WO2006016619A1

WO2006016619A1 - 基板処理装置、使用状況確認方法、及び不正使用防止方法

Info

Publication number: WO2006016619A1
Application number: PCT/JP2005/014685
Authority: WO
Inventors: Hiroyuki Suzuki; Shinichi Okita; Tadashi Yamaguchi
Original assignee: Nikon Corporation; Nikon Systems Inc.
Priority date: 2004-08-12
Filing date: 2005-08-10
Publication date: 2006-02-16
Also published as: CN101019207A; JP4705034B2; EP1791167A4; JPWO2006016619A1; KR20070048740A; TWI381417B; AU2005272460A1; CN100490067C; SG155210A1; TW200625389A; AU2005272460B2; EP2688090B1; EP1791167A1; AU2005272460A2; US20070272151A1; US8996422B2; KR101245871B1; EP2688090A1

Abstract

【課題】　基板処理装置が不正使用されているか否かを確認することができ、不正使用の事実がある場合にはその使用を防止できるようにする。【解決手段】　ライセンスファイルＬＦは、基板処理装置の特定使用者に対する使用条件を含むライセンス情報Ｌを暗号化したファイルである。整合性確認プログラムＰ２は、復号プログラムＰ１によって復号されたライセンスファイルＬＦの内容と、基板処理装置から得られる装置情報ＤＩ、ネットワーク情報ＮＩ、及び現在時刻ＣＴとの整合性を確認して不正使用の事実の有無を確認する。不正使用がある場合には、整合性確認プログラムＰ２からの情報に基づいて制御プログラムＰ３が所定の処置がなされるまで基板処理装置の動作を停止させる。

Description

明細書

基板処理装置、使用状況確認方法、及び不正使用防止方法

技術分野

[0001] 本発明は、基板を処理する基板処理装置並びにその使用状況確認方法及び不正使用防止方法に関する。

背景技術

[0002] 半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、その他のデバイスは、基板処理装置を用いて半導体ウェハやガラスプレート等の基板に対して各種の処理を施すことにより製造される。基板処理装置が基板に対して施す処理は、例えばフォトレジスト等の感光剤を塗布する塗布処理、感光剤が塗布された基板上にマスク又はレチクル (これらを総称する場合にはマスクと!/、う）のパターンの像を投影露光する露光処理、及び露光処理が施された基板を現像する現像処理等である。

[0003] 上記の露光処理は基板処理装置に設けられた露光装置により行われ、上記塗布処理及び現像処理は、露光装置に対して例えばインライン化されたコータ 'デベロッノ (塗布'現像装置）により行われる。また、上記の露光装置等の基板処理装置には、上記の各種処理が施された基板に形成されるパターンの均一性又はパターンの重なり具合いを評価する評価装置、並びに電子ビームを基板上に照射した際に生ずる二次電子や後方散乱電子を検出して基板上に形成されたパターンを検査する検査装置等が設けられることが多い。尚、本明細書において、「基板処理装置」とは、上記の露光装置、塗布装置、現像装置、評価装置、及び検査装置等の各々をいう場合があるとともに、こららの 2以上を組み合わせたものの全体をいう場合がある。

[0004] ところで、従来の基板処理装置にお!、ては、装置を制御するための制御プログラム、装置を動作させる上で有益となるユーティリティプログラム等の各種プログラムは、装置に付随するものと考えられており、これらは基板処理装置の顧客に無償提供されていた。また、上記の考え方が主流であったため、各種プログラムのバージョンアツプは無償で行われる場合が多カゝつた。

[0005] このため、基板処理装置の製造メーカが一旦顧客に基板処理装置を販売 (譲渡)してしまうと、その顧客が中古の基板処理装置を第三者に譲渡する際に、基板処理装置の製造メーカに何の断りもなく基板処理装置とともに上記の各種プログラムが譲渡されてしまうという事態が生じていた。上記の各種プログラムは本来的に著作物であり、それ自体に財産的価値を有するものであって単なる基板処理装置の付属物ではな

V、ため、その使用者 (譲受人)との間で使用許諾契約を締結するのが望ま、と考えられる。力かる契約を締結することにより、基板処理装置の製造メーカが基板処理装置の据え付け、改造、サポート、及びプログラムのバージョンアップ等を一括管理することができるとともに、中古の基板処理装置を購入した第三者も安心して使用することができるため、双方にとっての利益になると考えられる。

[0006] し力しながら、基板処理装置の製造メーカと顧客との間で上記の契約を締結した場合であっても、基板処理装置が第三者に譲渡されてしまえば、何の制約もなく上記の制御プログラム等を用いて基板処理装置を作動させることができるため、基板処理装置の製造メーカは譲渡の有無を何らかの方法で確認する必要があるとともに、もし当該制御プログラム等が不正に使用されている場合には、その使用を不可能とするプロテクトを施策する必要がある。

発明の開示

[0007] よって本発明の目的は、基板処理装置の使用者が該基板処理装置を適正に使用している力否かを確認できるようにし、もし不正な使用と認められる場合にはその使用を防止できるようにすることである。

[0008] 本発明の第 1の観点によると、基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と計時手段からの計時情報とに基づいて前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備え、前記確認手段は、前記ライセンス情報と前記時計手段からの時計情報とに基づいて、前記基板処理装置が停止している時間が前記停止期間を超えた力否かにより、前記基板処理装置の使用状況を確認するようにした基板処理装置が提供される。

[0009] 本発明の第 2の観点によると、基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットワーク情報の少なくとも 1つを含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、前記基板処理装置から得られる装置情報及び前記ネットワーク情報の少なくとも 1つと、前記ラィセンス情報に含まれる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも 1つとの照合を行つて、前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備える基板処理装置が提供される。

[0010] 本発明の第 3の観点によると、基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、前記基板処理装置の基板処理量を計数する計数手段と、前記ラィセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と前記計数手段からの計数情報とに基づいて基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備える基板処理装置が提供される。

[0011] 本発明の第 4の観点によると、基板を処理する基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと、計時情報を取得するステップと、前記ライセンスフアイルに格納された前記ライセンス情報と前記計時情報とに基づ!、て、前記基板処理装置が停止している時間が前記停止時間を超えた力否かを判別することにより、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、を含む使用状況確認方法が提供される。

[0012] 本発明の第 5の観点によると、基板を処理する基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットワーク情報の少なくとも 1つを含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと、前記基板処理装置から得られる装置情報及び前記ネットワーク情報の少なくとも 1つと、前記ライセンスファイルに格納された前記ライセンス情報との照合を行って、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、を含む使用状況確認方法が提供される。

図面の簡単な説明

[0013] [図 1]本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。

[図 2]本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置が備える露光装置の構成を示す図である。

[図 3]本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置の使用状況確認方法及び不正使用防止方法を説明するための図である。

[図 4]本発明の第 2実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。

[図 5]本発明の第 3実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。

[図 6]本発明の第 4実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。

[図 7a]本発明の第 5実施形態に係る基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。

[図 7b]本発明の第 5実施形態に係る基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。

[図 7c]本発明の第 5実施形態に係る基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。

[図 8]デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。

発明を実施するための最良の形態

[0014] 以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。

[0015] [第 1実施形態]

図 1は、本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。図 1に示す通り、この基板処理装置 11は露光装置 30を囲むチャンバにインライン方式で接するように、コータ 'デベロツバ部 (塗布現像装置） 31が設置されており、また露光装置 30及びコータ 'デベロツバ部 31の全体の動作を統轄制御する制御コンピュータ 32が設置されて!、る。

[0016] この制御コンピュータ 32はネットワーク接続カード 32aを備えており、このネットヮーク接続カード 32aによって制御コンピュータ 32は基板処理装置 11が設置された工場内に敷設されてヽるネットワーク LN1に接続されてヽる。ネットワーク LN1がイーサネット（登録商標）である場合には、ネットワーク接続カード 32aには一意に定まる固有の物理アドレス（MACアドレス（Media Access Control address) )が割り当てられている。制御コンピュータ 32は、不図示のホストコンピュータからネットワーク LN1 を介して送信されてきて、ネットワーク接続カード 32aにより受信した制御コマンドに基づ、て基板処理装置 11の動作を制御する。

[0017] また、図示は省略している力図 1に示す基板処理装置 11と同様の構成を有する複数の基板処理装置 11がネットワーク LN1に接続されており、基板処理装置 11の各々には通信プロトコルとして TCP/IP (Transmission Control Protocol/lnt ernet Protocol)が実装されている。また、各基板処理装置 11には一意に定まる IP アドレス及びゲートウェイアドレスが割り当てられている。尚、このネットワーク LN1はセキュリティー確保の観点から外部のネットワーク (例えば、インターネット）には接続されていないものとする。

