構造を利用す ることで 5 mW以上もの高出力が発光可能となっている。 この高出力により新た な問題が生じている。 すなわち、 このような高エネルギー光を発光又は受光可能 な光半導体素子では、 光によるモールド樹脂の劣化対策や、 熱によりモールド樹 脂と光半導体チップの間に発生する応力の緩和が特に重要な課題となる。
特開 2 0 0 0— 1 9 6 1 5 1号公報には、 一般的なビスフエノール型エポキシ 樹月旨に代えて、 脂環式エポキシ樹脂を主体とするモールド樹脂が開示されている。 脂環式エポキシ樹脂を主体として酸無水物で硬化させたエポキシ樹脂組成物は、 光劣化の原因となる炭素一炭素間の 2重結合が主骨格に殆ど含まれないため、 長 時間の光照射後もモールド樹脂の劣ィ匕が少なく、 また、 比較的可撓性に優れるた め、 熱応力による半導体チップの損傷も起きにくい。
し力、し、 半導体チップを基板表面に直接実装する表面実装型素子 （- S MD型、 SMD ； Surface Mounted Device) では、 モールド樹脂を薄膜に形成する必要が あるため、 酸無水物硬化系のエポキシ樹脂を用いることができない。 即ち、 表面 実装型素子のモーノレド樹脂は、 一般に約 1 mm以下の薄膜に形成する必要がある ため、 塗布したエポキシ樹脂混合液と外気の接触面積が広くなる。 ところが、 酸 無水物硬化剤は揮発性 ·吸湿性が高く、 しかも酸無水物硬ィヒ剤によって硬化する には 5〜 2 0時間の比較的長時間を必要とするため、 硬化中に酸無水物硬化剤が 吸湿や揮発を起こし、 エポキシ樹脂の硬化が正常に行われない。 硬化不良を起こ したエポキシ樹脂は、 樹脂本来の性能を発揮することができず、 耐光性や耐熱性 が大幅に低下してしまう。
このため、 表面実装型素子のような薄膜塗布を必要とする用途では、 酸無水物 硬化剤ではなく、 芳香族スルホニゥム塩などのカチオン硬化剤が一般に用いられ ている。 カチオン硬化剤は、 揮発性が低いため、 エポキシ樹脂との混合液を薄膜 に塗布した場合であっても良好な硬化を行うことができる。
しかしながら、 カチオン硬化剤は、 もともと青色以下の短波長光を吸収し易い ため、 カチオン硬化剤によって硬化したエポキシ樹脂は短波長光の照射による黄 変を起こし易い。 したがって、 カチオン硬化剤によって硬化したエポキシ樹脂糸且 成物を、 青色以下の短波長光を発光又は受光する光半導体素子に用いることは困 難であった。 また、 カチオン硬化剤による硬化反応は殆どエポキシ基同士の開環 反応のみによって進行するため、 得られたエポキシ樹脂組成物は、 エーテル結合 が比較的規則正しく配列された 3次元網目状構造を有しており、 可撓性が低レ、。 このため、 力チオン硬化剤によつて硬化したエポキシ樹脂を光半導体素子のモー ルド樹脂として用いた場合に、 光半導体素子の加熱 ·冷却時に光半導体チップと モールド樹脂の間に大きな応力が生じ、 光半導体チップのクラック発生やワイヤ 切れ等を起こし易い問題があった。
カチオン硬ィ匕剤を用いて硬化したエポキシ樹脂組成物の可撓性を改善するため、 硬化するエポキシ樹脂に、 モノダリシジルエーテ^/、 ポリグリコールギグリシジ ルエーテル、 3級カルボン酸モノグリシジルエーテル等の低分子量の反応性希釈 剤を混合することもできる。 しかし、 これら反応性希釈剤の混合はエポキシ樹脂 の硬化を妨げるため、 カチオン硬化剤の使用量を増加させる必要が生じ、 ェポキ シ樹脂組成物の黄変の問題を更に悪化させてしまう。 発明の開示
本発明は、 上述の窒化物半導体系の発光ダイォードに対する種々の要求を満足 するために為されたものであり、 次のことを目的とする。 第 1に、 本発明は、 より発光特性の優れた色変換型発光ダイォードを提供する ことを目的とする。
第 2に、 本発明は、 量産性の優れた発光ダイオードの製造方法を提供すること を目的とする。
第 3に、 本発明は、 カチオン硬化剤による硬ィ匕を行いながら、 黄変を起こしに くく、 カゝつ、 可撓性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供し、 かかるエポキシ樹月旨 組成物をモールド樹脂に用いることにより、 耐光性及び耐熱性に優れた発光ダイ ォードを提供することを目的とする。
以上の目的を達成するために、 本発明に係る第 1の発光ダイオードは、 発光層 が窒化物系化合物半導体からなる L E Dチップと、 該 L E Dチップからの光の少 なくとも一部を吸収して異なる波長の光を発光する蛍光物質が含有された透光性 樹脂とを備えた発光ダイォードであって、
前記蛍光物質は、 小粒径蛍光物質と大粒径蛍光物質とを含んでなり、 前記大粒 径蛍光物質は前記透光性樹脂において前記 L E Dチップの近傍に分布して色変換 層を形成し、 前記小粒径蛍光物質は前記透光性樹脂において前記色変換層の外側 に分布していることを特徴とする。
このように構成された第 1の発光ダイォードにおいては、 大粒径蛍光物質によ り構成される色変換層により効率良く色変換させることができ、 力つその外側に 分散された小粒径蛍光物質により色ムラを抑制できる。
また、 本発明に係る第 1の発光ダイォードにおいて、 前記大粒径蛍光物質はそ の粒径が 1 Ο μ η！〜 6 0 i mの範囲に調整されていることが好ましく、 これによ り、 前記大粒径蛍光物質を前記透光性樹脂中の前記 L E Dチップの近傍に比較的 粗に分布させることができ、 効率良く波長変 «能を発揮させることができる。 また、 本発明に係る第 1の発光ダイオードにおいて、 前記小粒径蛍光物質は、 その粒径が 0 . 2 111〜1 . 5 mの範囲に調整されていることが好ましく、 こ れにより、 小粒径蛍光物質の凝集を防止でき、 力、つ光の散乱機能を効果的に発揮 させることができるので、 より効果的に色ムラを抑制できる。
さらに、 前記大粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は前記小粒径蛍光物質の頻度 ピーク粒径値の 2 0倍〜 9 0倍の範囲に設定されていることが好ましく、 これに より、 光の取り出し効率を高くできる。
また、 本発明に係る第 2の発光ダイオードは、 発光層が半導体からなる発光素 子と、 該発光素子からの光の少なくとも一部を吸収して異なる波長の光を発光す る蛍光物質が含有された透光性樹脂とを備えた発光ダイォードであって、 前記蛍 光物質は、 体積基準粒度分布曲線において、 積算値 0 . 0 l vol%〜： L O vol%間 に傾きがゼロであるフラット領域を有することを特徴とする。 これによつて、 高 輝度で出力の高い発光ダイォードが得られる。
また、 本発明の第 2の発光ダイオードにおいて、 蛍光物質は、 前記フラット領 域を境界とする小粒径蛍光物質及ぴ大粒径蛍光物質とからなり、 前記大粒径蛍光 物質の頻度ピーク粒径ィ直は前記小粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値の 2 0倍〜 9 0倍であることが好ましく、 このようにすると光取り出し効率が良好な発光ダイ オードが得られる。
また、 本発明の第 1と第 2の発光ダイオードにおいて、 蛍光物質の中心粒径は 1 5 ！〜 5 0 μ ιηの範囲であることが好ましく、 これにより発光効率が向上さ れ、 輝度の高い発光ダイオードが得られる。 また、 光学特性に影響を与える傾向 にある密に凝集した凝集体が形成されるのを抑制することができる。
また、 本発明の第 1と第 2の発光ダイオードにおいて、 中心粒径の頻度値は 2 0 %〜5 0 %の範囲であると、 粒径のバラツキが少なくでき、 これによつて色ム ラが抑制され良好なコントラストを有する発光が得られる。
さらに、 本発明の第 1と第 2の発光ダイオードにおいて、 前記透光†生樹脂に前 記蛍光物質と共に拡散剤を含有させると、 より色ムラが抑制され均一な発光を得 ることができ好ましい。
また、 本発明の第 1と第 2の発光ダイオードにおいて、 前記透光性樹脂からな る発光面は曲面を有することが好ましい。 これによつて発光素子の光が前記透光 性樹脂から外部へ取り出される際、 前記透光性樹脂と外部の空気層との界面で光 が拡散され、 大粒径蛍光物質を用いることにより生じゃすい色ムラを抑制するこ とができる。 また発光面での光の取り出し効率が向上され、 更に高出力に発光さ せることが可能となる。
また、 本発明に係る第 3の発光ダイオードは、 正負の電極を構成する 1対の金 属薄板が絶縁樹脂により電気的に分離されるように接合されてなる金属ベースと 収納部を形成するために前記金属ベースの一方の面の周囲に接合された側壁部と 力、らなるパッケージと、 前記収納部に設けられた L E Dチップと、 前記 L E Dチ ップを封止するように前記収納部に充填された透光性樹脂とを備えた発光ダイォ ードであって、
前記透光性樹脂は前記収納部からその周りの側壁部の上面に連続して形成され ており、 その透光性樹脂の上面は平坦でかつ前記金属ベースとほぼ平行であり、 且つ前記透光性樹脂の外周側面は前記パッケージの外周側面とほぼ同一面上にあ ることを特徴とする。
このように構成された第 3の発光ダイォードにより、 信頼性及び量産性の優れ た発光ダイオードが提供できる。 また、 前記透光性樹脂が前記収納部からその周 りの側壁部の上面に連続して形成されているので、 発光面が広がって発光ダイォ 一ドの上面全体となることで良好な指向特性が実現できる。
また、 前記透光性樹脂にフィラーを含有させてもよく、 その一種として発光素 子からの光の一部を吸収し異なる波長を発光することが可能な蛍光物質を含有さ せてもよい。
蛍光物質を含有させた場合、 色ムラが生じ易いが、 本発明の構成にすると良好 な発光面が得られ色ムラを抑制することができる。
また、 蛍光物質の中心粒径は、 1 5〃n！〜 5 0〃ιηであることが好ましく、 よ り好ましくは 2 0 z m〜5 0 x mである。 このような粒径範囲の蛍光物質を用い ると、 蛍光物質の波長変換機能を効果的に発揮させることができ、 かつダイシン グ工程が良好に行われ歩留まりを向上させることができる。
本発明に係る発光ダイォードの製造方法は、 前記第 3の発光ダイォードを製造 するための方法であって、
前記収納部にそれぞれ対応する複数の貫通孔がグループ分けして形成された絶 縁基板と、 前記各貫通孔に対応して前記絶縁樹脂により分離された部分を有する 金属ベース板とを接合することにより複数のパッケージの集合体からなるパッケ ージァッセンブリを作製する第 1の工程と、
前記貫通孔により形成された各パッケージの収納部に L E Dチップを実装する 第 2の工程と、
前記各グループに対応して 1つの開口部が形成されたマスクを用いて孔版印刷 により前記絶縁性基板の上面と前記貫通孔内に前記透光性樹脂を塗布して硬化さ せる第 3の工程と、
前記透光性樹脂が形成されたパッケージアッセンプリを各パッケージごとに分 割する第 4の工程とを有することを特徴とする。
これによつて、 厚みが一定で且つ平滑な発光面及び端面を有する発光ダイォー ドを量産†生良く形成することができる。
また、 本発明に係る製造方法においては、 前記孔版印刷は、 減圧及び加圧を繰 り返して行われることが好ましい。 これにより極めて簡単に気泡等を脱泡させる ことができ、 より特性バラツキが少なく発光ムラや色ムラの少ない発光ダイォー ドを製造することができる。
特に、 無機物であるフィラーが透光性樹脂に含有されている場合、 混合中に気 泡が入りやすい傾向にある。 また光の行路長が長くなり、 各種のフイラ一間、 及 びそれらと透光性樹脂との比重の違いによっても色ムラが生じやすいが、 本発明 の製造方法により色ムラを抑制することができる。 また製造された個々の発光ダ ィォード間の色バラツキが少なく信頼性の高い発光ダイォードカ得られる。 本件発明に係るエポキシ樹脂組成物は、 6 5重量％以上が脂環式エポキシ樹脂 力、ら成るエポキシ樹脂と、 前記エポキシ樹脂のエポキシ当量に対して 0 . 0 0 5 〜： L . 5モルの一般式 （1 ) で示される酸無水物又は一般式 ( 2 ) で示されるジ カルボン酸と、
Figure imgf000009_0001
HOOC- -Rフ ■COOH (2)
(式中、 R ,は炭素数 0〜 1 2の環式若しくは脂肪族アルキル又はァリール、 R 2は炭素数 0〜 1 2のァノレキノレ又はァリ一ノレ） 、 前記エポキシ樹脂のエポキシ当 量に対して 0 . 0 0 0 1〜0 . 0 1モルのカチオン硬化剤とを含むことを特徴と する。
本件発明のエポキシ樹脂組成物は、 脂環式エポキシ樹脂と酸無水物又はジカル ボン酸 （以下、 酸無水物等） が反応してある程度の重合度を有する架橋オリゴマ 一を形成するため、 従来の ι Ζ ι 0から i Z i 0 0の量のカチオン硬化剤で完全 に硬化することができる。 したがって、 カチオン硬化剤が原因で起こる短波長の 光吸収を抑制し、 得られたエポキシ樹脂組成物の黄変を防止することができる。 また、 本件発明のエポキシ樹脂組成物は、 エポキシ基の開環反応によるエーテル 結合だけでなく、 脂環式エポキシ樹脂と酸無水物等との架橋結合反応によるエス テル結合も有しており、 エポキシ樹脂同士が不規則に連結した 3次元網目構造を 有している。 したがって、 反応性希釈剤を用いなくても高い可撓性を有し、 光半 導体素子のモールド樹脂に用いた場合に、 光半導体チップとモールド樹脂の間の 熱応力を緩和して、 クラックゃワイヤ切れ等の問題を防止することができる。 エポキシ樹脂組成物の可撓性は、 エポキシ樹脂と酸無水物等との反応で得られ る架橋オリゴマーの分子量に比例する傾向にある。 即ち、 架橋オリゴマー中の酸 無水物等のもつカルボキシル基のうち、 エポキシ樹脂又は後述する助触媒と反応 してエステルに転化するものの割合が高い程、 得られるエポキシ樹脂組成物の可 撓性が良好となる。 エステル転化が進行している方が薄膜で硬化する際の酸無水 物等の揮発が起き難いからと考えられる。 架橋オリゴマー中の酸無水物等のもつ カルボキシル基のエステル転化率は 1 0 %以上、 好ましくは 7 0 %以上であるこ とが望ましい。 エステル転化率は、 反応温度と時間により調節可能である。
また、 本件発明のエポキシ樹脂組成物の利点は、 脂環式エポキシ樹脂と酸無水 物又はジカルボン酸とを反応させて架橋オリゴマーを得た後に、 前記架橋オリゴ マーと前記力チォン硬化剤との混合物を硬化させることが可能となる点にもある。 即ち、 脂環式エポキシ樹脂と酸無水物等を予め適当な反応容器中で反応させて架 橋オリゴマーを形成しておき、 その架橋オリゴマーとカチオン硬化剤の混合液を 光半導体素子の基板上にモールドさせれば、 薄膜状にモールドする場合であって も硬化反応中に酸無水物が揮発することを防止できる。 また、 架橋オリゴマーと カチオン硬化剤の混合液の粘度は、 酸無水物等の添加量やエステル転化率によつ て自由に調節できるため、 ハンドリングに適した粘度を容易に設定することがで きる。 また、 架橋オリゴマーとカチオン硬化剤の混合液は、 既にある程度重合が 進行しているため、 粘度の経時変化が少なく、 ポットライフも長い。
さらに、 本件発明に係るエポキシ樹脂組成物を光半導体素子のモールド樹脂に 使用する場合、 フィラー、 蛍光剤粒子、 拡散剤粒子、 着色剤粒子等を機能粒子を 適宜混合する事も考えられるが、 架橋オリゴマーとカチオン硬化剤の混合液は比 較的高粘度であるため、 これら機能粒子の分散性が良い。 このため、 少ない粒子 含有量で所望の機能発現が可能であり、 機能粒子の光散乱 ·遮蔽等による光半導 体素子の発光又は受光ロスを低減することができる。
本件発明のエポキシ樹脂組成物に用いる脂環式エポキシ樹脂には、 シク口へキ センエポキシ化物誘導体、 水素化ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、 へキ サヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等を用いることが好ましい。 これら脂環 式エポキシ樹脂を用いることにより、 光劣化を起こしにくく、 かつ、 可撓性に優 れたエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
本件発明のエポキシ樹脂組成物に用いるカチオン硬化剤には、 芳香族スルホ- ゥム塩、 芳香族ジァゾ -ゥム塩、 芳香族ョードニゥム塩、 芳香族セレニウム塩等 を用いることが好ましい。 これらカチオン硬化剤は、 硬化速度が速く、 少量で十 分な硬化を得ることができる。
また、 本件発明のエポキシ樹脂組成物は、 さらに、 酸無水物又はジカルボン酸 に対して 0 . 1〜5 . 0当量の多価アルコール又はその重縮合体を含むことが好 ましい。 多価ァノレコーノレには、 例えば、 エチレングリコール、 ジエチレングリコ 一ノレ、 トリメチレングリコーノレ、 トリエチレングリコーノレ、 プロピレングリコー ル、 1 , 4一ブタンジオール、 1， 6—へキサンジオール等を用いることができ る。 これらの多価アルコール又はその重縮合体を添加することにより、 得られる エポキシ樹脂組成物の可撓性をさらに向上することができる。
また、 本件発明に係る光半導体素子は、 少なくとも一対のリード電極と、 前記 リード電極に電気的に接続された光半導体チップと、 前記光半導体チップを封止 するモールド樹脂を供えた光半導体素子であって、 モールド樹脂が本件発明に係 るエポキシ樹脂組成物から成ることを特徴とする。 これにより、 モールド樹脂の 黄変による発光又は受光効率の低下が少なく、 また、 熱サイクルによるチップ損 傷やワイャ切れの発生しにくい光半導体素子を得ることができる。
特に、 本件発明に係る光半導体素子は、 リード電極を形成した基板表面に前記 光半導体チップを接合して成る表面実装型である場合、 また、 光半導体チップが 少なくとも I nと G aを含有する窒化物半導体から成る発光層を有し、 主発光ピ ークが 5 5 O n m以下である発光ダイオードチップである場合に、 耐光性及ぴ耐 熱性の改善が顕著である。
また、 本発明に係る蛍光物質の第 1の製造方法は、 原料とフラックスを混合し て焼成することによつて蛍光物質を製造する方法であつて、
前記焼成工程は、 第 1の還元雰囲気中で焼成する第 1の焼成工程と第 2の還元 雰囲気中で焼成する第 2の焼成工程とを含んでなり、 前記第 1の還元雰囲気は前 記第 2の還元雰囲気より弱い還元性雰囲気であることを特徴とする。
本方法により蛍光物質を製造することにより、 励起光に対する吸収効率の高い 蛍光物質を製造することができる。
また、 本発明に係る蛍光物質の第 1の製造方法において、 前記フラックスとし て、 フッ化アルミニウムを用いることができる。
さらに、 本発明に係る蛍光物質の第 1の製造方法において、 前記フラックスと してフッ化バリウムとホウ酸を含むものを用いることができ、 その場合には、 液 体をさらに含むことが好ましい。
このように、 前記フラックスとしてフッ化パリゥムとホウ酸を含むものを用い さらに液体を含ませることにより、 発光色の色度変動を抑制できる。
また、 本発明に係る蛍光物質の第 2の製造方法は、 原料とフラックスを混合し て焼成することによって蛍光物質を製造する方法であって、
前記フラックスは、 フッ化バリウムとホウ酸と液体を含むことを特徴とする。 本方法により製造された蛍光物質は発光色の色度変動を抑制できる。
前記製造方法において、 前記液体として水を用いることができる。
前記製造方法において、 前記原料として Y 20 3 , G d 0 3 , 1 2〇3及ぴ。6 0。を用いることができる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明に係る実施の形態 1の SMD型発光ダイォードの模式的断面図 である。
図 2 Aは、 実施の形態 1の蛍光物質の体積基準分布曲線 （粒径に対する積算 値） を示すグラフである。
図 2 Bは、 実施の形態 1の蛍光物質の体積基準分布曲線 （粒径に対する頻度 値） を示すグラフである。
図 3 Aは、 実施の形態 1に係る製造方法において、 孔版印刷に用いるマスクの 模式的平面図である。
図 3 Bは、 図 3 Aのマスクの一部を拡大して示す模式的平面図である。
図 4 A〜図 4 Dは、 実施の形態 1に係る製造方法における孔版印刷の工程図で める。
図 5は、 実施の形態 1に係る製造方法において、 孔版印刷して透光性樹脂を硬 化させた後のパッケージアッセンプリの一部の断面図である。
図 6は、 本発明に係る実施の形態 2の SMD型発光ダイォードの模式的断面図 である。
図 7 A、 図 7 Bは、 実施例 5の発光ダイォードの透光†生樹脂の形成工程を示す 断面図である。
図 8は、 本宪明に係る実施例 1の S MD型発光ダイォードの模式的断面図であ る。
図 9 Aは、 比較例 1の蛍光物質の体積基準分布曲線 （粒径に対する積算値） を 示すグラフである。
図 9 Bは、 比較例 1の蛍光物質の体積基準分布曲線 （粒径に対する頻度値） を 示すグラフである。
図 1 O Aは、 本発明に係る実施例 9のランプ型発光ダイオードの模式的断面図 である。
図 1 0 Bは、 図 1 O Aの点線円部分の拡大図である。
図 1 1 Aは、 エポキシ樹脂組成物について耐光†生試験前の全光線透過率を示す グラフである。
図 1 I Bは、 エポキシ樹脂組成物について耐光性試験後の全光線透過率を示す グラフである。
図 1 2 Aは、 エポキシ樹脂組成物について耐熱試験前の全光線透過率を示すグ ラフである。
図 1 2 Bは、 エポキシ樹脂組成物について耐熱試験後の全光線透過率を示すグ ラフである。
図 1 3は、 エポキシ樹脂組成物をモールド樹脂に用いた発光ダイオードの常温 寿命試験における出力強度の変化を示すグラフである。
図 1 4は、 エポキシ樹脂組成物をモールド樹脂に用いた発光ダイォードの高温 高湿寿命試験における出力強度の変化を示すグラフである。
図 1 5は、 エポキシ樹脂組成物の粘度の経時変化を示すグラフである。 発明を実施するための最良の形態
以下、 図面を参照しながら本発明に係る実施の形態について説明する。
実施の形態 1 .
