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Brevets

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Numéro de publicationWO2005034180 A3
Type de publicationDemande
Numéro de demandePCT/US2004/028801
Date de publication30 mars 2006
Date de dépôt20 sept. 2004
Date de priorité30 sept. 2003
Autre référence de publicationCN1867896A, EP1668501A2, US8073667, US20050071038, WO2005034180A2
Numéro de publicationPCT/2004/28801, PCT/US/2004/028801, PCT/US/2004/28801, PCT/US/4/028801, PCT/US/4/28801, PCT/US2004/028801, PCT/US2004/28801, PCT/US2004028801, PCT/US200428801, PCT/US4/028801, PCT/US4/28801, PCT/US4028801, PCT/US428801, WO 2005/034180 A3, WO 2005034180 A3, WO 2005034180A3, WO-A3-2005034180, WO2005/034180A3, WO2005034180 A3, WO2005034180A3
InventeursEric J Strang
DéposantEric J Strang, Tokyo Electron Ltd
Exporter la citationBiBTeX, EndNote, RefMan
Liens externes:  Patentscope, Espacenet
Systeme et procede permettant d'utiliser une simulation de principes de base pour commander le processus de fabrication de semi-conducteurs
WO 2005034180 A3
Résumé
La présente invention concerne un procédé, un système et un support pouvant être lu par ordinateur permettant de commander un processus exécuté par un outil de traitement de semi-conducteurs. Le procédé décrit dans cette invention consiste à entrer des données associées à un processus exécuté par l'outil de traitement de semi-conducteurs, puis à entrer un modèle physique de principes de base associé à l'outil de traitement de semi-conducteurs. Une simulation de principes de base est ensuite exécutée au moyen des données entrées et du modèle physique afin d'obtenir un résultat de simulation de principes de base. Ensuite, le résultat de la simulation de principes de base est utilisé pour commander le processus exécuté par l'outil de traitement de semi-conducteurs.
Citations de brevets
Brevet cité Date de dépôt Date de publication Déposant Titre
US5719796 *4 déc. 199517 févr. 1998Advanced Micro Devices, Inc.System for monitoring and analyzing manufacturing processes using statistical simulation with single step feedback
US6802045 *19 avr. 20015 oct. 2004Advanced Micro Devices, Inc.Method and apparatus for incorporating control simulation environment
Citations hors brevets
Référence
1 *YONEMURA N.: 'Heat Analysis on Insulated Metal Substrates.' IEEE. vol. 3, 1996, pages 1407 - 1410, XP000696276
Classifications
Classification internationaleG06F17/50, G06F19/00, H01L
Classification coopérativeG06F17/5018, G06F2217/10
Classification européenneG06F17/50C2
Événements juridiques
DateCodeÉvénementDescription
14 avr. 2005AKDesignated states
Kind code of ref document: A2
Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW
14 avr. 2005ALDesignated countries for regional patents
Kind code of ref document: A2
Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG
8 juin 2005121Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
28 mars 2006WWEWipo information: entry into national phase
Ref document number: 2004788575
Country of ref document: EP
30 mars 2006WWEWipo information: entry into national phase
Ref document number: 2006533873
Country of ref document: JP
6 avr. 2006WWEWipo information: entry into national phase
Ref document number: 1020067006628
Country of ref document: KR
14 juin 2006WWPWipo information: published in national office
Ref document number: 2004788575
Country of ref document: EP
14 nov. 2006WWPWipo information: published in national office
Ref document number: 1020067006628
Country of ref document: KR