[0018] 上記のコータ 'デベロツバ部 31には、その中央部を横切るように基板としてのウェハ Wを搬送する搬送ライン 33が配置されて、る。この搬送ライン 33の一端に未露光の多数のウェハ Wを収納するウェハキャリア 34と、露光処理及び現像処理を終えた多数のウェハ Wを収納するウェハキャリア 35とが配置されており、搬送ライン 33の他端に露光装置 30のチャンバ側面のシャツタ付きの搬送口（不図示）が設置されている。

[0019] また、コータ 'デベロッパ部 31に設けられた搬送ライン 33の一方の側面に沿ってコータ部 36が設けられており、他方の側面に沿ってデベロツバ部 37が設けられている。コータ部 36は、ウェハキャリア 34から露光装置 30に向けて、ウェハ Wにフォトレジストを塗布するレジストコータ 36a、そのウェハ W上のフォトレジストをプリベータするためのホットプレートからなるプリベータ装置 36b、及びプリベータされたウェハ Wを冷却するためのクーリング装置 36cが設置されて、る。

[0020] デベロッパ部 37は、露光装置 30からウェハキャリア 35に向けて、露光処理後のゥェハ W上のフォトレジストをべ一キングする、即ち、わゆる PEB (Post -Exposure Bake)を行うためのポストベータ装置 37a、 PEBが行われたウェハ Wを冷却するためのクーリング装置 37b、及びウェハ W上のフォトレジストの現像を行うための現像装置 37cが設置されている。更に、本実施形態では、現像装置 37cで現像されたウェハに形成されたフォトレジストのパターン (レジストパターン）の形状を測定する測定装置

38がインライン設置されている。測定装置 38は、ウェハ W上に形成されているレジストパターンの形状 (例えばパターンの線幅、パターンの重ね合わせ誤差等）を測定するための検査装置である。

[0021] 図示は省略しているが、露光装置 30、コータ部 36及びデベロツバ部 37、測定装置 38、及び制御コンピュータ 32は、有線又は無線で接続されており、これらの装置の間で各々の処理開始又は処理終了を示す信号が送受信される。また、これらの装置の装置状態を示す装置データ及び測定装置 38による測定結果は制御コンピュータ 32へ出力され、制御コンピュータ 32内に設けられるハードディスク等の記憶装置に記録される。

[0022] 露光装置 30は、ウェハベース 86 (図 2参照）上を 2次元的に移動するウェハステージ 85を備えており、露光対象のウェハ Wはウェハホルダ 84を介してウェハステージ 8 5上に保持される。また、露光装置 30内には、コータ 'デベロッパ部 31に設けられた搬送ライン 33の中心軸の延長線にほぼ沿うように第 1ガイド部材 39が配置され、第 1 ガイド部材 39の端部の上方に直交するように、第 2ガイド部材 40が配置されている。

[0023] 第 1ガイド部材 39には第 1ガイド部材 39に沿って摺動可能に構成されたスライダ 41 が配置されており、このスライダ 41には回転及び上下動自在にウエノ、 Wを保持する第 1アーム 42が設置されている。また、第 2ガイド部材 40にはウェハ Wを保持した状態で第 2ガイド部材 40に沿って摺動可能に構成された第 2アーム 43が配置されている。第 2ガイド部材 40は、ウェハステージ 85のウェハのローデイング位置まで延びており、第 2アーム 43には第 2ガイド部材 40に直交する方向にスライドする機構も備えられている。

[0024] また、第 1ガイド部材 39と第 2ガイド部材 40とが交差する位置の近傍にウェハ Wのブリアライメントを行うために回転及び上下動ができる受け渡しピン 44が設置されており、受け渡しピン 44の周囲にウェハ Wの外周部の切り欠き部（ノッチ部）及び 2箇所のエッジ部の位置又はウェハ Wの外周部に形成されたオリエンテーションフラットを検出するための位置検出装置 (不図示）が設置されている。第 1ガイド部材 39、第 2 ガイド部材 40、スライダ 41、第 1アーム 42、及び第 2アーム 43、及び受け渡しピン 44 等からウェハローダ系が構成されて、る。

[0025] 露光装置 30は、装置の各部（例えば、チャンバ、ァライメント系、ローダ系等）の動作を制御する複数の制御ユニット (例えば、チャンバユニット、ァライメントユニット、口ーダユニット等）を備えており、各制御ユニットには時間を計時するためのタイマー及び制御コンピュータ 32からの制御信号を一時的に記憶するためのメモリが設けられている。各制御ユニットに設けられたタイマーの計時結果は制御コンピュータ 32に出力されており、制御コンピュータ 32は各タイマーの計時結果に応じて各制御ユニットに制御信号を出力して露光装置 30の動作を制御するとともに、露光装置 30を含めた基板処理装置 11の使用状況を確認する。尚、図 1においては、簡単のためにチヤンバユニットに設けられたタイマー T1及びメモリ Mlのみを図示している。

[0026] 制御コンピュータ 32は、基板処理装置 11の各部を制御することでウェハ Wの露光処理を行うのは勿論のこと、予め記憶しているライセンスファイルに格納されている内容通りに、又はその内容に反することなく基板処理装置 11が使用されて、るか否かを確認する。この確認によって基板処理装置 11がライセンスファイルに格納されている内容に反した不正使用がなされている場合には、制御コンピュータ 32は基板処理装置 11の動作を停止させて所定の処置 (例えば、新たなライセンス取得）が行われるまで基板処理装置 11の使用を不可能にする。本実施形態においては、制御コンビュータ 32は、チャンバユニットに設けられたタイマー T1の計時結果と上記のライセンスファイルとを用いて基板処理装置 11の不正使用がなされて!/ヽるカゝ否かを確認する。尚、この処理の詳細については後述する。

[0027] ここで、ライセンスファイルとは、基板処理装置 11の製造メーカと基板処理装置 11 の使用者 (基板処理装置 11の購入者 (譲受人) )との間で予め締結された基板処理装置 11の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約の内容の少なくとも一部を含むライセンス情報であって、基板処理装置 11が契約に反することなく使用されているかを確認する確認材料となる情報の内容を格納するファイルである。このライセンス情報の具体例としては、基板処理装置 11の使用開始日、使用期限若しくは使用時間、及び停止時間、並びに制御コンピュータ 32に設けられたネットワーク接続カード 32aの物理アドレス並びに制御コンピュータ 32に割り当てられた IPアドレス及びゲートウエイアドレス等が含まれる。

[0028] 次に、上記構成における基板処理装置 11がウェハ Wに対する処理を行うときの動作について簡単に説明する。まず、不図示のホストコンピュータからネットワーク LN1 を介して基板処理装置 11が備える制御コンピュータ 32に処理開始命令が出力される。制御コンピュータ 32はこの処理開始命令に基づいて、露光装置 30、コータ部 36 、及びデベロツバ部 37に各種の制御信号を出力する。この制御信号が出力されると、ウェハキャリア 34から取り出された 1枚のウェハは、搬送ライン 33を経てレジストコータ 36aに搬送されてフォトレジストが塗布され、順次搬送ライン 33に沿ってプリべ一ク装置 36b及びクーリング装置 36cを経て露光装置 30の第 1アーム 42に受け渡される。

[0029] その後、スライダ 41が第 1ガイド部材 39に沿って受け渡しピン 44の近傍に達すると、第 1アーム 42が回転して、フォトレジストが塗布されたウェハ Wが第 1アーム 42から受け渡しピン 44上の位置 Aに受け渡されて、ここでウェハの外形基準で中心位置及び回転角の調整 (ブリアライメント）が行われる。その後、ウェハ Wは第 2アーム 43に受け渡されて第 2ガイド部材 40に沿ってウェハのローデイング位置まで搬送され、そこでウェハステージ 85上のウェハホルダ 84にロードされる。そして、そのウェハ W上の各ショット領域に対してマスクとしてのレチクルの所定のデバイスパターンを通して露光が行われる。

[0030] 露光処理を終えたウェハ Wは、第 2ガイド部材 40及び第 1ガイド部材 39に沿ってコータ 'デベロツバ部 31の搬送ライン ₃₃まで搬送された後、搬送ライン ₃₃に沿って順次ポストベータ装置 37a及びクーリング装置 37bを経て現像装置 37cに送られる。そして、現像装置 37cで現像が行われたウェハ Wの各ショット領域に、レチクルのデバイスパターンに対応した凹凸のレジストパターンが形成される。このように現像が行われたウェハ Wは、必要に応じて形成されたパターンの線幅、重ね合わせ誤差等が測定装置 38で検査され、搬送ライン 33に沿って搬送されてウェハキャリア 35に収納される。このリソグラフイエ程の終了後にウェハキャリア 35内の例えば 1ロットのウェハは、例えばエッチング又はイオン注入等のパターン形成工程及びレジスト剥離工程等を実行する製造ラインに搬送される。 [0031] 次に、図 2を参照して露光装置 30について説明する。本実施形態においてはステップ ·アンド'スキャン方式の露光装置を例に挙げて説明する力かかる方式の露光装置以外にステップ ·アンド'リピート方式の露光装置 (ステツパ)であっても良い。尚、以下の説明においては、図中に示した XYZ直交座標系を設定し、この XYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。 XYZ直交座標系は、 Y軸及び Z軸が紙面に対して平行となるよう設定され、 X軸が紙面に対して垂直となる方向に設定されている。図中の XYZ座標系は、実際には XY平面が水平面に平行な面に設定され、 Z軸が鉛直上方向に設定される。 Y軸に沿う方向がスキャン (走査)方向である。