本実施の形態 1の発光ダイオードは、 図 1に示すように、 パッケージの中に発 光ダイオードチップ （L E Dチップ） 5が透光性樹脂 8によって封止されてなる 表面実装型 （S MD型） の発光ダイオードである。 本実施の形態 1の発光ダイォ 一ドにおいて、 パッケージは金属ベース 2と側壁部 1と力 らなり、 側壁部 1は収 納部 1 aを構成するために金属ベース 2の一方の面の周囲に接合されている。 L E Dチップ 5はパッケージの収納部 1 aにダイボンディングされてヮィヤーボン デイングにより所定の配線がされた後、 透光性樹脂 8 (例えば、 L E Dチップ上 の厚さ約 l mm) により封止されている。
ここで、 本実施の形態 1の発光ダイォードでは、 封止樹脂 8として本願特有の エポキシ樹脂が使用され、 封止樹脂 8には発光ダイオード （L E D) チップによ り発光された光を波長の異なる光に変換して出力する蛍光物質 （蛍光体粒子） 分 散されており、 以下のような特徴を有する。
第 1に、 透光性の封止樹脂 8として、 脂環式エポキシ樹脂と酸無水物又はジカ ルボン酸が反応して架橋オリゴマーを形成し、 少ない量のカチオン硬化剤で硬化 可能なエポキシ樹脂組成物を使用することにより、 耐光性及び耐熱性を向上させ ている。
第 2に、 透光性樹脂に分散させる蛍光物質 （色変換部材） の粒度分布を、 本願 に特有の分布とすることにより発光出力及び発光輝度を大きく改善している。 以下、 本実施の形態 1の発光ダイォードの構成について詳細に説明する。 <パッケージ >
本実施の形態において、 パッケージの金属ベース 2は正の端子を構成する金属 薄板 2 aと負の端子を構成する金属薄板 2 bとが絶縁性樹脂 4により接合されて なり、 それぞれ LEDチップ 5の正電極 5 aと負電極 5 bにワイヤー 7により接 続される。
ここで、 本実施の形態 1では、 L E Dチップ 5は一方の金属薄板 2 b上にダイ ボンディング樹脂 6によりダイボンディングされている。 し力 しながら、 本発明 では、 LEDチップ 5は他方の金属薄板 2 a上にダイボンディングされていても 良いし、 金属薄板 2 aと金属薄板 2 bとに跨ってダイボンディングされていても よい。
<LEDチップ 5 >
本実施の形態 1の発光ダイォードは、 LEDチップ 5からの光の一部又は全部 を蛍光物質により波長変換するように構成しているので、 LEDチップ 5として は、 その蛍光物質を励起可能な発光波長の光を発光するものを用いる。 本発明で は、 このような LEDチップ 5として Z n S e系、 や G a N系など種々の半導体 を用いて構成したものを使用することができるが、 本発明においては蛍光物質を 効率良く励起できる短波長の光が発光可能な窒化物半導体 （I nxAlYGa i— x — YN、 0≤X, 0≤Y X + Y≤ 1) を用いた LEDチップ 5を用いることが 好ましい。 この LEDチップ 5は、 I nxGa i— XN (0<x< 1) を発光層とし て有しており、 その混晶度によって発光波長を約 365 nmから 650 nmで任 意に変えることができる。 LEDチップ 5の構造としては、 MI S接合、 P IN 接合や P n接合などを有するホモ構造、 ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成の ものが挙げられ、 本発明ではいずれも用いることができるが、 より高輝度のもの が得られるダブルへテロ構造を採用することが好ましい。 また、 発光層 （活个生 層） を構成する半導体の組成やその混晶度によって発光波長を種々選択すること ができる。 また、 活性層を量子効果が生ずる薄膜を含んで構成した単一量子井戸 構造や多重量子井戸構造とすることもできる。
窒化物半導体を使用した L E Dチップ 5の場合、 基板にはサフアイャ、 スピネ ル、 S i C、 S i、 Z n O等の材料を用いることができるが、 結晶性の良い窒化 物半導体を量産性よく形成させるためにはサフアイャ基板を用いることが好まし い。 このサフアイャ基板上には、 MO C VD法などを用いて窒化物半導体を形成 させることができる。 この際、 サフアイャ基板上に G a N、 A 1 N、 G a A I N 等のバッファ一層を形成してその上に p n接合を有する窒化物半導体層を成長さ せることが好ましい。
窒化物半導体を使用した p n接合を有する L E Dチップの例として、 サフアイ ャ基板上にバッファ一層を形成し、 そのバッファ一層の上に、 n型窒化ガリウム で形成した第 1のコンタクト層、 n型窒ィ匕アルミニウム 'ガリウムで形成させた 第 1のクラッド層、 窒化ィンジゥム ·ガリゥムで形成した活性層、 p型窒化アル ミニゥム ·ガリゥムで形成した第 2のクラッド層、 p型窒化ガリゥムで形成した 第 2のコンタクト層を順に積層させたダブルへテ口構造の L E Dチップが挙げら れる。
窒化物半導体は、 不純物をドープしない状態で n型導電性を示すが、 所望の n 型窒化物半導体を形成するためには、 n型ドーパントとして S i、 G e、 S e、 T e、 C等を適宜導入することが好ましく、 p型窒化物半導体を形成するために は、 p型ドーパントである Z n、 M g、 B e、 C a、 S r、 B a等をドープさせ る。 また、 窒化物半導体は、 p型ドーパントをドープしただけでは!)型化しにく いため p型ドーパント導入後に、 炉による加熱やプラズマ照射等により低抵抗化 させることが好ましい。 このように所定の窒化物半導体層を順次形成した後、 所 定の位置に電極を形成したウェハーをチップ状に力ットすることにより窒化物半 導体を用いた L E Dチップ 5を作製することができる。
本実施の形態 1の発光ダイォードにおいて、 白色系の光を発光させる場合は、 蛍光物質からの発光波長との補色関係や透光性樹脂の劣化防止等を考慮して L E Dチップ 5の発光波長は 4 0 0 n m以上 5 3 0 n m以下に設定することが好まし く、 4 2 0 n m以上 4 9 0 n m以下に設定することがより好ましい。 L E Dチッ プそのものの発光効率を高めかつ蛍光物質の励起による発光効率を向上させるた めには、 L E Dチップ 5の発光波長を 4 5 0 n m以上 4 7 5 n m以下に設定する ことがさらに好ましい。 なお、 本発明では蛍光体の種類を選択することにより、 4 0 0 n mより短い紫外域の波長の光を発光する L E Dチップを適用することも できる。
サフアイャゃスピネルなど絶縁性基板を用いた窒化物半導体 L E Dチップは、 半導体表面側に p型及び n型用の電極を形成するために、 p型半導体をエツチン グして n型半導体を露出させ、 p型半導体層及び n型半導体層の各々にスパッタ リング法や真空蒸着法などを用いて所望の形状の各電極を形成する。 半導体側か ら光を取り出す場合、 p型半導体層のほぼ全面に形成する電極は、 金属薄膜から 成る透光性電極とする。
<蛍光物質 >
蛍光物質の比重は、 硬化前の液状樹脂の数倍に達する。 また熱硬化性樹脂は、 加熱硬化時、 粘度が大きく低下する。 このため、 L E Dチップを蛍光物質を含有 した液状樹月旨で覆い熱硬化すると、 樹脂中の蛍光物質のほとんどは、 L E Dチッ プの周辺に密に集結して沈降してしまう傾向がある。
このように密に集結して沈降した蛍光物質は、 重なり合って L E Dチップ 5の 周辺に沈降するため、 L E Dチップからの光を効率よく吸収できるのは L E Dチ ップの表面の近傍に位置する蛍光物質のみに限られる。 したがって、 多くの蛍光 物質は波長の変對幾能を十分発揮することなく、 逆に他の蛍光物質が波長変換し た光を遮って単に光のエネルギーを減衰させるだけに作用する。 その結果、 発光 ダイオードの発光出力の低下を引き起こすことになる。
そこで本発明では、 全ての蛍光物質に波長変換機能を発揮させ最大限に活用で きるような、 特定の粒度分布を有する蛍光物質を用い、 発光ダイオードの出力向 上を図るものである。
具体的には、 本実施の形態 1の発光ダイオードに用いた蛍光物質は、 大粒径蛍 光物質 8 1の集合体 （第 1分布） と小粒径蛍光物質 8 2の集合体 （第 2分布） と からなり、 第 1分布と第 2分布の間にはほとんど蛍光物質が存在しな！/、領域が存 在する。 本発明では、 このように分布する蛍光物質を用いることにより、 光学特 性に悪影響を与える傾向にある凝集体の形成を防止し、 かつ発光色の色むらを防 止している。 図 2 A， 図 2 Bに、 本実施の形態 1において使用した蛍光物質の体 積基準粒度分布曲線を示す。 図 2 Aは各粒径における積算分布を示し、 図 2 Bは 各粒径における頻度分布を示す。
図 2 Aに示すように、 本発明に用いられる蛍光物質は、 体積基準分布曲線にお いて、 積算値 0 . 0 l vol%〜l O vol%の間に傾きがゼロであるフラット領域を 有する。 このフラット領域は上述した第 1分布と第 2分布の間に位置し、 ほとん ど蛍光物質が分布していない粒径の範囲 （領域） である。
ここで、 本実施の形態 1において、 小粒径蛍光物質 8 2の含有量は蛍光物質全 体の 0 . 0 1 vol%〜 1 0 vol%であり、 大粒径蛍光物質 8 1の含有量は蛍光物質 全体の 9 0 vol%以上である。 本発明において、 より好ましい小粒径蛍光物質の 含有量は 0 . 0 l vol%〜5 vol°/0である。 このように小粒径蛍光物質を少量とす ることで、 色むらを防止しつつ、 L E Dチップ及び大粒径蛍光物質からの光を遮 らないように樹脂中に配置させることができる。
また、 大粒径蛍光物質 8 1の頻度ピーク粒径値は小粒径蛍光物質 8 2の頻度ピ ーク値の 2 0倍〜 9 0倍に設定することが好ましい。 このように粒径差を大きく することにより、 発光ダイオードにおいて、 それぞれの蛍光物質がそれぞれの作 用 （小粒径蛍光物質 8 2は主として散乱機能、 大粒径蛍光物質 8 1は主として波 長変 «能） を最大限に活用できるように配置させることができる。
すなわち、 小粒径蛍光物質 8 2は、 光変換効率が低いが、 光を反射拡散させる ことができ、 これにより発光色の色むらを防止している。 このため、 小粒径蛍光 物質は透光性樹脂中において L E Dチップ周辺に沈降させるのではなく分散させ ることが好ましい。
本発明で用いられる小粒径蛍光物質は、 ごく少量で且つ大粒径蛍光物質の粒径 とかけ離れた小さい粒径に調整されており、 これによつて透光性樹脂中で小粒径 蛍光物質が良好に分散された発光ダイオードが得られる。 小粒径蛍光物質 8 2の 粒径は、 0 . 2 m〜l . 5 z mの範囲であることが好ましい。 これによつて、 各小粒径蛍光物質が凝集することを抑制でき力つ光の散乱機能を効果的に発揮さ せることができる。 また、 前記範囲の粒径を有する小粒径蛍光物質 8 2は未硬化 の透光性樹月旨中でほとんど沈降しないため、 大粒径蛍光物質 8 1と分離させて配 置することが可能である。 すなわち、 大粒径蛍光物質 8 1と小粒径蛍光物質 8 2 からなる本発明に係る蛍光物質は、 L E Dチップ 5を覆う透光性樹脂中において、 大粒径蛍光物質 8 1が L E Dチップ 5の近い部分に存在し、 その外側に小粒径蛍 光物質 8 2がほぼ均一に分散されて存在する。 このように分散された蛍光物質に おいて、 大粒径蛍光物質 8 1は L E Dチップ 5からの光を波長変換するように作 用し、 その外側の小粒径蛍光物質 8 2はその反射機能により発光色の色むらを防 止するように作用する。
また、 前記小粒径蛍光物質 8 2と前記大粒径蛍光物質 8 1との間に頻度ピーク を有する中粒径蛍光物質を含有させてもよい。 波長変換されるべき光を全てを大 粒径蛍光物質に吸収させて変換することは困難である。 大粒径蛍光物質 8 1は表 面積が大きい分、 粒径の大きい蛍光物質により反射される光が存在する。 そこで、 大粒径蛍光物質 8 1と共に大粒径蛍光物質 8 1より粒径が小さくかつ小粒径蛍光 物質 8 2より大きい中粒径蛍光物質を共存させ、 大粒径蛍光物質 8 1により吸収 されきれなかった光は、 前記中粒径蛍光物質に吸収させ色変換させる。 このよう に、 大粒径蛍光物質の表面にて反射されてしまった L E Dチップからの光を効率 よく色変換させることにより、 最小限の蛍光物質含有量にて所望とする色調を得 ることが可能となり、 輝度を高めることができる。 前記中粒径蛍光物質は、 前記 大粒径蛍光物質 8 1の 0 . 3倍〜 0 . 9倍、 より好ましくは 0 . 5倍〜 0 . 8倍 の中心粒径を有することが好ましく、 これにより前記大粒径蛍光物質の表面にて 反射された光を効率よく吸収し色変換することができる。
一般的に、 蛍光物質は粒径が大きいほど光変換効率が高くなる。 本発明の発光 ダイォードでは、 さらに大粒径蛍光物質 8 1の粒度分布を後述するように設定す ることにより、 大粒径蛍光物質 8 1を L E Dチップ 5の周辺において互いに重な り合わないように配置し、 L E Dチップ 5からの光を全ての大粒径蛍光物質 8 1 に効率よく吸収させ光を変換させるように構成している。
すなわち、 本願発明に係る蛍光物質のうち大きい粒径を有する大粒径蛍光物質 8 1は、 図 4 A, 図 4 Bに示すように分布させているので、 樹脂中において互い に重なり合うほど密に? されることはほとんどなく、 好ましい間隔を有して沈 降される。 このため、 L E Dチップ 5から発光される光は、 L E Dチップ 5に近 接している大粒径蛍光物質 8 1のみではなく全ての大粒径蛍光物質 8 1に光を導 くことができる。 これにより、 より多くの蛍光物質を変換に寄与させることがで き、 各蛍光物質の光吸収率及び変換効率が向上される。
すなわち、 粒径を適切に管理していない従来の蛍光物質を用いて、 所望とする 光を得るためには大量の蛍光物質を榭脂中に含有させる必要があり、 蛍光物質層 が厚くなり力つ互いに重なり合うために、 光の変換に寄与しない蛍光物質の割合 が増加し、 その光を変換しない蛍光物質により光が隠蔽される傾向にある。 この ために従来のものでは取り出し効率が悪くなり高 、輝度が得られないものとなつ ていた。 しかしながら本発明のように、 その平均粒径と粒度分布が管理された大 粒径蛍光物質 8 1を用いると、 前記大粒径蛍光物質 8 1が密に重なって沈降され る確率は低く、 従来より粗に大粒径蛍光物質 8 1を分散させることができ、 各蛍 光物質から発光面までの距離も比較的短くできるため、 変換後の光は樹脂に吸収 されることなく高輝度を維持したまま効率よく外部に取り出される。
以上が本願発明における大粒径蛍光物質 8 1の分布を設定する基本的な考え方 である。
このように、 本発明では、 大粒径蛍光物質 8 1と小粒径蛍光物質 8 2とカ らな る蛍光物質を用い、 さらに外部への光取り出し効率、 光吸収効率、 光変換効率を '向上させるために大粒径蛍光物質 8 1を良好な間隔で L E Dチップ 5の周辺に配 置させて色変換層とすることにより、 高光度及び高出力が可能な発光ダイォード を得て ヽる。
本発明で用いられる大粒径蛍光物質 8 1の粒径は、 外部への光取り出し効率、 光吸収効率、 光変換効率を向上させるために、 1 0 π！〜 6 0 μ πιの範囲に設定 することが好ましく、 1 Ο μ η！〜 5 0 /i mの範囲に設定することがより好ましく、 よりいつそう好ましくは 1 5 z m〜3 0 / mに設定する。 1 0 / mより小さく且 つ前記小粒径蛍光物質 8 2より大きい粒径を有する蛍光物質は、 凝集体を形成し やすく、 液状樹脂中において密になって沈降されるため、 光の透過効率を減少さ せてしまう。 1 5 μ mより小さく且つ前記小粒径蛍光物質 8 2より大きい粒径を 有する蛍光物質は、 1 5 μ m以上のものに比較して凝集体を形成しゃすく、 製造 工程上の管理が不充分であると液状樹脂中において密になって沈降されるため、 光の透過効率を減少させてしまうおそれがある。
また、 大粒径蛍光物質の粒度は揃っているほうが好ましく、 これにより大粒径 蛍光物質が密に沈降されるのをより効果的に防止することができる。 大粒径蛍光 物質の粒度分布の標準偏差は、 特別な分級をすることなく、 好ましい範囲である 0 . 3以下に設定することができ、 さらに分級をすることにより 0 . 1 5以下に することも可能である （本発明者らは、 分級により標準偏差 0 . 1 3 5の大粒径 蛍光物質が作製できることを確認した。 ） 。
本発明では、 このような大粒径の蛍光物質を用いることにより蛍光物質による 光の遮蔽を抑制し発光ダイオードの出力を向上させている。 また、 本発明で用い られる大粒径蛍光物質の材料としては、 光の吸収率及び変換効率が高く且つ励起 波長の幅が広いことが好ましい。
このように、 光学的に優れた特徴 （光の吸収率及び変換効率が高く且つ励起波 長の幅が広いという特徴） を有する大粒径蛍光物質 8 1を、 全蛍光物質中 9 0 voP/o以上含有させることにより、 L E Dチップの主波長周辺の光をも良好に変 換して波長の異なる光を発光することができ、 発光ダイオードの量産性も向上さ れる。
このように本発明に係る発光ダイオードは、 上述の蛍光物質を用いることによ り、 樹脂中の L E Dチップ 5から離れた部分に分散された小粒径蛍光物質 8 2か らなる光拡散機能を有する層と、 L E Dチップ 5の周辺に良好な間隔を有して沈 降された大粒径蛍光物質 8 1からなる色変換層とに分離して配置することができ る。 これによつて、 本発明によれば、 高出力で且つ高光度の光を色むらなく均一 に発光させることが可能な発光ダイオードが得られる。
ここで本発明において、 蛍光物質の粒径は、 体積基準粒度分布曲線により得ら れる値で示している。 また、 体積基準粒度分布曲線は、 レーザ回折'散乱法によ り蛍光物質の粒度分布を測定し得られる。 具体的には、 気温 2 5 °C、 湿度 7 0 % の環境下において、 濃度が 0 . 0 5 %であるへキサメタリン酸ナトリゥム水溶液 に蛍光物質を分散させ、 レーザ回折式粒度分布測定装置 (SALD- 2000 A) により、 粒径範囲 0. 03 / ir！〜 700 //mにて測定し得られたものである。 本発明において、 蛍光物質の中心粒径とは、 前記体積基準粒度分布曲線におい て積算値が 50 vol%のときの粒径値であり、 1 5 μ n！〜 50 μ mの範囲である ことが好ましい。 また、 この中心粒径値を有する蛍光物質が頻度高く含有されて いることが好ましく、 頻度値は 20 %〜 50 %が好ましい。 このように粒径のバ ラツキが小さい蛍光物質を用いることにより、 色ムラが抑制され良好なコントラ ストを有する発光ダイォードが得られる。
すなわち、 大粒径蛍光物質 8 1はそれより粒径が小さい蛍光物質に比較して発 光ダイオードの色むらを生じやすい傾向があるが、 大粒径蛍光物質 8 1において 粒径のバラツキを小さくすると、 バラツキの大きいものに比較して色ムラは改善 される。
本発明の発光ダイオードにおいては、 蛍光物質として、 窒化物系半導体を発光 層とする半導体 LEDチップから発光された光を励起させて発光できるセリウム で付活されたィットリウム ·アルミニウム酸ィヒ物系蛍光物質をベースとしたもの を用いることが好ましい。
具体的なィットリウム .アルミニウム酸化物系蛍光物質としては、 YA 1 O 3 : C e、 Y3A 15012： C e (YAG： C e) や Y4A 1209 : C e、 更には これらの混合物などが挙げられる。 イットリウム 'アルミニウム酸ィ匕物系蛍光物 質に B a、 S r、 Mg、 C a、 Z nの少なくとも一種が含有されていてもよい。 また、 S iを含有させることによって、 結晶成長の反応を抑制し蛍光物質の粒子 を揃えることができる。
本明細書において、 C eで付活されたィットリウム 'アルミニウム酸化物系蛍 光物質は特に広義に解釈するものとし、 以下の蛍光物質を含むものである。
(1) イットリウム 'アルミニウム酸化物系蛍光物質において、 イットリウム の一部あるいは全体が Lu、 S c、 L a、 G d及び Smからなる群から選ばれる 少なくとも 1つの元素に置換された蛍光物質。
(2) イットリウム ·アルミニウム酸化物系蛍光物質において、 アルミニウム の一部あるいは全体が B a、 T l、 G a、 I nからなる群から選ばれる少なくと も 1つの元素に置換された蛍光物質。
(3) イットリウム ·アルミェゥム酸化物系蛍光物質において、 イットリウム の一部あるいは全体が Lu、 S c、 L a、 G d及ぴ Smからなる群から選ばれる 少なくとも 1つの元素に置換され、 アルミニウムの一部あるいは全体がアルミ二 ゥムの一部あるいは全体を B a、 T 1、 Ga、 I nからなる群から選ばれる少な くとも 1つの元素に置換された蛍光物質。
更に詳しくは、 一般式 （YzGdh) 3A 15012： Ce (但し、 0く Z≤l) で示されるフォトルミネッセンス蛍光体や一般式 （Rei_a Sma) 3Re '5 O 12： C e (但し、 O aく 1、 0≤b≤ 1, Reは、 Y、 Gd、 La、 S cから 選択される少なくとも一種、 Re' は、 A l、 Ga、 I nから選択される少なく とも一種である。 ） で示されるフォトルミネッセンス蛍光体である。
この蛍光物質は、 ガーネット構造のため、 熱、 光及び水分に強く、 励起スぺク トルのピークを 450 nm付近にさせることができ、 発光ピークも、 580nra 付近にあり 70◦ nmまですそを引くブロードな発光スぺク トルを持つ。
またフォトルミネセンス蛍光体は、 結晶中に Gd (ガドリニウム） を含有する ことにより、 46 Onm以上の長波長域の励起発光効率を高くすることができる。 G dの含有量の増加により、 発光ピーク波長が長波長に移動し全体の発光波長も 長波長側にシフトする。 すなわち、 赤みの強い発光色が必要な場合、 Gdの置換 量を多くすることで達成できる。 一方、 Gdが増加すると共に、 青色光によるフ オトルミネセンスの発光輝度は低下する傾向にある。 さらに、 所望に応じて Ce に加え Tb、 Cu、 A 、 Au、 Fe、 C r、 Nd、 Dy、 Co、 N i、 T i、 E uらを含有させることもできる。
しかも、 ガーネット構造を持ったィットリウム■アルミェゥム ·ガーネット系 蛍光体の組成のうち、 A 1の一部を G aで置換することで発光波長が短波長側に シフトする。 また、 組成の Yの一部を G dで置換することで、 発光波長が長波長 側にシフトする。
Yの一部を Gdで置換する場合、 Gdへの置換を 1割未満にし、 且つ Ceの含 有 （置換） を 0. 03から1. 0にすることが好ましい。 Gdへの置換が 2割未 満では緑色成分が大きく赤色成分が少なくなるが、 C eの含有量を増やすことで 赤色成分を捕え、 輝度を低下させることなく所望の色調を得ることができる。 こ のような組成にすると温度特性が良好となり、 発光ダイォードの信頼性を向上さ せることができる。 また、 赤色成分を多く有するように調整されたフォトルミネ センス蛍光体を使用すると、 ピンク等の中間色を発光することが可能な発光ダイ ォードを製作することができる。
このようなフォトルミネセンス蛍光体は以下のようにして作製することができ る。 まず、 Y、 G d、 A l、 及び C eの原料として酸化物、 又は高温で容易に酸 化物になる化合物を使用し、 それらを化学量論比で十分に混合して原料を得る。 又は、 Y、 G d、 C eの希土類元素を化学量論比で酸に溶解した溶解液を蓚酸で 共沈したものを焼成して得られる共沈酸化物と、 酸化アルミニウムとを混合して 混合原料を得る。 これにフラックスとしてフッ化バリゥムゃフッ化アンモ-ゥム 等のフッ化物を適量混合して坩堝に詰め、 空気中 1 3 5 0〜1 4 5 0 ° Cの温 度範囲で 2〜 5時間焼成して焼成品を得、 つぎに焼成品を水中でボールミルして、 洗浄、 分離、 乾燥、 最後に篩を通すことで得ることができる。
本願発明の発光ダイォードにおいて、 このようなフォトルミネセンス蛍光体は、 2種類以上のセリゥムで付活されたィットリウム ·アルミユウム■ガーネット系 蛍光体や他の蛍光体を混合させてもよい。
Yから G dへの置換量が異なる 2種類のィットリウム 'アルミニウム ·ガーネ ット系蛍光体を混合することにより、 容易に所望とする色調の光を容易に実現す ることができる。 特に、 前記置換量の多い蛍光物質を上記大粒径蛍光物質とし、 前記置換量の少なく又はゼロである蛍光物質を上記中粒径蛍光物質とすると、 演 色性および輝度の向上を同時に実現することができる。
く透光性樹脂〉
透光性樹脂 8は、 6 5重量％以上力 S脂環式エポキシ樹脂から成るエポキシ樹脂 に、 エポキシ当量に対して 0 . 0 0 5〜1 . 5モルの酸無水物又はジカルボン酸 を反応させて架橋オリゴマーとし、 その架橋オリゴマーに少量のカチオン硬化剤 (エポキシ当量について 0 . 0 0 0 0 5〜0 . 0 0 3モル、 好ましくは 0 . 0 0 0 1 ~ 0 . 0 1モル） を混合した溶液を、 窒化物半導体 L E Dチップ 5を収納し た収納部 1 aの内部に塗布した後、 加熱硬化することにより形成されている。 このようにして形成された透光性樹脂 8は、 青色光を吸収するカチォン硬化剤 の含有量が従来の 1 / 1 0から 1 / 1 0 0の量であるため、 樹脂の黄変は殆ど問 題とならない。 したがって、 青色発光可能な窒化物半導体 L E Dチップ 5の発光 及び蛍光物質により波長変換された光を、 高効率に外部に出力することができる。 また、 透光性樹脂 8は、 比較的高い可撓性を有するため、 透光性樹脂 8と L E D チップ 5との熱膨張係数の相違によって生ずる応力を緩和して、 窒化物半導体 L E Dチップ 5へのクラック発生や、 ワイヤ 7の切断といった不良を防止すること ができる。
以下、 透光性樹脂 8に用いたエポキシ樹脂組成物の組成について詳細に説明す る。
透光性樹脂 8を構成するエポキシ樹脂組成物は、 脂環式エポキシ樹脂を主成分 とするエポキシ樹脂と、 酸無水物又はジカルボン酸と、 カチオン硬化剤とを必須 成分としており、 さらに、 必要に応じて多価アルコール又はその重縮合体から成 る助触媒等を含んでいても良い。 各成分の詳細は次の通りである。
(エポキシ樹脂）
透光性樹脂 8は高い透光性を維持する必要があるため、 本件発明に用いるェポ キシ樹脂は、 脂環式エポキシ樹脂が全エポキシ樹脂成分 （=硬化剤等を除いたェ ポキシ樹脂のみの全量） 中の 6 5重量％以上、 好ましくは 9 0重量％以上を占め るようにし、 着色成分となる芳香族成分、 特にフエノール誘導体の含有量を極力 減らす。 脂環式エポキシ樹脂は、 シクロへキセンエポキシ化物誘導体、 水素化ビ スフエノール Aジグリシジルエーテル、 へキサヒ ドロフタル酸ジグリシジルエス テル等を単独又は 2種以上を混合し使用することができる。 特に、 3 , 4ェポキ シシクロへキシルメチルー 3 ' ， A ' エポキシシクロへキシルカルポキシレート に代表されるシクロへキセンエポキシ化物誘導体を主体に、 へキサヒドロフタノレ 酸ジグリシジルエステルや、 水素化ビスフエノ一ノレ Aジグリシジルエーテルなど のシクロへキサン誘導体とェピクロルヒドリンよりなるエポキシ樹脂を必要に応 じて混合することが好ましい。 また、 ビスフエノー Λ^Αジグリシジエーテルより なる液状又は固形のエポキシ樹脂なども必要に応じ混合することができる。
(酸無水物又はジカルボン酸） 酸無水物又はジカルボン酸には、 以下の一般式 ( 1 ) で示される酸無水物又は -般式 （2 ) で示されるジカルボン酸を用いることができる。
Figure imgf000026_0001
HOOC R2—— COOH (2)
式中、 R ,は炭素数 0〜： L 2の環式若しくは脂肪族アルキル又はァリ一ルを示 し、 R 2は炭素数 0〜1 2のアルキル又はァリールを示す。 酸無水物として、 例 えば、 プロピオン酸無水物、 無水コハク酸、 1， 2—シクロへキサンジカノレポン 酸無水物、 3—メチル一1 , 2シクロへキサンジカルボン酸無水物、 4 _メチル —1 , 2シクロへキサンジカルボン酸無水物、 無水フタル酸、 4 , 4， ービ無水 フタル酸、 へキサヒドロ無水フタル酸、 メチルへキサヒドロ無水フタル酸、 トリ アルキルテトラヒドロ無水フタル酸、 水素化メチルナジック酸無水物などを用い ることができる。 また、 ジカルボン酸として、 例えば、 4， 4， ービフエニルジ カノレポン酸、 2 , 2， ービフエ-ルジカノレボン酸、 シユウ酸、 コハク酸、 アジピ ン酸、 1， 6—へキサンジカルボン酸、 1 , 2—シクロへキサンジカルボン酸、 1 , 3ーシク口へキサンジカルボン酸、 1 , 4ーシク口へキサンジカルボン酸、 o—フタル酸、 m—フタル酸、 p—フタル酸などを用いることができる。
エポキシ樹脂に酸無水物又はジカルボン酸を混合して架橋ォリゴマーを形成し た後に、 架橋オリゴマーにカチオン硬化剤を混合して硬化させる場合、 エポキシ 当量に対して酸無水物又はジカルボン酸を 0 . 0 0 5〜0 . 5モルの割合で、 好 ましくは 0 . 0 1〜0 . 2モルの割合で混合することが好ましレ、。 一方、 ェポキ シ樹脂に酸無水物又はジカルボン酸とカチオン硬化剤とを同時に混合して硬化さ せる場合、 エポキシ当量に対して酸無水物又はジカルボン酸を 0 . 0 0 5〜 1 . 5モルの割合で、 好ましくは 0 . 1〜0 . 8モルの割合で混合することが好まし い。 (カチオン硬化剤）
カチオン硬化剤には、 芳香族スルホニゥム塩、 芳香族ジァゾ二ゥム、 芳香族ョ 一ドエゥム塩、 芳香族セレエゥム等を用いることができる。 芳香族スルホニゥム 塩は、 熱及び/又は 3 6 0 n m以下の紫外光により分解しカチオンを発生する。 例えば、 トリフエニルスルホニゥム六フッ化アンチモン塩、 トリフエニルスルホ 二ゥム六フッ化りん塩などである。 特にトリフエニルスルホェゥム六フッ化アン チモン塩は硬化速度が速く少量配合でも十分硬化する。 カチオン硬化剤は、 ェポ キシ当量に対して 0 . 0 0 0 0 5〜0 . 0 0 3モル、 好ましくは 0 . 0 0 0 1〜 0 . 0 1モル、 より好ましくは 0 . 0 0 0 2〜0 . 0 0 5モル用いることが好ま しい。
(助触媒）
助触媒として用いる多価アルコールとして、 例えば、 エチレングリコール、 ジ エチレングリコーノレ、 トリメチレングリコーノレ、 トリエチレングリコーノレ、 プロ ピレングリコーノレ、 1 , 4一ブタンジォーノレ、 1 , 6—へキサンジオール等を用 いることができる。 また、 これら多価アルコールのうちの 1種又は 2種以上を縮 合重合した重縮合体を用いることもできる。 多価アルコール又はこれらの重縮合 体は、 酸無水物又はジカルボン酸に対して 0 . 1〜5 . 0当量、 好ましくは 0 .