[0032] 図 2において、 51は露光光源であり、この露光光源 51としては断面が略長方形状の平行光束である露光光 ILを射出する ArFエキシマレーザ光源（波長 193nm)である。この露光光源 51としては、これ以外に、例えば g線 (波長 436nm)、 i線 (波長 365 nm)を射出する超高圧水銀ランプ、又は KrFエキシマレーザ（波長 248nm)、 Fレ

2 一ザ（波長 157nm)、 Krレーザ（波長 146nm)

2 、 YAGレーザの高周波発生装置、若しくは半導体レーザの高周波発生装置を用いることができる。

[0033] 露光光源 51からの波長 193nmの紫外パルスよりなる露光光 IL (露光ビーム）は、ビームマッチングユニット（BMU) 52を通り、光アツテネータとしての可変減光器 53 に入射する。ウェハ W上のフォトレジストに対する露光量を制御するための露光制御ユニット 73が、露光光源 51の発光の開始及び停止、並びに出力（発振周波数、パルスエネルギー）を制御すると共に、可変減光器 53における減光率を段階的、又は連続的に調整する。

[0034] 可変減光器 53を通った露光光 ILは、レンズ系 54a, 54bよりなるビーム成形系 55 を経て第 1段のオプティカル 'インテグレータ (ュニフォマイザ、又はホモジナイザ）としての第 1フライアイレンズ 56に入射する。この第 1フライアイレンズ 56から射出された露光光 ILは、第 1レンズ系 57a、光路折り曲げ用のミラー 58、及び第 2レンズ系 57b を介して第 2段のオプティカル 'インテグレータとしての第 2フライアイレンズ 59に入射する。

[0035] 第 2フライアイレンズ 59の射出面、即ち露光対象のレチクル Rのパターン面に対する光学的なフーリエ変換面（照明系の瞳面）には開口絞り板 60が、駆動モータ 60aによって回転自在に配置されている。開口絞り板 60には、通常照明用の円形の開口絞り、輪帯照明用の開口絞り、及び複数 (例えば 4極)の偏心した小開口よりなる変形照明用の開口絞りや小さいコヒーレンスファクタ（ σ値)用の小円形の開口絞り等が切り換え自在に配置されている。露光装置 30の全体の動作を統括制御する主制御系 74 が駆動モータ 60aを介して開口絞り板 60を回転して、照明条件を設定する。

[0036] 第 2フライアイレンズ 59から射出されて開口絞り板 60に形成された何れかの開口絞りを通過した露光光 ILは、透過率が高く反射率が低いビームスプリッタ 61に入射する。ビームスプリッタ 61で反射された露光光は、集光用のレンズ 71を介して光電検出器よりなるインテグレータセンサ 72に入射し、インテグレータセンサ 72の検出信号は露光制御ユニット 73に供始されている。インテグレータセンサ 72の検出信号とウェハ W上での露光光 ILの照度との関係は予め高精度に計測されて、露光制御ユニット 7 3内のメモリに記憶されている。露光制御ユニット 73は、インテグレータセンサ 72の検出信号より間接的にウェハ Wに対する露光光 ILの照度 (平均値)、及びその積分値をモニタできるように構成されて、る。

[0037] ビームスプリッタ 61を透過した露光光 ILは、光軸 IAXに沿ってレンズ系 62, 63を順次経て、固定ブラインド（固定照明視野絞り） 64及び可動ブラインド (可動照明視野絞り） 65に入射する。後者の可動ブラインド 65はレチクル面に対する共役面に設置され、前者の固定ブラインド 64はその共役面力も所定量だけデフォーカスした面に配置されている。固定ブラインド 64は、投影光学系 PLの円形視野内の中央で走査露光方向と直交した方向に直線スリット状、又は矩形状 (以下、まとめて「スリット状」という）に伸びるように配置された開口部を有する。

[0038] 固定ブラインド 64及び可動ブラインド 65を通過した露光光 ILは、光路折り曲げ用のミラー 66、結像用のレンズ系 67、コンデンサレンズ 68、及び主コンデンサレンズ系 69を介して、マスクとしてのレチクル Rのパターン面（下面）の照明領域 (照明視野領域) IAを照明する。尚、上記 BMU52〜主コンデンサレンズ 69は照明光学系 ISを構成する。露光光 ILのもとで、レチクル Rの照明領域 IA内の回路パターンの像が両側テレセントリックな投影光学系 PLを介して所定の投影倍率 α ( aは例えば 1Z4又は 1Z5等）で、投影光学系 PLの結像面に配置されたウェハ W上のフォトレジスト層のスリット状の露光領域に転写される。

[0039] レチクル Rは、レチクルステージ 81上に吸着保持され、レチクルステージ 81は、レチクルベース 82上で Y方向に等速移動できると共に、 X方向、 Y方向、回転方向に傾斜できるように載置されている。レチクルステージ 81 (レチクル R)の 2次元的な位置及び回転角は駆動制御ユニット 83内のレーザ干渉計によってリアルタイムに計測されている。この計測結果、及び主制御系 74からの制御情報に基づいて、駆動制御ユニット 83内の駆動モータ（リニアモータやボイスコイルモータ等）は、レチクルステージ 81の走査速度、及び位置の制御を行う。

[0040] 一方、ウェハ Wは、ウェハホルダ 84を介してウェハステージ 85上に吸着保持され、ウェハステージ 85は、ウェハベース 86上で投影光学系 PLの像面と平行な XY平面に沿って 2次元移動する。即ち、ウェハステージ 85は、ウェハベース 86上で Y方向に一定速度で移動すると共に、 X方向、 Y方向にステップ移動する。更に、ウェハステージ 85には、ウェハ Wの Z方向の位置（フォーカス位置）、並びに X軸及び Y軸の回りの傾斜角を制御する Zレべリング機構も組み込まれて、る。

[0041] ウェハステージ 85の X方向、 Y方向の位置、及び X軸、 Y軸、 Z軸の回りの回転角は駆動制御ユニット 87内のレーザ干渉計によってリアルタイムに計測されている。この計測結果及び主制御系 74からの制御情報に基づ、て、駆動制御ユニット 87内の駆動モータ（リニアモータ等）は、ウェハステージ 85の走査速度、及び位置の制御を行う。また、ウェハステージ 85上の一端には、投影光学系 PLを介してウェハ W上の露光領域に照射される露光光 ILの照度 (光量)を検出する照度センサ 88が固定されている。

[0042] この照度センサ 88は、例えばピンホールセンサが形成された筐体を有し、このピンホールの形成位置に受光素子の受光面が配置されたセンサであり、ピンホールを介して入射する露光光 ILの照度 (光量)を検出する。照度センサ 88の検出信号は露光制御ユニット 73に供給されている。ウェハステージ 85上に露光光 ILが照射されている状態で、照度センサ 88を露光領域内で移動させることにより、露光光 ILの照度むら (光量むら)及び積算光量むらを計測することができる。更に、照度センサ 88を Z方向に移動させつつ露光光 ILの照度を検出することで、投影光学系 PLの像面位置（ベストフォーカス位置）を求めることもできる。照度センサ 88を用いた照度、この照度むら、及び積算光量むらの測定、並びにべストフォーカス位置の測定は、定期的に又は不定期に実行される。

[0043] 更に、ウェハステージ 85上の一端には、ウェハステージ 85の基準位置を定める基準部材 89が設けられている。この基準部材 89は、ウェハステージ 85の座標系に対するレチクル Rの相対的な位置及びベースライン量を計測するために用いられる。ここで、ベースライン量とは、例えばレチクル Rに形成されたパターンの投影光学系 PL による投影像の中心位置と後述するウェハ'ァライメントセンサ 92の計測視野中心との距離をいう。この基準部材 89には基準マークとして、例えば光透過性の 5組の L字状パターン力なるスリットパターンと、光反射性のクロムで形成された 2組の基準パターン (デューティ比は 1： 1)とが設けられている。

[0044] また、投影光学系 PLの側面に、ウェハ Wの表面 (被検面）の複数の計測点に斜めにスリット像を投影する投射光学系 90aと、その被検面からの反射光を受光してそれらの複数の計測点のフォーカス位置に対応するフォーカス信号を生成する受光光学系 90bとからなる多点のオートフォーカスセンサも設けられており、それらのフォー力ス信号が主制御系 74に供給されている。投影光学系 PLの像面に対するウェハ Wの位置ずれであるフォーカス誤差は、上記の照度センサ 88を用いて測定したベストフオーカス位置と、オートフォーカスセンサによって計測される像面位置との差から求められる。

[0045] つまり、オートフォーカスセンサは投影光学系 PLの像面とウェハ Wの表面とがー致している状態において得られる検出結果が零点に設定されている。このため、投影光学系 PLの像面の位置又はオートフォーカスセンサの内に設けられる光学部品又はこの部品を保持する機械的な機構が環境変動の影響を受けると、実際にはウェハ Wの表面が投影光学系 PLの像面に配置されて、ても、オートフォーカスセンサの検出結果が零点に一致せず、計測誤差が生じた状態になる。ウェハ Wの Z方向の位置はォ一トフォーカスセンサの検出結果に基づいて制御されるため、オートフォーカスセンサの計測誤差が露光時におけるフォーカス誤差の原因となる。従って、照度センサ 8 8を用いて測定したベストフォーカス位置とオートフォーカスセンサによって計測される像面位置との差を求めればフォーカス誤差を求めることができる。

[0046] また、走査露光を行う際には、予めレチクル Rとウエノ、 Wとのァライメントを行っておく必要がある。そのため、レチクルステージ 81の上方にはレチクル Rのァライメントマーク（レチクルマーク）の位置を計測する VRA (Visual Reticle Alignment)方式のレチクル.ァライメントセンサ 91が設置されている。更に、ウェハ W上のァライメントマーク（ウェハマーク）の位置を計測するために、投影光学系 PLの側面にオフ'ァクシスで画像処理方式（FIA方式： Field Image Alignment 方式）のウエノ、'ァライメントセンサ 92が設置されている。ウエノ、'ァライメントセンサ 92は、例えばハロゲンランプ等力の比較的広い波長域の照明光でウェハ W上のァライメントマークを照明して CCD (Charge Coupled Device)等の撮像素子でその像を撮像するものである。ウェハ'ァライメントセンサ 92で得られた画像信号は主制御系 74に供給されて画像処理が施され、位置情報が計測される。

[0047] 主制御系 74は、図 1に示した制御コンピュータ 32に設けられており、ウェハ W上の各ショット領域のフォトレジストを適正露光量で走査露光するための各種露光条件を露光データファイルより読み出して、露光制御ユニット 73とも連携して最適な露光シ一ケンスを実行する。露光処理に先だって、主制御系 74はオートフォーカスセンサの検出結果に基づ!/、てウェハ Wの光軸 AX方向の位置及び姿勢を調整した上で、ゥエノ、'ァライメントセンサ 92を用いてウェハ W上に形成されたァライメントマークの内力も予め定めた所定数 (3〜9個）のァライメントマークの位置情報を計測する。そして、計測された位置情報を用いて EGA (ェンハンスト ·グローバル ·ァライメント）演算といわれる統計演算を行ってウェハ W上に設定された全てのショット領域の配列を求める。

[0048] 露光処理が開始されると、主制御系 74は、レチクルステージ 81及びウェハステージ 85のそれぞれの移動位置、移動速度、移動加速度、位置オフセット等の各種情報を駆動制御ユニット 83, 87に送る。これにより、レチクルステージ 81及びウェハステージ 85の加速が開始される。また、主制御系 74は露光制御ユニット 73に対しても走查露光開始指令を発する。レチクルステージ 81及びウェハステージ 85の加速が終了して速度が一定になると、露光制御ユニット 73は露光光源 51の発光を開始すると共に、インテグレータセンサ 72を介してウエノ、 Wに対する露光光 ILの照度（単位時間当たりのパルスエネルギーの和）の積分値を算出する。その積分値は走査露光開始時に 0にリセットされている。

[0049] 走査露光中は、レチクルステージ 81を介して露光光 ILの照明領域 IAに対してレチクル Rが +Y方向（又は Y方向）に速度 Vrで走査されるのに同期して、ウェハステージ 85を介してレチクル Rのパターン像の露光領域に対してウェハ Wが Y方向（又は +Y方向）に速度 a 'Nて、 aはレチクル Rからウェハ Wへの投影倍率)で走査される。レチクル Rとウェハ Wとの移動方向が逆であるのは、本例の投影光学系 PLが反転投影を行うためである。また、走査露光中においても、オートフォーカスセンサの検出結果に基づいて、ウェハ Wの姿勢制御が行われる。

[0050] また、走査露光中は、露光制御ユニット 73において、露光光 ILの照度の積分値が逐次算出され、この結果に応じて、走査露光後のウェハ W上のフォトレジストの各点で適正露光量が得られるように、露光光源 51の出力（発振周波数、及びパルスエネルギ一)及び可変減光器 53の減光率を制御する。そして、当該ショット領域への走査露光の終了時に、露光光源 51の発光が停止される。この動作が繰り返されることにより、ウェハ W上に設定された複数のショット領域に対して露光処理が行われる。

[0051] 次に、基板処理装置 11に設けられた制御コンピュータ 32による処理について説明する。前述した通り、基板処理装置 11は、チャンバユニットに設けられたタイマー T1 の計時結果とライセンスファイルに格納されて、る内容とを用いて基板処理装置 11 の不正使用がなされている力否かを確認するのである力その確認方法として「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」がある。

[0052] ここで、「使用期限チェック」とは、契約により定められた使用開始日（基板処理装置 11を制御する制御プログラムの使用開始日）から契約により定められた使用許諾期間が経過したか否かを確認することで基板処理装置 11の使用状況を確認する処理である。また、「使用時間チェック」とは、契約により定められた使用開始日力もの基板処理装置 11の稼働時間が、契約により定められた累積使用時間を経過した力否かを確認することで基板処理装置 11の使用状況を確認する処理である。以上の処理は、基板処理装置 11が契約通りに使用されて!、るか否かを確認するものである。

[0053] また、「停止時間チェック」とは、基板処理装置 11が動作を停止している時間が、所定の閾値を超えている力否かを確認することで、基板処理装置 11の移設が行われたか否かを確認するものである。基板処理装置 11で生じた動作不良を回復する作業は通常 2〜3日程度で完了するが、基板処理装置 11の移設作業は 7〜10日程度要する。このため、基板処理装置 11の移設が行われた力否かを判断するための閾値は 4〜5日程度に設定される。

[0054] ここで、上記の確認を確実ならしめるためには現在時刻を正確に得る必要があり、時間管理を行わなければならな、。基板処理装置 11の制御コンピュータ 32aはネットワーク LN1に接続されているため、例えば NTP (Network Time Protocol)サーバを構築して基板処理装置 11に設けられた制御コンピュータ 32の各々が NTPサーバを参照するようにすれば、時間管理を行うことができる。し力しながら、前述した通り、セキュリティーを確保するためにネットワーク LN1はインターネット等の外部のネットワークには接続されて!、ないため、基板処理装置 11の製造メーカの管理の下での時間管理を行うことはできない。このため、本実施形態では工場内の閉じた環境下にお、て時間管理を行う必要がある。

[0055] 基板処理装置 11には様々なタイマーが設けられており、このタイマーの計時結果を用いれば時間管理を行うことができる。しかしながら、基板処理装置 11に設けられたタイマーの計時結果は改竄されるおそれがあり、タイマーの計時結果が改竄されてしまうと不正に基板処理装置 11が使用されてしまうことになる。ここで、チャンバュ- ットに対してオペレータがアクセスしょうとするときにはパスワードが必要になるため、チャンバユニット内に設けられたタイマー T1の内容は改竄される可能性が低い。そこで、本実施形態では改竄される可能性が低いチャンバユニット内に設けられたタイマ一 T1の計時結果を用いて時間管理を行って、る。

[0056] 前述したライセンスファイルに格納されている内容とタイマー T1の計時結果とを用いて「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を定期的に行うことで、基板処理装置 11の不正使用がなされている力否かを確認することができる。これに加え、本実施形態では、ネットワーク接続カード 32aの物理アドレス、制御コンピュータ 32に割り当てられた IPアドレス、及びゲートウェイアドレス等がライセンスファイルに含まれているものと一致するか否かにより移設の有無の確認を確実ならしめている。以下、その確認方法及び不正使用防止方法について詳細に説明する。

[0057] 図 3は、本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置の使用状況確認方法及び不正使用防止方法を説明するための図である。尚、図 3において、図 1,図 2に示した構成に相当する構成については同一の符号を付してあり、図 3中の CNは露光装置 3 0に設けられたチャンバユニット（図 1,図 2では図示を省略）を表しており、 NMは制御コンピュータ 32内に設けられたネットワーク設定情報を格納するネットワーク設定情報ファイルを表している。ここで、ネットワーク設定情報とは、制御コンピュータ 32に割り当てられた IPアドレス及びゲートウェイアドレスを含む情報である。また、制御部 1 01及び記憶部 102は、制御コンピュータ 32に設けられている。