2〜3 . 0当量用いることが望ましい。
尚、 透光性樹脂 8に用いるエポキシ樹脂組成物は、 上記各組成以外の成分を含 有していても構わない。 例えば、 透光性樹脂 8に、 フィラー 1 0を含有させても 良い。 また、 フィラーの他に、 拡散剤、 着色剤等の種々の機能粒子を含有させる こともできる。
次に、 透光性樹脂 8の形成方法の詳細について説明する。
透光性樹脂 8の形成には、 （i) エポキシ樹脂に酸無水物等とカチオン硬化剤 とを同時に混合した溶液を塗布 '硬化する方法と、 （ii) エポキシ樹脂に酸無水 物等を反応させて架橋オリゴマーとした後、 その架橋オリゴマーにカチオン硬化 剤を混合した溶液を塗布 '硬化する方法とがある。 例えば、 透光性樹脂 8を 5 0 0 μ m以下に形成する場合は、 （ii) の方法が好ましい。 （ii) の方法を採用す ることにより、 透光性樹脂 8を薄 、膜状に塗布して硬化する際の酸無水物等の揮 発を防止することができ、 また、 塗布する溶液の粘度調整が容易でポットライフ も長くなるため作業性が良好となる。
以下、 （ii) の方法について詳細に説明する。
まず、 適当な反応容器中で、 6 5重量％以上が脂環式エポキシ樹脂から成るェ ポキシ樹脂に、 エポキシ当量に対して 0 . 0 0 5〜0 . 5モル、 好ましくは 0 .
0 1〜0 . 2 0モルの酸無水物又はジカルボン酸を反応させて架橋オリゴマーと する。 助触媒として多価アルコール又はその重縮合体を使用する場合は、 酸無水 物又はジカルボン酸と同時にエポキシ樹脂に混合する。 エポキシ樹脂と酸無水物 又はジカルボン酸との反応は、 酸ィ匕などの副反応が起きにくい室温で行うこと力 S 好ましい。 酸無水物の場合の反応時間は約 1〜 3 6 0時間、 ジカルボン酸の場合 の反応時間は約 1〜1 8 0時間である。 酸無水物の開環反応を促進して反応時間 を短縮するため、 5 0〜1 5 0 °C (好ましくは 6 0〜1 2 0 °C) に加熱しても良 レ、。
次に、 得られた架橋オリゴマーにエポキシ当量に対して 0 . 0 0 0 0 5〜0 . 0 3モル、 好ましくは 0 . 0 0 0 1〜0 . 0 1モルのカチオン硬化剤を混合した 溶液を調整する。 そして混合溶液を、 窒化物半導体 L E Dチップ 5を収納した収 納部 1 aの内部に充填した後、 加熱により硬化して透光性樹脂 8が形成される。 混合溶液は、 8 0〜； L 0 0 °Cで 2〜 4時間加熱して 1次硬化させ、 1 4 0〜 1 5 0 °Cで 2〜 4時間加熱して 27火硬化させることが好ましレ、。
尚、 より具体的な製造方法は後述する。
以上のようにして最終的に得られるエポキシ樹脂組成物の可撓性は、 中間で得 られた架橋オリゴマーの分子量に比例する。 即ち、 酸無水物又はジカルボン酸の カルボキシル基のうち、 エポキシ樹脂又は助触媒と反応してエステルに転化する ものの割合が高い程、 得られるエポキシ樹脂組成物の可撓性が良好となる。 また、 架橋ォリゴマーとカチオン硬化剤の混合液の粘度は、 架橋ォリゴマーの分子量に 依存するため、 酸無水物等の添加量やエステル転化率を調節することによって自 由に粘度を調節することができる。
く実施の形態 1の製造方法 >
次に、 本実施の形態 1の発光ダイォードの製造方法について説明する。 本製造方法は、 実施の形態 1の表面実装型の発光ダイォードを安定した品質で 力つ量産性良く製造する方法である。
本製造方法において、 透光性樹脂で L E Dチップ 5を覆う工程までは、 複数の パッケージを一括して処理するために、 複数のパッケージが集合してなるパッケ ージアッセンプリが用いられる。 このパッケージアッセンプリは、 各パッケージ の収納部 1 aに対応する複数貫通孔 1 0 1 aが形成された絶縁性基板 1 0 1と金 属ベース板 1 0 2とが接合されて作製されている。
ここで、 絶縁性基板 1 0 1は、 例えば厚さが 0 . 0 6 mm〜 2 . 0 mmの樹脂 積層品等からなり、 厚さ方向に貫通する複数の貫通孔 1◦ 1 aが形成されている。 貫通孔 1 0 1 aの横断面形状は楕円であってもよいし、 円形又は方形でもよい。 すなわち、 本発明は貫通孔 1 0 1 aの横断面形状によって限定されるものではな く、 種々の形状の中から任意に選定することができる。 また、 貫通孔 1 0 l aに おいては、 貫通孔 1 0 1 aの開口径が絶縁基板の一方の面 （金属薄板と接合され る面） 力 ら他方の面に向かって大きくなるように貫通孔の側面を傾斜させること が好ましい。 このように貫通孔 1 0 1 aの側面を傾斜させると、 L E Dチップか ら貫通孔の側面に向かって出射された光を側面で反射させて上方に出力すること ができるので、 L E Dチップ 5から出射された光を効率良く発光ダイォードから 取り出すことができる。
また、 金属ベース板 1 0 2は個々のパッケージごとに切断されたときに、 各パ ッケージにおいて金属薄板 2 aと金属薄板 2 bとが絶縁性樹脂 4により電気的に 分離されるように、 各貫通孔にそれぞれ対応して分離溝が形成されてその分離溝 の中に絶縁性樹脂 4が充填されている。
各パッケージ部分において、 貫通孔 1 0 1 a内で金属薄板 2 aの一部、 絶縁性 樹月旨 4、 及び金属薄板 2 bの一部が露出されている。
さらに、 パッケージアッセンプリにおいてはさらに、 後述のマスク 1 1 2の 1 つの開口部 1 1 3に対して複数のパッケージがグノレープ化されて配置されている。 く L E Dチップの実装〉
上述のように構成されたパッケージアッセンプリの各貫通孔 （収納部） の所定 の位置にダイボンド榭脂を用いて L E Dチップ 5をダイボンディングして、 ワイ ヤーボンディングにより所定の配線をする （図 5 ) 。
各貫通孔の内側には金属薄板 2 aと金属薄板 2 bが露出され、 L E Dチップ 5 は負電極である金属薄板 2 b上に接着され、 その L E Dチップ 5の p側電極 5 a 及び n側電極 5 bはそれぞれ、 ワイヤ 7によつて金属薄板 2 a及び金属薄板 2 b に接続される。
<第 1の工程：孔版印刷 >
次に、 封止部材である透光性樹脂 （本発明のエポキシ樹脂組成物） 8は、 チヤ ンバー内にて孔版印刷により塗布される。 図 3 Aは本実施の形態 1に係る製造方 法の孔版印刷に用いられるマスク 1 1 2の平面図である。 マスク 1 1 2には、 図 3 Aに示すように、 複数の開口部 1 1 3が形成されており、 各開口部 1 1 3の位 置及び大きさは、 1つの開口部 1 1 3に対して、 1つのグループにまとめられた 複数のパッケージが対応するようにが設定される （図 3 B ) 。 このように本発明 で用いられるマスクは、 各貫通孔内だけに透光性樹脂を設けるのではなく、 周囲 の絶縁性基板 1 0 1上にも樹脂層が形成されるように設計されている。 本実施の 形態の製造方法では、 このようなマスク 1 1 2を用いて孔版印刷を行うことで、 絶縁基板の貫通孔 1 0 1 a内及び絶縁性基板 1 0 1上に硬化後も表面が平滑面と なるように透光性樹脂を形成することができる。
すなわち、 本製造方法では、 図 5に示すように開口部 1 1 3の周辺部分の透光 性樹脂を平坦に形成するのが難しい部分を除いて、 グルーピングされた複数のパ ッケージを配置して、 複数のパッケージが配置された部分に透光性樹脂を一定の 厚さでかつ表面が平坦になるように形成することにより、 パッケージ間における 透光性樹脂層の厚さのバラツキを抑えかつ各パッケージの透光性樹脂の表面の平 坦化を図っている。
このように、 複数の発光ダイォードに対して一度に透光性樹脂を形成した後、 図 5に示す点線の部分で切断して分離して個々の発光ダイォードとしている。 こ れにより、 均一な膜厚を有する発光ダイォードを発光ダイォード間にサイズや色 バラツキが生じないように歩留まり良く形成することができる。 また、 マスクの 板厚を調整することで前記絶縁性基板上に形成する透光性樹脂の膜厚を任意に変 更することができる。 次に、 各開口部 1 1 3において、 複数のパッケージが配置された部分に透光性 樹月旨を一定の厚さで力つ表面が平坦になるように形成する方法の一例を具体的に 説明する。 まず、 貫通孔 1 O l aをマスク 1 1 2側に向けたパッケージアッセンプリ 1 0
0を昇降ステージ 1 1 7上に吸引して （図 4 A) 、 ステージ 1 1 7を上昇させて パッケージアッセンプリ 1 0 0とマスク 1 1 2とを位置合わせして、 マスク 1 1 2の下面に接触させる （図 4 B ) 。 これによりパッケージアッセンプリの反りを 矯正した状態でパッケージアッセンプリ 1 0 0をマスク 1 1 2に接触させること ができる。 このように、 パッケージアッセンプリ 1 0 0の反りを矯正することに より、 パッケージアッセンプリ 1 0 0上の一面に均一な膜厚の透光性樹脂を形成 することが可能になる。 すなわち、 パッケージ基板に反ったまま封止部材を形成 すると、 形成された個々の発光ダイォード間に厚さのバラツキが生じ歩留まりが 悪化する。
蛍光物質を含有させた透光†生樹脂は、 図 4 Aに示すように、 大気圧下でマスク
1 1 2の開口部外の端に配置させる。 この状態で減圧して脱泡を行う。 減圧は 1 0 0 P a〜4 0 0 P aの範囲に設定することが好ましく、 この範囲であると樹月旨 内部に含まれる気泡を効果的に取り出すことができる。 上述のパッケージァッセ ンプリ 1 0 0とマスク 1 1 2を用いた本実施の形態では、 透光性樹脂として比較 的高い粘度のものを用いることができる。
本実施の形態 1のように、 蛍光物質を透光性樹脂に含有させて使用する場合、 特に大きい粒径を有する蛍光物質は液状の樹脂中での沈降速度が速いため、 分散 均一性を保持する上である程度の粘度を有する樹脂を用いることが好ましい。 しかしながら、 粘度が高い樹脂ほど脱泡が困難となり製造歩留まりが低下するお それがある。 そこで本発明では、 まず孔版印刷を行う前工程として一度減圧を行 つて脱泡し、 その後カロ圧及び減圧を繰り返しながら孔版印刷を行うという方法を 採用することにより、 製造歩留まりを低下させることなく高い粘度の透光性樹脂 を用いることを可能としている。 これにより、 大きい粒径の蛍光物質を用いた場 合に生じやすい色バラツキを改善することを目的として、 高い粘度の樹脂の使用 が可能になる。 また、 高い粘度の樹脂の使用した場合でも、 歩留まり良く発光ダ ィォードを製造することができる。
透光性樹脂中に気泡が混合されたまま封止されると、 気泡が L E Dチップから の光や蛍光物質の発光を反射屈折させるため、 色ムラや輝度ムラが顕著に観測さ れる。 そのため蛍光物質を含有した透光性樹脂を形成する際、 本実施の形態のよ うに減圧及び加圧を繰り返すことは極めて効果的であり、 色ムラや輝度ムラを抑 える賢著な効果がある。 また、 透光性樹脂中に気泡が含まれると、 それが原因と なつて透光性樹脂の剥離やワイヤの接着部分の剥離、 ヮィャ切れ等が生じる場合 があり、 信頼性が低下してしまう。 したがって、 本方法により気泡を防止するこ とは信頼性を向上させる上でも極めて有効である。
<ステップ 2 >
次に減圧下において、 1往復目の往スキージ走査が行われる （図 4 C) 。 この 際に用いられる往スキージ用ヘラ 1 1 4は、 図 4 Cに示すように、 マスク 1 1 2 の垂直ラインに対して動作方向に傾いており、 エアー圧によりヘラ 1 1 4をマス ク 1 1 2に押し当てて動作させ樹脂 8をマスク 1 1 2の開口部 1 1 3に流し込む。 往スキージ走査は減圧下で行われるため昇降ステージ 1 1 7の吸引作用は意味を なさないが、 物理的に昇降ステージ 1 1 7をマスク 1 1 2に押し当てているため パッケージアッセンプリ l o oとマスク 1 1 2とのズレは生じない。
<ステップ 3 >
次に大気圧まで加圧し、 カロ圧完了後、 1往復目の復スキージ走査が往スキージ 走査と逆方向に行われる （図 4 D) 。 復スキージ用ヘラ 1 1 5は、 マスク 1 1 2 の垂直ラインに対して動作方向に往スキージ用ヘラ 1 1 4よりも大きく傾け且つ 往スキージ走査のときよりも強いエアー圧により作動させる。 このように、 強い 圧力により復スキージ用ヘラ 1 1 5とマスク 1 1 2との接触面積を大きくして再 び透光性樹脂を充填させることにより、 開口部 1 1 3内に充填された樹脂の表面 に現れた気泡を効率よく除くことができ封止部材の表面を平滑な面に仕上げるこ とができる。 と同様にして、 減圧及び加圧を繰り返して脱泡させ ながら往復スキージを数回行い、 開口部 1 1 3内に均一な膜厚で樹脂を充填させ る。
くステップ 5 >
この状態 （マスク 1 1 2をパッケージアッセンプリ 1 0 0に接触させた状態） で透光性樹脂を硬ィ匕して、 硬化した後にマスクを除去することによって L E Dチ ップが配置された貫通孔内及び絶縁性基板上面に一体成形された透光性樹脂の上 面をパッケージ底面とほぼ平行で且つ平滑な面にすることができる。
このような孔版印刷による封止樹脂形成方法を用いることにより、 硬化前でも 比較的高い粘度の透光性樹脂を用いることが可能になる。 そのため、 粘度の低い 樹脂を用いた場合のように、 樹脂中を蛍光物質が自由に沈降あるいは浮遊するこ とはない。 そのため、 蛍光物質の混合状態を比較的良好に維持することができる。 また、 成形時において、 透光性樹脂が溶融して液体として存在する時間は数分か ら数十秒と、 ポッティング方法により貫通孔内に流し込んで熱硬化形成する数時 間と比較して極めて短くできる。 さらに、 固化までの時間も極めて短くできるの で、 L E Dチップ上に蛍光物質が重なり合つて沈降するような状態を回避するこ とができる。
すなわち、 本実施の形態 1の製造方法によれば、 粘度の高い透光性樹脂を用い ることができるので、 透光性樹脂に蛍光物質を含有させてから、 基板上に充填さ せるまでの間における樹脂と蛍光物質との分離を防止できる。 これにより、 発光 ダイオード間における蛍光物質の含有量のバラツキを抑えることができ、 同一製 造ロット内、 及び製造ロット間の、 色バラツキの少ない発光ダイオードの製造が 可能となる。 また、 製造歩留まりを向上させることができる。
また、 各貫通孔に充填されてから硬化させるまでの間に、 大粒径蛍光物質が L E Dチップの表面近傍に密に沈降することも回避でき、 各大粒径蛍光物質の光変«能を効果的に発揮させることが可能になる。 また、 小粒径蛍光物質を大粒径 蛍光物質粒子の外側の透光性樹脂中に均一に配置でき、 これにより発光ダイォー ドの色むらを防止することができる。
特に YAG： C e蛍光体を蛍光物質として含有した白色発光が可能な発光ダイ オードとした場合、 透光性樹脂に較べ蛍光物質の比重が大きく、 密に沈降する傾 向があるが、 その場合でも大粒径蛍光物質 8 1が L E Dチップ 5の表面近傍に密 に沈降すること等を回避でき、 色温度の均一な発光ダイォードを安定して製造で さる。
次に、 ダイシング工程について詳細に説明する。 上述のようにして透光性樹脂 を形成 （硬化） した後、 以下のようにダイシングして個々の発光ダイオードに分 割される。
く第 2の工程：ダイシング工程 > まず、 樹脂を硬化させた後、 パッケージアッセンプリ 1 0 0の透光性樹脂側を ダイシンダシートに接着する。 上述したように、 パッケージァッセンプリ 1 0 0 のダイシンダシートとの接着面は実質的に同一材料からなり且つ平滑な平面であ るので接着強度を強くできる。 これにより、 ダイシング時におけるチップの飛び やダイシングズレが防止でき、 歩留まり良く個々の発光ダイォードに切断するこ とができる。
これに対して、 パッケージアッセンプリの個々の貫通孔に対応した開口部を有 するマスクを用いて樹脂の充填及び硬化を行った場合、 充填された樹脂は熱収縮 して貫通孔分部で陥没してしまいダイシングシートと接する面は貫通孔上を除く 絶縁性基板上面のみとなり密着性が低下する。 また、 個々の貫通孔に対応した開 口部を有するマスクマスクを用いて樹脂量を多めに充填して硬化させると、 ダイ シングされる部分である絶縁性基板上面よりも樹脂の上面が高くなり、 ダイシン ダシートとの接着面が樹脂上面のみとなり、 この場合もパッケージァッセンブリ とダイシンダシートとの接着強度が極端に弱くなりダイシングズレが生じる。 こ のようにパッケージアッセンブリとダイシンダシートとの固定が不安定なままダ イシングを行うと、 チップの飛びやダイシングズレが生じる。 また、 得られた発 光ダイオードの切り口にはバリが生じる等の不都合もある。 バリは後工程の実装 過程等で割れる恐れがあり、 前記バリ部分が深く割れてしまうと、 外部から封止 部材内に湿気が混入され、 発光ダイォードの信頼性が低下したり内部の金属部分 が酸化されて変色してしまうなどの不良の原因となる。
<ステップ 2 > ステップ 1にて密着性良くダイシングシートに固定されたパッケージアッセン ブリを、 パッケージァッセンブリ底面側からダイシングブレードにより個々に切 断する （図 5の破線に沿って切断する） 。 ダイシンダブレートとはポンドを中心 として周囲に粒径の小さいダイヤモンドの粒体を集結させてなるものである。 こ のような構成のダイャモンドブレードは、 ノ ッケージァッセンプリをダイシング する際に粒体の間に発光ダイォードの切りくずの一部である金属の破片が目詰ま りしやすい。 そこで第 1の工程において、 封止部材である透光性樹脂中に堅いフ イラ一を含有させると、 目詰まりした金属が前記フイラ一により搔き出されて、 ダイシングェ程を良好に行うことができるので好ましい。 特に粒径が大きいフィ ラーを用いると、 上述の作用効果が大きくなる。 本実施の形態 1では、 粒径が大 きい大粒径蛍光物質をフィラーとして用い、 かつその大粒径蛍光物質は高い硬度 を有するため、 上述の作用効果が大きくなる。
以上ような製造方法で作製された発光ダイォードでは、 透光性樹脂が絶縁基板 の上面と絶縁基板の貫通孔内とに一体的に成形されており、 透光性樹脂の上面が パッケージ底面とほぼ平行であり、 且つ透光性樹脂の外周側面は前記パッケージ の外周側面とほぼ同一面上にある。 このように発光ダイォードの上面を全て透光 性樹脂を形成することで発光面を広くでき出力を向上させることができる。 また、 絶縁基板上の透光性樹脂により、 L E Dチップからの光が外部により拡散され良 好な指向特性を有する発光ダイオードが得られる。 また、 前記絶縁基板上の透光 性樹脂にフィラーが含有されている場合、 そのフィラーによりさらにその作用が 増大され好ましい発光特性を有する発光ダイォードカ S得られる。
以上詳細に説明したように、 本発明に係る実施の形態の発光ダイオードは、 そ れぞれの粒径分布領域がかけ離れた小粒径蛍光物質及び大粒径蛍光物質とを有す るように分級された蛍光物質を用い、 それらの作用が最大限に活用できるように 配置させることにより、 光度及び発光出力を向上させることができる。 小粒径蛍 光物質は、 全蛍光物質の 0 . 0 l vol%〜： L O vol%の範囲で透光性樹脂中に分散 された状態で硬化されることにより、 良好に光を散乱することができ均一な発光 が得られる。 また大粒径蛍光物質は、 高い発光効率を十分に発揮できる状態で L E Dチップの周辺に配置させることが可能な粒径範囲に調整されることにより、 本来の作用である波長変換作用を十分に発揮することができる。 また、 本実施の 形態で用いられた大粒径蛍光物質は広い励起波長を有するので、 電流による LE Dチップの波長シフトゃパッケージ小型化による色度の低下等にも対応すること ができ、 信頼性及び量産性の優れた発光ダイォードを形成することができる。 また、 本実施の形態の発光ダイォードの製造方法によって、 発光特性が安定し た発光ダイオードを量産性良く製造することができる。 また、 量産工程が長時間 に及ぶ場合においても、 最初に製造されたた発光ダイオードと、 後に製造された 発光ダイオード間の発光ばらつきが極めて小さくできる。 さらに、 発光ダイォー ド内における発光ムラを低減させることができるため歩留りを向上させることが できる。
本実施の形態 1で説明した本発明に係る透光性樹脂は、 エポキシ樹脂と酸無水 物又はジカルボン酸との架橋オリゴマーをカチオン硬化剤で硬化させたため、 黄 変が少なく、 かつ可撓性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することができる。 また、 本発明により得られたエポキシ樹脂組成物は、 エポキシ樹脂に対する酸無 水物又はジカルボン酸の添加量又はそれらのエステル転化率を調整することで自 由に粘度調節ができ、 ポットライフも長いため、 作業性にも優れている。 実施の形態 2.
図 6は、 本発明に係る実施の形態 2の SMD型発光ダイォードの模式的断面図 である。 本実施の形態 2の発光ダイォードは、 サフアイャ基板上に G a dA 1 α_ dN (0≤d≤ 1) からなるバッファ一層を介して窒化物半導体 （A l xGay I ηζΝ、 0≤ χ≤ 1 0≤y≤l^ 0≤ ζ≤ 1 Ν χ + y + ζ = 1) からなる ρ η 接合が形成されている LEDチップ 5を一対のリード電極 12 a, 12 bを有す るガラスエポキシ基板 12上に配置させたものである。 LEDチップ 5は少なく とも窒化物半導体層からなる発光層を有している。 この LEDチップ 5の一方の 面側に設けられた正負の各電極は、 一対のリ一ド電極 12 a, 12 bとそれぞれ 導電性ワイヤー 7にて電気的に接続されている。
そして、 実施の形態 2の発光ダイオードでは、 透光性樹脂 18中に実施の形態 1と同様の蛍光物質を分散させている。 すなわち、 透光性樹脂 18中に分散された蛍光物質は、 大粒径蛍光物質 81と 小粒径蛍光物質 82とからなり、 発光ダイォードにおいて全ての大粒径蛍光物質 81に波長変換作用を最大限に発揮させ、 発光ダイォードの出力向上を図るとと もに、 小粒径蛍光物質 82により色むらを防止したものである。
本実施の形態の発光ダイオードにおいて、 透光性樹脂 18は実施の形態 1で説 明したエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
し力 しな;^ら、 実施の形態 2では、 パッケージの中に樹脂を充填するものでは なく、 基板上に榭脂をモールドするものであるため、 その製造方法に適する他の エポキシ樹脂やガラス、 シリコーン樹脂、 アクリル樹脂等を用いることもできる。 実施の形態 3.
本発明に係る実施の形態 3の発光ダイオードは、 例えば、 図 1又は図 6の構造 において、 400 nm付近の短波長域を主樂光ピークとする紫外線が発光可能な LEDチップを用いて構成した発光ダイォードである。 紫外線が発光可能な LE Dチップは、 窒化物半導体系の半導体層をサフアイャ基板上に成長させることに より容易に構成することができる。
この本実施の形態 3の発光ダイオードでは、 透光性樹脂として比較的紫外線に 強い樹脂ゃガラス等を使用し、 蛍光物質は実施の形態 1で説明した粒度分布を有 する蛍光物質を用いる。
蛍光物質の材料にとしては、 紫外域の短波長の光により励起されて赤色光を発 光する、 Y202S ： Eu蛍光体、 紫外域の短波長の光により励起されて青色光 を発光する、 S r5 (P04) 3C 1 ： Eu、 紫外域の短波長の光により励起され て緑色光を発光する、 （S r Eu) O■ A 1203を用いることができる。
また、 赤色蛍光体、 青色蛍光体及び緑色蛍光体を混合して LED素子の表面に 色変換層として分布させることにより、 白色光を出力する白色発光ダイォードを 作製することができる。
上記蛍光物質の他、 赤色蛍光体として 3. 5MgO - 0. 5MgF2 · GeO 2： Mn、 Mg 6A s
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： Mn、 Gd202： Eu、 L a 02 S ： Eu、 青色蛍 光体として Re 5 (P04) 3C 1 ： Eu (ただし Reは S r、 C a、 B a、 Mg から選択される少なくとも一種） 、 B a M g 2 A 1 1 60 2 7： E u等を好適に用い ることができる。 これらの蛍光物質を用いることにより高輝度に発光可能な白色 発光ダイオードを得ることができる。
本実施の形態 3の発光ダイオードにおいて、 蛍光物質は、 実施の形態 1と同様 の大粒径蛍光物質 8 1と小粒径蛍光物質 8 2とからなるので、 紫外光を効率よく 変換することができる色変換層が形成され、 高輝度の発光ダイオードが得られる。 特に、 複数の種類の蛍光体を用いて混色発光させる場合は、 小粒径蛍光物質の散 乱作用により色ムラを効果的に抑制することができ好ましい。
これら異種の蛍光物質を混合して 1層の色変換薄膜層を形成する場合、 各蛍光 物質の中心粒径及び形状は類似していることが好ましい。 これによつて各種蛍光 物質から発光される光が良好に混色され色ムラを抑制することができる。
本実施の形態 3では、 各蛍光物質をそれぞれの別の色変換層として形成しても よい。 各蛍光物質の色変換層を多重層として配置させる場合、 それぞれの蛍光物 質の紫外光透過率を考慮して、 L E Dチップ上に赤色蛍光物質層、 緑色蛍光物質 層、 及び青色蛍光物質層と順に積層させると、 全ての層に紫外光を効率的に吸収 させることができ好ましい。 更に、 色変換多重層において下層から上層にかけて 各層中の蛍光物質の粒径が小さくなるように、 各蛍光物質の中心粒径を青色蛍光 物質 >緑色蛍光物質〉赤色蛍光物質とすると、 最上層まで良好に紫外光を透過さ せることができると共に色変換多重層において紫外光をもれなく吸収させること ができ好ましい。
そのほか、 ストライプ状、 格子状、 またはトライアングル状となるように各色 変換層を L E Dチップ上に配置させることもできる。 この際異なる蛍光体を含む 異なる層の間に間隔を設けて配置してもよく、 このようにすると混色性が良好と なる。 一方、 L E Dチップの周囲を全て覆うように色変換層を配置すると、 紫外 光が封止樹脂等の外部に吸収されることを抑制することでき好ましい。 実施の形態 4 .
本発明に係る実施の形態 4は、 発光ダイォードに適した蛍光物質の製造方法に 関するものであり、 発光色の色度ズレが防止でき、 赤味成分の減少を防止するこ とができる蛍光物質の合成法である。
蛍光物質の合成法として、 蛍光物質の各原料を化学量論的に混合し混合原料に フラックスとしてホウ酸を添加して焼成する方法が特開昭 4 8— 4 9 8 5号公報 に開示されている。 また、 特開昭 6 1 - 3 6 0 3 8号公報には各原料を化学量論 的に混合した混合原料にフラックスとしてフッ化バリゥムを添加し粒子を成長さ せることが開示されている。
し力 しながら、 粒子成長を促すため、 ホウ酸にフッ化バリウムを添加したもの をフラックスとして用いて蛍光物質を形成すると、 励起光を照射して得られる発 光色の色度にズレが生じ、 赤味成分が減少する。
そこで本実施の形態 4では、 混合原料とフッ化バリウムを含むフラックスから なる混合物を焼成する際、 前記混合物に液体を添加して焼成することにより、 蛍 光物質の色度変動を抑制したものである。 この作用は、 焼成時に液体を加えるこ とにより混合原料同士が密となり反応性が向上され、 材質が均一でかつ粒子形状 の揃った蛍光物質が得られることによるもの考えられる。 また、 焼成の際に押圧 することにより、 さらに効果を高めることができる。
また、 添加する液体量が増すほど粒子形状の揃いが良く、 色度の変動を抑制す ることができる。 液体量は混合原料に対して、 5 w t %〜 2 0 0 w t %が好まし く、 より好ましくは、 1 O w t %〜7 O w t %、 さらに好ましくは 5 O w t %〜 7 0 w t %である。 また、 蛍光物質の原料として、 付活剤として働く C eに加え F eを含有させると、 上記効果が高まる。
また、 本実施の形態 4の蛍光物質の製造方法では、 蛍光物質の原料を混合した 混合原料とフラックスからなる混合物を、 大気中又は弱還元雰囲気中にて行う第 —焼成工程と、 還元雰囲気中にて行う第二焼成工程とからなる、 二段階で焼成す ることが好ましい。
ここで、 本発明において、 弱還元雰囲気とは、 混合原料から所望の蛍光物質を 形成する反応過程において必要な酸素量は少なくとも含むように設定された弱い 還元雰囲気のことをいい、 この弱還元雰囲気中において所望とする蛍光物質の構 造形成が完了するまで第一焼成工程を行うことにより、 蛍光物質の黒変を防止し 力 光の吸収効率の劣化を防止できる。 また、 第二焼成工程における還元雰囲気 中は、 弱還元雰囲気より強い還元雰囲気をいう。
このように二段階で焼成すると、 励起波長の吸収効率の高い蛍光物質が得られ る。 これにより、 例えば、 発光ダイオードに適用した場合に、 所望とする色調を 得るために必要な蛍光物質量を減らすことができ、 光取り出し効率の高い発光ダ ィオードが得られる。 変形例 1 .
(透光性樹脂）
実施の形態 1では、 好ましい例として、 特定のエポキシ樹脂を用いたが、 本発 明では、 他の樹脂又はガラスと実施の形態 1で説明した蛍光物質を混合して用い て発光ダイォードを構成することもできる。
その際、 透光性樹脂として適した具体的材料としては、 他の種類のエポキシ榭 脂 （含窒素エポキシ榭脂など） 、 アクリル樹脂、 シリコーンなどの耐候性に優れ た透明榭月旨やガラスなどが挙げられる。 これらの樹脂等に大粒径蛍光物質及び小 粒径蛍光物質からなる蛍光物質が含有させても高出力の発光ダイォードを構成で きる。 また、 前記蛍光物質と共に顔料を透光性樹脂に含有させても良い。
また、 透光性樹脂の耐候性を高めるために透光性樹脂に紫外線吸収剤を添加し てもよいし、 さらに、 透光性樹脂に酸化防止剤や有機カルボン酸亜鉛、 酸無水物、 亜鉛キレート化合物などを添加してもよレ、。 。 変形例 2 .
(拡散剤）
更に、 本発明において、 透光性樹脂中に蛍光物質に加えて拡散剤を含有させて も良い。 具体的な拡散剤としては、 チタン酸バリウム、 酸化チタン、 酸化アルミ 二ゥム、 酸化珪素、 炭酸カルシウム等が好適に用いられる。 また、 メラミン樹脂、
C T Uグァナミン樹脂、 ベンゾグアナミン樹脂などの有機拡散剤を用いることも できる。
このようにすると良好な指向特性を有する発光ダイォードを構成できる。
ここで本明細書において拡散剤とは、 中心粒径が 1 n m以上 5 μ m未満のもの をいう。 1 μ m以上 5 β m未満の拡散剤は、 L E Dチップ及ぴ蛍光物質からの光 を良好に乱反射させ、 大きな粒径の蛍光物質を用いることにより生じやすい色ム ラを抑制することができ好ましい。 また、 拡散剤の使用により発光スペクトルの 半値幅を狭めることができ、 色純度の高い発光ダイォードカ S得られる。
一方、 1 n m以上 1 /z m未満の拡散剤は、 L E Dチップからの光に対する干渉 効果が低い反面、 光度を低下させることなく樹脂粘度を高めることができる。 こ れを利用すると、 ポッティング等によりパッケージの凹部内に樹脂を充填する場 合、 シリンジ内において樹脂中の蛍光物質をほぼ均一に分散させその状態を維持 することが可能となり、 比較的取り扱いが困難である粒径の大きい蛍光物質を用 いた場合でも歩留まり良く生産することが可能となる。 このように本発明におけ る拡散剤は粒径範囲により作用が異なり、 使用方法に合わせて選択若しくは組み 合わせて用いることができる。 変形例 3 .
(フイラ一）
更に、 本発明において、 透光性樹脂中に蛍光物質に加えてフィラーを含有させ ても良い。 具体的な材料は拡散剤と同様であるが、 拡散剤と中心粒径が異なり、 本明細書においてフィラーとは中心粒径が 5 /z m以上 1 0 0 /^ m以下のものをい う。 このような粒径のフィラーを透光性樹脂中に含有させると、 光散乱作用によ り発光ダイォードの色度バラツキが改善される他、 透光性樹脂の耐熱衝撃性を高 めることができる。 これにより高温下での使用においても、 L E Dチップとパッ ケージ等の電極とを電気的に接続しているワイヤーの断,锒ゃ前記 L E Dチップの 底面とパッケージの凹部底面と剥離等を防止することができる。 これにより、 信 頼性の高い発光ダイォードを提供できる。 更には樹脂の流動性を長時間一定に調 整することが可能となり所望とする所に所定量の透光性樹脂を塗布でき歩留まり 良く量産することが可能となる。
また、 フィラーは蛍光物質と類似の粒径及び Z又は形状を有することが好まし い。 ここで本明細書では、 類似の粒径とは、 各粒子のそれぞれの中心粒径の差が 2 0 %未満の場合をいい、 類似の形状とは、 各粒径の真円との近似程度を表す円 形度 （円形度 =粒子の投影面積に等しい真円の周囲長さ Z粒子の投影の周囲長 さ） の値の差が 2 0 %未満の場合をいう。 このようなフィラーを用いることによ り、 蛍光物質とフィラーが互いに作用し合い、 樹脂中にて蛍光物質を良好に分散 させることができ色ムラが抑制される。 更に、 蛍光物質及びフイラ一は、 共に中 心粒径が 1 5 μ m〜 5 0 m、 より好ましくは 2 0 μ m〜 5 0 μ mであると好ま しく、 このように粒径を調整することにより、 各粒子間に好ましい間隔を設けて 配置させることができる。 これにより光の取り出し経路が確保され、 フィラー混 入による光度低下を抑制しつつ指向特性を改善させることができる。 また、 この ような粒径範囲の蛍光物質及ぴフイラ一を透光性樹脂に含有させ孔版印刷法にて 透光性樹脂を形成すると、 透光性樹脂を硬化した後のダイシングェ程においてダ イシングプレードの目詰まりが回復されるドレッサー効果をもたらすことができ 量産性が向上される。
ダイシング工程において、 良好なドレッサー効果を得るためには、 フィラーと して大きい粒径のものが含まれていることが好ましく、 中心粒径が 1 5 ί ΐη〜5 0 /i m、 好ましくは 2 Ο / π！〜 5 0 i mのフイラ一を透光性樹脂中に含有させる と効果的にダイシンダブレードの目詰まりを回復させることができ優れたドレツ サー効果が得られる。 変形例 4 .