[0058] まず、基板処理装置 11の製造メーカと基板処理装置 11の使用者 (基板処理装置 1 1の購入者 (譲受人) )との間で基板処理装置 11の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約を締約し、基板処理装置 11の製造メーカ側でライセンス情報 Lを決定する。ここで、ライセンス情報 Lとしては、基板処理装置 11の使用開始日（ライセンス付与日）、使用期限又は使用時間、及び停止時間、並びに制御コンピュータ 32に設けられたネットワーク接続カード 32aの物理アドレス並びに制御コンピュータ 32に割り当てられた IPアドレス、ゲートウェイアドレス、及び制御コンピュータ 32の接続先ネットワークアドレス等が含まれる。また、ライセンス情報の漏洩及び改竄を防止するため、ライセンス情報に対するパスワード PWを設定する。このパスワード PWは基板処理装置 11の製造メーカで管理される。

[0059] 上記のライセンス情報 Lを決定するとともにパスワード PWを設定すると、次に基板処理装置 11の製造メーカ側に設けられた暗号ィ匕装置 100を用いてライセンス情報 L をパスワード PWによって暗号化したライセンスファイル LFを作成する。尚、ここで用いる暗号化方法は、 DES, RC4等の暗号化と復号化の鍵が同じ共通鍵方式及び R SA等の暗号ィ匕と復号ィ匕の鍵が異なる公開鍵方式の何れであっても良い。

[0060] また、後述するように、 MD5、 SHA- 1等のハッシュ関数 (復号不能な関数)を用いて、ライセンス情報 Lを暗号ィ匕せずに、改竄がないことの確認を行うことでもよい。 [0061] ここで、暗号化の処理時間の速、共通鍵方式、処理時間は遅!、が暗号化強度の高い公開鍵方式、及び改竄防止チェックに優れたハッシュ関数方式のいずれか、または複数をデータごとに使!、分けてもょ、。

[0062] 作成されたライセンスファイル LFは、基板処理装置 11の制御コンピュータ 32に設けられた記憶部 102に記憶される。尚、図 3においては、便宜的にライセンスファイル LFが制御コンピュータ 32に設けられた制御部 101に直接入力されるように図示している。また、ライセンスファイル LFとともに、ライセンス情報 Lを暗号ィ匕する際に用いたパスワード PWも記憶部 102に記憶する。

[0063] 以上の作業を終えて基板処理装置 11を起動すると、記憶部 102に記憶されたライセンスファイル LF及びパスワード PWが読み出され、制御部 101に設けられた復号プログラム P1によりライセンスファイル LFが復号される。また、制御コンピュータ 32に設けられたネットワーク接続カード 32aからイーサネット (登録商標)物理アドレスが読み出されるとともに、チャンバユニット CN力もユニット識別子 (ユニット ID)が読み出され、これらが装置情報 DIとして記憶部 102に記憶される。更に、ネットワーク設定情報ファイル NMから制御コンピュータ 32に割り当てられた IPアドレス及びゲートウェイアドレスが読み出されて、これらがネットワーク情報 NIとして記憶部 102に記憶される。更に、チャンバユニット CNに設けられたタイマー T1から現在時刻 CTが読み出されて記憶部 102に記憶される。

[0064] 次に、制御部 101に設けられた整合性確認プログラム P2は、復号プログラム P1により復号されたライセンスファイル LFの内容と、記憶部 102に記憶された装置情報 DI 、ネットワーク情報 NI、及び現在時刻 CTとの整合性を確認する。具体的には、装置情報 DIに含まれるイーサネット (登録商標）物理アドレス及びユニット ID並びにネットワーク情報 NIに含まれる IPアドレス、ゲートウェイアドレス、及び制御コンピュータの接続先ネットワークアドレスの各々がライセンスファイル LFに格納されたものと一致するカゝ否かを確認する。これによつて、例えば移設によって基板処理装置 11の装置構成及びネットワーク環境が変化した力否かを確認することができる。

[0065] また、整合性確認プログラム P2は記憶部 102に記憶された現在時刻 CTと、復号されたライセンスファイル LFに格納された基板処理装置 11の使用開始日（ライセンス付与日）、使用期限又は使用時間、及び停止時間とを用いて「使用期限チック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を行い、基板処理装置 11が契約通りに使用されている力否かを確認する。具体的には「使用期限チェック」では現在時刻 c

Tが使用期限内である力否かを確認し、「使用時間チェック」では現在時刻 CTの経過時間を加算して求められる使用累積時間 PTが基板処理装置 11の契約で定められた使用時間以内であるカゝ否かを確認する。

[0066] また、「停止時間チェック」では装置の運転終了時に現在時刻 CTを前回時刻 PTとしてチャンバユニット CNに設けられたメモリ Mlに書き込み、次に起動した時にメモリ Mlに書き込まれてヽる前回時刻 PTを読み出し、前回時刻 PTから現在時刻 CTまでの経過時間が上記の停止時間内である力否かの確認を行う。尚、「使用期限チェック」、「使用時間チヱック」、及び「停止時間チヱック」の実行の有無の設定は、記憶部 1 02に記憶されているライセンスファイル LFに暗号ィ匕されて格納されており、メモリ Ml に書き込まれた内容はパスワードにより保護されている。

[0067] 以上の確認の結果、基板処理装置 11が契約通りに使用されていない場合には、整合性確認プログラム P2から基板処理装置 11の各部の動作を制御する制御プログラム P3へその旨を示す情報が出力され、この情報に基づいて制御プログラム P3は基板処理装置 11の動作を停止させる。制御プログラム P3が整合性確認プログラム P 2からの情報に基づいて基板処理装置 11の動作を停止させると、単に基板処理装置 11を再起動させるだけでは基板処理装置 11の動作を再開させることはできなくなり、所定の処置 (例えば、新たなライセンス取得）が行われるまで基板処理装置 11の動作が停止したままになる。

[0068] 新たなライセンスの取得が行われると、新たなライセンスファイル LFが作成され、このライセンスファイル LFとライセンスファイル LFの作成時に用いたパスワード PWとを制御コンピュータ 32の記憶部 102に記憶させた上で、基板処理装置 11を再起動させることにより、基板処理装置 11の動作が再開される。ここで、パスワード PWの変更は行わず、これまでと同じものを使用してもよい。尚、上記の確認によって基板処理装置 11が契約通りに使用されている場合には、基板処理装置 11の動作停止は行われず、通常通りの動作が継続される。 [0069] 本実施形態によれば、基板処理装置の製造メーカと顧客との間で締結された基板処理装置 11の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約の内容の一部又は全部を含むライセンス情報を格納するファイルの内容とタイマー T1の計時結果とから「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」等の各種チェックを行って!/ヽるため、基板処理装置 11が不正使用されてヽるか否かを確認することができる。また、不正使用の事実がある場合には所定の処置がなされるまで基板処理装置 11の動作が停止されるため、基板処理装置 11の継続的な不正使用を防止することができる。

[0070] なお、上記説明では基板処理装置 11の起動時に基板処理装置 11が契約通りに使用されているかを確認していた力確認を行うタイミングは、ウェハ Wの交換時、ゥェハ W又はレチクル Rのァライメント時、露光開始時、及び露光終了時等、露光処理シーケンス中、所定のタイミングで行うようにしても良い。また、上記の「停止時間チェック」については、一定の時間間隔（例えば、 1分毎）でチャンバユニット CNへ送信されるチャンバステータスチェック等のコマンド送出終了時に行うと、基板処理装置 11 の停止を確実に確認することができるため効果的である。

[0071] また、上記実施形態におけるタイマー T1は、通常のマイクロコンピュータ等に用いられて、る現在時刻 (年月日時分秒)をカウントするものを前提として説明して、るが、これに限られるものではなぐ例えば、ライセンス付与日からの経過日数をカウントする日数カウンタを用いてもょ、。

[0072] また、基板処理装置 11が契約通りに使用されていないことが確認された場合の基板処理装置 11の動作を停止する方法は、上記の通りソフトウェア的に行う方法以外の方法を用いることができる。例えば、通常チャンバユニット CNには緊急停止用のボタンが設けられているがこの電気回路を利用して、不正使用が確認された時、内部的にこのボタンをオン状態にしてチャンバユニット CNを含めた基板処理装置 11の動作を停止させるようにしても良ヽ。この方法で動作が停止した基板処理装置 11を復帰させるには、基板処理装置 11の製造メーカが所有する専用のキーを用いてォペレータが手動で復帰する方法以外の方法では復帰できないようにすることが望ましい。更に、その専用のキーは基板処理装置 11毎に異なって、ることが望ま、。 [0073] また、図 2に示す露光装置 30に設けられたウェハローダ系（図示省略）、レチクルステージ 81、ウェハステージ 85、及び照明光学系 ISに機械的なストッパを設け、基板処理装置 11が契約通りに使用されて、な、ことが確認された場合にこれらのストッパによって露光装置 30の動作を機械的に停止させるようにしても良い。例えば、ローダ系は搬送アームのロック、ステージ系は干渉計光路の遮断、照明光学系はシャツタ一クローズなどが挙げられる。このストツバは、第三者が操作することができない箇所に設ければ効果的である。