(発光面）
本発明において、 発光ダイオードの発光面にあたる透光性樹脂の表面は、 曲面 であってもよい。 特に、 実施の形態 2で示した、 基板上に樹脂をモ ルドするタ イブの発光ダイォードでは、 パッケージの側壁によって上方に光を反射させるこ とができないため、 透光性樹脂の表面を曲面として所望の指向特性を実現するよ うにすることが好ましい。
このような曲面である発光面は、 必要とする物質が分散された透光性樹脂を、 個々の発光ダイオードに対応してそれぞれ開口部が形成されたマスク 3 9 (図 7 A) を用いて孔版印刷法により形成することにより実現できる。 図 7 A, 図 7 B にその様子を模式的に示す。 このように形成された透光性樹脂の表面は、 通常、 樹脂が熱硬化された後、 曲面となるが、 マスク 3 9の材質及び構造、 樹脂の充填 量に対応させて所定の形状にすることが可能である。 またこの方法により、 発光 ダイオードを量産性良く製造させることができる。 また、 粒径差のある大粒径蛍 光物質と小粒径蛍光物質とを含有させた本発明の発光ダイォードを長時間かけて 量産した場合でも、 その工程の最初に作製された発光ダイオードと後で作製され た発光ダイォードとの間での発光バラツキを極めて小さくすることができ歩留ま りを向上させることができる。
更に、 マスク 3 9の材料としてシリコーンを用いることで、 コストを低減させ ることができる上、 シリコーンと透光性樹月旨との熱膨張差等により、 所望の曲面 を有する発光面を形成することができる。 変形例 5 .
本実施の形態 1等においては、 L E Dチップとパッケージとはワイヤーにより 接続したが、 本発明はこれに限られるものではなく、 L E Dチップをパッケージ の収納部 1 aに導電†生部材を用いてフリップチップボンディングするようにし、 L E Dチップの基板側から出力される光を取り出すようにしてもよい。
すなわち、 パッケージは、 図 1に示すように、 絶縁分離部 4が収納部 l a (貫 通孔） 内に位置しその両側に金属薄板 2 a， 2 bが露出されているので、 絶縁分 離部 4に跨つて L E Dチップを載置し、 L E Dチップの正負の電極をそれぞれ直 接、 金属薄板 2 a , 2 bに接続すればよい。 変形例 6 .
また、 上述の実施の形態及び変形例の発光ダイオードでは、 S MD型発光ダイ ォードとしたが、 本発明はこれに限られるものではない。
例えば、 実施の形態 1で説明した蛍光物質及び Z又はエポキシ樹脂は表示ディ スプレイ、 8セグメント型ゃ砲弾型など種々の形態の発光ダイォードに利用でき る。
すなわち、 実施の形態 1で説明した蛍光物質を利用すれば、 高出力の発光ダイ ォードが得られ、 実施の形態 1で説明したエポキシ樹脂を利用すれば信頼性の高 い発光ダイォードを提供できる。
本実施の形態 1において説明した透光性樹脂は、 発光ダイォード等の発光素子 だけでなく、 フォトダイォード等の受光素子にも適用することができる。 実施例
以下、 本発明の実施例について説明する。 なお、 本発明は以下に示す実施例の みに限定されるものではない。
実施例 1.
本発明の発光ダイオードとして、 図 8の断面図に示す SMD型の発光ダイォー ドを作製する。 LEDチップ 5として、 I nG a Nからなる発光層を有し主発光 ピークが 470 nmの LEDチップを用いる。 本実施例 1の発光ダイオードにお いて、 パッケ一ジはベース部分と側壁部分が一体で成形された樹脂成形体 24か らなり、 電極リード 22 a， 22 bが樹脂 24のベース部分にインサート成形さ れている。 LEDチップは、 MOCVD法を利用して形成する。 具体的には、 反 応室内に洗浄したサフアイャ基板をセットし、 反応ガスとして、 TMG (トリメ チル） ガス、 TM I (トリメチルインジゥム） ガス、 TMA (トリメチルアルミ 二ゥム） ガス、 アンモニアガス及びキャリアガスとして水素ガス、 さらには不純 物ガスとしてシランガス及ぴシク口ペンタジァマグネシウムを使用して成膜する。
LEDチップの層構成として、
サフアイャ基板上に、
低温バッファ一層である A 1 G a N層、
結晶性を向上させるためのノンドープ G a N層 （厚さ約 15000 A) 、 電極が形成される n型コンタクト層である S i ドープの G a N層 （厚さ約 21 65 OA) 、
結晶性を向上させるためのノンドープの G a N層 （厚さ約 300 OA) 、 ノンドープの G a N (厚さ約 50 A) と S iをドープした G a N (厚さ約 30 OA) の超格子からなる多層膜 （n型クラッド層） 、
発光層の結晶性を向上させるためのノンドープの G a N (厚さ約 4 OA) とノ ンドープの I nGaN (厚さ約 20 A) の超格子からなる多層膜、 ノンドープの G a N (厚さ約 2 50 A) と I nG a N (厚さ約 30 A) からな る多重量子井戸構造の発光層、
Mgがドープされた I nG a N (厚さ約 2 5 A) と M gがドープされた G a A I N (厚さ約 4 OA) の超格子からなる多層膜及び
p型コンタクト層である Mgがドープされた G a N層 （厚さ約 1 20 OA) を 順に成膜する。
このようにして複数の窒化物半導体層が成膜された半導体ウェハを部分的にェ ツチングして n型コンタクト層の一部を露出させる。 そして、 露出した！)型及び n型コンタクト層上にそれぞれ、 スパッタリング法を利用して n型及び J)型の電 極を形成した後に、 個々の L E Dチップに分割して青色が発光可能な L E Dチッ プを作製する。
以上のようにして作製された LEDチップを、 リード電極 2 2 a， 2 2 bが樹 脂 24に一体成形されてなる成形体パッケージ凹部にダイボンド樹脂 6によりダ ィボンドし LEDチップの各電極と各リード電極 2 2 a, 2 2 bとをそれぞれ 3 5 imの金線ワイヤー 7を用いてワイヤーボンディングし電気的に接続する。 本実施例 1では、 蛍光物質として、 Yが G dで約 2割置換された、 中心粒径が 2 1. 429 11である （Y0.8 G d 0.2 ) 2 . 9 6 5 A 15012 ： C e 0 .
5 を作製して使用する。 前記蛍光物質は大粒径蛍光物質と小粒径蛍光物質とから なり、 図 2A， 図 2 Bに示される体積基準粒度分布を有する。 体積基準分布曲線 において、 傾きがゼロであるフラット領域は、 積算値 4. 6 vol %、 且つ粒径範 囲 1. 3 7 1〃 II！〜 8. 3 7 9 imである。 つまり、 全蛍光物質中の 4. 6 vol%は 1. 3 7 1 mより小さい粒径を有する小粒径蛍光物質からなり、 残り 9 5. 6vol%は 8. 3 7 9 μ mより大きい粒径を有する大粒径蛍光物質からな る。 このような分布を有するよう、 沈降法により分級された蛍光物質の中心粒径 は 2 1. 4 mであり、 前記中心粒径における頻度値は 2 9. 1 2 %である。 ま た、 小粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は 0. 6 1 3 / mであり、 大粒径蛍光物 質の頻度ピーク粒径値は 2 2. 9 08 μ mである。 また、 本実施例 1において、 大粒径蛍光物質の粒度分布における標準偏差は 0. 2 9 5である。
C I Eの色度表で x、 y = (0. 3 3、 0. 3 3) となる光が得られるように、 調整された蛍光物質と透光性樹脂であるエポキシ樹脂とを重量比が 1 6 : 1 00 となるように混合する。 こうして得られた蛍光物質含有エポキシ樹脂を、 LED チップが金線で一対のリ一ド電極に接続されたパッケージの凹部内にポッティン グにより充填し硬化させて発光ダイォードを形成させる。
このようにして形成することにより、 高輝度及び高出力でもって白色が発光可 能な発光ダイォードが得られる。
比較例 1.
比較のために、 体積基準分布曲線が図 9 A， 図 9 Bのような、 粒度分布範囲の 広い蛍光物質であり、 中心粒径が 6. 3 1 5 ^mである （Y0 8Gd0 2) 2 . 9 6 5 A 15Ο12 ： C e。 . Q 3 5蛍光体を用いる以外は実施例 1と同様にして、 同様の色度点となる発光ダイォードを作製する。 この比較例の発光ダイォードの 光度及び出力を測定すると、 実施例 1の発光ダイォードに比べ、 光度は約 35 % 低下し、 出力は約 25%低下する。 これによつて、 本発明の発光ダイオードが白 色系など色純度の低レ、長波長側においても高輝度に発光することが可能であるこ とが分かる。
尚、 本比較例に使用した蛍光物質の粒度分布における標準偏差は 0. 365で ある。
実施例 2.
実施例 2として、 蛍光物質の組成比を （Y0. 995 Gd 0. 005) 2. 750A 1501 2： C e。.250とし、 積算値が 0. 077vol%で且つ 1. 3 7 1 /in！〜 8. 37
9 μ mの粒径範囲に渡ってフラット領域を有し、 前記蛍光物質の中心粒径は 25.
626 μ m, 前記中心粒径における頻度値は 24. 81 2%、 小粒径蛍光物質の 頻度ピーク粒径値は 0. 6 1 3 / m、 大粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は 28.
0 1 2/zmとなるように分級された蛍光物質を用いる以外は実施例 1と同様にし て、 同様の色度点となる発光ダイオードを作製する。 実施例 2の発光ダイオード の光度及び出力を測定すると、 実施例 1の発光ダイオードに比べ、 光度は約 1
8%向上、 出力は約 1 0%向上する。 実施例 2の発光ダイオードにより、 実施例
1よりも高輝度な発光ダイォードが提供できる。
本実施例 2において、 大粒径蛍光物質の粒度分布における標準偏差は◦. 25 9である。
実施例 3.
エポキシ樹脂と、 拡散剤として中心粒径が 2. 5 μ mである S i O 2とを重量 比が 100 ： 50となるように混合した後に、 その拡散剤含有のエポキシ樹脂中 に実施例 1の蛍光物質と同様の蛍光物質を混合させ、 それ以外は実施例 1と同様 にして、 実施例 1と同様の色度点となる発光ダイオードを作製する。 この実施例 3の発光ダイオードは、 実施例 1と同様の輝度及び出力が得られ、 また実施例 1 と比べ色ムラが抑制され良好な色調が得られる。
実施例 4.
図 6に示すように、 基板上に電気的に接続された LEDチップ上に、 金型を用 レ、て蛍光物質含有の透光性樹脂を配置させる以外は実施例 1と同様にして、 同様 の色度点となる発光ダイオードを作製する。 平滑な発光面を有する発光ダイォー ドが得られ、 実施例 1と同様の特性が得られる。
実施例 5.
図 7A, 図 7Bに示すように、 LEDチップ 5が電気的に接続された基板 32 上に、 シリコーンからなるマスク 39を用いた孔版印刷法により蛍光物質含有の 透光性樹脂を形成し硬化させる以外は実施例 1と同様にして、 同様の色度点とな る発光ダイォードを作製する。 この発光面が曲面を有する発光ダイォードが得ら れ、 実施例 1より均一な発光が得られる。
尚、 基板 32には各 LEDチップに対応してそれぞれ正電極 32 a, 32 b力 S 設けられている。
実施例 6.
エポキシ樹脂と、 拡散剤として中心粒径が 2. 5 / mである S i 02とを重量 比 100： 50となるように混合した後に、 実施例 2と同様の蛍光物質を混合さ せ、 更にフィラーとして中心粒径が 6 μΐηである S i 02を前記エポキシ榭脂量 に対し 70 w t %含有させたものを透光性樹脂として用いる。 この透光性樹脂を L EDチップが金線で一対のリ一ド電極に接続された壁面を有する筐体の凹部内 に実施例 5と同様にして孔版印刷法によりを充填し、 85 °C X 3時間、 更に 1 40°CX4時間硬ィ匕させて、 実施例 1と同様の色度点となる発光ダイオードを 作製する。 この実施例 6の発光ダイオードは、 更に寿命が向上され、 均一な発光 を有する発光ダイオードが得られる。
実施例 7.
実施例 2と同様の蛍光物質を用い、 フィラーとして前記蛍光物質と同様の粒径 を有する中心粒径が約 25；/mの S i 02を用いる以外は実施例 3と同様にして 発光ダイォードを形成する。 これにより実施例 3より光度が 10 %向上される。 実施例 8.
実施例 2と同様の蛍光物質を用い、 フィラーとして前記蛍光物質と円形度の差 が 10%で且つ中心粒径が約 25 /zmの S i 02を用いる以外は実施例 6と同様 にして発光ダイオードを形成する。 これにより実施例 6より光度が 10%向上さ れる。
実施例 9.
図 1 OA及びその部分拡大図である図 1 OBに示すように、 LEDチップ 5 (実施例 1と同様のもの） を光沢メッキを施した銅製のマゥント 'リード 42 a の力ップ部にエポキシ樹脂 42でダイボンドした後、 L E Dチップ 5の各電極と マウント . リード 4 2 a及ぴセカンド ' リード 42 bとをそれぞれ直径が 30// mのワイヤー 7を用いてワイヤーボンディングする。 次に、 C I Eの色度表で x、 y= (0. 33、 0. 33) となる光が得られるように実施例 2と同様の蛍光物 質と透光性樹脂であるエポキシ樹月旨とが重量比が 5 ： 100となるように混合さ れたものを前記マウント ' リードのカップ内に注入した後、 150°Cの温度で 1 時間硬化させ蛍光物質含有のコーティング部 48を形成する。 更に発光観測面か ら観て円状となるように、 透光性エポキシ樹脂にて砲弾型レンズ 49を形成する。 このようにして得られたランプ型発光ダイォードは実施例 1と同様の効果を有す る。
実施例 10.
実施例 2と同様の蛍光物質と、 透光性樹脂であるエポキシ樹脂と、 フィラーと して前記蛍光物質と円形度の差が 10 %で且つ中心粒径が約 25 mの S i O 2 との重量比が 100 : 10 : 35となるように混合されたものをマウント■ リー ドのカップ内に注入する以外は実施例 9と同様にしてランプ型発光ダイォードを 形成すると、 実施例 9より更に高輝度で且つ均一な発光が得られる。
実施例 11.
リ一ド電極がィンサート成形された樹脂パッケージの凹部内に実施例 1と同様 の LEDチップを配置し、 透光性樹脂であるシリコーン樹脂と、 実施例 1と同様 の蛍光物質と、 中心粒径が約 13 /zmの Y 2 . 9 6 5 A 15012 ： C e。 . 。 3 5 からなる蛍光物質と、 中心粒径が約 0. 5 μπιの S i 02とを重量比が、 10 0 : 0. 69 : 0. 5 : 10となるように混合した混合溶液を前記凹部内に充填 させ発光ダイオードを作製すると、 実施例 1と同様の効果を有し、 更に演色性に 優れ輝度の高い発光ダイォードが得られる。
実施例 12.
透光性樹脂であるシリコーン樹脂と、 中心粒径が約 30 //mの （Y。 9 G d 0.丄） 2. 9 6 5 A 15012 : C e。 . 。 3 5 と、 実施例 2と同様の蛍光物質と、 中心粒径が約 0. 5 μ mの S i O 2とを重量比が、 100 : 0. 69 : 0. 5 ： 10となるように混合した混合溶液を前記凹部内に充填させる以外は実施例 1 1 と同様にして発光ダイオードを形成すると、 実施例 2と同様の効果を有し、 更に 演色性に優れ輝度の高レ、発光ダイォードが得られる。
実施例 13.