[0074] 上述した実施形態では、ノスワード PW及びライセンスファイル LFを制御コンビユータ 32に設けられた記憶部 102に記憶させて、た。ライセンス情報等を格納したライセンスファイルは暗号ィ匕されてヽるため、ライセンス情報の漏洩及び改竄を防ぐことができる。し力しながら、暗号ィ匕されたライセンスファイル及びパスワード PWをライセンス付与後にバックアップしておき、必要なときにこのライセンスファイルを記憶部 102 に書き戻すようにすれば、「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を回避できるとも考えられる。このため、これらはパスワードにより保護されたチャンバユニット CN内のメモリ Mlに記憶させ、復号プログラム P1がメモリ Mlからこれらを読み出すようにすることが望ま、。

[0075] [第 2実施形態]

図 4は、本発明の第 2実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。図 4に示す本発明の第 2実施形態に係る基板処理装置 11と図 1に示す本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置 11とは、基板処理装置 11を動作させる上で必要となる鍵の役割を果たすプロテクトキー K1を挿入するポート（図示省略）が制御コンピュータ 32に設けられている点が相違する。ここで、プロテクトキーとは、通称、ドングル（dongle)とよばれるハードウェアプロテクトのことで、コンピュータの USBポート又はパラレルポートにさして使用する。また、前述した第 1実施形態ではチャンバュ-ットに設けられたタイマー T1を用いて基板処理装置 11の使用状況を確認して、たが、本実施形態ではタイマー T1を用 Vヽずに基板処理装置 11の使用状況を確認する点が相違する。尚、本実施形態においてもチャンバユニットにタイマー T1及びメモリ M 1が設けられた構成でも良いが、図 4においては相違点を明確ィ匕するため、これらの図示を省略している。

[0076] 本実施形態においては、制御コンピュータ 32に設けられたポートにプロテクトキー K1を挿入しない限り基板処理装置 11を動作させることはできな、。このプロテクトキ一 K1はタイマー及びメモリを備えているとともに、外部からのアクセスがパスワードにより保護されている。このため、前述した第 1実施形態におけるタイマー T1 (図 1,図 3 参照）に代えてプロテクトキー K1に設けられたタイマーを用いれば「使用期限チエツク」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を行うことができる。また、プロテクトキ一 K1はパスワードにより保護されるため、前述した第 1実施形態におけるメモリ M 1 (図 1,図 3参照）に代えてプロテクトキー K1内のメモリを用いることができる。

[0077] 本実施形態では、図 3においてチャンバユニット CNをプロテクトキー K1と読み替え、ユニット IDをプロテクトキー IDと読み替え、タイマー T1,メモリ Mlをそれぞれプロテタトキー K1内のタイマー，メモリとそれぞれ読み替えれば、第 1実施形態と同様の方法で、基板処理装置 11の不正使用の確認及び不正使用の防止を行うことができる。また、上述した第 1実施形態の構成に本実施形態の構成を加え、ライセンスファイル LF及びパスワード PW等をチャンバユニット CN及びプロテクトキー K1の両方に記憶させても良い。力かる構成にすることで不慮のハードウェア故障に備えることができる。また、複数箇所に記憶させたライセンスファイル LF等を定期的にあるいは必要に応じて相互に照合し、相違がないことを確認することにより、改竄の有無をチェックするようにしてもよい。

[0078] [第 3実施形態]

図 5は、本発明の第 3実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。図 5に示す本発明の第 3実施形態に係る基板処理装置 11と図 1に示す本発明の第 1実施形態に係る基板処理装置 11とは、制御コンピュータ 32に設けられているタイマ一 T2を用いて基板処理装置 11の使用状況を確認する点が異なる。尚、本実施形態においてもチャンバユニットにタイマー T1及びメモリ Mlが設けられ、制御コンビユータ 11にプロテクトキー K1を挿入するポートが設けられて、ても良、が、相違点を明確化するために図 5にお!/ヽては図示を省略して!/、る。

[0079] 第 1実施形態で説明したチャンバユニット CN及び第 2実施形態で説明したプロテクトキ一 Klには露光装置 30の動作が停止した場合でも、タイマーを動作させるためのノッテリが設けられており、これにより基板処理装置 11が停止した場合であっても数年程度はチャンバユニット CNのタイマー T1及びプロテクトキー K1のタイマーを継続動作させることができる。

[0080] し力しながら、ノッテリによる継続動作可能時間は数年程度に限られ、ノッテリが完全に使用されてタイマーが停止した場合には、その後に不正使用が行われる可能性が考えられ、これを防止するために長寿命のノッテリを実装する力定期的なバッテリ交換管理を行う等の対策が必要になる。また、上述した第 1実施形態、第 2実施形態では、タイマー T1の計時結果又はプロテクトキー K1の計時結果を読み込むためのコマンドを新設する必要があり、制御コンピュータ 32の大幅な改変が必要になる可能性がある。

[0081] そこで、本実施形態では、制御コンピュータ 32に設けられているタイマー T2の計時結果を用いて基板処理装置 11の使用状況を確認して、る。このタイマー T2に対してもバックアップ用のバッテリが設けられている力通常は主電源力も電力が供給されるためこのバッテリは殆ど使用されない。このため、主電源からの電力供給が一時的に停止してしまってもタイマー T2はバッテリによって実質的に数十年程度継続動作が可能である。但し、制御コンピュータ 32に設けられるタイマー T2は、その計時結果が改竄されるおそれが高い。このため、本実施形態では以下の（1)〜（3)に示す改竄防止措置を講ずる手段 (例えば、改竄防止プログラム)を制御コンピュータ 32に設けている。

[0082] (1)基板処理装置 11の使用開始日（ライセンス付与日）と日数カウンタとの情報を暗号化されたライセンスファイル LFに暗号化して記録しておき、これらの和で示される日時 (以下、確認用日時という）がタイマー T2の計時結果の日時と一致するか否か、確認用日時がタイマー T2の計時結果の日時よりも前であるかを確認する。仮に、上記の確認用日時力 Sタイマー T2の計時結果で示される日時よりも後である場合には、タイマー T2が前の日時を示すように改竄されていることになる。力かる場合には、タイマ一 T2の日時を確認用日時に修正し、その後に前述した基板処理装置 11の使用状況を確認することにより、基板処理装置 11が契約通りに使用されている力否かを ½認することができる。

[0083] また、「使用期限チェック」を行う場合に、上記の確認用日時がタイマー T3の計時結果の日時よりも前であるときには、現在の日時と一致するように確認用日時を現在の日時と一致させる補正を自動的に行うことが好ましい。これは、メンテナンスによつて基板処理装置 11の動作を数日間停止させた場合に、確認用日時が実際の日時と異なり、これを補正するために必要だ力である。尚、「使用時間チェック」を行う場合には、このネ甫正は行わない。

[0084] (2)整合性確認プログラム P2の起動時又は予め設定された時間間隔若しくは任意のタイミングで現在時刻を暗号ィ匕されたライセンスファイル LFに記録し、新たに現在時刻をライセンスファイル LFに記録する際に前回記録した時刻が現在時刻よりも前であることを確認する。仮に、前回記録した時刻が現在時刻よりも後であれば、タイマ一 T2が改竄されて、ることになる。

[0085] (3)制御部 101に設けられた各種プログラムは、記憶部 102にフォルダ及びフアイルを作成しながら各種の処理を行っている。そこで、予め設定された時間間隔又は任意のタイミングで特定のフォルダ又はファイルの作成日時がタイマー T2の計時結果で示される現在時刻よりも前であることを確認する。仮に、フォルダ又はファイルの作成日時が現在時刻よりも後に作成されていたならば、タイマー T2が改竄されていることになる。

[0086] 尚、上記（2) , (3)の方法によりタイマー T2の改竄が確認された場合には、制御プログラム P3により基板処理装置 11の動作を停止させて、所定の処置 (例えば、新たなライセンス取得）がなされるまで基板処理装置 11の動作を停止させることが望ましい。また、前述した第 1実施形態で説明したタイマー T1又は第 2実施形態で説明したプロテクトキー K1内に設けられているタイマーが使用可能な装置構成であれば、これらのタイマーの計時結果を用いてタイマー T2を補正するようにしてもょ、。

[0087] タイマー T2の改竄を確認する方法は、上記の（1)〜（3)の何れかを単独で用いても良く、又は（1)と（3)とを組み合わせ、若しくは（2)と（3)とを組み合わせて用いても良い。また、上記（2)の改竄防止策において、タイマー T1及びプロテクトキー K1の少なくとも一方を備える構成であれば、現在時刻をライセンスファイル LFに記録するのではなぐこれらに記録するようにしても良い。尚、本実施形態においては、図 3において、タイマー T1をタイマー T2と読み替え、メモリ Mlを記憶部 102に設けられたメモリとすれば、第 1実施形態と同様の方法で、基板処理装置 11の不正使用の確認及び不正使用の防止を行うことができる。

[0088] [第 4実施形態]

図 6は、本発明の第 4実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。図 6に示す通り、本実施形態の基板処理装置 111は、 GPS (Global Positioning System：全地球測位システム)衛星 110から発せられる電波を受信するアンテナ 11 2、 GPS受信機 113、及び制御コンピュータ 114を含んで構成されている。尚、この基板処理装置 111には、図 1に示すコータ 'デベロッパ部 31及び図 2に示す露光装置 30も設けられている。

[0089] GPS受信機 113は、 GPS衛星 110から発せられアンテナ 112で受信した電波に基づ、て基板処理装置 111が設置されて!、る位置を検出し、制御コンピュータ 114に出力する。制御コンピュータ 114は、図 1に示す制御コンピュータ 32と同様に、基板処理装置 111の各部を制御することでウェハ Wの露光処理を行うのは勿論のこと、 G PS受信機 113から出力される位置検出結果に基づいて、基板処理装置 111の移設が行われたカゝ否かを確認する。この確認によって基板処理装置 111が移設されたと判断した場合には、制御コンピュータ 114は前述した第 1実施形態と同様の不正使用防止方法により基板処理装置 111の動作を停止させて所定の処置 (例えば、新たなライセンス取得）が行われるまで基板処理装置 111の使用を不可能にする。

[0090] ここで、基板処理装置 111の使用者 (基板処理装置 111の購入者 (譲受人)）は、レィアウト変更等により自ら有する工場内で基板処理装置 111を移設する場合もあれば、基板処理装置 111を自らの有する他の工場に移設する場合もある。これらの場合の基板処理装置 111の移設は正当なものであるため、移設により基板処理装置 1 11を動作不可能な状態に停止させるのは望ましくない。しかしながら、無制限に移設を認めるとすると、基板処理装置 111の動作を制御する制御プログラムの不正な使用が行われるおそれも考えられる。

[0091] このため、基板処理装置 111の製造メーカと基板処理装置 111の使用者 (基板処理装置 111の購入者 (譲受人) )との間で基板処理装置 111の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約を締結する際に、基板処理装置 111の移設の有無を検討し、基板処理装置 111の移設が行われたカゝ否かを判断するための合理的な閾値（移動可能距離)を設定するのが望ましい。例えば、使用者が有する工場間の移設予定が無!、のであれば、例えば閾値を数百メートルに設定して基板処理装置 111が最初に設置された工場内のみでの移設を認めるようにするのが望ま U、。このように閾値を設定することで、例えば日本国内での移設は認める力海外への移設は認めないといった制御を行うことができる。上記の閾値をライセンス情報の 1つとしてライセンスファイル LFに含め、この閾値と GPS受信機 113の検出結果とを比較すれば基板処理装置 111の移設の有無を確認することができる。本実施形態においても、ライセンスファイル LFは暗号化されて!/、ることが望まし!/、。

[0092] [第 5実施形態]

基板処理装置の不正な使用を防止するために、基板処理装置の製造メーカと基板処理装置の使用者 (基板処理装置の購入者 (譲受人) )との間で締結された制御プログラムの使用許諾契約の内容の一部 (例えば、使用期限)を、例えば基板処理装置が備える制御コンピュータに設けられた表示パネルに明示すると不正使用の予防になると考えられる。かかる表示をしておけば、その不正使用されている基板処理装置に出入りする業者 (例えば、基板処理装置のメンテナンス業者)が不正使用の事実を容易に把握することができる。更には、上記の内容を明示することで、仮に訴訟に発展した場合であっても、基板処理装置の製造メーカは故意による不法行為であることを立証することが可能になると考えられる。

[0093] 図 7a〜図 7cは、基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。図 7aに示す例では、表示欄 D1に基板処理装置の製造メーカである「Nikon」と「〇〇〇会社」との間で使用許諾が締結されてヽる旨のメッセージ mlが表示され、その契約内容として使用期限を示すメッセージ m2と使用時間を示すメッセージ m3とが表示されている。図 7aに示す例では、表示欄 D1に表示されたメッセージ m2の内容力基板処理装置を制御する制御プログラムの使用期限が「200 6年 12月 31日」に設定されており、使用時間が「2年」に設定されていることが一目で分かる。

[0094] また、図 7b及び図 7cに示す例では、図 7aに示す表示欄 D1よりも表示面積が小さ V、表示欄 D2に、基板処理装置の製造メーカである「Nikon」を示すメッセージ ml 1と現在時刻を示すメッセージ ml2とが表示される第 1表示（図 7b)がなされ、又は基板処理装置の使用者である「〇〇〇会社」を示すメッセージ m21と契約内容の一部である使用期限を示すメッセージ m22とが表示される第 2表示（図 7c)がなされる。これらの第 1表示と第 2表示とは所定の時間間隔 (例えば、 10分又は 30分間隔)で交互に表示される。この表示によって、表示面積が小さくても基板処理装置の製造メーカ、基板処理装置の使用者、及び契約内容を表示することができる。

[0095] 図 7a〜図 7cに示す表示は、前述した第 1〜第 4実施形態の何れにも適用することができる。このとき、図 7a〜図 7cに示す表示を制御コンピュータに設けられた表示パネルに常時表示しても良ぐ所定の時間間隔で表示しても良ぐ又は任意のタイミングで表示しても良い。尚、表示パネルへの表示は、図 7a〜図 7cに示す例に限られず任意の表示方法を用いることができる。例えば、表示欄の表示内容が基板処理装置の製造メーカのみ、基板処理装置の使用者のみ、及び契約内容のみと順次変わるようにしても良い。また、表示パネルがオペレータの指示内容を入力する入力パネルを兼ねて、る場合には、オペレータの操作を妨げな、表示をすることが望ま、。

[0096] [その他]

尚、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

[0097] 例えば、上述した実施形態においては、ライセンス情報 Lを暗号ィ匕する際に基板処理装置 11の製造メーカが定めたパスワード PWを用いて!/、たが、このパスワード PW の解読防止を図るとともに管理を容易にするために、基板処理装置 111の号機毎に固有の情報、例えばライセンスファイル LF内に登録されたネットワーク接続カード 32 aの物理アドレス、プロテクトキー K1毎に固有のプロテクトキー ID、又はライセンス付与日時等の情報を組み合わせたノスワード PWを用いることが望ましい。 [0098] また、上記実施形態ではライセンスファイル LFの暗号ィ匕及び複合を行っていた力これらの処理を行う代わりに前述したような改竄防止に優れた復号不能な関数 (例えば、ハッシュ関数)を用いてライセンス情報力も文字列（固有情報)を生成し、それをハッシュ化した内容 (ハッシュ値)をライセンス情報と共に (組にして)ライセンスフアイル LFに登録するようにしても良ヽ。基板処理装置が契約通りに使用されて!ヽるか否かの判断、または情報の改竄の有無の判断は、ライセンスファイル LFに登録されたハッシュ値と、装置情報 DI及びネットワーク情報 NI等をハッシュ化した値とを照合することにより行う。更に、図 3に示す制御部 101に設けられる復号プログラム Pl、整合性確認プログラム P2、及び制御プログラム P3は、ソフトウェア的に実装されていても良くハードウェア的に実装されていても良い。

[0099] また、上記実施形態では、基板処理装置の使用時間を確認する際にタイマーの計時結果を用いていた力これ以外に露光処理ショット数、露光処理ウェハ数、露光処理ロット数等の基板の処理量を表す基板処理量を計数する手段を備えておき、この基板処理量を用いて基板処理装置の使用状況を確認しても良い。尚、これらの改竄を防止するために、これらの情報を第 1実施形態に示したチャンバユニット CNが備えるメモリ Ml若しくは第 2実施形態に示したプロテクトキー K1が備えるメモリに記憶させ、又は暗号ィ匕した上で記憶部 102に記憶させるのが望ましい。

[0100] 次に、基板処理装置を用いたデバイスの製造について説明する。図 8は、デバイス

(ICや LSI等の半導体チップ、液晶パネル、 CCD,薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造工程の一例を示すフローチャートである。図 8に示されるように、まず、ステップ S10 (設計ステップ）において、デバイスの機能設計 (例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステツプ S 11 (マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ S 12 (ウェハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウェハを製造する。