本実施例 13は、 実施の形態 1の製造方法に係る実施例である。
本実施例 13では、 図 1に示すような表面実装型の発光ダイォードを製造する。 本実施例 13において、 LEDチップ 5は、 発光層として単色性発光ピークが 可視光である 475 nmの I n。. 2Ga。.8N半導体を発光層として有する窒ィヒ 物半導体 LEDチップを用いる。 より具体的には LEDチップ 5は、 洗浄したサ フアイャ基板上に TMG (トリメチルガリウム） ガス、 TMI (トリメチルイン ジゥム） ガス、 窒素ガス及びドーパントガスをキャリアガスと共に流し、 MOC VD法で窒化物半導体を成膜することにより作製する。 この際、 ドーパントガス として S i H4と Cp2Mgを切り替えることによって n型窒化物半導体や p型 窒化物半導体となる層を形成する。
LEDチップ 5の素子構造としては、 サフアイャ基板上に、
低温で成長した GaNからなるバッファ一層、 アンドープの窒化物半導体である n型 G a N層、
n型電極が形成される S i ドープの G a N層 （n型コンタクト層） 、 アンドープの窒化物半導体である n型 G a N層、
バリア層となる GaN層、 井戸層を構成する I nGaN層、 バリア層となる G & 層を1セットとし GaN層に挟まれた I nG a N層を 5層積層させた多重量 子井戸構造の発光層、
Mgがドープされた A 1 GaN層 （p型クラッド層） 、
Mgがドープされた GaN層 （p型コンタクト層） を順次積層させる。
なお、 p型半導体は、 成膜後 400°C以上でァニールする。
積層後、 エッチングによりサフアイャ基板上の窒化物半導体側の同一面側に、 p型 n型の各コンタクト層表面を露出させる。 各コンタクト層上に、 スパッタリ ング法を用いて正負電極をそれぞれ形成する。 なお、 P型窒化物半導体上の全面 には金属薄膜を透光性電極として形成させた後に、 透光性電極の一部に台座電極 を形成する。 出来上がった半導体ウェハーをスクライプラインを引いた後、 外力 により分割する。 これにより発光素子である LEDチップを作製する。
以上のようにして作製した L E Dチップを、 実施の形態 1で説明したパッケー ジアッセンプリの各貫通孔内にエポキシ樹脂によりダイボンディングし、 LED チップの各電極と、 金属薄膜 2 a, 2 bとをそれぞれ金線でワイヤボンディング し電気的導通を取る。
また、 蛍光物質は以下のようにして作製する。
まず、 Y、 Gd、 Ceの希土類元素を化学量論比で酸に溶解した溶解液を蓚酸 で共沈させる。 これを焼成して得られる共沈酸ィ匕物と酸化アルミニウムとを混合 して混合原料を得る。 これにフラックスとしてフッ化バリウムを混合して坩堝に 詰め、 空気中 1400° Cの温度で 3時間焼成して焼成品を得る。 その焼成品 を水中でポールミルにより粉砕して、 洗浄、 分離、 乾燥後、 最後に篩を通して中 心粒径が 22μΐηである （Y0. 995 Gd 0.005) 2.750A 15012： Ce0. 250 蛍光物質を形成する。
中心粒径が 0. 3 mである S i O 2を 20 w t %含有したエポキシ樹脂に対 して、 前記蛍光物質を 17 w t 中心粒径が 10 μ mである S i O 2を 70 w t %さらに混合分散させた脂環式エポキシ樹脂組成物 （粘度 8 O O O m P a - s ) を、 封止部材の材料として利用する。
本実施例 1 3では、 ステンレスからなり膜厚が 1 0 0 z mのマスク 1 1 2を用 いる。 マスク設計は実施の形態 1で説明した図 3と同様である。 このようなマス ク 1 1 2に、 L E Dチップが配置されたパッケージアッセンプリを貫通孔の開口 側がマスク 1 1 2 ^ (則に向けて基板昇降ステージ載置して吸引し、 マスク 1 1 2に 接触させる。
マスク 1 1 2の端に前記透光性樹脂を印刷に必要な所定量塗布し、 3 3 0 P a まで減圧する。 減圧完了後、 マスク 1 1 2の垂直ラインに対して動作方向に 3 0 度傾いたヘラ 1 4に 0 . 1 O M p aの印圧エアー圧をかけて 1往復目の往スキー ジを行う。 次に、 チャンバ一内を 2 0 0 0 0 P aまで加圧する。 力 U圧完了後、 マ スク 1 1 2の垂直ラインに対して往スキージと逆方向である動作方向に 3 5度傾 いたヘラ 1 5に 0 . 1 2 M p aの印圧エアー圧をかけて 1往復目の復スキージを 行う。 この往復スキージを 2往復行う。
次に、 基板昇降ステージを降下させ、 パッケージアッセンプリをマスク 1 1 2 力 ら引き離す。 その後、 透光性樹脂を 8 5 °C 3時間で一時硬化させ、 次に 1 4 0 °C 4時間で二次硬化させる。 このようにして前記貫通孔上とその両端の絶縁基 板上面にわたって表面が平滑な透光性樹脂を形成することができる。
次に、 フィルム膜厚が 1 5 0 mでその粘着層が 2 0 μ mである紫外線硬化型 ダイシング粘着シートに、 パッケージアッセンプリの透光性樹脂側を粘着層に対 向させて接着する。 パッケージアッセンプリの底面側からダイシングプレードを 用い、 個々の発光ダイォードに分割するために前記パッケージアッセンプリ及び ダイシング粘着シートの 1 0 0 mの深さまで切り目を入れる。 最後に紫外線を フィルム側から照射して粘着層を硬化させ各発光ダイォードに分割する。 このよ うにして得られた表面実装型 （SMD型） の発光ダイォードを 5 0 0個作製しバ ラツキを測定したところ、 異なる発光ダイォード間の色度のバラツキが少なく、 また各発光ダイオードにおいて «上の発光ムラもないことが確認された。 比較例.
パッケージァッセンプリの 1つの貫通孔に対して 1つの開口部が対応するよう に形成したマスクを用いる以外は実施例 13と同様にして発光ダイオードを作製 した。 得られた発光ダイォードの上面は充填させた透光性樹脂が両端の基板上面 に漏れている。 この発光ダイォードは、 ダイシング用粘着シートに粘着させてダ イシングする際に、 各発光ダイオードがバラバラになってしまう。
また得られた発光ダイオード 500個を観測すると、 実施例 1と比較しての上面 側にはバリが生じている。 また得られた発光ダイオード 500個を実装して色温 度の製造バラツキを調べた。 その結果、 比較例の発光ダイオードの色度図上の面 積と比較して実施例 13の発光ダイオードは、 色温度の製造バラツキが約 2割ほ ど小さくなつていた。
実施例 14.
実施例 14として、 無添加の架橋オリゴマ^ ^一含有一液硬化性エポキシ樹脂に、 前記蛍光物質を 15 w t %、 中心粒径が 10 mである S i O 2を 40 w t %混 合分散された脂環式エポキシ樹脂組成物 （粘度 1500 OmP a · s) を、 封止 部材の材料として利用する以外は実施例 13と同様にして表面実装型の発光ダイ ォードを作製する。 本実施例 14の発光ダイォードは、 実施例 13に比較して光 度及び出力が共に向上し、 更には信頼性を大幅に改善させることができる。
実施例 15.
実施例 15では、 蛍光物質として、 Yが Gdで約 2割置換された、 中心粒径が 21. 429 /imである （Y0,8Gd0.2 ) 2 . 9 6 5 Al5012 ： Ce 0 0 3 5 を実施例 13と同様の方法で作製する。 その蛍光物質は大粒径蛍光物質と小粒 径蛍光物質とからなり、 体積基準分布曲線において、 傾きがゼロであるフラット 領域は、 積算値 4. 6 vol%、 且つ粒径範囲 1. 371 /1 m〜 8. 379 mで ある。 つまり、 全蛍光物質中の 4. 6vol%は 1. 371 μπιより小さい粒径を 有する小粒径蛍光物質からなり、 残り 95. 6 vol%は 8. 379μιηより大き い粒径を有する大粒径蛍光物質からなる。 このような分布を有するように沈降法 により分級された蛍光物質の中心粒径は 21. 4 μ mであり、 前記中心粒径にお ける頻度値は 29. 12%である。 また、 小粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は 0. 613 μ mであり、 大粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は 22. 908 μ m である。 このような粒度分布を有する蛍光物質を用いると、 光度および発光出力 を向上させることができる。
本実施例 1 5では前記蛍光物質を 1 5 w t %樹脂組成物に含有させる以外は実 施例 1 4と同様にして表面実装型の発光ダイォードを作製する。 実施例 1 5の発 光ダイオードは、 実施例 1 4と同様の効果が得られるとともに、 実施例 1 4より 高輝度な発光ダイオートが得られる。
実施例 1 6 .
実施例 1 6として、 本発明に係るエポキシ樹脂である 4種類の樹脂 C， D , E , Fと、 比較例の樹脂 A, Bを作製してそれぞれの特性を評価した。
1 . エポキシ樹脂,組成物の作製
エポキシ樹脂組成物 A乃至 Fを以下の条件で作製した。 酸無水物を添加した場 合は、 カルボキシル基のエステル転化率も評価した。 エステル転化率は、 酸無水 物のもつカルボキシル基のうちエステル結合に変化した割合をモル％で表したも のであり、 KO H水溶液による中和反応によって評価した。 具体的には、 ェポキ シ樹脂 1 . 0 0 gをェタノール 5 0 m Lに溶解させ、 0 . 1 NKOH水溶液を添 力 Πして、 B T B指示薬が黄色から青色 （p H 7 . 6 ) に変色する点を中和点とし て、 中和に要した K O H水溶液量からエステノレ転化してないカノレポキシル基量を 求めた。
(樹脂 A：比較例）
3 0 O m Lの四つ口フラスコに、 脂環式エポキシ樹脂としてシクロへキセンェ ポキシ化物誘導体である 3 , 4—エポキシシクロへキサンカルボン酸 3 ' 4一 一エポキシシクロへキシルメチノレを 2 5 6 g ( 1 . 9 5 e . e q ) と、 カチオン 硬化剤として芳香族スルホユウム塩 （ァユオン種は 6弗化アンチモン） であるべ ンジルスルホニゥム塩系触媒である 6フッ化アンチモン酸ベンジルメチル P—ヒ ドロキシフエニルスルホニゥム 0 . 6 gとを加え、 0 , 5時間撹拌した後、 8 5 °Cで 3時間加熱し、 さらに 1 4 0 °Cで 4時間加熱して硬化させた。
(樹脂 B：比較例）
樹月旨 Aの成分に、 さらに、 反応性希釈剤としてプロピレングリコールモノダリ シジルエーテルを 7 . 6 8 g (エポキシ樹脂に対して 3 w t %) 加え、 0 . 5時 間撹拌した後、 8 5でで 3時間加熱し、 さらに 1 4 0 °Cで 4時間加熱して硬ィ匕さ せた。
(樹脂 C：本 明）
300mLの四つ口フラスコに、 脂環式エポキシ樹脂として 3, 4—エポキシ シク口へキサンカルボン酸 3 ' 4 '一エポキシシクロへキシルメチルを 256 g (1. 95 e . e q) と、 酸無水物として 4一メチルへキサヒドロ無水フタル 酸 Zへキサヒドロ無水フタル酸 =70Z30の混合物を 104. 29 g (6. 0 9X 10— mo l) と、 助触媒としてエチレングリコールを 2. 56 g (4. 12 X 1 O_2mo 1 ) と、 カチオン硬化剤としてべンジルスルホユウム塩系触 媒である 6フッ化アンチモン酸べンジルメチル P—ヒドロキシフエニルスルホェ ゥム 0. 6 gとをカロえ、 0. 5時間撹拌した後、 カルボキシル基のエステル転化 率を測定すると 0 %であつた。 測定後、 85でで 3時間加熱し、 さらに 140 °C で 4時間加熱して硬化させた。
(樹脂 D：本発明）
30 OmLの四つ口フラスコに、 脂環式エポキシ樹脂として 3， 4—エポキシ シク口へキサンカルボン酸 3 ' 4 '一エポキシシク口へキシルメチルを 256 g (1. 95 e. e q) と、 酸無水物として 4一メチルへキサヒドロ無水フタル 酸 Zへキサヒドロ無水フタル酸 = 70/30の混合物を 9. 57 g (5. 69 X 10— 2mo l) と、 助触媒としてエチレングリコールを 1. 77g (2. 8 5X 10—2mo l) とを加え、 マントルヒータにて徐々に昇温し、 90〜10 0 °Cで 16時間加熱した。 室温まで徐冷した後、 力チオン硬化剤としてべンジノレ スルホユウム塩系触媒である 6フッ化アンチモン酸べンジルメチル P—ヒドロキ シフエ-ルスルホェゥム 0. 6 gを加え、 0. 5時間撹拌した後、 カルボキシル 基のエステノレ転化率を測定すると 90. 6 %であった。 測定後、 85でで 3時間 加熱し、 さらに 140でで 4時間加熱して硬化させた。
(樹脂 E：本発明）
脂環式エポキシ樹脂である 3， 4一エポキシシク口へキサンカルボン酸 3 ' 4 '—エポキシシクロへキシノレメチルを 256 g (1. 95 e. e q) , 酸無 水物である 4—メチルへキサヒドロ無水フタル酸 Ζへキサヒドロ無水フタル酸 = 70/30の混合物を 15. 95 g (9. 48X 10— 2mo l) 、 助触媒であ るエチレングリコールを 2. 95 g (4. 75 X 10— 2mo 1 ) 、 カチオン硬 ィ匕剤であるべンジノレスルホ-ゥム塩系触媒である 6フッ化アンチモン酸べンジノレ メチル P—ヒドロキシフエニルスルホニゥム 0. 6 gとする他は、 樹脂 Dと同様 にしてエポキシ樹脂組成物を作製した。 力ルポキシル基のエステル転ィ匕率は 94. 2%であった。
(樹脂 F：本発明）
脂環式エポキシ樹脂である 3， 4—エポキシシク口へキサンカルボン酸 3 ' 4 エポキシシクロへキシノレメチルを 256 g (1. 95 e . e q) 、 酸無 水物である 4一メチルへキサヒドロ無水フタノレ酸ノへキサヒドロ無水フタル酸 == 70/30の混合物を 25. 52 g (1. 52 X 10— o 1 ) 、 助触媒であ るエチレングリコールを 4. 72 g (7. 60 X 10一2 mo 1 ) 、 カチオン硬 化剤であるべンジルスルホニゥム塩系触媒である 6フッ化アンチモン酸べンジル メチル P—ヒドロキシフエエルスルホニゥム 0. 6 gとする他は、 樹脂 Dと同様 にしてエポキシ樹脂組成物を作製した。 カルボキシル基のエステル転化率は 92. 4%であった。
2. 可撓性評価
エポキシ樹脂組成物 A乃至 Fを用いて図 1に示す構造の発光ダイォードを作製 し、 液相衝撃試験を行うことにより樹脂の可撓性を評価した。
尚、 この評価に用いた発光ダイオードは、 エポキシ樹脂組成物に蛍光物質は混 合していない。
液相衝撃試験は、 _40°Cの液相への 1分間ディップ、 及ぴ 100°Cの液相へ の 1分間ディップを 1サイクルとし、 500〜2500サイクル行った後に、 L E Dチップへのクラック発生又はワイヤオープンによる動作不良の発生率を調べ た （試験個数は 100個） 。
評価結果を表 1に示す。 脂環式エポキシ樹脂をカチオン硬化剤のみで硬化した 樹脂 Aでは、 試験初期よりクラックによる動作不良が発生し、 1000サイクル 後には動作不良率が 100%となった。 反応性希釈剤を加えて可撓性を改善した 樹脂 Bでは、 2500サイクル後に 7%の動作不良が発生した。 一方、 本件発明 に係る樹脂 C、 D、 E、 Fは、 いずれも 2500サイクル後の動作不良が 4%以 下であり、 特に、 エステル転化の進んだ樹脂 D、 E、 Fでは動作不良が 0%であ つた。 本件発明に係るエポキシ樹脂組成物は、 従来の反応性希釈剤により可撓性 を改善したエポキシ樹脂よりも、 可撓性に優れることが確認できた。
[表 1]
Figure imgf000056_0001
3. 耐光性 （黄変） 評価
エポキシ樹脂組成物 B、 Fを用いて耐光性試験を行った。 30X30X 3m mのテストピースを作製し、 120°Cの温度条件下でキセノンランプを 100時 間照射して、 ランプ照射前後の全光線透過率の変化を調べた。 透過率測定は、 分 光測色計 （ナ上色彩研究所製） を用いて行った。 測定結果を図 11A及び図 11 Bに示す。 図 1 1Aは、 照射前の全光線透過率、 図 11Bは、 照射後の全光線透 過率を示す。 従来のエポキシ樹脂組成物である、 反応性希釈剤を添加した樹脂樹 月旨 Bは、 初期から短波長域の透過率が下がって黄色となっており、 耐光性試験に よつて短波長域の透過率がさらに低下して黄変が顕著に進行した。
一方、 本件発明のエポキシ樹脂組成物である樹脂 Fは、 初期も耐光性試験後も、 全く着色は見られなかった。
4. 耐熱性評価
エポキシ樹脂組成物 A、 B、 Fを用いて耐光性試験を行った。 30X 30 X 3 mmのテストピースを作製し、 120°Cのオーブン中で 500時間加熱し、 加熱 前後の全光線透過率の変化を調べた。 透過率測定は、 分光測色計 （村上色彩研究 所製） を用いて行った。 測定結果を図 12 A及び図 12Bに示す。 図 1 2 Aは、 照射前の全光線透過率、 図 12Bは、 照射後の全光線透過率を示す。 従来のエポキシ樹脂組成物である、 カチオン硬化剤を添加した樹脂 Aは、 初期 は本件発明のエポキシ樹脂組成物である樹脂 Fと同等の透過率を有していたが、 耐熱性性試験によって短波長域の透過率が低下して黄変が進行した。
また、 反応性希釈剤を添加した樹脂 Bは、 初期から短波長域の透過率が下がつ て黄色となっており、 耐熱性性試験によって短波長域の透過率がさらに低下して 黄変が顕著に進行した。
一方、 本件発明のエポキシ樹脂組成物である樹脂 Fは、 初期に着色はなく、 耐 熱性試験により黄変が進行するものの樹脂 Bよりも良好な耐熱性を示した。
5 . L E D通電ライフ評価
エポキシ樹脂組成物 B及ぴ Fを用いて図 1に示す構造の発光ダイォードを作製 し、 室温 ( 2 5 °C) と高温高湿 （8 5 °C、 8 5 %) における通電ライフ試験 （電 流値 1 O mA) を行った。 図 1 3及び図 1 4は、 各々、 室温及び高温高湿の通電 ライフ中における L E Dの相対出力値 P。％ (初期を 1 0 0 %とした出力の相対 値） の変化を調べたグラフである。 図 1 3及び図 1 4に示すように、 本件発明の エポキシ樹脂組成物 Fは、 従来のエポキシ樹脂組成物 Bに比べて、 ライフ中の L E D出力の低下が少なかつた。
6 . ポットライフ評価
エポキシ樹脂組成物 B及ぴ Fを用いて、 5 0 °C下における粘度の経時変化を調 ベた。 評価結果を図 1 5に示す。 従来のエポキシ樹脂組成物 Bのポットライフが 約 2 5時間であるのに対し、 本件発明のエポキシ樹脂組成物 Fのポットライフは 約 4 0時間であった。
実施例 1 7 .