[0101] 次に、ステップ S 13 (ウェハプロセスステップ）において、ステップ S 10〜ステップ S1 2で用意したマスクとウェハを使用して、リソグラフィ技術によってマスクに形成されたパターンをウェハ上に転写する露光処理、露光処理を終えたウェハを現像する現像処理、現像処理を終えたウェハに対して、例えばエッチングを行う基板処理等の処理を行って、ウェハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ S14 (組立ステップ）において、ステップ S 13において処理されたウェハを用いてチップ化する。このステップ S14には、アッセンブリ工程 (ダイシング、ボンディング）、パッケージングェ程 (チップ封入)等の工程が含まれる。最後に、ステップ S 15 (検査ステップ）において、ステップ S 14で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。

[0102] また、上記実施形態では、露光装置 30が露光光 ILとして ArFエキシマレーザ等から射出されるレーザ光を用いていた力レーザプラズマ光源、又は SORから発生する軟 X線領域、例えば波長 13. 4nm、又は 11. 5nmの EUV (Extreme Ultra Vi olet)光を用いるようにしてもよい。さらに、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いてもよい。また、投影光学系 PLは、反射光学系、屈折光学系、及び反射屈折光学系の、ずれを用いてもょ、。

[0103] また、 DFB半導体レーザ又はファイバーレーザ力発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム（又はエルビウムとイツトリビゥムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよ!、。

[0104] 更に、基板処理装置 11, 111は、半導体素子の製造に用いられるデバイスパターンをウェハ W上に転写する露光装置だけでなぐ液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられるデバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミック露光光上に転写する露光装置、撮像素子 (CCDなど）、マイクロマシン、及び DNAチップなどの製造に用いられる露光装置等を備えて、ても良ヽ。

[0105] 本開示は、 2004年 8月 12日に提出された日本国特許出願第 2004— 235216号に含まれた主題に関連し、その開示の全てはここに参照事項として明白に組み込まれる。

Claims

請求の範囲

[1] 基板を処理する基板処理装置において、

前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、

前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と計時手段からの計時情報とに基づいて前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備え、前記確認手段は、前記ライセンス情報と前記時計手段からの時計情報とに基づ、て、前記基板処理装置が停止している時間が前記停止期間を超えたか否かにより、前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする基板処理装置。

[2] 前記ライセンス情報は更に、前記基板処理装置の使用期限と使用時間とのうちの少なくとも 1つと、前記基板処理装置の使用開始日とを含み、

前記確認手段は更に、前記基板処理装置の前記使用開始日からの使用期間が前記使用期限を経過したか否か、及び前記基板処理装置の前記使用開始日からの累積使用時間が前記使用時間を経過した力否かの少なくとも 1つにより、前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする請求項 1に記載の基板処理装置。

[3] 前記ライセンス情報は、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットワーク情報の少なくとも 1つを含み、前記確認手段は、前記基板処理装置から得られる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも 1つと、前記ライセンス情報に含まれる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも 1つとの照合を行って前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする請求項 2に記載の基板処理装置。

[4] 前記ライセンス情報は、該ライセンス情報に基づ、て復号不能な関数を用いて生成された固有情報と組になって前記ライセンス情報記憶手段に記憶されているか、或いは暗号化されて該ライセンス情報記憶手段に記憶されてヽることを特徴とする請求項 1〜3の何れか一項に記載の基板処理装置。

[5] 前記ライセンス情報記憶手段及び Z又は前記計時手段は、前記基板処理装置の各部の動作を制御するために設けられた複数の制御ユニットの何れか、前記基板処理装置に対して着脱自在に構成されて前記基板処理装置を起動させるための鍵の役割を果たす鍵手段、及び前記基板処理装置の動作を統括制御する制御コンビュータの少なくとも 1つに設けられていることを特徴とする請求項 1〜4の何れか一項に記載の基板処理装置。

[6] 前記計時手段による計時情報は、前記制御ユニット、前記鍵手段、及び前記制御コンピュータの少なくとも 1つに設けられた計時情報記憶手段に記憶されることを特徴とする請求項 5に記載の基板処理装置。

[7] 前記計時手段による計時情報は、前記計時情報記憶手段に暗号化されて記憶されることを特徴とする請求項 6に記載の基板処理装置。

[8] 前記計時情報記憶手段に記憶された計時情報の改竄の有無を判定する改竄判定手段を更に備えることを特徴とする請求項 6又は 7に記載の基板処理装置。

[9] 前記改竄判定手段は、前記ライセンス情報に含まれる前記基板処理装置の使用開始日と当該使用開始力の経過日数との和で示される確認用日時が前記計時手段の計時情報で示される日時と一致するか否力、又は前記確認用日時が前記計時手段の計時情報で示される日時よりも前であるか否かにより、前記改竄の有無を判定することを特徴とする請求項 8に記載の基板処理装置。

[10] 前記改竄判定手段は、前記確認用日時が前記計時手段の計時情報で示される日時よりも前である場合には、前記確認用日時を前記計時情報で示される日時に補正することを特徴とする請求項 9に記載の基板処理装置。

[11] 前記計時手段による計時情報の前記計時情報記憶手段に対する記憶を、予め決められた所定のタイミングで周期的に行、、

前記改竄判定手段は、前記計時情報記憶手段に記憶された計時情報が前記計時手段による現在の計時情報よりも前であるか否かにより、前記改竄の有無を判定することを特徴とする請求項 8に記載の基板処理装置。

[12] 前記改竄判定手段は、自動的に作成される特定情報の作成日時が前記計時手段による現在の計時情報よりも前であるか否かにより、前記改竄の有無を判定することを特徴とする請求項 8に記載の基板処理装置。

[13] 基板を処理する基板処理装置において、

前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットヮーク情報の少なくとも 1つを含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と前記基板処理装置から得られる装置情報及び前記ネットワーク情報の少なくとも 1 つと、前記ライセンス情報に含まれる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも 1つとの照合を行って、前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

[14] 前記ライセンス情報は、前記基板処理装置内の制御装置に割り当てられた物理ァドレス、 IPアドレス、ゲートウェイアドレス、及び該制御装置の接続先ネットワークアドレスのうちの少なくとも 1つを含むことを特徴とする請求項 13に記載の基板処理装置

[15] 基板を処理する基板処理装置において、

前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、

前記基板処理装置の基板処理量を計数する計数手段と、

前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と前記計数手段からの計数情報とに基づいて基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

[16] 前記ライセンス情報は、前記基板処理装置の移動距離を含み、

全地球測位システム衛星から発せられる電波を受信して前記基板処理装置の位置を示す位置情報を検出する位置検出手段を更に備え、

前記確認手段は、前記記憶手段に記憶された前記移動距離と、前記位置検出手段の検出結果とに基づいて、前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする請求項 1〜15のうちの何れか一項に記載の基板処理装置。

[17] 前記確認手段によって確認された前記基板処理装置の使用状況が予め定められた前記使用条件に反するものである場合に、所定の処置がなされるまで前記基板処理装置の動作を停止させる停止手段を更に備えることを特徴とする請求項 1〜16のうちの何れか一項に記載の基板処理装置。

[18] 前記所定の処置は、前記基板処理装置の使用条件を新たに定めたライセンス情報を前記記憶手段に記憶させる処置であることを特徴とする請求項 17に記載の基板処理装置。

[19] 前記復号不能な関数は、ハッシュ関数を含むことを特徴とする請求項 4に記載の基板処理装置。

[20] 前記基板処理装置の製造者、前記ライセンス情報を付与されてヽる使用者、及び前記ライセンス情報を付与するにあたって前記使用者との間で結ばれている契約内容の少なくとも一部の何れかを少なくとも表示する表示手段を更に備えることを特徴とする請求項 1〜19の何れか一項に記載の基板処理装置。

[21] 基板を処理する基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であつて前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと計時情報を取得するステップと、

前記ライセンスファイルに格納された前記ライセンス情報と前記計時情報とに基づ V、て、前記基板処理装置が停止して！/、る時間が前記停止時間を超えた力否かを判別することにより、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、

を含むことを特徴とする使用状況確認方法。

[22] 基板を処理する基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットヮーク情報の少なくとも 1つを含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと、

前記基板処理装置から得られる装置情報及び前記ネットワーク情報の少なくとも 1 つと、前記ライセンスファイルに格納された前記ライセンス情報との照合を行って、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、を含むことを特徴とする使用状況確認方法。

[23] 基板を処理する基板処理装置の不正使用を防止する不正使用防止方法であって請求項 21又は 22に記載の使用状況確認方法により確認された前記基板処理装置の使用状況が予め定められた前記使用条件に反するものであるときに、所定の処置がなされるまで前記基板処理装置の動作を停止させるステップを含むことを特徴とする不正使用防止方法。

[24] 前記基板処理装置の製造者、前記ライセンス情報の付与されて、る使用者、及び前記ライセンス情報を付与するにあたって前記使用者との間で結ばれている契約内容の少なくとも一部の何れかを少なくとも表示するステップを更に含むことを特徴とする請求項 21又は 22に記載の使用状況確認方法。