実施例 1 7として、 図 1に示す表面実装型の発光ダイォードを作製した。 この 実施例 1 7の発光ダイオートでは、 透光性樹脂に蛍光物質を混合した。 L E Dチ ップ 5は、 発光層として単色性発光ピークが可視光である 4 7 5 n mの I n。. 2 G a 0. 8 N半導体を有する窒化物半導体素子を用いる。 すなわち、 本実施例 1 7 において、 L E Dチップは、 実施例 1 3と同様のものを用いた。
また、 パッケージも実施例 1 3と同様のものを用いた。
また、 蛍光物質も実施例 1 3と同様のものを用いた。 そして、 上記樹脂 Fに対して、 前記蛍光物質を 1 5 w t °ん 中心粒径が 1 0 /X mである S i O 2を 4 0 w t %混合分散された脂環式エポキシ樹脂組成物 （粘度 1 5 0 0 O m P a · s ) を、 透光性樹脂として作製した。
以下、 実施例 1 3と同様にして、 発光ダイオードを 5 0 0個作製した。
このようにして得られた発光ダイオード 5 0 0個のバラツキを測定したところ、 発光ダイォード間における色度のバラツキが小さく、 また各発光ダイォードにお いて舰上の発光ムラもないことが確認された。 また、 樹脂 Aを使用する場合と 比較して大幅に信頼性を向上させることができる。
比較例
樹脂 Aを使用し、 カゝっ絶縁性基板の 1つの貫通孔に対して 1つの開口部を形成 したマスクを用いて作製した以外は、 実施例 1 7と同様にして発光ダイオードを 作製すると、 発光ムラがみられ、 均一な発光が得られない。 また、 実施例 1 7と 比較して信頼性が低下する。 。
実施例 1 8
蛍光物質として、 実施例 1 5と同様のものを用い、 その蛍光物質を 1 5 w t °/o 樹脂 Fに含有させる以外は実施例 1 7と同様にして発光ダイオードを作製した。 この実施例 1 8の発光ダイオードは、 実施例 1と同様の効果が得られるとともに、 実施例 1 7より高輝度な発光ダイォートカ S得られる。
以下の実施例は、 蛍光物質の合成に関する実施例である。
実施例 1 9 (還元雰囲気中にて 2段階焼成により蛍光物質を合成）
以下の実施例は、 発光ダイォードに適した蛍光物質の製造方法に関するもので ある。
実施例 1 9の方法では、 まず、 所望の蛍光物質の組成になるように調整された 混合材料にフラックスを混合して坩堝に詰め、 弱還元雰囲気中 1 4 0 0 °C〜1 6 0 0でで 6〜 8時間焼成し、 更に還元雰囲気中にて 1 4 0 0 °C〜 1 6 0 0 °Cで 6
〜8時間焼成し、 得られた焼成品を粉砕し 2 0 0メッシュの篩に通して蛍光物質 を形成する。
このように、 蛍光物質を形成するにあたり、 混合原料とフラックスからなる混 合物を、 弱還元雰囲気中にて行う第一焼成工程と、 還元雰囲気中にて行う第二焼 成工程とからなる、 二段階で焼成することにより、 励起波長の吸収効率の高い蛍 光物質が得られる。 これにより、 例えば、 図 1に示す発光ダイオードに適用した 場合に、 所望とする色調を得るために必要な蛍光物質量を減らすことができ、 光 取り出し効率の高い発光ダイォードカ S得られる。
実施例 20 (各原料の酸化物を化学量論比で混合し形成。 フラックス：フッ化 アルミニウム）
本実施例 20の方法ではまず、 Y2O3, G a O3, A 12O3, 及び C e02を 化学量論比により混合し混合原料を得る。 この混合原料に対して、 フッ化アルミ 二ゥムをフラックスとして添加し、 ボールミル混合機にて 2時間混合する。 次に、 ボールを取り除いた後、 弱還元雰囲気中 1400 °C〜 1600 °Cで 6〜 8時間焼 成し、 更に還元雰囲気中にて 1400 °C〜 1600 °Cで 6〜 8時間焼成し、 得ら れた焼成品を粉砕し 200メッシュの篩に通して蛍光物質を形成する。 こうして 得られた蛍光物質に青色領域の励起光を照射すると、 蛍光物質は色座標 (J I S Z 81 10) において、 （X , y) = (0. 457, 0. 527) の光を発し、 例えば、 図 1に示す発光ダイォードに適用した場合に、 実施例 19と同様の効果 が得られる。
実施例 21 (実施例 20においてフラックスをフッ化バリゥム +ホウ酸とし た）
本実施例 21の方法ではまず、 Y203， GaO3, A 1203, 及び C e〇2を 化学量論比により混合し混合原料を得る。 この混合原料に対して、 フッ化バリゥ ム及びホゥ酸をフラックスとして添加し、 ポールミル混合機にて 2時間混合する。 次に、 ボールを取り除いた後、 弱還元雰囲気中 1400°C〜1600°〇で6〜8 時間焼成し、 更に還元雰囲気中にて 1400 °C〜 1600 °Cで 6〜 8時間焼成し、 得られた焼成品を粉砕し 200メッシュの篩に通して蛍光物質を形成する。 こう して得られた蛍光物質に青色領域の励起光を照射すると、 蛍光物質は色座標 (J I S Z 8110) において、 （x， y) = (0. 454, 0. 531) の光を発 する。
このように、 フッ化バリゥムをフラックスとして用いて形成された蛍光物質は、 他の物質をフラックスとして用いた場合と比較して、 色度の y値が長くなり赤味 成分が減少する。
本実施例 21の方法により作製された蛍光物質は、 例えば、 図 1に示す発光ダ ィオードに適用した場合に、 実施例 19と同様の効果が得られる。
実施例 22 (実施例 21において焼成時に液体を 10 w t %添加）
本実施例 22の方法ではまず、 Y2O3， G a 03, A 1203, 及び Ce〇2を 化学量論比により混合し混合原料を得る。 この混合原料に対して、 フッ化バリゥ ム及びホゥ酸をフラッタスとして添加し、 ポールミル混合機にて 2時間混合する。 次に、 ボールを取り除いた後、 前記混合粉体に対して 1 Owも％の液体、 例えば 純水を加えて混合し、 弱還元雰囲気中 1400°C〜： L 600°Cで 6〜8時間焼成 し、 更に還元雰囲気中にて 1400°C〜 1600 で6〜8時間焼成する。 得ら れた焼成品を粉碎し 200メッシュの篩に通して蛍光物質を形成する。 こうして 得られた蛍光物質に青色領域の励起光を照射すると、 蛍光物質は色座標 (J I S Z 81 10) において、 （X , y) = (0. 455， 0. 530) の光を発する。 本実施例 22の方法により作製された蛍光物質は、 例えば、 図 1に示す発光ダ ィオードに適用した場合に、 実施例 19と同様の効果が得られる。
実施例 23 (実施例 21において焼成時に液体を 37. 5wt %添加） 本実施例 23の方法ではまず、 Y203, Ga03, A 12O3, 及び Ce〇2を 化学量論比により混合し混合原料を得る。 この混合原料に対して、 フッ化バリウ ム及びホゥ酸をフラックスとして添加し、 ボールミル混合機にて 2時間混合する。 次に、 ポーノレを取り除いた後、 前記混合粉体に対して 37. 5 w t %の液体、 例 えば純水を加えて混合し、 弱還元雰囲気中 1400 °C〜 1600 °Cで 6〜 8時間 焼成し、 更に還元雰囲気中にて 1400°C〜 1600°〇で6〜8時間焼成する。 得られた焼成品を粉砕し 200メッシュの篩に通して蛍光物質を形成する。 こう して得られた蛍光物質に青色領域の励起光を照射すると、 蛍光物質は色座標 (J I SZ 8110) において、 （x， y) = (0. 458， 0. 528) の光を発 する。
本実施例 23の方法により作製された蛍光物質は、 例えば、 図 1に示す発光ダ ィオードに適用した場合に、 実施例 19と同様の効果が得られる。
実施例 24 (実施例 21において焼成時に液体を 62 w t %添加） 本実施例 23の方法ではまず、 Y203, G a 03, A 1203, 及び Ce〇2を 化学量論比により混合し混合原料を得る。 この混合原料に対して、 フッ化バリゥ ム及びホウ酸をフラックスとして添加し、 ポールミル混合機にて 2時間混合する。 次に、 ボールを取り除いた後、 前記混合粉体に対して 62w t%の液体、 例えば 純水を加えて混合し、 弱還元雰囲気中 1400 °C〜 1600 °Cで 6〜 8時間焼成 し、 更に還元雰囲気中にて 1400°C〜1600 で6〜8時間焼成する。 得ら れた焼成品を粉砕し 200メッシュの篩に通して蛍光物質を形成する。 こうして 得られた蛍光物質に青色領域の励起光を照射すると、 蛍光物質は色座標 (J I S Z 8110) において、 （x， y) = (0. 461, 0. 526) の光を発する。 本実施例 24の方法により作製された蛍光物質は、 例えば、 図 1に示す発光ダ ィオードに適用した場合に、 実施例 19と同様の効果が得られる。 産業上の利用の可能性
以上のように、 本発明によれば、 発光ムラが少なく力 信頼性及び量産性に優 れた発光ダイォードを提供でき、 産業上の利用価値は極めて高い。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 発光層が窒化物系化合物半導体からなる L E Dチップと、 該 L E Dチップ からの光の少なくとも一部を吸収して異なる波長の光を発光する蛍光物質が含有 された透光†生樹脂とを備えた発光ダイォードであって、
前記蛍光物質は、 小粒径蛍光物質と大粒径蛍光物質とを含んでなり、 前記大粒 径蛍光物質は前記透光性樹脂において前記 L E Dチップの近傍に分布して色変換 層を形成し、 前記小粒径蛍光物質は前記透光性樹脂において前記色変換層の外側 に分布していることを特徴とする発光ダイォード。
2. 前記大粒径蛍光物質は、 その粒径が 1 0 μ π！〜 6 0 mの範囲に調整され ている請求の範囲 1記載の発光ダイォード。
3 . 前記小粒径蛍光物質は、 その粒径が 0 . 2 μ ΐη〜1 . 5 μ πιの範囲に調整 されている請求の範囲 1又は 2記載の発光ダイォード。
4. 前記大粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は前記小粒径蛍光物質の頻度ピー ク粒径値の 2 0倍〜 9 0倍の範囲に設定されたことを特徴とする請求の範囲 1〜 3のうちのいずれか 1つに記載の発光ダイオ^"ド。
5 . 発光層が窒化物系化合物半導体からなる L E Dチップと、 該 L E Dチップ からの光の少なくとも一部を吸収して異なる波長の光を発光する蛍光物質が含有 された透光性樹脂とを備えた発光ダイォードであって、
前記蛍光物質は、 体積基準粒度分布曲線において、 積算値 0 . O l vol%〜l
0 vol°/0の間に傾きがゼ口であるフラット領域を有することを特徴とする発光ダ ィオード。
6 . 前記蛍光物質は、 前記フラット領域を境界とする小粒径蛍光物質及び大粒 径蛍光物質とからなり、 前記大粒径蛍光物質の頻度ピーク粒径値は前記小粒径蛍 光物質の頻度ピーク粒径値の 2 0倍〜 9 0倍であることを特徴とする請求の範囲 5に記載の発光ダイオード。
7. 前記蛍光物質の中心粒径は、 1 5 i n！〜 5 0 mの範囲であることを特徴 とする請求の範囲 1〜6のうちのいずれか 1つに記載の発光ダイォード。
8 . 前記中心粒径の頻度値は、 2 0 %〜 5 0 %の範囲であることを特徴とする 請求の範囲 7に記載の発光ダイォード。
9 . 前記透光性樹脂は、 前記蛍光物質と共に拡散剤を含有することを特徴とす る請求の範囲 1〜 8のうちのいずれか 1つに記載の発光ダイォード。
1 0 . 前記透光性樹脂の発光面は曲線を有することを特徴とする請求の範囲 1 〜 9のうちのいずれか 1つに記載の発光ダイォード。
1 1 . 正負の電極を構成する 1対の金属薄板が絶縁樹脂により電気的に分離さ れるように接合されてなる金属ベースと収納部を形成するために前記金属ベース の一方の面の周囲に接合された側壁部と力 らなるパッケージと、
前記収納部に設けられた L E Dチップと、
前記 L E Dチップを封止するように前記収納部に充填された透光性樹脂とを備 えた発光ダイォードであって、
前記透光性樹脂は前記収納部からその周りの側壁部の上面に連続して形成され ており、 その透光性樹脂の上面は平坦でかつ前記金属ベースとほぼ平行であり、 且つ前記透光性樹脂の外周側面は前記パッケージの外周側面とほぼ同一面上にあ ることを特徴とする発光ダイオード。
1 2 . 前記透光性榭脂はフィラーを含む請求の範囲 1 1に記載の発光ダイォー ド、。
1 3 . 前記フイラ一は、 前記 L E Dチップからの光の一部を吸収し異なる波長 を発光することが可能な蛍光物質を含む請求の範囲 1 2に記載の発光ダイォード。
1 4 . 前記蛍光物質は、 中心粒径が 1 5 μ π！〜 5 0 mの範囲に設定された請 求の範囲 1 3に記載の発光ダイォード。
1 5 . 請求の範囲 1 1記載の発光ダイォードを製造するための方法であって、 前記収納部にそれぞれ対応する複数の貫通孔がグループ分けして形成された絶 縁基板と、 前記各貫通孔に対応して前記絶縁樹脂により分離された部分を有する 金属ベース板とを接合することにより複数のパッケージの集合体からなるパッケ ージァッセンブリを作製する第 1の工程と、
前記貫通孔により形成された各パッケージの収納部に L E Dチップを実装する 第 2の工程と、
前記各グループに対応して 1つの開口部が形成されたマスクを用いて孔版印刷 により前記絶縁性基板の上面と前記貫通孔内に前記透光性樹脂を塗布して硬化さ せる第 3の工程と、
前記透光性樹脂が形成されたパッケージァッセンブリを各パッケージごとに分 割する第 4の工程とを有することを特徴とする発光ダイォードの製造方法。
1 6 . 前記孔版印刷は、 減圧及び加圧を繰り返して行うことを特徴とする請求 の範囲 1 5に記載の発光ダイォードの製造方法。
1 7 . 前記透光性樹脂はフィラーを含む請求の範囲 1 5又は 1 6に記載の発光 装ダイオードの製造方法。
1 8 . 6 5重量％以上が脂環式エポキシ樹脂から成るエポキシ樹脂と、 前記ェ ポキシ樹脂のエポキシ当量に対して 0 . 0 0 5〜1 . 5モルの一般式 （1 ) で示 される酸無水物又は一般式 （2 ) で示されるジカルボン酸と、
Figure imgf000064_0001
HOOC- COOH (2)
(式中、 1^は炭素数 0〜1 2の環式又は脂肪族アルキル又はァリール、 R 2は 炭素数 0〜1 2のアルキル又はァリール） 、 前記エポキシ樹脂のエポキシ当量に 対して 0 0 0 1〜0 . 0 1モルのカチオン硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成 物。
1 9 . 前記脂環式エポキシ樹脂が、 シクロへキセンエポキシ化物誘導体、 水素 化ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、 へキサヒ ドロフタル酸ジグリシジル エステルからなる群から選択される少なくとも 1種である請求の範囲 1 8記載の エポキシ樹脂組成物。
2 0 . 前記カチオン硬化剤が、 芳香族スルホニゥム塩、 芳香族ジァゾニゥム塩、 芳香族ョードニゥム塩、 芳香族セレエゥム塩からなる群から選択される少なくと も 1種である請求の範囲 1 8記載のエポキシ樹脂,組成物。
2 1 . さらに、 前記酸無水物又はジカルボン酸に対して 0 . 1 ~ 5 . 0当量の 多価アルコール又はその重縮合体を含む請求の範囲 1 8記載のエポキシ樹脂糸且成 物。
2 2 . 前記多価アルコールが、 エチレングリコール、 ジエチレングリコール、 トリメチレングリコーノレ、 トリエチレングリコーノレ、 プロピレングリコーノレ、 1，
4 _ブタンジオール、 1 , 6—へキサンジオールから成る群から選択された少な くとも 1種である請求の範囲 2 1記載のエポキシ樹脂組成物。
2 3 . 請求の範囲 1 8記載のエポキシ樹脂組成物を製造する方法であって、 前記エポキシ樹脂と前記酸無水物又はジカルボン酸とを反応させて架橋オリゴ マーを得た後に、 前記架橋オリゴマーに前記カチオン硬化剤を混合することを含 むこと特徴とするエポキシ樹脂組成物の製造方法。
2 4. 少なくとも一対のリ一ド電極と、 前記リード電極に電気的に接続された 光半導体チップと、 前記光半導体チップを封止するモールド樹脂を供えた光半導 体素子であって、
前記モールド樹脂が、 請求の範囲 1 8〜 2 2のいずれか 1項に記載のエポキシ 樹脂組成物から成ることを特徴とする光半導体素子。
2 5 . 前記光半導体素子が、 前記リ一ド電極を形成した基板表面に前記光半導 体チップを接合した表面実装型であることを特徴とする請求の範囲 2 4記載の光 半導体素子。
2 6 . 前記光半導体チップが、 少なくとも I nと G aを含有する窒ィヒ物半導体 から成る発光層を有し、 主発光ピークが 5 5 0 n m以下の発光ダイォードである 請求の範囲 2 4又は 2 5記載の光半導体素子。
2 7 . 原料とフラックスを混合して焼成することによつて蛍光物質を製造する 方法であって、
前記焼成工程は、 第 1の還元雰囲気中で焼成する第 1の焼成工程と第 2の還元 雰囲気中で焼成する第 2の焼成工程とを含んでなり、 前記第 1の還元雰囲気は前 記第 2の還元雰囲気より弱い還元性雰囲気であることを特徴とする蛍光物質の製 造方法。
2 8 . 前記フラックスは、 フッ化アルミニウムからなる請求の範囲 2 7に記載 の蛍光物質の製造方法。
2 9 . 前記フラックスは、 フッ化バリウムとホゥ酸を含む請求の範囲 2 7又は
2 8に記載の蛍光物質の製造方法。
3 0 . 前記フラックスはさらに、 液体を含む請求の範囲 2 9に記載の蛍光物質 の製造方法。
3 1 . 原料とフラックスを混合して焼成することによって蛍光物質を製造する 方法であって、
前記フラックスは、 フッ化バリゥムとホウ酸と液体を含むことを特徴とする蛍 光物質の製造方法。
3 2 . 前記液体は、 水である請求の範囲 3 0又は 3 1に記載の蛍光物質の製造 方法。
3 3 . 前記原料は、 Y 203， G d〇3， A 1 20 3及び C e 0 2からなる請求の 範囲 2 7〜 3 2のうちのいずれか 1つに記載の蛍光物質の製造方法。
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